TWI633345B - 於光學膜標記之系統及方法 - Google Patents

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Abstract

揭露一種於光學膜材料的局部區域標記之系統及方法。於 光學膜標記之系統包括：一饋入輥，配置以一第一方向饋入一光學膜材料；一標記單元，配置在以第一方向饋入的光學膜材料中除連接至一顯示面板的一有效區域外的一標記區域標記一指零標記或材料資訊；光源單元，具有配置為提供一標記雷射光至一標記單元的一光源元件；以及一接收輥，配置以收集光學膜材料。

Description

於光學膜標記之系統及方法
本發明是關於一種於光學膜材料的局部區域標記之系統及方法。
本申請案主張2016年4月1日在韓國申請之韓國專利申請案第10-2016-0040290號之優先權，所述文獻之揭露內容以引用的方式併入本文中。
此項技術中所用的顯示器，陰極射線管(cathode ray tube；CRT)已頻繁用於TV及量測裝置、資訊終端或其類似物之監測器，但CRT因其大尺寸及巨大重量而不能夠主動應對對電子裝置之較小尺寸及輕重量的需求。
為替代CRT，液晶顯示器因其小尺寸及輕重量已加以積極研發，且近年來對足以用作平板顯示器的需要日益增加。
為實施成像，液晶顯示器使用液晶的光學各向異性及偏光特性。液晶具有細長分子結構且亦展現在排列中給予方向性的各向異性，且當置放於電場中時，液晶因分子排列的方向視其尺寸而變化故展現偏光特性。液晶顯示器基本上包含由一對分別在對 面側形成生電場電極且其間插有液晶層的透明絕緣基板組成的液晶面板。此處，液晶分子的排列方向藉由改變生電場電極之間的電場來人工調節，且使用在此時變化的光透入比來顯示各種圖像。
充當觀察液晶顯示器的液晶方向變化的光學膜的偏光膜分別位於液晶面板的上部及下部。偏光膜使具有與透射光一致之偏光成份的光穿過，且藉助於兩種偏光膜的透射軸的排列及液晶的排列特徵確定光透射程度。
偏光膜包含偏振層，其具有偏光軸，其形成以改變光的偏光特徵且藉由拉伸吸收碘的PVA(聚乙烯醇(聚乙烯醇))充當具有強張力的偏光片來製備；第一及第二TAC薄膜(三乙酸酯纖維素薄膜)，其形成於偏光層的兩側以保護且支撐偏光層；保護膜，其形成於第一TAC膜的一側以防止偏光層的表面受損；以及離型膜，其藉助於黏著劑形成於第二TAC膜的一側。
為製造偏光膜，使用製膜裝置製備分別由纏繞PVA膜、TAC膜(第一TAC膜及第二TAC膜)、保護膜及離型膜形成的原料輥，原料輥藉由在洗滌浴槽中洗滌及在乾燥烘箱中乾燥來預處理，接著將第一TAC膜及第二TAC膜層壓於PVA膜之兩側且亦將PVA膜拉伸以形成中間輥，且接著將保護膜層壓於第一TAC膜之表面上且亦由其間插入黏著劑將離型膜層壓於第二TAC膜之表面上，以形成偏光膜輥。
圖1為展示一般光學膜材料的纏繞過程的示意圖，圖2為展示光學膜材料傾向一側的圖式，且圖3為展示圖2的區域A1的放大截面視圖。參考圖1至圖3，由倒捲機2提供的偏光膜f在中間過程後纏繞於纏捲機3上。此時，纏捲機3以高纏繞張力纏 繞偏光膜f以防偏光膜f傾向於一側或剝離，且因此在纏繞過程期間起皺。
然而，儘管具有高纏繞張力，但因外部環境或工人偏光膜f可如圖2中所示傾向於一側。
另外，若如圖3中所示雜質O置於偏光膜f中，而偏光膜f纏繞於纏捲機3上，則因位於以高纏繞張力纏繞的偏光膜f上部的偏光膜區域的壓力，故可施壓於位於雜質O上方及下方的偏光膜區域，由此可損傷偏光膜f。
本發明是針對提供一種於光學膜標記之系統，其可使光學膜材料的按壓減至最小且使得材料資訊標記於光學膜材料上，及一種使用其於光學膜標記之方法。
本發明不限於此，且本領域中具有通常知識者將清楚理解本文未提及之其他目的。
在本發明的一個態樣中，提供一種於光學膜材料標記之系統。
根據本發明之一實施例，於光學膜標記之系統可包括：饋入輥，配置以第一方向饋入光學膜材料；標記單元，配置以於以第一方向饋入的光學膜材料中除連接至顯示面板的有效區域外的標記區域標記指零標記或材料資訊；光源單元，具有配置為提供雷射 光至標記單元的光源源件；以及接收輥，配置以收集光學膜材料。
在一實施例中，標記區域可具有沿光學膜材料的區域中的第一方向形成的長度方向，且除位於光學膜材料的寬度中心的有效區域以外亦在兩側具有邊緣區域，且標記單元可形成向光學膜材料的上方向凸起之突出部，同時於光學膜材料標記指零標記或材料資訊。
在一實施例中，指零標記可具有標記區域中沿第一方向形成的預定圖案，且材料資訊可包括光學膜材料的製造資訊及光學膜材料的上表面或下表面資訊。
在一實施例中，指零標記可形成於基於有效區域對稱的標記區域中。
在一實施例中，標記單元可包含反射元件，配置以反射自光源元件照射的雷射光；光束擴展器，配置以擴增經由反射元件傳遞的雷射光的強度；光束成形器，配置以改變自光束擴展器傳遞的雷射光的特徵；以及標記元件，配置以使雷射光照射至光學膜材料，以使得藉由自光束成形器傳遞的雷射光於光學膜材料標記預定指零標記或材料資訊。
在一實施例中，可設置多個位於光學膜材料上方的標記單元，且多個標記單元的位置可沿自上方觀察時垂直於第一方向的第二方向以預定距離彼此間隔開。
在一實施例中，可設置數目與標記單元數目對應的光源單元，且設置反射元件作為反射鏡。
在一實施例中，標記單元之數目可多達光源單元數目的兩倍，單一光源元件可為兩個標記單元提供雷射光，可設置多個反 射元件，多個反射元件中的任一者可設置為光束分光器，且另一者可設置為反射鏡。
在一實施例中，光源單元可進一步包含控制元件，配置以調節自光源元件提供的雷射光的輸出，且控制元件可控制雷射光的輸出以使得當光學膜材料以第一方向載送時，突出部的高度沿與第一方向的前進方向相反的方向逐漸降低。
在一實施例中，於光學膜標記之系統可進一步包含控制器，配置以控制接收輥的纏繞張力。
本發明提供一種於光學膜材料標記之方法。
根據本發明之一實施例，於光學膜標記之方法可包含：形成向光學膜材料的上方向凸起的突出部，同時於以第一方向饋入的光學膜材料中除連接至顯示面板的有效區域外的標記區域中標記指零標記或材料資訊，其中標記區域具有沿光學膜材料的區域中的第一方向形成的長度方向，且除位於光學膜材料的寬度中心的有效區域外的亦在兩側具有邊緣區域。
在一實施例中，指零標記可具有標記區域中沿第一方向形成的預定圖案，且材料資訊可包括光學膜材料的製造資訊及光學膜材料的上表面或下表面資訊。
在一實施例中，指零標記可形成於基於有效區域對稱的標記區域中。
在一實施例中，當光學膜材料以第一方向載送時，可控制雷射光的輸出以使得突出部的高度沿與第一方向的前進方向相反的方向逐漸降低。
根據本發明之一實施例，因為光學膜材料的局部區域使用雷射光標記，故在纏繞過程期間可使光學膜材料向一側傾斜降至最低。
另外，根據本發明之一實施例，因為光學膜材料的局部區域使用雷射光標記以形成向光學膜材料的上方向凸起的突出部，故在纏繞過程期間可使對光學膜材料施壓降至最低。
另外，根據本發明之一實施例，因為材料資訊標記於光學膜材料的局部區域，故可容易觀察到光學膜材料的資訊。
本發明之效應不限於上述效應，且本領域中具有通常知識者將自說明書及隨附圖式清楚理解此處為提及之其他效應。
2‧‧‧倒捲機
3‧‧‧纏捲機
10‧‧‧光學膜標記系統
12‧‧‧第一方向
14‧‧‧第二方向
16‧‧‧第三方向
100‧‧‧饋入輥
200‧‧‧接收輥
300‧‧‧標記單元
300a‧‧‧標記單元
310‧‧‧構架
320‧‧‧反射元件
320a‧‧‧反射元件
321‧‧‧反射鏡
321a‧‧‧反射鏡
323a‧‧‧光束分光器
330‧‧‧光束擴展器
340‧‧‧光束成形器
350‧‧‧標記元件
351‧‧‧掃描儀
353‧‧‧鏡頭單元
400‧‧‧光源單元
400a‧‧‧光源單元
410‧‧‧光源元件
410a‧‧‧光源元件
430‧‧‧控制元件
500‧‧‧控制器
A‧‧‧標記區域
A1‧‧‧區域
A2‧‧‧區域
f‧‧‧光學膜
h1‧‧‧高度
NM‧‧‧指零標記
O‧‧‧雜質
PM‧‧‧材料資訊
t‧‧‧突出部
V‧‧‧有效區域
圖1為展示一般光學膜材料的纏繞過程的示意圖。
圖2為展示光學膜材料傾向一側之圖式。
圖3為展示圖2之區域A1的放大截面視圖。
圖4為示意性展示根據本發明的一實施例的於光學膜標記之系統(在下文中，亦稱為「光學膜標記系統」)的透視圖。
圖5為展示圖4的光學膜標記系統的正視圖。
圖6為展示圖3的光源單元及標記單元的示意圖。
圖7一種展示圖4的光學膜標記系統的一部分的平面視圖。
圖8為展示圖7的光學膜標記系統的另一實施例的圖式。
圖9為展示圖4的標記單元的另一實施例的圖式。
圖10為展示光學膜材料上形成的突出部的橫截面視圖。
圖11為展示於光學膜材料標記指零標記及材料資訊的過程的示意圖。
圖12為展示將經標記光學膜材料纏繞於接收輥上的圖式。
圖13為展示圖12的區域A2的放大截面視圖。
圖14為展示於光學膜標記的指零標記的實例的圖式。
圖15為示意性展示取決於輸出物輸出的突出部的高度的圖。
在下文中，將參考隨附圖式詳細描述本發明的較佳實施例。本發明的實施例可以各種方式加以修改，且本發明的範疇不應解釋為限於以下實施例。提供實施例僅為使本領域中具有通常知識者充分理解本發明。因此，為充分解釋可將圖式中各元件的形狀放大。另外，說明書及隨附申請專利範圍中所用的術語或詞語不應視為限於通用及辭典含義，而應基於允許發明人恰當定義術語以提供最佳解釋的原則，基於與本發明之技術態樣對應的含義及概念來解釋。
本發明的光學膜f包含連接至顯示面板的偏光膜。
圖4為示意性展示根據本發明的一實施例的於光學膜標記之系統(在下文中，亦稱為「光學膜標記系統」)的透視圖，且圖5為展示圖4的光學膜標記系統的正視圖。參考圖4及圖5，光學膜標記系統10用在光學膜f材料的局部區域進行標記。光學膜標記系統10包含饋入輥100、接收輥200、標記單元300、光源單 元400及控制器500。
饋入輥100饋入用於製造光學膜f的過程的光學膜f材料。饋入輥100設置為大體上圓柱形之形狀。饋入輥100可以一個方向旋轉。舉例而言，饋入輥100以順時針方向旋轉以饋入光學膜f材料。與此不同的是，饋入輥100亦可以逆時針方向旋轉以饋入光學膜f材料。視情況，饋入輥100的旋轉方向可視提供光學膜f材料的方向而定。
光學膜f材料沿其長度方向饋入。此處，饋入輥100饋入且載送光學膜f材料的方向稱為第一方向12，自上方觀察時垂直於第一方向12的方向稱為第二方向14，且垂直於第一方向12與第二方向之方向稱為第三方向16。
最初，將饋入輥100設置為光學膜f材料纏繞於其上的狀態。此後，饋入輥100以順時針方向旋轉以在第一方向12上饋入光學膜f材料。
儘管未詳細說明，但在若干過程之後將自饋入輥100饋入的光學膜f材料纏繞於接收輥200上。
在將指零標記NM或材料資訊PM標記於光學膜f材料的標記區域A之後，將光學膜f材料纏繞於接收輥200上。接收輥200設置為大體上圓柱形之形狀。接收輥200的位置為與饋入輥100沿第一方向12以預定距離間隔開。接收輥200設置為可以一個方向旋轉。舉例而言，接收輥200以順時針方向旋轉以接收光學膜f材料。與此不同的是，接收輥200亦可以逆時針方向旋轉以接收光學膜f材料。視情況，接收輥200的旋轉方向可視接收光學膜f材料的方向而定。
圖6為展示圖3的光源單元及標記單元的示意圖，且圖7為展示圖4的光學膜標記系統之一部分的平面視圖。參考圖6及圖7，標記單元300標記指零標記NM或材料資訊PM於除光學膜f材料的區域的有效區域V外的光學膜f材料的標記區域A。此處，有效區域V意謂光學膜f材料的連接至顯示面板的區域。形成有效區域V以具有沿第一方向12的長度方向。有效區域V位於作為第二方向14的寬度方向的中心。標記區域A沿作為光學膜f材料的區域的長度方向的第一方向12形成。標記區域A在基於光學膜f材料的有效區域V的兩側包含邊緣區域。
圖10為展示光學膜材料上形成之突出部的橫截面視圖。參見圖10，標記單元300藉由使用雷射光標記於光學膜f材料。標記單元300形成向光學膜f材料的上方向凸起的突出部t。在光學膜f材料處產生指零標記NM或材料資訊PM同時，標記單元300可形成突出部t。突出部t基於光學膜f材料的上表面向第三方向16凸起。突出部t具有基於光學膜f材料的上表面的預定高度h1。
突出部t起引導作用，以使得在光學膜f材料接收至接收輥200時光學膜f材料不傾向一側。另外，當堆疊於接收輥200上時，突出部t可使各層之間的間隙保持一致。突出部t可使光學膜f材料在其中置放任何雜質時因位於上方之光學膜f材料的按壓力所致的受損降至最低。
藉助於後續說明的控制元件430使突出部t的高度h1沿與光學膜f材料的前進方向相反之方向逐漸降低。若光學膜f材料纏繞於接收輥200上且因此發生堆疊，則位於第三方向16中下部 位置的光學膜f材料層受位於上部位置的光學膜f材料層的按壓力影響。因此，突出部t的高度h1在第三方向16上向上逐漸降低，以使得當光學膜f材料堆疊於接收輥200上時每一層的突出部t的高度h1保持一致。
標記單元300位於載送光學膜f材料的區域的上方。可設置多個標記單元300。在一實施例中，可設置兩個標記單元300。若設置兩個標記單元300，則標記單元300位於沿第二方向14藉由預定距離彼此間隔開的光學膜f材料的上方。兩個標記單元300於光學膜f材料中除有效區域V外的標記區域A中標記指零標記NM或材料資訊PM。與上文不同的是，亦可設置三個或更多個標記單元300。
標記單元300包含構架310、反射元件320、光束擴展器330、光束成形器340以及標記元件350。
反射元件320、光束擴展器330、光束成形器340以及標記元件350可位於構架310中。構架310位於光學膜f材料上方。構架310具有內部空間。
反射元件320將自後續所說明的光源單元400提供的雷射光反射向光束擴展器330。可設置多個反射元件320。舉例而言，反射元件320可設置為兩個反射鏡321。反射元件320可反射100%的雷射光。舉例而言，反射元件320可經安置得到相同反射角。舉例而言，反射角可為45°。
光束擴展器330可改變自光源單元400提供的雷射光的強度。光束擴展器330位於反射元件320相鄰位置。舉例而言，光束擴展器330可使反射元件320的雷射光變為大光束或小光束。 光束擴展器330可由兩個匹配聚焦位置的鏡頭群組組成。
光束成形器340會改變自光源單元400提供的雷射光的特徵。光束成形器340位於光束擴展器330相鄰位置。舉例而言，當使用雷射光於光學膜f執行標記時，光束成形器340會改變光的特徵，以使得標記截面由圓形形狀變為大體上矩形的形狀。光束成形器340可使穿過光束擴展器330之適用於標記品質的雷射光的特徵轉換。
標記元件350藉由使用自光束成形器340提供的雷射光標記於光學膜f材料。標記元件350包含掃描儀351及鏡頭單元353。掃描儀351提供材料標記於光學膜f的指零標記NM或材料資訊PM。
此處，指零標記NM意謂在標記區域A中沿第一方向12形成的預定圖案。舉例而言，如圖11中所示，指零標記NM可具有Z形形狀。與此不同的是，如圖14中所示，可以常規間隔提供多個矩形圖案。指零標記NM亦可以各種形狀提供，諸如波浪圖案、箭頭圖案、線狀圖案、多個線狀圖案或其類似圖案，但不限於以上圖案。
指零標記NM形成於基於有效區域V對稱的標記區域A中。在此情況下，兩個標記單元300可在標記區域A標記相同指零標記NM。
材料資訊PM包含光學膜f材料的資訊。舉例而言，材料資訊PM包含光學膜f材料的上表面及下表面的資訊、光學膜f材料的右側及左側標記、光學膜f材料的製造資訊、光學膜f材料的產品名稱或其類似物。製造資訊可包含光學膜f材料的製造日期、 製造地點、製造時間或其類似物。此處，光學膜f材料的上表面及下表面的資訊意謂展示光學膜材料兩側的光學膜材料上表面及下表面的標記。舉例而言，標記「上」可標記於光學膜材料的上表面。此外，標記「下」可標記於光學膜材料的下表面。亦可將展示光學膜材料的下表面或下表面的標記提供於兩個表面中的任一者。
鏡頭單元353使自掃描儀351傳遞的雷射光集中於預定區域，以使得可準確處理光學膜f材料。舉例而言，鏡頭單元353可為F-theta鏡頭。與此不同的是，鏡頭單元353亦可為遠心F-theta鏡頭。若鏡頭單元353為遠心F-theta鏡頭，則可在整個標記區域以較佳品質執行標記。
光源單元400為標記單元300提供雷射光。光源單元400的數目可與標記單元300的數目一致。光源單元400包含光源元件410及控制元件430。
光源元件410為標記單元300提供雷射光。光源元件410位於標記單元300的相鄰位置。光源元件410位於光學膜f材料上方。舉例而言，光源元件410之雷射光可為CO2雷射。若雷射光為CO2雷射，則CO2雷射可具有9.0微米至11微米範圍內的波長。較佳地，CO2雷射可具有9.2微米至9.7微米或10.4微米至10.7微米範圍內之波長。與此不同的是，雷射光亦可為CO雷射。若雷射光為CO雷射，則CO雷射可具有5微米至7微米之波長。較佳地，CO雷射可具有5.7微米至6.1微米範圍內的波長。選擇性地，雷射光可為紫外線雷射。若雷射光為紫外線雷射，則紫外線雷射可具有200奈米至400奈米的波長。較佳地，紫外線雷射可具有250奈米至270奈米或340奈米至370奈米範圍內的波長。 與此不同的是，雷射光可使用光學膜f可吸收之波長的任何雷射。
控制元件430控制自光源元件410提供的雷射光的輸出。當光學膜材料傳遞至第一方向12時，控制元件430控制雷射光的輸出，以使得突出部t的高度h1沿與第一方向12的前進方向相反的方向逐漸降低。舉例而言，如圖15中所示，若雷射光的輸出高，則光學膜f材料處形成的突出部t的高度h1逐漸升高。因此，控制元件430可控制光源元件410，以使得光學膜f材料以第一方向12載送時，雷射光之輸出沿與第一方向12之前進方向相反的方向逐漸降低。
圖8為展示圖7的光學膜標記系統的另一實施例的圖式，且圖9為展示圖4的標記單元另一實施例另一實施例的圖式。參考圖8及圖9，圖9的標記單元300a與圖6的標記單元300大體一致。圖8的反射元件320a包含光束分光器323a及反射鏡321。光束分光器323a可使50%自光源元件410a提供的雷射光穿過且將僅50%的雷射光反射向反射鏡321a。
反射鏡321反射99%至99.9%由光束分光器323a反射的雷射光以提供給光束擴展器330。
圖8的光源單元400a與圖7的光源單元400大體一致。然而，單一光源元件410a為兩個標記單元300a提供雷射光。
參考圖5，控制器500會調節接收輥200的纏繞張力。控制器500會控制接收輥200的纏繞張力，以使得藉由接收輥200接收的光學膜f材料以緊繃狀態纏繞。控制器500可藉由調節接收輥200之纏繞張力使藉由接收輥200接收的光學膜f材料向一側的傾斜降至最低。
在下文中，將詳細描述於光學膜f材料形成的突出部t。圖10為展示光學膜材料上形成的突出部t的橫截面視圖，圖12為將經標記光學膜材料纏繞於接收輥上之圖式，且圖13為展示圖12的區域A2的放大截面視圖。參考圖10、圖12及圖13，突出部t形成於光學膜f材料處，而指零標記NM或材料資訊PM標記於光學膜f材料的局部區域中。此處，突出部t定義為光學膜f材料的上表面上的凸起之一部分。突出部t形成為基於光學膜f材料的上表面向第三方向16凸起。突出部t具有預定高度h1。
指零標記NM意謂如上文所述沿第一方向12形成的預定圖案。當指零標記NM沿第一方向12形成於光學膜f材料的標記區域A中時，亦沿標記區域A的第一方向12形成突出部t。在突出部t以對稱方式形成於光學膜f材料的邊緣區域中的狀態下，光學膜f材料纏繞於接收輥200上。
纏繞於接收輥200上的光學膜f材料形成彼此堆疊的層。在此過程中，規則形成的突出部t在各層之間得到預定間隙。突出部t起引導作用，以使得在光學膜f材料纏繞於接收輥200上時光學膜f材料不傾向一側。因此，在一較佳實施例中，突出部t形成於有效區域V與標記區域A之間的邊界區域中。
另外，因為纏繞於接收輥200上的光學膜f材料的各堆疊層之間形成間隙，所以儘管光學膜f材料中引入了任何雜質，但可使光學膜f材料的按壓降至最低。
此外，雷射光的輸出藉助於控制元件430來控制，突出部t的高度h1以與光學膜f材料的前進方向相反的方向逐漸降低。當光學膜f材料纏繞於接收輥200上且發生堆疊時，位於第三方 向16中下部位置的光學膜f材料層受位於上部位置的光學膜f的按壓力影響。因此，突出部t之高度h1在第三方向16上向上逐漸降低，以使得如圖13中所示當光學膜f材料堆疊於接收輥200上時每一層的突出部t的高度h1保持一致。若突出部(t)的高度(h1)保持一致，則在光學膜f材料纏繞於接收輥200上的狀態下，位於上部的光學膜f材料給出朝下的按壓力。因此，若突出部t的高度h1彼此一致，則位於底部的光學膜f材料處突出部t的高度h1因第三方向16上按壓力的影響而降低。
同時，若在光學膜f材料堆疊時，光學膜f材料底部形成的突出部t具有較高的高度h1，則堆疊的光學膜f材料的每一層的突出部t的高度h1可彼此一致。
因為光學膜f材料層以相同高度h1彼此堆疊，故儘管在過程期間引入任何雜質，但仍可使雜質對周圍的按壓降至最低。
在下文中，將描述一種於光學膜f材料標記的方法。圖11為展示於光學膜材料標記指零標記NM及材料資訊PM之過程的示意圖。參見圖11，自饋入輥100饋入的光學膜f材料以第一方向12傳遞。儘管光學膜f材料以第一方向12載送，但標記單元300標記指零標記NM或材料資訊PM。為進行標記，標記單元300使自光源單元400提供的雷射光照射至光學膜f材料的標記區域A。多個標記單元300沿第一方向12對以第一方向12載送的光學膜f材料相繼進行標記。舉例而言，多個標記單元300可同時標記指零標記NM及材料資訊PM。儘管圖中未示，但可在光學膜f材料上方設置若干標記單元300以標記指零標記NM及材料資訊PM。
在標記過程完成之後，將光學膜f材料纏繞於接收輥200上。儘管將光學膜f材料纏繞於接收輥200上，但纏繞張力可藉助於控制器500控制以使光學膜f材料向一側的傾斜降至最低。另外，藉助於於光學膜f材料形成的突出部t，可使光學膜f材料向一側的傾斜降至最低。
上文描述說明本發明。另外，以上內容闡明本發明之較佳實施例，且本發明可允許各種組合、修改以及環境。換言之，本發明可在本文中揭露之本發明概念、所揭露之內容、其等效物及/或此項技術中之技術及知識之範疇內改變或修改。所揭露之實施例展示實施本發明之技術特徵的最佳狀態，且可視本發明之詳述領域及應用所需以各種方式對此實施例進行修改。因此，如所揭露，實施方式不意欲限制本發明，但隨附申請專利範圍應解釋為包括其他實施例。

Claims (13)

  1. 一種於光學膜標記之系統，包括：一饋入輥，配置以一第一方向饋入一光學膜材料；一標記單元，配置在以該第一方向饋入的該光學膜材料中除連接至一顯示面板的一有效區域外的一標記區域標記一指零標記或一材料資訊；一光源單元，具有配置為提供一雷射光至該標記單元的一光源元件；以及一接收輥，配置以收集該光學膜材料，其中該標記區域具有沿該光學膜材料的一區域中的該第一方向形成的一長度方向且除位於該光學膜材料的一寬度中心的該有效區域以外亦在兩側具有邊緣區域，且其中該標記單元形成向該光學膜材料的一上方向凸起的多個突出部，同時於該光學膜材料標記該指零標記或該材料資訊。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之於光學膜標記之系統，其中該指零標記具有在該標記區域中沿該第一方向形成的一預定圖案，且其中該材料資訊包括該光學膜材料的製造資訊及該光學膜材料的上表面或下表面資訊。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之於光學膜標記之系統，其中該指零標記形成於基於該有效區域對稱的該標記區域中。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之於光學膜標記之系統，其中該標記單元包括：一反射元件，配置以反射自該光源元件照射的該雷射光；一光束擴展器，配置以擴增經由該反射元件傳遞的該雷射光的強度；一光束成形器，配置以改變自該光束擴展器傳遞的該雷射光的特徵；以及一標記元件，配置以使該雷射光照射至該光學膜材料，以使得藉由自該光束成形器傳遞的該雷射光於該光學膜材料標記一預定指零標記或一預定材料資訊。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之於光學膜標記之系統，其中設置多個位於該光學膜材料上方的該標記單元，且多個該標記單元的位置沿自上方觀察時垂直於該第一方向的一第二方向以一預定距離彼此間隔開。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之於光學膜標記之系統，其中該光源單元經設置數目與該標記單元數目對應，且設置該反射元件作為反射鏡。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之於光學膜標記之系統，其中該標記單元的數目多達該光源單元數目的兩倍，其中，單一該光源元件為兩個該標記單元提供該雷射光，其中設置多個該反射元件，且其中多個該反射元件中的任一者設置為一光束分光器，且另一者設置為一反射鏡。
  8. 如申請專利範圍第4項所述之於光學膜標記之系統，其中該光源單元更包括一控制元件，配置以調節自該光源元件提供的該雷射光的輸出，且其中，該控制元件控制該雷射光的輸出，以使得該光學膜材料以該第一方向載送時，該些突出部的高度沿與該第一方向的一前進方向相反的方向逐漸降低。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之於光學膜標記之系統，更包括：一控制器，配置以控制該接收輥的一纏繞張力。
  10. 一種於光學膜標記之方法，包括：形成向一光學膜材料的一上方向凸起的多個突出部，同時於以一第一方向饋入的該光學膜材料中除連接至一顯示面板的一有效區域外的一標記區域中標記一指零標記或一材料資訊，其中該標記區域具有沿該光學膜材料的一區域中的該第一方向形成的一長度方向且除位於該光學膜材料的一寬度中心的該有效區域以外亦在兩側具有邊緣區域。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之於光學膜標記之方法，其中該指零標記具有在該標記區域中沿該第一方向形成的一預定圖案，且其中該材料資訊包括該光學膜材料的製造資訊及該光學膜材料的上表面或下表面資訊。
  12. 如申請專利範圍第10項所述之於光學膜標記之方法，其中該指零標記形成於基於該有效區域對稱的該標記區域中。
  13. 如申請專利範圍第10項所述之於光學膜標記之方法，其中當該光學膜材料以該第一方向載送時，控制一雷射光的一輸出以使得該些突出部的高度沿與該第一方向的一前進方向相反的方向逐漸降低。
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