TWI596698B - 保持裝置、微影設備以及製造物品的方法 - Google Patents
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JP7007816B2 (ja) * | 2017-06-08 | 2022-01-25 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル |
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CN114603200B (zh) * | 2022-05-12 | 2022-10-11 | 四川精诚致远门窗工程有限公司 | 一种门窗铝型材用切割装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002009139A (ja) * | 2000-06-20 | 2002-01-11 | Nikon Corp | 静電チャック |
JP2002217276A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-08-02 | Ushio Inc | ステージ装置 |
US20140065553A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | United Microelectronics Corporation | Chuck and semiconductor process using the same |
Family Cites Families (10)
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---|---|---|---|---|
JPH03289154A (ja) * | 1990-04-05 | 1991-12-19 | Toshiba Corp | 半導体ウエーハチャック装置 |
JPH07183366A (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-21 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 大型ガラス基板のエア吸着方法 |
US6809802B1 (en) * | 1999-08-19 | 2004-10-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Substrate attracting and holding system for use in exposure apparatus |
JP2001215716A (ja) * | 2000-02-02 | 2001-08-10 | Orc Mfg Co Ltd | ワークとマスクの分離機構 |
JP4666473B2 (ja) * | 2005-05-12 | 2011-04-06 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板熱処理装置 |
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Patent Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JP2002009139A (ja) * | 2000-06-20 | 2002-01-11 | Nikon Corp | 静電チャック |
JP2002217276A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-08-02 | Ushio Inc | ステージ装置 |
US20140065553A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | United Microelectronics Corporation | Chuck and semiconductor process using the same |
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