TWI576604B - Display or display cover material - Google Patents

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TWI576604B
TWI576604B TW102107701A TW102107701A TWI576604B TW I576604 B TWI576604 B TW I576604B TW 102107701 A TW102107701 A TW 102107701A TW 102107701 A TW102107701 A TW 102107701A TW I576604 B TWI576604 B TW I576604B
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Tsutomu Imamura
Takayoshi Saitoh
Koji Ikegami
Toshiyuki Kajioka
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Nippon Electric Glass Co
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Description

展示物或陳列物用蓋材構件
本發明係關於一種展示物或陳列物用蓋材構件以及使用其之展示櫃、邊框及陳列裝置。
在將對於特定領域有價值之事物、學術資料、美術品等展示物於美術館、博物館等進行展示之情形時,有展示物被污染或劣化,或者因故意或事故而對其施加外力,從而導致其被刮傷或破損等之虞。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開平9-000403號公報
為了防止該等情況,有時會以透明蓋材構件保護展示物,但存在於構成蓋材構件之玻璃或樹脂之表面發生映入,而導致難以視認展示物之問題。
又,於智慧型手機、行動式個人電腦、掌上型遊戲機等行動機器中,陳列物係由透明玻璃板等保護,但存在因太陽光或螢光燈等之映入,而導致難以觀察到液晶等陳列物之圖像之情況。
本發明之主要目的在於提供一種展示物或陳列物用蓋材構件以及使用其之展示櫃、邊框及陳列裝置,該展示物或陳列物用蓋材構件保護對於特定領域有價值之事物、學術資料、美術品等展示物,智慧 型手機、行動式個人電腦、掌上型遊戲機等行動機器,汽車導航系統(car navigation)、固定型遊戲機等陳列物,並且可使鑒賞者猶如與展示物或陳列物之間不存在任何事物般視認展示物或陳列物。
本發明之展示物或陳列物用蓋材構件之特徵在於:包括透明基材、及形成於該透明基材之至少一面之抗反射膜,且視感反射率為0.5%以下。
本發明之展示物或陳列物用蓋材構件之紫外線光之透過率較佳為30%以下。
抗反射膜之紫外線光之透過率較佳為30%以下。
抗反射膜較佳為交替積層低折射率層與高折射率層而成之膜。於此情形時,最外層較佳為包含SiO2膜。進而,為了提高化學耐久性,SiO2膜較佳為含有Al2O3。SiO2膜中之Al2O3之含量較佳為1~20質量%之範圍內。若Al2O3之含量較少,則難以充分獲得提高化學耐久性之效果,又,若Al2O3之含量較多,則膜之折射率上升而易於損及抗反射效果。
又,本發明之展示櫃之特徵在於:包括基台、及以收納並保護載置於該基台上之展示物之方式固定之蓋材構件,該蓋材構件包括透明基材、及形成於該透明基材之至少一面之抗反射膜,且包含視感反射率為0.5%以下之蓋材構件。
又,於本發明之展示櫃中,蓋材構件亦可具有曲面。
又,本發明之邊框之特徵在於:包括框材、及以不與所收納之展示物接觸之方式固定於框材之蓋材構件,該蓋材構件包括透明基材、及形成於該透明基材之至少一面之抗反射膜,且包含視感反射率為0.5%以下之蓋材構件。
又,本發明之陳列裝置之特徵在於:具有收納陳列物與蓋材構 件之收納體,該蓋材構件包括透明基材、及形成於該透明基材之至少一面之抗反射膜,且包含視感反射率為0.5%以下之蓋材構件。
又,本發明之陳列裝置亦可為將陳列物與蓋材構件經由樹脂薄膜接著固定而成者。
又,於本發明之陳列裝置中,亦可將陳列物設置於陳列裝置之一區域內,將蓋材構件以覆蓋陳列物之方式設置於陳列裝置之一部分區域內。
本發明之水槽之特徵在於:在側壁之至少一部分上設置有如技術方案1之蓋材構件。亦能夠可裝卸地設置蓋材構件。
根據本發明,可提供一種能夠使鑒賞者猶如與展示物或陳列物之間不存在任何事物般視認展示物或陳列物,並且可保護展示物或陳列物之蓋材構件。
1、11、21‧‧‧展示物
2‧‧‧基台
3、13、23、43、54、63‧‧‧蓋材構件
10、20‧‧‧展示櫃
12‧‧‧壁
24‧‧‧框材
30‧‧‧邊框
31、131‧‧‧側板
31a、43a‧‧‧玻璃板
31b、32b、43b‧‧‧抗反射膜
32、132‧‧‧頂板
41、52a‧‧‧陳列物
42‧‧‧收納體
44‧‧‧樹脂薄膜
50、51‧‧‧陳列裝置
52‧‧‧裝置主體
53‧‧‧保護板
60‧‧‧水槽
61‧‧‧側壁
61a‧‧‧外壁面
133‧‧‧底板
圖1(a)係使用第1實施形態之蓋材構件之展示櫃之立體圖,(b)係蓋材構件之局部剖面圖。
圖2(a)係使用第2實施形態之蓋材構件之展示櫃之縱向剖面圖,(b)係平面圖。
圖3係使用第3實施形態之蓋材構件之繪畫用邊框之縱向剖面圖。
圖4(a)係使用第4實施形態之蓋材構件之陳列裝置之縱向剖面圖,(b)係蓋材構件之局部剖面圖。
圖5係第5實施形態之陳列裝置之模式性平面圖。
圖6係圖5之線VI-VI處之模式性剖面圖。
圖7係第6實施形態之水槽之模式性前視圖。
圖8係圖7之線VIII-VIII處之模式性剖面圖。
圖9係表示對第7實施形態中之實施例1之蓋材構件進行鹽水煮沸試驗所得之試驗前及試驗後之反射率的圖。
圖10係表示對第7實施形態中之實施例2之蓋材構件進行鹽水煮沸試驗所得之試驗前及試驗後之反射率的圖。
以下,對實施本發明之較佳形態之一例進行說明。然而,下述實施形態僅為例示。本發明不受下述實施形態任何限定。
又,於在實施形態等中所參照之各圖式中,對實質上具有相同功能之構件使用相同符號而參照。又,於實施形態等中所參照之圖式係模式性地記載者,存在圖式中所描繪之物體之尺寸比率等與現實之物體之尺寸比率等不同的情形。於圖式相互之間亦存在物體之尺寸比率等不同之情形。具體之物體之尺寸比率等應當參酌以下說明而判斷。
本實施形態之展示物或陳列物用蓋材構件包括透明基材,該透明基材可保護展示物或陳列物不被污染、劣化、破損等。
透明基材包含可見光線之透過率較高之玻璃、樹脂等。就耐候性、耐光性、與抗反射膜之密接性、氣體阻隔性等觀點而言,較佳為玻璃。作為玻璃材質,可利用鈉鈣系玻璃、硼矽酸鹽系玻璃、鋁矽酸鹽系玻璃、無鹼玻璃、風冷強化玻璃、離子強化玻璃、低膨脹結晶化玻璃等。作為透明基材之形狀,可利用板狀體、箱體、曲板體、圓筒體等。
雖然透明基材之厚度越大則強度越提高,但於由玻璃製成透明基材之情形時,若厚度變大,則重量易於變大,故而於實現輕量化方面較理想為儘量使其變薄。尤其是若透明基材(玻璃板)之厚度為10 μm~0.3 mm,則具有可撓性,可形成曲面,並且可減少來自端面之入射光及端面上之反射光,故而較佳。透明基材之較佳之厚度為20 μm~0.2 mm,進而較佳為50 μm~0.1 mm。又,於玻璃為板狀之情形時,為了彌補其強度,亦可於玻璃板之表面貼合透明樹脂板。進而,玻璃板之表面粗糙度若以Ra(表面粗糙度)計為50 nm以下,則可抑制光之散射,故而較佳。
作為構成透明基材之玻璃板之成形方法,可利用眾所周知之溢流下拉(over-flow down draw)法、流孔下引(slot down draw)法、浮式法、輥壓成形法等,尤其是溢流下拉法適用於獲得翹曲較少、平滑(表面粗糙度較小)且厚度較小之玻璃板。
抗反射膜係形成於透明基材之至少一面,藉由該抗反射膜之作用,而使蓋材構件之視感反射率為0.5%以下。因此,即便使用該蓋材構件保護展示物或陳列物,亦可使鑒賞者猶如與展示物或陳列物之間不存在任何事物般視認展示物或陳列物。
於將抗反射膜形成於透明基材之一面之情形時,若於與展示物或陳列物為相反側之面(鑒賞者側之面)上形成抗反射膜,則透明基材所致之反射之影響較小,易於獲得所需之視感反射率,故而較佳。若將抗反射膜形成於透明基材之兩面,則更易於降低視感透過率。然而,於此情形時,在展示物或陳列物側之面亦存在抗反射膜。若展示物或陳列物處於與抗反射膜密接(接觸)之狀態,則有被損傷或污染之虞,故而較佳為於兩者之間設置一定間隔。
於液晶等陳列物用蓋材構件中,於利用樹脂薄膜等將陳列物與蓋材構件接著固定之情形時,抗反射膜僅形成於透明基材之與展示物或陳列物為相反側之面(鑒賞者側之面)即可,但於不使陳列物與蓋材構件接著而係隔開間隔之情形時,抗反射膜形成於透明基材之兩面更佳。又,於此情形時,較佳為於陳列物之鑒賞者側之面上亦形成抗反射膜。
再者,視感反射率係JIS(Japanese Industrial Standards,日本工業 標準)Z 8701(1999年)所規定之三刺激值之色度Y,色度Y可藉由使用U-4100(日立製造)之分光光度計測定來自鑒賞者側之面之反射率,並依據上述JIS進行計算而求出。此時,將視角設為10°。
抗反射膜較佳為包含無機材料,例如,更佳為包含低折射率層與高折射率層之交替膜。作為低折射率層與高折射率層之交替膜,較佳為兩面合計之層數為8~40層。若層數少於8層,則無法獲得所需之視感反射率,若多於40層,則易於剝離,且並不經濟。尤其是若低折射率層與高折射率層之交替膜之兩面合計之層數達到10層以上,則變得易於獲得視感反射率為0.2%以下之蓋材構件,又,若達到14層以上,則變得易於獲得視感反射率為0.16%以下之蓋材構件,故而較佳。就抑制透明基材之翹曲之觀點而言,較佳為各個面之層數相同,更佳為材質及各層之膜厚亦完全相同。
於將上述交替膜形成於一面之情形時,層數較佳為4~20層。
作為低折射率層,較佳為選自由氧化矽、氧化鋁及氟化鎂所組成之群中之一種,一面中之低折射膜之總物理膜厚較佳為100 nm~700 nm。又,作為高折射率膜,較佳為選自由氮化矽、氮化鋁、氧化鋯、氧化鈮、氧化鉭、氧化鉿、氧化鈦、氧化錫及氧化鋅所組成之群中之一種,一面中之高折射率膜之總物理膜厚較佳為50 nm~250 nm。
作為於透明基材形成抗反射膜之方法,可利用濺鍍法、真空蒸鍍法、浸鍍法、旋轉塗佈法、離子電鍍法、CVD(Chemical Vapor Deposition,化學氣相沈積)法等方法,尤其是若採用濺鍍法,則膜厚均勻,與透明基材之接著牢固,並且膜硬度變高,故而較佳。
又,本發明之蓋材構件較佳地用作展示櫃、邊框、陳列裝置之蓋材構件。於用作展示櫃之情形時,可使用複數片蓋材構件,或組合使用曲面狀之蓋材構件與平面狀之蓋材構件。於使用複數片蓋材構件 之情形時,既可利用接著材接著固定,亦可利用框架使其等接合。
又,亦可對本發明之蓋材構件實施用以識別正背面等之標記。又,為了確保安全性以避免鑒賞者不注意而撞到蓋材構件,亦可形成局部未形成有抗反射膜之區域,或者實施標記(記號)。
本發明之蓋材構件較佳為紫外線光之透過率為30%以下者,更佳為紫外線光之透過率為20%以下者。於此情形時,藉由蓋材構件抑制紫外線到達至展示物等,故而可抑制展示物等之因紫外線而引起之劣化。再者,所謂「紫外線光」係指280 nm~380 nm之波長區域之光。
為了降低蓋材構件之紫外線光之透過率,較佳為透明基材及抗反射膜中之至少一方為遮蔽紫外線光者,更佳為透明基材及抗反射膜之兩者為遮蔽紫外線光者。透明基材之紫外線光之透過率較佳為30%以下,更佳為20%以下。抗反射膜之紫外線光之透過率較佳為30%以下,更佳為20%以下。
(第1實施形態)
於圖1(a)中表示用以收納、展示美術品等展示物1之展示櫃10。展示櫃10包括:基台2,其具有載置面;及蓋材構件3,其收納並保護載置於基台2上之展示物1。蓋材構件3具有將4片側板31與1片頂板32接著固定而成之箱形狀。如圖1(b)所示,4片側板31包括:玻璃板31a,其包含厚度為5 mm之鈉鈣玻璃;及抗反射膜31b,其形成於玻璃板31a之兩面。再者,頂板32包含與側板31相同之玻璃板,且未形成抗反射膜。
抗反射膜31b係如表1所示般為包含SiO2之低折射率膜與包含Nb2O5之高折射率膜之16層之交替膜(兩面為32層),於玻璃板31a上形成有包含Nb2O5之高折射率膜,於最外層形成有包含SiO2之低折射率膜。側板31之視感反射率為0.12%。因此,不會產生蓋材構件3之側板31之表面上之映入,而可使鑒賞者猶如與展示物1之間不存在任何事物般視認展示物1。再者,上述低折射率膜及高折射率膜之任一者均係藉由反應性濺鍍法而成膜。
(第2實施形態)
於圖2中表示用以收納、展示繪畫等展示物11之展示櫃20。展示櫃20包含收納並保護固定於牆壁12之展示物11之蓋材構件13。蓋材構件13具有將1片曲面狀之側板131、1片頂板132及1片底板133接著固定而成之拱形狀。側板131係與第1實施形態同樣地包含玻璃板31a及形成於玻璃板31a之兩面之抗反射膜31b。再者,若側面131之曲率半徑R過小,則反射易於變大,故而較佳為以使曲率半徑R成為400 mm以上之方式加以限制。此處,玻璃板31a於包含厚度由0.3 mm構成之硼矽酸鹽系玻璃之方面與第1實施形態不同。再者,頂板132及底板133包 含與側板131相同之玻璃板,且未形成抗反射膜。抗反射膜為與第1實施形態相同之構成。由於為如上所述之構成,故而不會產生蓋材構件13之側板131之表面上之映入,且不僅位於展示物11之正面之鑒賞者,而且自展示物11之斜方向鑒賞之鑒賞者亦可猶如在展示物與鑒賞者之間不存在任何事物般視認展示物11。
(第3實施形態)
於圖3中表示用以收納、展示繪畫等展示物21之邊框30。邊框30包含框材24及蓋材構件23,該蓋材構件23係以不與所收納之展示物21接觸之方式與展示物21隔開間隔而嵌入至框材24。蓋材構件23係與第1實施形態同樣地包含玻璃板31a及形成於玻璃板31a之兩面之抗反射膜31b。此處,玻璃板31a於包含厚度由0.5 mm構成之無鹼硼矽酸鹽系玻璃(日本電氣硝子公司製造之OA-10G)之方面與第1實施形態不同。抗反射膜為與第1實施形態相同之構成。由於為如上所述之構成,故而不會產生蓋材構件13之表面上之映入,可使鑒賞者猶如與展示物21之間不存在任何事物般視認展示物21。又,由於展示物21與蓋材構件23不接觸,故而可保護展示物21不受損傷或污染。
(第4實施形態)
於圖4(a)中表示組入有液晶等陳列物41之陳列裝置50。陳列裝置50包含:陳列物41;蓋材構件43,其經由樹脂薄膜44與陳列物41接著固定;及收納體42,其收納陳列物41與蓋材構件43。如圖4(b)所示,蓋材構件43包含1片玻璃板43a及形成於玻璃板43a之樹脂薄膜44之非接觸面之抗反射膜43b。此處,玻璃板31a包含厚度由70 μm構成之無鹼硼矽酸鹽系玻璃(日本電氣硝子公司製造之OA-10G)。
如表2所示,抗反射膜係包含SiO2之低折射率膜與包含Nb2O5之高折射率膜之合計6層之交替膜,於玻璃板31a上形成有包含Nb2O5之高折射率膜,於最外層形成有包含SiO2之低折射率膜。蓋材構件43之視感反射率為0.16%。由於陳列裝置50為如上所述之構成,故而不會產生蓋材構件43之表面上之映入,可使鑒賞者猶如與陳列物41之間不存在任何事物般視認陳列物41。又,由於無太陽光等之映入,故而即便於屋外亦可清晰地觀察陳列物之圖像。
再者,於算出視感反射率時,在經由樹脂薄膜44而與陳列物41接著固定之狀態下,自蓋材構件43之鑒賞者側測定反射率。又,上述低折射率膜及高折射率膜之任一者均係藉由反應性濺鍍法而成膜。
(第5實施形態)
於圖5中表示第5實施形態之陳列裝置之模式性平面圖。於圖6中表示圖5之線VI-VI處之模式性剖面圖。
本實施形態之陳列裝置51構成例如彈球台、吃角子老虎(slot machine)等遊戲具等。陳列裝置51包含裝置主體52。於裝置主體52之一部分設置有陳列物52a。該陳列物52a包含液晶面板、或電漿陳列面板、電致發光面板等。
於裝置主體52之前方設置有包含玻璃板等之保護板53。於該保護板53之至少一表面上設置有蓋材構件54。蓋材構件54與側板31等同樣地包含透明基材及設置於透明基材上之抗反射膜。抗反射膜既可設置於蓋材構件54之一面上,亦可設置於兩面上。
於陳列裝置51中,蓋材構件54係以覆蓋陳列物52a之方式設置於陳列裝置51之一部分區域內。因此,可抑制因背景等之映入等而引起之陳列於陳列物52a之圖像之視認性之下降。尤其是於陳列物52a變暗(blackout)時,透過光之光量下降,而背景等之映入易變得顯眼,故而預先設置蓋材構件54較為有效。藉由預先設置蓋材構件54,可抑制遊戲具之遊戲者之集中力因映入等而發散。
(第6實施形態)
於圖7中表示第6實施形態之水槽之模式性前視圖。於圖8中表示第6實施形態之水槽之側壁之模式性剖面圖。再者,圖8係圖7之線VIII-VIII處之模式性剖面圖。於圖7之紙面裏側、圖8之x1側存在水生生物。水生生物之觀看者位於圖7之紙面近前側、圖8之x2側。
如圖8所示,水槽60具有側壁61。側壁61亦可為平板狀,但於本實施形態中係設置為於觀看者側(x2側)呈凸狀之曲板狀。側壁61係由玻璃及樹脂等構成。
於側壁61之外壁面61a上設置有蓋材構件63。蓋材構件63與第1實施形態之側板31、第4實施形態之蓋材構件43等同樣地,包含透明基材及設置於透明基材上之抗反射膜。抗反射膜既可設置於蓋材構件63之一面上,亦可設置於兩面上。藉由採用具有此種構成之蓋材構件63,可抑制表面反射,從而可抑制背景等之映入。因此,可提高水槽60之內部之視認性。
就提高水槽60之內部之視認性之觀點而言,亦考慮於側壁61之表面上直接設置抗反射膜。然而,水槽60之側壁61有時亦較為巨大,而難以於側壁61之表面上直接設置抗反射膜。又,亦存在觀看者觸摸側壁61之情況。由此,亦考慮因與觀看者之接觸而導致抗反射膜受到損傷之情況。然而,於在側壁61上設置有抗反射膜之情形時,難以修復所設置之側壁61上之抗反射膜。
如本實施形態般,若將蓋材構件63設置於外壁面61a之一部分上,則不僅抗反射膜之形成較為容易,又,抗反射膜損傷時之維護性亦優異。就實現更優異之維護性之觀點而言,較佳為將蓋材構件63相對於側壁61可裝卸地設置。具體而言,較佳為例如將蓋材構件63黏著於側壁61上。但是,蓋材構件63亦可接著於側壁61上。
就進一步提高水槽60之內部之視認性之觀點而言,較佳為蓋材構件63之透明基材具有與側壁31實質上相同之折射率。具體而言,較佳為透明基材之折射率與側壁31之折射率之差為0.1以下。又,於在蓋材構件63與側壁61之間設置黏接著層之情形時,黏接著層與透明基材之間之折射率差、黏接著層與側壁61之間之折射率差分別較佳為0.1以下。
又,於如側壁61之外壁面61a為曲面狀之情形時,透明基材較佳為包含具有可撓性之樹脂片材或厚度為300 μm以下之玻璃片材等。
(第7實施形態)
於本實施形態中,抗反射膜係交替積層低折射率層與高折射率層而成之膜,最外層包含含有Al2O3之SiO2膜。
將厚度為500 μm之無鹼硼矽酸鹽系玻璃(日本電氣硝子公司製造之OA-10G)用作玻璃板,於其上,如以下之表3所示般,交替地積層合計5層之包含Al-SiO2之低折射率層與包含Nb2O5之高折射率層,從而獲得依照第7實施形態之實施例1之蓋材構件。
作為比較,如以下之表4所示,除將No.5之最外層之SiO2膜設為不含有Al2O3之SiO2膜以外,以與上述實施例1相同之方式於玻璃板上形成抗反射膜,從而獲得實施例2之蓋材構件。
於表3及表4中,「Al-SiO2」表示含有Al2O3之SiO2膜。再者,Al2O3之含量為5.3質量%。
又,實施例1之蓋材構件之視感反射率為0.23%,實施例2之蓋材構件之視感反射率為0.29%。
對於所獲得之實施例1及實施例2之蓋材構件,以如下方式進行鹽水煮沸試驗。
將上述蓋材構件浸漬於NaCl濃度4.8質量%、溫度90℃之鹽水中30分鐘後,將其撈出,以純水清洗表面並進行乾燥。
對於鹽水煮沸試驗前與試驗後之蓋材構件,以入射角12°測定波長380~780 nm之波長區域內之反射率。圖9表示實施例1之蓋材構件之試驗前及試驗後之反射率,圖10表示實施例2之蓋材構件之試驗前及試驗後之反射率。
如圖10所示,於實施例2之蓋材構件中,試驗後之反射率與試驗前之反射率相比產生顯著變化。相對於此,如圖9所示,可知於實施例1之蓋材構件中,試驗前與試驗後之反射率大致相同,幾乎未產生變化。認為其原因在於:由於在最外層之SiO2膜中含有Al2O3,故而SiO2膜之化學耐久性得以提高。
於上述實施例1之蓋材構件之抗反射膜中,最外層以外之SiO2膜亦含有Al2O3,但最外層以外之SiO2膜亦可不必含有Al2O3。即,只要最外層之SiO2膜含有Al2O3,便可獲得能夠提高化學耐久性之上述效果。再者,上述「Al-SiO2膜」及Nb2O5膜之任一者均係藉由反應性濺鍍法而成膜,於「Al-SiO2膜」之成膜時,使用含有6.0質量%之金屬Al之Si靶。
[產業上之可利用性]
本發明之蓋材構件可用作用以保護對於特定領域有價值之事物、學術資料、美術品、水生生物等展示物、智慧型手機、行動式個人電腦、掌上型遊戲機等行動機器、汽車導航系統、固定型遊戲機、彈球台、吃角子老虎等陳列物之蓋材構件。
31‧‧‧側板
31a‧‧‧玻璃板
31b‧‧‧抗反射膜

Claims (16)

  1. 一種展示物或陳列物用蓋材構件,其特徵在於:包括透明玻璃基材、及形成於該透明玻璃基材之至少一面之抗反射膜,視感反射率為0.5%以下,且上述抗反射膜之紫外線光之透過率為30%以下。
  2. 如請求項1之展示物或陳列物用蓋材構件,其紫外線光之透過率為30%以下。
  3. 如請求項1之展示物或陳列物用蓋材構件,其中上述抗反射膜為交替積層低折射率層與高折射率層而成之膜,且最外層包含含有Al2O3之SiO2膜。
  4. 如請求項3之展示物或陳列物用蓋材構件,其中SiO2膜中之Al2O3之含量為1~20質量%之範圍內。
  5. 如請求項1之展示物或陳列物用蓋材構件,其中上述抗反射膜形成於上述透明玻璃基材之兩面,且為交替積層低折射率層與高折射率層而成之交替膜。
  6. 如請求項5之展示物或陳列物用蓋材構件,其中上述交替膜之層數為兩面計14層以上。
  7. 如請求項1至6中任一項之展示物或陳列物用蓋材構件,其中上述透明玻璃基材之表面粗糙度以Ra計為50nm以下。
  8. 如請求項1至6中任一項之展示物或陳列物用蓋材構件,其視感反射率為0.16%以下。
  9. 一種展示櫃,其特徵在於:包括基台、及以收納並保護載置於該基台上之展示物之方式固定之蓋材構件,且該蓋材構件包括如請求項1至8中任一項之蓋材構件。
  10. 如請求項9之展示櫃,其中蓋材構件具有曲面。
  11. 一種邊框,其特徵在於:包括框材、及以不與所收納之展示物接觸之方式固定於框材之蓋材構件,且該蓋材構件包括如請求項1至8中任一項之蓋材構件。
  12. 一種陳列裝置,其特徵在於:具有收納陳列物與蓋材構件之收納體,且該蓋材構件包括如請求項1至8中任一項之蓋材構件。
  13. 如請求項12之陳列裝置,其係將上述陳列物與上述蓋材構件經由樹脂薄膜接著固定而成。
  14. 如請求項12或13之陳列裝置,其中上述陳列物係設置於上述陳列裝置之一區域內;且上述蓋材構件係以覆蓋上述陳列物之方式設置於上述陳列裝置之一部分區域內。
  15. 一種水槽,其特徵在於:在側壁之至少一部分上設置有如請求項1至8中任一項之蓋材構件。
  16. 如請求項15之水槽,其中上述蓋材構件係可裝卸地設置。
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