TWI559493B - 靜電去除裝置及靜電去除方法 - Google Patents

靜電去除裝置及靜電去除方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI559493B
TWI559493B TW104133876A TW104133876A TWI559493B TW I559493 B TWI559493 B TW I559493B TW 104133876 A TW104133876 A TW 104133876A TW 104133876 A TW104133876 A TW 104133876A TW I559493 B TWI559493 B TW I559493B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
workpiece
nozzle
ionizer
fixing
ion wind
Prior art date
Application number
TW104133876A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201626536A (zh
Inventor
宇澤啓
久保孝夫
Original Assignee
伸興股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 伸興股份有限公司 filed Critical 伸興股份有限公司
Publication of TW201626536A publication Critical patent/TW201626536A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI559493B publication Critical patent/TWI559493B/zh

Links

Landscapes

  • Elimination Of Static Electricity (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)

Description

靜電去除裝置及靜電去除方法
本發明係關於一種靜電去除裝置及靜電去除方法。
以往,將液晶面板、有機EL面板、半導體、精密電子零件等有遭受靜電導致之放電現象破壞之疑慮的工件,由工件固定用車台分離時,係有將離子化器產生之離子風(離子化氣體)噴於工件的上面,防止靜電(剝離帶電)導致之放電現象的靜電去除裝置及靜電去除方法。類似於該裝置的實施例請參照專利文獻1日本特開平7-312337號公報。
如第10圖所示,以往分離時,將離子化器92產生之離子風噴於工件W的表面Wa來進行除電,但離子風的離子會附著於工件W的表面Wa,故將工件W由固定用車台91剝離的瞬間,難以將產生於工件W的背面Wb之電荷(第10圖中的正電荷)與產生於固定用車台91的表面91a之電荷(第10圖中的負電荷)中和,而有工件W與固定用車台91之間發生放電現象之疑慮。又,看似藉由離子風將工件W的表面Wa與背面Wb電中和,但實際上係於工件W的表面Wa累積電荷(第10圖中的負電荷)之狀態。在此狀態,浮游粉塵等異物若落至工件W的表面Wa而與電荷接觸,則會有電荷之電場導致之庫倫力吸附異物這樣的問題。
在此,本發明之目的係提供一種防靜電裝置,該裝置可確實地防止靜電導致之工件與固定用車台之間的放電現象,同時防止異物吸附。
為了達成上述目的,本發明之靜電去除裝置係將離子化器設置於固定用車台的背面側,該離子化器係以分離手段由該固定用車台的表面將背面為平滑面狀之工件分離時,用以防止靜電產生,經由貫穿設置於該固定用車台之孔,來自該離子化器之離子風噴出至該固定用車台的該表面與該工件的背面之間形成之間隙空間部。又,該離子化器設置有使離子風噴出之圓筒狀噴嘴,該噴嘴插入至該固定用車台的該孔。又,該離子化器係與該分離手段連動連結,使該離子化器以與工件分離速度相同之速度往工件分離方向移動,該噴嘴的前端與該工件的該背面之間的間隔尺寸保持固定。又,該分離手段具備用以推出該工件的背面之升降銷,該離子化器設置有使離子風噴出之圓筒狀噴嘴,該噴嘴的前端部係圓頂狀且具有該離子風噴出之噴出孔,進而,該噴嘴插入至該固定用車台的該孔,該噴嘴係兼用為該升降銷。
又,本發明之靜電去除方法係包含:於用以保持背面為平滑面狀之工件之固定用車台貫穿設置一孔,將離子化器配設於該固定用車台的背面側,用以防止由該固定用車台將該工件分離時產生之靜電,該固定用車台將該工件分離時,使來自該離子化器之離子風經由該孔噴出至該固定用車台的該表面與該工件的背面之間所形成的間隙空間部。又,本方法之該離子化器設置有使離子風噴出之圓筒狀噴嘴,由該固定用車台分離該工件時,將該噴嘴插通至該孔,使該噴嘴的前端侵入至該間隙空間部。又,本方法由該固定用車台分離該工件時,使該離子化器以與工件分離速度相同之速度往工件分離方向移動,一邊使噴嘴的前端與工件的背面之間的間隔尺寸保持固定,一邊進行離子風之噴出。又,本方法由該固定用車台分離該工件,使由該固定用車台至第一規定分離距離為止之範圍內該工件分離時之分離速度,相較於超過第一規定分離距離至第二規定分離距離為止之範圍內該工件分離時之分離速度為慢。又,本方法之該離子化器設置有 使離子風噴出之圓筒狀噴嘴,該噴嘴的前端部係圓頂狀且形成該離子風噴出之噴出孔,該噴嘴插入至該固定用車台的該孔,用該噴嘴的前端部推出該工件的背面,一邊由該固定用車台分離一邊噴出離子風至該間隙空間部。
藉由本發明,可完全中和剝離帶電導致於工件的背面與固定用車台的表面產生之電荷,可確實地防止放電現象導致工件之破壞。利用狹窄之間隙空間部,不使離子濃度大幅降低,而對產生剝離帶電之兩面迅速吹入離子風,藉此可效率良好地進行除電(中和)。特別是由固定用車台分離工件之瞬間可除電,可防止放電的危險。擴大一支電極針可除電之範圍,可實現裝置的簡單化。可確實地防止電荷導致之異物吸附,可提升藉由除塵頭等清洗機之異物除去功效。
1‧‧‧固定用車台
1a‧‧‧表面
1b‧‧‧背面
11‧‧‧孔
12‧‧‧貫穿孔
2‧‧‧離子化器
20‧‧‧噴嘴
20a‧‧‧前端
20d‧‧‧前端部
20e‧‧‧底部
20f‧‧‧噴出孔
21‧‧‧電極針
22‧‧‧吐出口
3‧‧‧分離手段
31‧‧‧升降銷
31a‧‧‧前端部
32‧‧‧電動致動器
33‧‧‧連結件
5‧‧‧控制部
7‧‧‧除塵頭
Ha‧‧‧第一規定分離距離
Hb‧‧‧第二規定分離距離
J‧‧‧間隙空間部
S‧‧‧間隙尺寸
W‧‧‧工件
Wa‧‧‧表面
Wb‧‧‧背面
第1圖:表示本發明之防靜電裝置之一實施形態的剖面正面圖。
第2圖:係一平面圖。
第3圖:表示分離距離與分離速度之關係圖。
第4圖:表示分離瞬間之狀態的剖面正面圖。
第5圖:表示分離瞬間之狀態的剖面正面圖。
第6圖:表示剛分離完成之狀態的剖面正面圖。
第7圖:表示分離次數與帶電量之關係圖。
第8圖:說明實施例之作用的平面圖,(a)表示除塵前之工件之表面的平面圖,(b)表示除塵後之工件之表面的平面圖。
第9圖:說明以往問題點的平面圖,(a)表示除塵前之工件之表面的平面圖,(b)表示除塵後之工件之表面的平面圖。
第10圖:說明以往技術的剖面正面圖。
第11圖:說明工件彎曲之情況的剖面正面圖。
第12圖:其他實施形態的剖面正面圖。
第13圖:其他實施形態的重要部分擴大剖面圖。
第14圖:表示其他實施形態之分離開始狀態的剖面正面圖。
為讓本發明之上述及其他目的、特徵及優點能更明顯易懂,下文特舉本發明之實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下:本發明之靜電去除裝置如第1圖所示,具備固定用車台1、工件固定手段、分離手段(剝離手段)3及離子化器(除電器)2,該固定用車台係用以保持(載置)背面Wb為平滑面狀之工件(基材)W,該工件固定手段係省略圖示,用以使工件W的背面Wb與固定用車台1的表面1a密接固定,該分離手段3係於工件固定手段之固定解除後,使固定用車台1的表面1a與工件W的背面Wb分離,該離子化器2係防止於分離手段3使工件W由固定用車台1分離時產生之靜電。
該離子化器2具有電極針21及吐出口22,該電極針21係用以交互產生正離子及負離子,該吐出口22係吐出沖放空氣或載送氣體等運送氣體,進而,該離子化器2具有圓筒狀(煙囪狀)之噴嘴20,該噴嘴20係將產生之離子及運送氣體作為離子風(亦稱為離子氣體流)噴出。
且,將離子化器2設置於固定用車台1的背面1b(工件W的背面Wb)。於分離前之狀態,將噴嘴20的前端20a插入配設於噴嘴用孔11,該孔11係貫穿設置於固定用車台1。又,如第2圖所示,噴嘴20的前端20a由平面來看係配設為格子狀(格子之交點狀),一個工件W及固定用車台1對應複數個離子化器2。此外,噴嘴20及孔11由平面來看亦可配設為交錯狀。簡要而言,係配設為散點狀。
分離手段3具備複數個升降銷31、電動致動器32及連結件33,該升降銷31設置有相對於固定用車台1的表面1a係自由進出之前端 部31a,該電動致動器32係用以驅動(升降)複數個升降銷31,該連結件33係連結升降銷31及電動致動器32。於分離前之狀態,將升降銷31的前端部31a插入配設於貫穿孔12,該貫穿孔12係貫穿設置於固定用車台1。分離手段3係藉由電動致動器32的直線運動使升降銷31的前端部31a由固定用車台1的表面1a突出,抵接至載置於固定用車台1之工件W的背面Wb,並一邊使工件W的背面Wb保持水平面狀一邊分離(剝離)。
之後,將離子化器2裝設於該連結件33,連結升降銷31與電動致動器32,並設置使離子化器2與升降銷31連動,離子化器2係構成為用與升降銷上升速度相同之速度往升降銷31之移動方向上升。亦即,構成為離子化器2係用與工件分離速度相同之速度往工件分離方向移動,即使升降銷31突出且工件W的背面Wb由固定用車台1的表面1a離開,噴嘴的前端20a與工件W的背面Wb之間的間隔尺寸S係保持固定。
進而,該靜電去除裝置具備CPU、序列器或電腦等控制部5以控制使工件W離開固定用車台1時之分離速度。控制部5係電連接至電動致動器32,如第3圖中以實線或兩點鍊線所示,係控制分離手段3使固定用車台1的表面1a至第一規定分離距離Ha為止之範圍內工件W分離時之分離速度,相較於超過第一規定分離距離Ha至第二規定分離距離Hb為止之範圍內工件W分離時之分離速度為慢。換言之,係控制固定用車台1的表面1a至第一規定分離距離Ha為止之範圍內工件W分離時之分離速度為基準分離速度Ua以下,並控制超過第一規定分離距離Ha至第二規定分離距離Hb為止之範圍內工件W分離時之分離速度比基準分離速度Ua快。
將固定用車台1的表面1a至分離結束狀態之工件W的背面Wb之距離設為分離結束距離He,則第一規定分離距離Ha係為分離結束距離He的1%以上且35%以下,較佳為1%以上且20%以下,第二規定分離距離Hb較佳設定為分離結束距離He的70%以上且100%以下。
省略圖示之工件固定手段,只要是可使工件W的背面Wb與固定用車台1的表面1a接觸(密接)固定即可,可經由開口於固定用車台1的表面之吸附孔,及經由吸附孔以負壓吸入固定工件W之吸入泵(真空泵)及吸入路或吸入配管等吸入固定裝置,或壓住工件W之機械式夾具裝置等。或者,依照情況亦可省略工件固定手段。
又,工件W係由固定用車台1的表面1a分離時有經由剝離帶電而帶電之疑慮的構件,如半導體、液晶面板、有機EL面板、IC封裝、CMOS感測器等精密電子零件、玻璃基板等。
接著,說明本發明之靜電去除方法及靜電去除裝置的使用方法(作用)。首先,於固定用車台1貫穿設置孔11並於離子化器2設置噴嘴20。之後,將離子化器2配設於固定用車台1的背面1b側並將噴嘴20的前端20a配設於孔11。又,將升降銷31的前端部31a配設於貫穿孔12。
接著,載置工件W使工件W的背面Wb接觸至固定用車台1的表面1a,藉由工件固定手段固定工件W於固定用車台1。進行於工件W塗佈表面處理劑或塗佈密接強化劑,或者,工件W與其他構件之結合、熱處理等規定之作業步驟。接著,於規定之作業步驟後,解除工件固定手段對工件W之固定。
解除工件固定後,為了進行工件W的清洗或運送等後續的規定之作業步驟,使升降銷31上升(作動分離手段3),使工件W的背面Wb由固定用車台1的表面1a分離。
在此,如第1圖所示,用分離手段3將工件W分離前(分離開始之數秒前)啟動離子化器2,開始產生負離子及正離子(除電分離步驟開始)。
如第4圖所示,分離開始則離子風經由孔11噴出至固定用車台1的表面1a與工件W的背面Wb之間的間隙空間部J。一旦分離則立 刻藉由剝離帶電,固定用車台1帶負電且工件W帶正電(於工件W的背面Wb存在正電荷且於固定用車台1的表面1a存在負電荷)。若持續進行分離則產生放電現象,有工件W被破壞之疑慮。然而,如第4圖至第5圖所示,由分離開始,存在於工件W的背面Wb之正電荷與存在於固定用車台1的表面1a之負電荷,藉由離子風之正離子及負離子於一瞬間(由分離開始0.1秒內)完全中和,防止放電現象。
又,將工件W由固定用車台1分離時(除電分離步驟中),離子風藉由噴嘴20噴於工件W的背面Wb並沿著工件W流動。如第2圖的一點鍊線所示之圓,使離子風擴散流動成以噴嘴20為中心之圓形。例如,以往將離子風噴於工件W的表面Wa之情況,需要將電極針21以50~100mm間隔配設而進行除電,但以本發明之裝置及方法,1支電極針21可進行半徑200~300mm的除電,工件W之一單位面積所需要的電極針21的針數可以減少。
又,將工件W由固定用車台1分離時,將噴嘴20插通至孔11以使噴嘴20的前端20a與工件W的背面Wb之間的間隔尺寸S保持固定,一邊使噴嘴20的前端20a侵入間隙空間部J,一邊噴入離子風。噴於工件W的背面Wb之離子量(濃度)穩定,可確實地得到除電功效。此外,第4圖及第5圖係將間隙空間部J及間隔尺寸S圖示為比實際大。
進而,由固定用車台1至第一規定分離距離Ha為止之範圍內工件W的分離速度設為基準分離速度Ua以下之速度。間隙空間部J不會急遽擴張,且防止離子密度(濃度)急遽降低或離子擴散速度急遽降低,除電功效可效率良好地進行。
超過第一規定分離距離Ha,則至第二規定分離距離Hb(或分離結束距離He)為止係將分離速度設為比基準分離速度Ua快,提高生產效率(生產速度)。
之後,如第6圖所示,工件W分離至分離結束距離He,則停止離子化器2作動(除電分離步驟結束)。工件W的表面Wa及背面Wb上沒有剝離帶電導致之電荷,工件W的表面Wa未大量累積離子風之電荷(離子),即使浮游粉塵等異物落下至工件W的表面Wa,亦不會有電荷接觸導致之吸附,可提升藉由除塵頭7等清洗機之異物去除功效。
在此,第7圖表示測定每次分離中分離結束狀態之工件W的帶電量的比較實驗結果圖。不啟動離子化器2而使工件W對固定用車台1重複接觸、分離之比較例以打叉(×)表示,本發明之實施例(參照第1圖至第6圖)以黑圈(●)表示,如第10圖所示之構成為離子化器92噴於工件W的表面Wa之以往例以三角形(△)表示。工件W設為玻璃基板。
由第7圖明顯可知,比較例(×)因離子化器2未啟動,故第一次分離的帶電量最少,但工件W未被電中和,故有靜電導致之放電現象發生之疑慮。進而,隨著分離次數增加,帶電量增加。以往例(△)看似藉由離子化器92電中和,但來自離子化器92之離子累積於工件W的表面Wa,故帶電量增多。亦即,浮游粉塵等異物吸附之疑慮高。實施例(●)係藉由離子化器2電中和,即使重複進行分離,與比較例及以往例相較係帶電量非常少,可說是幾乎沒有異物吸附之疑慮。
如第8圖(a)所示,實施例因帶電量少,故於分離結束狀態下,即使異物落下至工件W的表面Wa亦不會產生電荷導致之吸附(附著力弱),以除塵頭7進行除塵則如第8圖(b)所示,可乾淨地除塵。然而,如以往例或比較例係帶電量多,則如第9圖(a)所示,工件W的表面Wa吸附無數的異物。之後,即使以除塵頭7(參照第6圖)移動進行除塵,但電荷導致之吸附力強,如第9圖(b)所示,異物殘留如波紋狀(條紋狀),除塵頭7的性能未充分發揮。此外,除塵頭7係平行於工件W移動,往工件W的表面Wa噴出空氣,使異物由工件W剝離,並由吸入噴嘴 吸入空氣及異物而進行除塵。又,第8圖及第9圖係將異物圖示為比實際大。
在此,如第11圖所示,工件W係如薄玻璃板或薄塑膠板為剛性小而容易彎曲之構件的情況,可能由升降銷31推出之部分開始分離(剝離),噴嘴20的前端20a附近不開始分離(第11圖所示之Y區域保持密接之狀態),離子風並未立刻流至分離開始部位(升降銷31的前端部31a附近)Q,而無法防止靜電。在此,第12圖至第14圖所示之其他實施形態中,噴嘴20係兼用為升降銷31。如第13圖所示之噴嘴20,前端部20d係形成為圓頂狀(球頭狀),圓頂的根部20e開有噴出離子風之噴出孔20f。噴出孔20f係繞著噴嘴20的軸心設置複數個,並往斜上方開口。頂部(前端)20a即使抵接於工件W亦不會塞住噴出孔20f而可確實地噴出離子風,且離子風沿著工件W的背面Wb一邊擴散為薄膜狀(平面狀)一邊流動。
如第14圖所示,噴嘴20插入至固定用車台1的孔11,以噴嘴20的前端部20d將工件W的背面Wb推出,一邊使工件W由固定用車台1分離一邊噴出離子風。即使工件W係容易彎曲之構件,噴嘴20的前端20a抵接於工件W的背面Wb,將離子風送至工件W的背面Wb與固定用車台1的表面1a之間的分離開始部位Q而防止靜電。進而,如以第4圖至第6圖之說明,使離子風噴出至間隙空間部J防止靜電。然而,於第11圖、第12圖及第14圖中省略(第1圖、第4圖及第5圖等所示之)正電荷及負電荷之圖示。
此外,本發明可變更設計,固定用車台1的表面1a可為傾斜狀或垂直面狀。亦即,工件W不限於如圖所示於上下方向分離,亦可於水平方向分離。分離手段3不限於使用升降銷31,亦可將負壓吸入構件作為使吸盤構件吸附於工件W而使工件W分離之結構。
如上所述,本發明之靜電去除裝置係構成為將離子化器2設 置於固定用車台1的背面1b側,離子化器2係以分離手段3由固定用車台1的表面1a將背面Wb為平滑面狀之工件W分離時,用以防止靜電產生,經由貫穿設置於固定用車台1之孔11,來自離子化器2之離子風噴出至固定用車台1的表面1a與工件W的背面Wb之間形成之間隙空間部J,故可完全中和剝離帶電導致於工件W的背面Wb與固定用車台1的表面1a產生之電荷,可確實地防止放電現象導致工件之破壞。利用狹窄之間隙空間部J,不使離子濃度大幅降低,而對產生剝離帶電之兩面迅速吹入離子風,藉此可效率良好地進行除電(中和)。特別是由固定用車台1分離工件W之瞬間可除電,可防止放電的危險。一支電極針21可除電之範圍擴大,可實現裝置的簡單化。可確實地防止電荷導致之異物吸附,可提升藉由除塵頭7等清洗機之異物除去功效。
又,於離子化器2設置用以噴出離子風之圓筒狀噴嘴20,並將噴嘴20插入至固定用車台1的孔11,故可將離子濃度穩定之離子風噴於工件W。可使離子風擴散成以噴嘴20為中心之圓形狀,而有效地使離子作用。一個工件W及固定用車台1對應之離子化器2的電極針21的針數可減少,而可對裝置的小型化、簡略化有貢獻。
又,構成離子化器2係與分離手段連動連結,使離子化器2以與工件分離速度相同之速度往工件分離方向移動,且噴嘴20的前端20a與工件W的背面Wb之間的間隔尺寸S保持固定,故噴於工件W的背面Wb之離子量(濃度)穩定,可效率良好地使離子作用於工件W。可確實地得到除電功效。可瞬間中和於工件W的背面Wb產生之電荷。
又,分離手段3具備用以推出工件W的背面Wb之升降銷31,離子化器2設置有使離子風噴出之噴嘴20,噴嘴20的前端部20d係圓頂狀且具有噴出離子風之噴出孔20f,進而,將噴嘴20插入固定用車台1的孔11,噴嘴20兼用為升降銷31,故即使工件W係如薄玻璃板之剛性 小而容易彎曲之構件,亦可確實地將離子風送至分離開始部位Q以防止瞬間放電現象導致工件W之破壞。
又,本發明之靜電去除方法係包含:於用以保持背面Wb為平滑面狀之工件W之固定用車台1貫穿設置孔11,將離子化器2配設於固定用車台1的背面1b側,用以防止由固定用車台1將工件W分離時產生之靜電,由固定用車台1將工件W分離時,使來自離子化器2之離子風經由孔11噴出至固定用車台1的表面1a與工件W的背面Wb之間所形成的間隙空間部J,故可完全中和剝離帶電導致於工件W的背面Wb與固定用車台1的表面1a產生之電荷,可確實地防止放電現象導致工件之破壞。利用狹窄之間隙空間部J,不使離子濃度大幅降低,而對產生剝離帶電之兩面迅速吹入離子風,藉此可效率良好地進行除電(中和)。特別是由固定用車台1分離工件W之瞬間可除電,可防止放電的危險。一支電極針21可除電之範圍擴大,可實現裝置的簡單化。可確實地防止電荷導致之異物吸附,可提升藉由除塵頭7等清洗機之異物除去功效。
又,於離子化器2設置用以噴出離子風之圓筒狀噴嘴20,由固定式車台1分離工件W時,將噴嘴20插通至孔11,使噴嘴20的前端20a侵入至間隙空間部J,故可將離子濃度穩定之離子風噴於工件W。可使離子風擴散成以噴嘴20為中心之圓形狀,而有效地使離子作用。可減少一個工件W及固定用車台1對應之離子化器2的電極針21的針數,而可對裝置的小型化、簡略化有貢獻。
又,由固定用車台1分離工件W時,使離子化器2以與工件分離速度相同之速度往工件分離方向移動,一邊使噴嘴20的前端20a與工件W的背面Wb之間的間隔尺寸S保持固定一邊進行離子風之噴出,故噴於工件W的背面Wb之離子量(濃度)穩定,可有效率地使離子於工件W作用。可確實地得到除電功效。可瞬間中和於工件W的背面Wb產生之 電荷。
又,由固定用車台1分離工件W,使固定用車台1的表面1a至第一規定分離距離Ha為止之範圍內工件W分離時之分離速度,相較於超過第一規定分離距離Ha至第二規定分離距離Hb為止之範圍內工件W分離時之分離速度為慢,故不會大幅降低剛分離後之離子濃度(密度),使離子風不浪費地沿著工件W擴散,實現瞬間除電。可不使生產效率(速度)降低而進行分離中的除電。
又,離子化器2設置使離子風噴出之噴嘴20,噴嘴20的前端部20d形成為圓頂狀並形成噴出離子風之噴出孔20f,將噴嘴20插入固定用車台1的孔11,以噴嘴20的前端部20d推出工件W的背面Wb,一邊由固定用車台1分離一邊噴出離子風至間隙空間部J,故即使工件W係如薄玻璃板之剛性小且容易彎曲之構件,亦可確實地將離子風送至分離開始部位Q以防止瞬間放電現象導致工件W之破壞。
雖然本發明已利用上述實施例揭示,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者在不脫離本發明之精神和範圍之內,相對上述實施例進行各種更動與修改仍屬本發明所保護之技術範疇,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1‧‧‧固定用車台
1a‧‧‧表面
1b‧‧‧背面
11‧‧‧孔
12‧‧‧貫穿孔
2‧‧‧離子化器
20‧‧‧噴嘴
20a‧‧‧前端
21‧‧‧電極針
22‧‧‧吐出口
3‧‧‧分離手段
31‧‧‧升降銷
31a‧‧‧前端部
32‧‧‧電動致動器
33‧‧‧連結件
5‧‧‧控制部
S‧‧‧間隙尺寸
W‧‧‧工件
Wa‧‧‧表面
Wb‧‧‧背面

Claims (5)

  1. 一種靜電去除裝置,係將離子化器設置於固定用車台的背面側,該離子化器係以分離手段由該固定用車台的表面將背面為平滑面狀之工件分離時,用以防止靜電產生,經由貫穿設置於該固定用車台之孔,來自該離子化器之離子風噴出至該固定用車台的該表面與該工件的背面之間形成之間隙空間部,該離子化器設置有使離子風噴出之圓筒狀噴嘴,該噴嘴插入至該固定用車台的該孔,該離子化器係與該分離手段連動連結,使該離子化器以與工件分離速度相同之速度往工件分離方向移動,該噴嘴的前端與該工件的該背面之間的間隔尺寸保持固定。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之靜電去除裝置,其中,該分離手段具備用以推出該工件的背面之升降銷,該離子化器設置有使離子風噴出之噴嘴,該噴嘴的前端部係圓頂狀且具有該離子風噴出之噴出孔,進而,該噴嘴插入至該固定用車台的該孔,該噴嘴係兼用為該升降銷。
  3. 一種靜電去除方法,包含:於用以保持背面為平滑面狀之工件之固定用車台貫穿設置一孔,將離子化器配設於該固定用車台的背面側,用以防止由該固定用車台將該工件分離時產生之靜電,該固定用車台將該工件分離時,使來自該離子化器之離子風經由該孔噴出至該固定用車台的該表面與該工件的背面之間所形成的間隙空間部,該離子化器設置有使離子風噴出之圓筒狀噴嘴,由該固定用車台分離該工件時,將該噴嘴插通至該孔,使該噴嘴的前端侵入至該間隙空間部,由該固定用車台分離該工件時,使該離子化器以與工件分離速度相同之速度往工件分離方向移動,一邊使噴嘴的前端與工件的背面之間的間隔尺寸保持固定,一邊進行離子風之噴出。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之靜電去除方法,其中,由該固定用車台 分離該工件,使由該固定用車台至第一規定分離距離為止之範圍內該工件分離時之分離速度,相較於超過第一規定分離距離至第二規定分離距離為止之範圍內該工件分離時之分離速度為慢。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之靜電去除方法,其中,該離子化器設置有使離子風噴出之噴嘴,該噴嘴的前端部係圓頂狀且形成該離子風噴出之噴出孔,該噴嘴插入至該固定用車台的該孔,用該噴嘴的前端部推出該工件的背面,一邊由該固定用車台分離一邊噴出離子風至該間隙空間部。
TW104133876A 2015-01-09 2015-10-15 靜電去除裝置及靜電去除方法 TWI559493B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015003219A JP6077023B2 (ja) 2015-01-09 2015-01-09 静電気除去装置及び静電気除去方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201626536A TW201626536A (zh) 2016-07-16
TWI559493B true TWI559493B (zh) 2016-11-21

Family

ID=56384466

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW104133876A TWI559493B (zh) 2015-01-09 2015-10-15 靜電去除裝置及靜電去除方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6077023B2 (zh)
KR (1) KR101747795B1 (zh)
CN (1) CN105792493B (zh)
TW (1) TWI559493B (zh)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107329289A (zh) * 2017-07-19 2017-11-07 武汉华星光电技术有限公司 去静电剥离装置及液晶面板制作设备
CN108633155A (zh) * 2018-06-19 2018-10-09 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 除静电支撑结构、基板运载设备
CN109068467A (zh) * 2018-09-18 2018-12-21 张家港康得新光电材料有限公司 一种除静电装置及除静电方法
CN109727541A (zh) * 2019-03-15 2019-05-07 广州林恩静电科学技术应用有限公司 平板显示产品静电失效的两步分离解决方法及应用及装置
WO2020191715A1 (en) * 2019-03-28 2020-10-01 Esd Technology Consulting & Licensing Co., Ltd. Device and method for mitigating static charges
CN111139632A (zh) * 2019-12-09 2020-05-12 亳州新诚达时装有限公司 一种服装辅料的检索装置
CN110856326A (zh) * 2019-12-25 2020-02-28 深圳市晶展鑫电子设备有限公司 消除器件和振动盘圆盘静电的装置
CN112788824B (zh) * 2020-12-24 2024-04-30 Tcl华星光电技术有限公司 静电去除装置、蒸镀装置及静电去除方法
CN116298566B (zh) * 2023-05-19 2023-08-04 埃用仪器(苏州)有限公司 一种工业用静电测试仪

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200919625A (en) * 2007-09-06 2009-05-01 Omron Tateisi Electronics Co A substrate-holding apparatus and release method thereof

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07312337A (ja) * 1994-05-18 1995-11-28 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板加熱処理装置
JPH08320459A (ja) * 1995-05-25 1996-12-03 Advanced Display:Kk 液晶表示装置の製法およびそれに用いる製造装置
JP2000294472A (ja) * 1999-04-05 2000-10-20 Toshiba Corp 除電機能付きステージ及び被加工体の除電方法及びそれを用いた加工装置とシール剤塗布装置
ATE379847T1 (de) * 1999-07-02 2007-12-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd Anordnung zur herstellung von löthöckern auf halbleitersubstraten unter generierung elektrischer ladung, methode und anordnung zum entfernen dieser ladungen, und elektrische ladung generierendes halbleitersubstrat
EP1503614A3 (en) * 2003-07-29 2014-10-01 Toray Industries, Inc. A static eliminator and a static eliminating method for an insulating sheet
JP4421874B2 (ja) * 2003-10-31 2010-02-24 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP4396847B2 (ja) * 2004-12-22 2010-01-13 Smc株式会社 除電装置付きエア浮上装置及び該浮上装置における除電方法
JP4500173B2 (ja) * 2005-02-01 2010-07-14 オリンパス株式会社 静電気除去方法および基板処理装置
JP2006303138A (ja) * 2005-04-20 2006-11-02 Seiko Epson Corp 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法
JP4331169B2 (ja) * 2006-02-02 2009-09-16 株式会社アルバック 静電気除去装置
JP4498379B2 (ja) * 2007-04-03 2010-07-07 春日電機株式会社 除帯電電極構造
CN102097349B (zh) * 2010-11-16 2012-06-27 嘉盛半导体(苏州)有限公司 用于半导体封装工艺的芯片卸载装置
KR101554508B1 (ko) * 2014-07-09 2015-09-22 (주)선재하이테크 제전 기능을 갖춘 거치대 및 이를 이용하는 기판 탑재용 스테이지에 대한 제전 장치

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200919625A (en) * 2007-09-06 2009-05-01 Omron Tateisi Electronics Co A substrate-holding apparatus and release method thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016129107A (ja) 2016-07-14
KR20160086257A (ko) 2016-07-19
TW201626536A (zh) 2016-07-16
CN105792493B (zh) 2018-06-08
JP6077023B2 (ja) 2017-02-08
CN105792493A (zh) 2016-07-20
KR101747795B1 (ko) 2017-06-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI559493B (zh) 靜電去除裝置及靜電去除方法
KR100625099B1 (ko) 감압 처리실내의 부재 청정화 방법과, 청정도 평가방법과, 청정화 종점 검출 방법과, 기판 처리 장치 및비산 미립자 검출 장치
KR20160018401A (ko) 점착 테이프 박리 방법 및 점착 테이프 박리 장치
CN102254764B (zh) 器件承载装置
JP2009064950A (ja) 基板保持装置および基板リリース方法
KR102109357B1 (ko) 필름 클리닝 장치
KR20140040630A (ko) 보호 테이프 박리 방법 및 보호 테이프 박리 장치
JPH08108966A (ja) 基板剥離装置
KR101624029B1 (ko) 기판 처리 장치 및 토출 헤드 대기 방법
TW201107895A (en) Exposure device for inner layer substrate and method of stripping substrate and mask
US8961693B2 (en) Component supporting device
TWI668061B (zh) 異物除去裝置
JP2012086301A (ja) 半導体製造装置、及び半導体製造方法
US20180257116A1 (en) Method and apparatus for backside cleaning of substrates
JP2017196575A (ja) 異物除去装置及び異物除去システム
KR100770792B1 (ko) 에칭부와 세정부를 겸비한 건식 에쳐
EP0401702A2 (en) A method of separating a bonded film from a circuit board
JP2005079553A (ja) 転写方法、剥離方法、及び剥離装置
JPH11233599A (ja) 吸着保持プレート
JP3565336B2 (ja) 基板剥離装置
JP5572522B2 (ja) 除電除塵装置
KR102114930B1 (ko) 시트분리장치 및 이를 포함하는 레이저 가공 장치
KR20170061300A (ko) 기판 세정 모듈 및 이를 구비하는 기판 이송 장치
WO2006121022A1 (ja) 液体吐出装置
KR20210074754A (ko) 기판 세정 장치