KR101747795B1

KR101747795B1 - 정전기 제거 장치 및 정전기 제거 방법

Info

Publication number: KR101747795B1
Application number: KR1020150154201A
Authority: KR
Inventors: 히로시 우자와; 타카오 쿠보
Original assignee: 가부시키가이샤 신코
Priority date: 2015-01-09
Filing date: 2015-11-04
Publication date: 2017-06-15
Also published as: TW201626536A; KR20160086257A; JP6077023B2; JP2016129107A; CN105792493A; CN105792493B; TWI559493B

Abstract

정전기에 의한 방전 현상을 확실하게 방지할 수 있음과 아울러, 이물 흡착을 방지 가능한 정전기 제거 장치를 제공한다.
이면(Wb)이 평활면형상의 워크(W)를 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 분리 수단(3)으로 분리할 때에 발생하는 정전기를 방지하기 위한 이오나이저(2)를 고정용 테이블(1)의 이면(1b)측에 설치하고, 고정용 테이블(1)에 관통설치한 구멍(11)을 통하여 이오나이저(2)로부터의 이온풍을 고정용 테이블(1)의 표면(1a)과 워크(W)의 이면(Wb) 사이에 형성되는 간극 공간부(J)에 분출시키도록 구성했다.

Description

정전기 제거 장치 및 정전기 제거 방법{STATIC ELECTRICITY REMOVAL DEVICE AND STATIC ELECTRICITY REMOVAL METHOD}

본 발명은 정전기 제거 장치 및 정전기 제거 방법에 관한 것이다.

종래, 액정 패널, 유기 EL 패널, 반도체, 정밀 전자 부품 등, 정전기에 의한 방전 현상에 의해 파괴될 우려가 있는 워크를 워크 고정용 테이블로부터 분리할 때에, 이오나이저로부터의 이온풍(이온화 기체)을 워크의 상면에 내뿜어 정전기(박리 대전)에 의한 방전 현상을 방지하는 정전기 제거 장치 및 정전기 제거 방법이 있었다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).

일본 특허공개 평7-312337호 공보

도 10에 나타내는 바와 같이, 종래는 분리할 때에 이오나이저(92)로부터의 이온풍을 워크(W)의 표면(Wa)에 내뿜어 제전을 행하고 있었는데, 이온풍의 이온은 워크(W)의 표면(Wa)에 부착되기 때문에, 고정용 테이블(91)로부터 워크(W)를 박리한 순간에, 워크(W)의 이면(裏面)(Wb)에 발생하는 전하(도 10에 있어서 플러스 전하)와, 고정용 테이블(91)의 표면(91a)에 발생하는 전하(도 10에 있어서 마이너스 전하)를 중화하는 것은 곤란하며, 워크(W)와 고정용 테이블(91) 사이에서 방전 현상이 일어난다는 우려가 있었다.

또, 이온풍에 의해 워크(W)의 표면(Wa)과 이면(Wb)이 전기적으로중 중화하고 있는 것처럼 보이지만, 실제는 워크(W)의 표면(Wa)에 전하(도 10에 있어서 마이너스 전하)가 모인 상태가 된다. 이 상태에서 부유 분진 등의 이물이 워크(W)의 표면(Wa)에 낙하하여 그 전하와 접촉하면, 전하의 전계에 의한 쿨롱력이 이물을 흡착시켜버린다는 문제가 있었다.

그래서, 본 발명은 정전기에 의한 워크와 고정용 테이블 사이의 방전 현상을 확실하게 방지할 수 있음과 아울러, 이물의 흡착을 방지 가능한 정전기 방지 장치의 제공을 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 정전기 제거 장치는 이면이 평활면형상의 워크를 고정용 테이블의 표면으로부터 분리 수단으로 분리할 때에 발생하는 정전기를 방지하기 위한 이오나이저를 상기 고정용 테이블의 이면측에 설치하고, 상기 고정용 테이블에 관통설치한 구멍을 통하여 상기 이오나이저로부터의 이온풍을 상기 고정용 테이블의 상기 표면과 상기 워크의 이면 사이에 형성되는 간극 공간부에 분출시키도록 구성한 것이다.

또, 상기 이오나이저에 이온풍을 분출시키기 위한 원통형상의 노즐을 설치하고, 이 노즐을 상기 고정용 테이블의 상기 구멍에 삽입한 것이다.

또, 상기 이오나이저는 워크 분리 방향으로 워크 분리 속도와 동일 속도를 가지고 이동하도록 상기 분리 수단과 연동 연결되고, 상기 노즐의 선단과 상기 워크의 상기 이면 사이의 간격 치수가 일정하게 유지되도록 구성한 것이다.

또는 상기 분리 수단은 상기 워크의 이면을 밀어올리기 위한 리프트 핀을 구비하고, 상기 이오나이저에 이온풍을 분출시키기 위한 노즐을 설치하고, 이 노즐의 선단부는 둥근산형상(丸山狀)으로서 상기 이온풍이 분출되는 분출 구멍을 가지고, 또한 상기 노즐을 상기 고정용 테이블의 상기 구멍에 삽입하고, 이 노즐을 상기 리프트 핀과 겸용한 것이다.

또, 본 발명의 정전기 제거 방법은 이면이 평활면형상의 워크를 유지하기 위한 고정용 테이블에 구멍을 관통설치하고, 상기 고정용 테이블로부터 상기 워크를 분리할 때에 발생하는 정전기를 방지하기 위한 이오나이저를 상기 고정용 테이블의 이면측에 배열설치하고, 상기 고정용 테이블로부터 상기 워크를 분리할 때에, 상기 이오나이저로부터의 이온풍을 상기 구멍을 통하여 상기 고정용 테이블의 상기 표면과 상기 워크의 이면 사이에 형성되는 간극 공간부에 분출시키는 방법이다.

또, 상기 이오나이저에 이온풍을 분출시키기 위한 원통형상의 노즐을 설치하고, 상기 고정용 테이블로부터 상기 워크를 분리할 때에, 상기 구멍에 상기 노즐을 삽입통과시켜 상기 노즐의 선단을 상기 간극 공간부에 침입시키는 방법이다.

또, 상기 고정용 테이블로부터 상기 워크를 분리할 때에, 상기 이오나이저를 워크 분리 방향으로 워크 분리 속도와 동일 속도를 가지고 이동시키고, 상기 노즐의 선단과 상기 워크의 상기 이면 사이의 간격 치수를 일정하게 유지하면서 이온풍의 분출을 행하는 방법이다.

또, 상기 고정용 테이블로부터 제1 소정 분리 거리까지의 범위에 있어서 상기 워크가 분리될 때의 분리 속도가, 제1 소정 분리 거리를 넘어 제2 소정 분리 거리까지의 범위에 있어서 상기 워크가 분리될 때의 분리 속도보다 느려지도록, 상기 고정용 테이블로부터 상기 워크를 분리시키는 방법이다.

또는 상기 이오나이저에 이온풍을 분출시키기 위한 노즐을 설치하고, 이 노즐의 선단부를 둥근산형상으로 형성함과 아울러 상기 이온풍이 분출되는 분출 구멍을 형성하고, 상기 노즐을 상기 고정용 테이블의 상기 구멍에 삽입하고, 상기 노즐의 선단부로 상기 워크의 이면을 밀어올려, 상기 고정용 테이블로부터 분리시키면서 상기 간극 공간부에 이온풍을 분출시키는 방법이다.

본 발명에 의하면, 박리 대전에 의해 워크의 이면과 고정용 테이블의 표면에 발생하는 전하를 완전히 중화할 수 있고, 방전 현상에 의한 워크의 파괴를 확실하게 방지할 수 있다. 좁은 간극 공간부를 이용하여, 이온 농도를 크게 저하시키지 않고, 박리 대전이 발생하고 있는 두면에 대하여 이온풍을 신속하게 쏘임으로써 효율적으로 제전(중화)을 행할 수 있다. 특히, 고정용 테이블로부터 워크를 분리한 순간에 제전할 수 있고, 방전의 위험을 막을 수 있다. 1개의 전극침으로 제전 가능한 범위가 넓어져, 장치의 간소화를 실현할 수 있다. 전하에 의한 이물 흡착을 확실하게 방지할 수 있어, 제진 헤드 등의 세정기에 의한 이물 제거 효과를 향상시킬 수 있다.

도 1은 본 발명의 정전기 방지 장치의 실시의 하나의 형태를 나타내는 단면 정면도이다.
도 2는 평면도이다.
도 3은 분리 거리와 분리 속도의 관계를 나타내는 그래프도이다.
도 4는 분리한 순간의 상태를 나타내는 단면 정면도이다.
도 5는 분리한 순간의 상태를 나타내는 단면 정면도이다.
도 6은 분리 완료 직후의 상태를 나타내는 단면 정면도이다.
도 7은 분리 횟수와 대전량의 관계를 나타내는 그래프도이다.
도 8은 실시예의 작용을 설명하기 위한 평면도로서, (a)는 제진 전의 워크의 표면을 나타내는 평면도이며, (b)는 제진 후의 워크의 표면을 나타내는 평면도이다.
도 9는 종래예의 문제점을 설명하기 위한 평면도로서, (a)는 제진 전의 워크의 표면을 나타내는 평면도이며, (b)는 제진 후의 워크의 표면을 나타내는 평면도이다.
도 10은 종래기술을 설명하기 위한 단면 정면도이다.
도 11은 워크가 휘는 경우를 설명하기 위한 단면 정면도이다.
도 12는 다른 실시형태의 단면 정면도이다.
도 13은 다른 실시형태의 주요부 확대 단면도이다.
도 14는 다른 실시형태의 분리 개시 상태를 나타내는 단면 정면도이다.

이하, 도시하는 실시형태에 기초하여 본 발명을 상세히 설명한다.

본 발명에 따른 정전기 제거 장치는 도 1에 나타내는 바와 같이 이면(Wb)이 평활면형상의 워크(기재)(W)를 유지(재치)하기 위한 고정용 테이블(1)과, 도시는 생략하지만 워크(W)의 이면(Wb)과 고정용 테이블(1)의 표면(1a)을 밀착시켜 고정하기 위한 워크 고정 수단과, 워크 고정 수단에 의한 고정이 해제된 후에 고정용 테이블(1)의 표면(1a)과 워크(W)의 이면(Wb)을 분리시키기 위한 분리 수단(박리 수단)(3)과, 분리 수단(3)으로 고정용 테이블(1)로부터 워크(W)를 분리시킬 때에 발생하는 정전기를 방지하기 위한 이오나이저(제전기)(2)를 구비하고 있다.

이오나이저(2)는 플러스 이온과 마이너스 이온을 교대로 발생시키기 위한 전극침(21)과, 퍼지 에어나 캐리어 가스 등의 반송 기체를 토출하는 토출구(22)를 가지고, 또한 발생시킨 이온을 반송 기체와 함께 이온풍(이온 기체류라고도 불림)으로서 분출시키는 원통형상(굴뚝형상)의 노즐(20)을 가지고 있다.

그리고, 이오나이저(2)를 고정용 테이블(1)의 이면(1b)(워크(W)의 이면(Wb))측에 설치하고 있다.

분리 전의 상태에서 노즐(20)의 선단(20a)을 고정용 테이블(1)에 관통설치한 노즐용의 구멍(11)에 삽입하여 배열설치하고 있다.

또, 도 2에 나타내는 바와 같이, 노즐(20)의 선단(20a)은 평면에서 보아 격자형상(격자의 교점형상)으로 배열설치하고, 1개의 워크(W) 및 고정용 테이블(1)에 복수의 이오나이저(2)를 대응시키고 있다. 또한, 노즐(20) 및 구멍(11)은 평면에서 보아 지그재그형상으로 배열설치해도 된다. 요컨대, 산점형상으로 배열설치되어 있다.

분리 수단(3)은 고정용 테이블(1)의 표면(1a)에 대하여 선단부(31a)가 출몰이 자유롭게 설치된 복수의 리프트 핀(31, 31)과, 복수의 리프트 핀(31)을 구동(승강)시키기 위한 전동 액추에이터(32)와, 리프트 핀(31)과 전동 액추에이터(32)를 연결하는 연결 부재(33)를 구비하고 있다.

분리 전의 상태에서 리프트 핀(31)의 선단부(31a)를 고정용 테이블(1)에 관통설치한 리프트 핀용의 관통 구멍(12)에 삽입하여 배열설치하고 있다.

분리 수단(3)은 전동 액추에이터(32)의 직선 운동에 의해, 리프트 핀(31)의 선단부(31a)를 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 돌출시키고, 고정용 테이블(1)에 재치한 워크(W)의 이면(Wb)에 맞닿게 하여, 워크(W)의 이면(Wb)을 수평면형상으로 유지하면서 분리(박리)시킨다.

그리고, 이오나이저(2)를 상기 연결 부재(33)에 부착하여, 리프트 핀(31) 및 전동 액추에이터(32)와 연결하고, 리프트 핀(31)과 연동하도록 설치하고, 이오나이저(2)가 리프트 핀(31)의 이동 방향으로 리프트 핀 상승 속도와 동일 속도를 가지고 상승하도록 구성하고 있다.

즉, 이오나이저(2)가 워크 분리 방향으로 워크 분리 속도와 동일 속도를 가지고 이동하고, 리프트 핀(31)이 돌출 워크(W)의 이면(Wb)이 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 이간해도, 노즐(20)의 선단(20a)과, 워크(W)의 이면(Wb) 사이의 간격 치수(S)가 일정하게 유지되도록 구성하고 있다.

또한, 고정용 테이블(1)로부터 워크(W)를 이간시킬 때의 분리 속도를 제어하기 위한 CPU나 시퀀서, 컴퓨터 등의 제어부(5)를 구비하고 있다.

제어부(5)는 전동 액추에이터(32)에 전기적으로 접속되고, 도 3에 실선 또는 2점쇄선으로 나타내는 바와 같이, 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 제1 소정 분리 거리(Ha)까지의 범위에 있어서 워크(W)가 분리될 때의 분리 속도가, 제1 소정분리 거리(Ha)를 넘어 제2 소정 분리 거리(Hb)까지의 범위에 있어서 워크(W)가 분리될 때의 분리 속도보다 느려지도록 분리 수단(3)을 제어하는 것이다.

바꾸어 말하면, 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 제1 소정 분리 거리(Ha)까지의 범위에 있어서 워크(W)가 분리될 때의 분리 속도가 기준 분리 속도(Ua) 이하가 되도록 제어하고, 제1 소정 분리 거리(Ha)를 넘어 제2 소정 분리 거리(Hb)까지의 범위에 있어서 워크(W)가 분리될 때의 분리 속도를 기준 분리 속도(Ua)보다 빨라지도록 제어하는 것이다.

고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 분리 종료 상태의 워크(W)의 이면(Wb)까지의 거리를 분리 종료 거리(He)로 하면, 제1 소정 분리 거리(Ha)는 분리 종료 거리(He)의 1% 이상 35% 이하의 값, 바람직하게는 1% 이상 20% 이하의 값으로 하고, 제2 소정 분리 거리(Hb)는 분리 종료 거리(He)의 70% 이상 100% 이하의 값으로 하는 것이 바람직하다.

도시를 생략하는 워크 고정 수단은 고정용 테이블(1)의 표면에 개구하는 흡착 구멍과, 흡착 구멍을 통하여 워크(W)를 부압 흡인하여 고정하기 위한 흡인 펌프(진공 펌프) 및 흡인로나 흡인 배관 등인 흡인 고정 장치, 또는 워크(W)를 누르는 기계식 클램프 장치 등, 워크(W)의 이면(Wb)을 고정용 테이블(1)의 표면(1b)에 접촉(밀착)시켜 고정 가능하면 된다. 또는, 워크 고정 수단을 생략해도 되는 경우도 있다.

또, 워크(W)는 반도체, 액정 패널, 유기 EL 패널, IC 패키지, CMOS 센서 등의 정밀 전자 부품, 유리 기판 등과 같은 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 분리할 때에 박리 대전에 의해 대전할 우려가 있는 부재이다.

다음에, 본 발명에 따른 정전기 제거 방법 및 정전기 제거 장치의 사용 방법(작용)에 대해서 설명한다.

우선, 고정용 테이블(1)에 구멍(11)을 관통설치함과 아울러 이오나이저(2)에 노즐(20)을 설치한다.

그리고, 이오나이저(2)를 고정용 테이블(1)의 이면(1b)측에 배열설치함과 아울러 노즐(20)의 선단(20a)을 구멍(11)에 배열설치한다. 또, 리프트 핀(31)의 선단부(31a)를 관통 구멍(12)에 배열설치한다.

다음에, 고정용 테이블(1)의 표면(1a)에 워크(W)의 이면(Wb)을 접촉하도록 재치하고, 워크 고정 수단에 의해 고정용 테이블(1)에 워크(W)를 고정한다.

워크(W)에 표면 처리제의 도포나 밀착 강화제의 도포, 또는 워크(W)와 다른 부재와의 결합, 열 처리 등의 소정의 작업 공정을 행한다.

그리고, 소정의 작업 공정 후에 워크 고정 수단에 의한 워크(W)의 고정을 해제한다.

워크 고정 해제 후에 워크(W)의 세정이나 반송 등의 다음의 소정의 작업 공정을 행하기 위해서, 리프트 핀(31)을 상승(분리 수단(3)을 작동)시키고, 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 워크(W)의 이면(Wb)을 분리시킨다.

여기서, 도 1에 나타내는 바와 같이, 분리 수단(3)으로 워크(W)를 분리하기 직전(분리 개시의 몇초 전)에 이오나이저(2)를 기동시키고, 마이너스 이온 및 플러스 이온의 발생을 개시한다(제전 분리 공정 개시).

도 4에 나타내는 바와 같이, 분리가 개시되면, 고정용 테이블(1)의 표면(1a)과 워크(W)의 이면(Wb) 사이의 간극 공간부(J)에 구멍(11)을 통하여 이온풍이 분출된다.

분리되면 즉시 박리 대전에 의해 고정용 테이블(1)이 마이너스 대전함과 아울러 워크(W)가 플러스 대전한다(워크(W)의 이면(Wb)에 플러스 전하가 존재함과 아울러 고정용 테이블(1)의 표면(1a)에 마이너스 전하가 존재한다). 이대로 분리를 진행시키면 방전 현상이 일어나고 워크(W)가 파괴될 우려가 있다.

그런데, 도 4 내지 도 5에 나타내는 바와 같이, 분리 개시로부터 순간적으로(분리 개시로부터 0.1초 이내에) 워크(W)의 이면(Wb)에 존재하는 플러스 전하와, 고정용 테이블(1)의 표면(1a)에 존재하는 마이너스 전하를 이온풍의 플러스 이온 및 마이너스 이온에 의해 완전히 중화하여 방전 현상을 방지한다.

또, 고정용 테이블(1)로부터 워크(W)를 분리할 때에(제전 분리 공정에 있어서), 이온풍은 워크(W)의 이면(Wb)에 노즐(20)에 의해 내뿜어지고 워크(W)를 따라 흐른다. 도 2에 1점쇄선으로 나타내는 원과 같이, 이온풍을 노즐(20)을 중심으로 한 원형으로 확산시켜 흘린다.

예를 들면, 워크(W)의 표면(Wa)을 향하여 이온풍을 내뿜는 종래의 경우는, 전극침(21)을 50~100mm 간격으로 배열설치하여 제전을 행할 필요가 있었지만, 본 발명의 장치 및 방법에서는, 1개의 전극침(21)으로 반경 200~300mm의 제전을 행할 수 있어, 워크(W)의 단위면적당에 필요한 전극침(21)의 개수를 적게 할 수 있다.

또, 고정용 테이블(1)로부터 워크(W)를 분리할 때에, 노즐(20)의 선단(20a)과 워크(W)의 이면(Wb) 사이의 간격 치수(S)를 일정하게 유지하도록 구멍(11)에 노즐(20)을 삽입통과시켜, 노즐(20)의 선단(20a)을 간극 공간부(J)에 침입시키면서, 이온풍을 내뿜는다.

워크(W)의 이면(Wb)에 내뿜어지는 이온량(농도)이 안정되어 확실하게 제전 효과가 얻어진다. 또한, 도 4 및 도 5는 간극 공간부(J)나 간격 치수(S)를 실제보다 크게 도시하고 있다.

또한, 고정용 테이블(1)로부터 제1 소정 분리 거리(Ha)까지의 범위에 있어서 워크(W)가 분리될 때의 분리 속도를 기준 분리 속도(Ua) 이하의 속도로 한다.

간극 공간부(J)가 급격하게 넓어지지 않아, 이온 밀도(농도)의 급격한 저하나, 이온의 확산 속도의 급격한 저하를 방지하고, 제전 효과가 효율적으로 이루어진다.

제1 소정 분리 거리(Ha)를 넘으면, 제2 소정 분리 거리(Hb)(또는, 분리 종료 거리(He))까지, 분리 속도를 기준 분리 속도(Ua)보다 빠르게 하여, 생산 효율(생산 속도)을 향상시킨다.

그리고, 도 6에 나타내는 바와 같이, 워크(W)가 분리 종료 거리(He)까지 분리되면, 이오나이저(2)의 작동을 정지한다(제전 분리 공정 종료).

워크(W)의 표면(Wa) 및 이면(Wb)에 박리 대전에 의한 전하가 없고, 워크(W)의 표면(Wa)에 이온풍에 의한 전하(이온)가 대량으로 축적되지 않아, 부유 분진 등의 이물이 낙하하여 워크(W)의 표면(Wa)에 얹혀도 전하 접촉에 의한 흡착이 없고, 제진 헤드(7) 등의 세정기에 의한 이물 제거 효과를 향상시킬 수 있다.

여기서, 도 7에 분리마다 분리 완료 상태에서의 워크(W)의 대전량을 측정한 비교 시험 결과의 그래프도를 나타낸다.

이오나이저(2)를 기동시키지 않고 고정용 테이블(1)에 대하여 워크(W)를 접촉·분리를 반복한 비교예를 엑스(×) 표시로 나타내고, 본 발명에 따른 실시예(도 1 내지 도 6 참조)를 검은 동그라미(●) 표시로 나타내고, 도 10에 나타내는 바와 같이 이오나이저(92)를 워크(W)의 표면(Wa)에 내뿜도록 구성한 종래예를 삼각(△) 표시로 나타내고 있다. 워크(W)는 유리 기판으로 했다.

도 7로부터 분명한 바와 같이, 비교예(×표시)는 이오나이저(2)를 기동하고 있지 않기 때문에, 1회째의 분리에서 대전량이 가장 적지만, 워크(W)가 전기적으로 중화되어 있지 않고, 정전기에 의한 방전 현상이 발생할 우려가 있다. 또한, 분리 횟수가 늘어남에 따라 대전량이 증가하고 있다.

종래예(△표시)는 이오나이저(92)에 의해 전기적으로 중화되어 있는 것처럼 보이지만, 이오나이저(92)로부터의 이온이 워크(W)의 표면(Wa)에 축적되기 때문에, 대전량이 많게 되어 있다. 즉, 부유 분진 등의 이물이 흡착할 우려가 높다고 할 수 있다.

실시예(●표시)는 이오나이저(2)에 의해 전기적으로 중합되고, 분리를 반복하여 행해도 비교예 및 종래예에 비해 대전량이 매우 적고, 이물 흡착의 우려가 거의 없다고 할 수 있다.

도 8(a)에 나타내는 바와 같이, 실시예는 대전량이 적기 때문에, 분리 완료 상태에서 워크(W)의 표면(Wa)에 이물이 낙하해도 전하에 의한 흡착이 발생하지 않고(부착력이 약하고), 제진 헤드(7)로 제진을 행하면, 도 8(b)에 나타내는 바와 같이 깨끗하게 제진할 수 있다.

그러나, 종래예나 비교예와 같이 대전량이 많으면, 도 9(a)에 나타내는 바와 같이 워크(W)의 표면(Wa)에 무수한 이물이 흡착된다. 그리고, 제진 헤드(7)(도 6 참조)를 주행시켜 제진을 행해도, 전하에 의한 흡착력이 강하고, 도 9(b)에 나타내는 바와 같이 이물이 물결 모양(줄무늬 모양)과 같이 잔존하여, 제진 헤드(7)의 성능이 충분히 발휘되고 있지 않다.

또한, 제진 헤드(7)는 워크(W)에 평행하게 주행하고, 워크(W)의 표면(Wa)을 향하여 에어를 분출시켜, 이물을 워크(W)로부터 박리시키고, 에어와 이물을 흡인 노즐로부터 흡입하여 제진을 행하는 것이다. 또, 도 8 및 도 9에 있어서 이물을 실제보다 크게 도시하고 있다.

여기서, 도 11에 나타내는 바와 같이, 워크(W)가 얇은 유리판이나 얇은 플라스틱판과 같이 강성이 작고 휘기 쉬운 부재인 경우, 리프트 핀(31)으로 밀어올린 부위로부터 분리(박리)가 시작되고, 노즐(20)의 선단(20a) 근방의 분리가 시작되지 않아(도 11에 나타내는 Y의 구역이 밀착 상태인채가 되어), 이온풍이 즉시 분리 개시 부위(리프트 핀(31)의 선단부(31a) 근방)(Q)에 흐르지 않아 정전기를 방지할 수 없는 경우가 있다.

그래서, 도 12 내지 도 14에 나타내는 다른 실시형태에서는, 노즐(20)을 리프트 핀(31)과 겸용하고 있다.

도 13에 나타내는 바와 같이 노즐(20)은 선단부(20d)가 둥근산형상(공머리형상)으로 형성되고, 둥근산의 기슭부(20e)에 이온풍이 분출하는 분출 구멍(20f)을 개구하고 있다. 분출 구멍(20f)은 노즐(20)의 축심 둘레에 복수 설치되어, 비스듬하게 상방으로 개구하도록 설치되어 있다. 정부(선단)(20a)가 워크(W)에 맞닿아도 분출 구멍(20f)이 막히지 않아 확실하게 이온풍을 분출할 수 있고, 또한 워크(W)의 이면(Wb)을 따라 이온풍이 얇은 막형상(평면형상)으로 확산하면서 흐른다.

도 14에 나타내는 바와 같이, 노즐(20)을 고정용 테이블(1)의 구멍(11)에 삽입하고, 노즐(20)의 선단부(20d)로 워크(W)의 이면(Wb)을 밀어올려, 고정용 테이블(1)로부터 분리시키면서 이온풍을 분출시킨다. 워크(W)가 휘기 쉬운 부재여도, 노즐(20)의 선단(20a)이 워크(W)의 이면(Wb)에 맞닿아, 워크(W)의 이면(Wb)과 고정용 테이블(1)의 표면(1a) 사이의 분리 개시 부위(Q)에 이온풍을 보내 정전기를 방지할 수 있다. 또한, 도 4 내지 도 6을 사용하여 설명한 바와 같이, 간극 공간부(J)에 이온풍을 분출시켜 정전기를 방지한다. 그런데, 도 11, 도 12, 도 14에 있어서는 (도 1, 도 4, 도 5 등에 나타낸) 플러스 전하, 마이너스 전하의 도시를 생략하고 있다.

또한, 본 발명은 설계 변경 가능하며, 고정용 테이블(1)은 표면(1a)이 경사형상이나 수직면형상인 것이어도 된다. 즉, 도시한 바와 같이 워크(W)가 상하 방향으로 분리되는 것에 한정되지 않고, 수평 방향으로 분리되는 것이어도 된다. 분리 수단(3)은 리프트 핀(31)을 사용한 것에 한정되지 않고, 부압 흡인 부재(흡반 부재)를 워크(W)에 흡착시켜, 워크(W)를 분리시키는 구조로 해도 된다.

이상과 같이 본 발명의 정전기 제거 장치는 이면(Wb)이 평활면형상의 워크(W)를 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 분리 수단(3)으로 분리할 때에 발생하는 정전기를 방지하기 위한 이오나이저(2)를 고정용 테이블(1)의 이면(1b)측에 설치하고, 고정용 테이블(1)에 관통설치한 구멍(11)을 통하여 이오나이저(2)로부터의 이온풍을 고정용 테이블(1)의 표면(1a)과 워크(W)의 이면(Wb) 사이에 형성되는 간극 공간부(J)에 분출시키도록 구성했으므로, 박리 대전에 의해 워크(W)의 이면(Wb)과 고정용 테이블(1)의 표면(1a)에 발생하는 전하를 완전히 중화할 수 있고, 방전 현상에 의한 워크(W)의 파괴를 확실히 방지할 수 있다. 좁은 간극 공간부(J)를 이용하여, 이온 농도를 크게 저하시키지 않고, 박리 대전이 발생하고 있는 두면에 대하여 이온풍을 신속하게 쏘임으로써, 효율적으로 제전(중화)을 행할 수 있다. 특히, 고정용 테이블(1)로부터 워크(W)를 분리한 순간에 제전할 수 있어, 방전의 위험을 막을 수 있다. 1개의 전극침(21)으로 제전 가능한 범위가 넓어져 장치의 간소화를 실현할 수 있다. 전하에 의한 이물 흡착을 확실하게 방지할 수 있고, 제진 헤드(7) 등의 세정기에 의한 이물 제거 효과를 향상시킬 수 있다.

또, 이오나이저(2)에 이온풍을 분출시키기 위한 원통형상의 노즐(20)을 설치하고, 노즐(20)을 고정용 테이블(1)의 구멍(11)에 삽입했으므로, 안정적인 이온 농도의 이온풍을 워크(W)에 내뿜을 수 있다. 이온풍을 노즐(20)을 중심으로 한 원형상으로 확산시킬 수 있어, 효율적으로 이온을 작용시킬 수 있다. 1개의 워크(W) 및 고정용 테이블(1)에 대응시키는 이오나이저(2)의 전극침(21)의 갯수를 적게 할 수 있어, 장치의 소형화·간략화에 공헌할 수 있다.

또, 이오나이저(2)는 워크 분리 방향으로 워크 분리 속도와 동일 속도를 가지고 이동하도록 분리 수단(3)과 연동 연결되고, 노즐(20)의 선단(20a)과 워크(W)의 이면(Wb) 사이의 간격 치수(S)가 일정하게 유지되도록 구성했으므로, 워크(W)의 이면(Wb)에 내뿜는 이온량(농도)이 안정되고, 효율적으로 이온을 워크(W)에 작용시킬 수 있다. 확실하게 제전 효과를 얻을 수 있다. 워크(W)의 이면(Wb)에 발생하는 전하를 순간적으로 중화시킬 수 있다.

또, 분리 수단(3)은 워크(W)의 이면(Wb)을 밀어올리기 위한 리프트 핀(31)을 구비하고, 이오나이저(2)에 이온풍을 분출시키기 위한 노즐(20)을 설치하고, 노즐(20)의 선단부(20d)는 둥근산형상으로서 이온풍이 분출되는 분출 구멍(20f)을 가지고, 또한 노즐(20)을 고정용 테이블(1)의 구멍(11)에 삽입하고, 노즐(20)을 리프트 핀(31)과 겸용했으므로, 워크(W)가 얇은 유리판과 같이 강성이 작고 휘기 쉬운 부재여도 분리 개시 부위(Q)에 이온풍을 보내 확실하게 또한 순간적으로 방전 현상에 의한 워크(W)의 파괴를 방지할 수 있다.

또, 본 발명의 정전기 제거 방법은 이면(Wb)이 평활면형상의 워크(W)를 유지하기 위한 고정용 테이블(1)에 구멍(11)을 관통설치하고, 고정용 테이블(1)로부터 워크(W)를 분리할 때에 발생하는 정전기를 방지하기 위한 이오나이저(2)를 고정용 테이블(1)의 이면(1b)측에 배열설치하여, 고정용 테이블(1)로부터 워크(W)를 분리할 때에, 이오나이저(2)로부터의 이온풍을 구멍(11)을 통하여 고정용 테이블(1)의 표면(1a)과 워크(W)의 이면(Wb) 사이에 형성되는 간극 공간부(J)에 분출시키므로, 박리 대전에 의해 워크(W)의 이면(Wb)과 고정용 테이블(1)의 표면(1a)에 발생하는 전하를 완전히 중화할 수 있고, 방전 현상에 의한 워크(W)의 파괴를 확실하게 방지할 수 있다. 좁은 간극 공간부(J)를 이용하여, 이온 농도를 크게 저하시키지 않고, 박리 대전이 발생하고 있는 두면에 대하여 이온풍을 신속하게 쏘임으로써 효율적으로 제전(중화)을 행할 수 있다. 특히, 고정용 테이블(1)로부터 워크(W)를 분리한 순간에 제전할 수 있고, 방전의 위험을 막을 수 있다. 1개의 전극침(21)으로 제전 가능한 범위가 넓어져, 장치의 간소화를 실현할 수 있다. 전하에 의한 이물 흡착을 확실하게 방지할 수 있어, 제진 헤드(7) 등의 세정기에 의한 이물 제거 효과를 향상시킬 수 있다.

또, 이오나이저(2)에 이온풍을 분출시키기 위한 원통형상의 노즐(20)을 설치하고, 고정용 테이블(1)로부터 워크(W)를 분리할 때에 구멍(11)에 노즐(20)을 삽입통과시켜, 노즐(20)의 선단(20a)을 간극 공간부(J)에 침입시키므로, 안정적인 이온 농도의 이온풍을 워크(W)에 내뿜을 수 있다. 이온풍을 노즐(20)을 중심으로 한 원형상으로 확산시킬 수 있어, 효율적으로 이온을 작용시킬 수 있다. 1개의 워크(W) 및 고정용 테이블(1)에 대응시키는 이오나이저(2)의 전극침(21)의 개수를 적게 할 수 있어, 장치의 소형화·간략화에 공헌할 수 있다.

또, 고정용 테이블(1)로부터 워크(W)를 분리할 때에, 이오나이저(2)를 워크분리 방향으로 워크 분리 속도와 동일 속도를 가지고 이동시키고, 노즐(20)의 선단(20a)과 워크(W)의 이면(Wb) 사이의 간격 치수(S)를 일정하게 유지하면서 이온풍의 분출을 행하므로, 워크(W)의 이면(Wb)에 내뿜는 이온량(농도)이 안정되고, 효율적으로 이온을 워크(W)에 작용시킬 수 있다. 확실하게 제전 효과를 얻을 수 있다. 워크(W)의 이면(Wb)에 발생하는 전하를 순간적으로 중화시킬 수 있다.

또, 고정용 테이블(1)로부터 제1 소정 분리 거리(Ha)까지의 범위에 있어서 워크(W)가 분리될 때의 분리 속도가, 제1 소정 분리 거리(Ha)를 넘어 제2 소정 분리 거리(Hb)까지의 범위에 있어서 워크(W)가 분리될 때의 분리 속도보다 느려지도록, 고정용 테이블(1)로부터 워크(W)를 분리시키므로, 분리된 직후에 이온 농도(밀도)를 크게 저하시키지 않고, 낭비 없이 이온풍을 워크(W)를 따르게 하여 확산시켜 순간적인 제전을 실현할 수 있다. 생산 효율(속도)을 저하시키지 않고, 분리중의 제전을 행할 수 있다.

또, 이오나이저(2)에 이온풍을 분출시키기 위한 노즐(20)을 설치하고, 노즐(20)의 선단부(20d)를 둥근산형상으로 형성함과 아울러 이온풍이 분출되는 분출 구멍(20f)을 형성하고, 노즐(20)을 고정용 테이블(1)의 구멍(11)에 삽입하고, 노즐(20)의 선단부(20d)로 워크(W)의 이면(Wb)을 밀어올려, 고정용 테이블(1)로부터 분리시키면서 간극 공간부(J)에 이온풍을 분출시키므로, 워크(W)가 얇은 유리판과 같이 강성이 작고 휘기 쉬운 부재여도 분리 개시 부위(Q)에 이온풍을 보내 확실하게 또한 순간적으로 방전 현상에 의한 워크(W)의 파괴를 방지할 수 있다.

1…고정용 테이블
1a…표면
1b…이면
2…이오나이저
3…분리 수단
11…구멍
20…노즐
20a…선단
20d…선단부
20f…분출 구멍
Ha…제1 소정 분리 거리
Hb…제2 소정 분리 거리
J…간극 공간부
S…간격 치수
W…워크
Wa…표면
Wb…이면

Claims

이면(Wb)이 평활면형상의 워크(W)를 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 분리 수단(3)으로 분리할 때에 발생하는 정전기를 방지하기 위한 이오나이저(2)를 상기 고정용 테이블(1)의 이면(1b)측에 설치하고, 상기 고정용 테이블(1)에 관통설치한 구멍(11)을 통하여 상기 이오나이저(2)로부터의 이온풍을 상기 고정용 테이블(1)의 표면(1a)과 상기 워크(W)의 이면(Wb) 사이에 형성되는 간극 공간부(J)에 분출시키도록 구성한 정전기 제거 장치로서,
상기 이오나이저(2)는 이온을 발생시키기 위한 전극침(21)을 가지고, 또한 상기 이오나이저(2)는 워크 분리 방향으로 워크 분리 속도와 동일 속도를 가지고 이동하도록 상기 분리 수단(3)에 연동 연결되고,
또한 상기 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 제1 소정 분리 거리(Ha)까지의 범위에 있어서 상기 워크(W)가 분리될 때의 분리 속도가 상기 제1 소정 분리 거리(Ha)를 넘어 제2 소정 분리 거리(Hb)까지의 범위에 있어서 상기 워크(W)가 분리될 때의 분리 속도보다 느려지도록, 상기 분리 수단(3)을 제어하는 제어부(5)를 구비한 것을 특징으로 하는 정전기 제거 장치.
제 1 항에 있어서, 상기 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 분리 종료 상태의 상기 워크(W)의 이면(Wb)까지의 거리를 분리 종료 거리(He)로 하면, 상기 제1 소정 분리 거리(Ha)는 상기 분리 종료 거리(He)의 1% 이상 35% 이하의 값으로 하고, 상기 제2 소정 분리 거리(Hb)는 상기 분리 종료 거리(He)의 70% 이상 100% 이하의 값으로 한 것을 특징으로 하는 정전기 제거 장치.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 분리 수단(3)은 상기 워크(W)의 이면(Wb)을 밀어올리기 위한 리프트 핀(31)을 구비하고,
상기 이오나이저(2)에 이온풍을 분출시키기 위한 노즐(20)을 설치하고, 이 노즐(20)의 선단부(20d)는 둥근산형상으로서 상기 이온풍이 분출되는 분출 구멍(20f)을 가지고,
또한, 상기 노즐(20)을 상기 고정용 테이블(1)의 상기 구멍(11)에 삽입하고, 이 노즐(20)을 상기 리프트 핀(31)과 겸용한 것을 특징으로 하는 정전기 제거 장치.
이면(Wb)이 평활면형상의 워크(W)를 유지하기 위한 고정용 테이블(1)에 구멍(11)을 관통설치하고,
상기 고정용 테이블(1)로부터 상기 워크(W)를 분리할 때에 발생하는 정전기를 방지하기 위한 이오나이저(2)를 상기 고정용 테이블(1)의 이면(1b)측에 배열설치하여,
상기 고정용 테이블(1)로부터 상기 워크(W)를 분리할 때에, 상기 이오나이저(2)로부터의 이온풍을 상기 구멍(11)을 통하여 상기 고정용 테이블(1)의 표면(1a)과 상기 워크(W)의 이면(Wb) 사이에 형성되는 간극 공간부(J)에 분출시키는 정전기 제거 방법으로서,
이온을 발생시키기 위한 전극침(21)을 가지는 상기 이오나이저(2)를 상기 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 상기 워크(W)를 분리하기 위한 분리 수단(3)에 연동 연결하여, 상기 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 상기 워크(W)를 분리할 때에, 워크 분리 방향으로 워크 분리 속도와 동일 속도를 가지고 이동시키고,
또한 상기 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 제1 소정 분리 거리(Ha)까지의 범위에 있어서 상기 워크(W)가 분리될 때의 분리 속도가 상기 제1 소정 분리 거리(Ha)를 넘어 제2 소정 분리 거리(Hb)까지의 범위에 있어서 상기 워크(W)가 분리될 때의 분리 속도보다 느려지도록, 상기 분리 수단(3)을 제어하는 것을 특징으로 하는 정전기 제거 방법.
제 4 항에 있어서, 상기 고정용 테이블(1)의 표면(1a)으로부터 분리 종료 상태의 상기 워크(W)의 이면(Wb)까지의 거리를 분리 종료 거리(He)로 하면, 상기 제1 소정 분리 거리(Ha)는 상기 분리 종료 거리(He)의 1% 이상 35% 이하의 값으로 하고, 상기 제2 소정 분리 거리(Hb)는 상기 분리 종료 거리(He)의 70% 이상 100% 이하의 값으로 한 것을 특징으로 하는 정전기 제거 방법.
제 4 항 또는 제 5 항에 있어서, 상기 이오나이저(2)에 이온풍을 분출시키기 위한 노즐(20)을 설치하고, 이 노즐(20)의 선단부(20d)를 둥근산형상으로 형성함과 아울러 상기 이온풍이 분출하는 분출 구멍(20f)을 형성하고,
상기 노즐(20)을 상기 고정용 테이블(1)의 상기 구멍(11)에 삽입하고, 상기 노즐(20)의 선단부(20d)로 상기 워크(W)의 이면(Wb)을 밀어올려, 상기 고정용 테이블(1)로부터 분리시키면서 상기 간극 공간부(J)에 이온풍을 분출시키는 것을 특징으로 하는 정전기 제거 방법.
삭제
삭제
삭제