CN108633155A - 除静电支撑结构、基板运载设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种除静电支撑结构、基板运载设备，所述基板运载设备包括所述除静电支撑结构，所述除静电支撑结构包括喷嘴、电极部件、电极针、放电防止帽以及气管，所述除静电支撑结构用于支撑待处理基板、以及释放中和所述待处理基板与载台之间静电的正负离子，减少基板破片发生，提升产品品质；另外，基板与载台之间不再发生粘片，探针上升速度加快，使得设备生产节拍加快，提高了生产设备的产能。

Description

除静电支撑结构、基板运载设备

技术领域

本发明涉及制造工艺设备，特别涉及一种除静电支撑结构、基板运载设备。

背景技术

工业生产中由于物品相互之间的摩擦、剥离、挤压、感应等使物体表面积存有不同性质的电荷，当此种电荷积累达到一定程度时，就会产生静电吸附和放电现象。而这种静电吸附和放电现象会对LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)产品造成很大的影响和破坏，比如物体的粘附、排斥、静电击穿等，均可能影响LCD产品良率，并造成一定经济损失。

为了降低静电引起的不良率，在LCD生产中，主要的解决方案是导入了除静电探针；其中，除静电探针中的离子发生器由高压电源产生器和放电极(一般做成离子针)组成，通过尖端高压电晕放电把空气电离为大量正负离子，然后用CDA(Clean Dry Air，洁净干燥的压缩空气)把大量正负离子吹到物体表面以中和静电。

目前，行业应用的主要为棒型除静电探针，安装在设备设备出入口或设备顶部，用于消除基板整面的静电，成效显著；但当基板与生产设备基板载台表面剥离时，也会产生静电，造成基板背面因静电与载台粘片，导致破片频繁发生，影响基板的产能。

发明内容

本发明提供了一种除静电支撑结构、基板运载设备，以消除现有基板与基板载台之间的静电。

为实现上述方案，本发明提供的技术方案如下：

本发明提出了一种用于承载基板的除静电支撑结构，其中，所述除静电支撑结构包括用于释放离子的喷嘴和用于产生所述离子的电极部件；

所述喷嘴位于所述除静电支撑结构的一端，所述喷嘴与所述电极部件连接；

所述除静电支撑结构用于支撑待处理基板、以及释放中和所述待处理基板与载台之间静电的正负离子。

根据本发明一优选实施例，所述喷嘴包括至少一个出风口，所述出风口用于释放所述除静电支撑结构所产生的所述正负离子。

根据本发明一优选实施例，所述除静电支撑结构还包括电极针，所述电极部件和所述电极针用于产生所述待处理基板所需的所述正负离子。

根据本发明一优选实施例，还包括用于防止所述电极部件极化的放电防止帽。

根据本发明一优选实施例，所述除静电支撑结构还包括气管，

所述气管用于输送压缩空气，所述压缩空气用于将所述电极部件和所示电极针产生的所述正负离子输送至所述喷嘴。

根据本发明一优选实施例，所述气管包括第一气管和第二气管，所述第一气管设置于所述电极部件和所述电极针的内部；

所述第一气管的一端固定于与所述电极部件的出口处，所述第一气管的另一端与所述第二气管连接；

所述第二气管的一端与所述第一气管连接，所述第二气管的另一端与压缩空气源连接，所述第二气管被铝制金属所包裹。

根据本发明一优选实施例，所述气管为全氟丙基全氟乙烯基醚与聚四氟乙烯的共聚物制成。

根据本发明一优选实施例，所述除静电支撑结构还包括AC适配器和延伸电缆。

本发明还提出了一种包括上述除静电支撑结构的基板运载设备，其中，所述基板运载设备包括第一支撑台、第二支撑台以及除静电支撑结构；

所述第二支撑台设置于所述第一支撑台上，所述第二支撑台用于装载待处理基板；

所述除静电支撑结构的一端固定在所述第一支撑台上，所述除静电支撑结构的另一端与所述待处理基板接触，所述第一支撑台通过控制所述除静电支撑结构上、下运动，以控制所述待处理基板的升降。

根据本发明一优选实施例，所述第二支撑台包括多个通孔，部分所述除静电支撑结构通过所述通孔与所述待处理基板接触。

本发明的有益效果：本发明提供了一种除静电支撑结构、基板运载设备，所述基板运载设备包括所述除静电支撑结构，所述除静电支撑结构包括喷嘴、电极部件、电极针、放电防止帽以及气管，所述除静电支撑结构用于支撑待处理基板、以及释放中和所述待处理基板与载台之间静电的正负离子，减少基板破片发生，提升产品品质；另外，基板与载台之间不再发生粘片，探针上升速度加快，使得设备生产节拍加快，提高了生产设备产能。

附图说明

为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1所示为本发明一种除静电支撑结构的结构简图；

图2所示为本发明一种除静电支撑结构的剖视图；

图3所示为本发明实施例一一种基板运载设备的结构简图；

图4所示为本发明实施例一另一种基板运载设备的结构简图；

图5所示为本发明实施例一另一种基板运载设备的结构简图；

图6所示为本发明实施例二一种基板运载设备的结构简图。

具体实施方式

以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。

如图1所示为本发明优选实施例一种除静电支撑结构的结构简图，所述除静电支撑结构103包括喷嘴104、电极部件105、电极针106以及放电防止帽(未画出)；所述喷嘴104位于所述除静电支撑结构103的一端，所述喷嘴104与所述电极部件105固定连接，所述电极部件105与所述电极针106固定连接；

所述除静电支撑结构103用于支撑待处理基板108、以及释放中和所述待处理基板108与载台之间静电的正负离子。

本实施例中，所述喷嘴104与所述电极部件105螺纹连接，所述电极部件105与所述电极针106螺纹连接。可以理解的是，上述螺纹连接还可以是卡扣连接等其他常见的可拆卸连接方式或直接一体成型的固定连接方式，在此不作具体限定。

所述喷嘴104包括至少一个出风口，本实施例中，所述喷嘴104包括第一出风口1041和第二出风口1042，所述第一出风口1041和所述第二出口1042以所述喷嘴104的中线对称；所述第一出风口1041和所述第二出风口1042用于释放所述除静电支撑结构103所产生的正负离子；所述喷嘴104由聚醚醚酮树脂(PEEK材料)制成，该种材料具有良好的电绝缘性。

所述电极部件105由金属钨制成，为圆柱形结构；所述电极针106为圆柱形结构，通过所述电极部件105和电极针106产生所述待处理基板108所需要的正负离子；另外，由于所述电极部件105由金属钨制成，且金属钨的极化性能强，喷嘴104所释放的正负离子可能与所述电极部件105反应，因此需要在所述电极部件105外侧增加所述放电防止帽，所述放电防止帽为圆柱形的套筒结构，将所述电极部件105包裹在内部，保护所述电极部件105；优选的，所述放电防止帽由聚醚醚酮树脂制成。

如图2所示，所述除静电支撑结构103还包括气管107，所述气管107用于输送压缩空气，所述压缩空气用于将所述电极部件105和所述电极针106产生的所述正负离子输送至所述喷嘴104，并通过所述喷嘴104释放到所述待处理基板108的背面；

其中，所述气管107包括第一气管1071和第二气管1072，所述第一气管1071设置于所述电极部件105和所述电极针106的内部，所述第一气管1071的一端与所述喷嘴104连接；所述的第一气管1071和第二气管1072由全氟丙基全氟乙烯基醚与聚四氟乙烯的共聚物(PFA材料)制成；另外，所述第二气管1072的一端与压缩空气源连接，所述压缩空气为CDA(洁净干燥的压缩空气)，所述第二气管1072的另一端为带螺纹的接口，与所述电极针106螺纹连接；所述气管107的第二气管1072被铝制金属所包裹；

所述除静电支撑结构103还包括AC适配器和延伸电缆，为所述除静电支撑结构103中的电极部件和电极针提供电源。

如图3所示，所述基板运载设备包括：第一支撑台101、第二支撑台102以及除静电支撑结构103；

所述第一支撑台101位于所述基板运载设备的底部，所述第一支撑台101底部还连接有其他支撑部件，该支撑部件能够上下滑动，所述第一支撑台101通过该支撑部件在所述基板运载设备中上下滑动；所述第二支撑台102为一平面载台，用于装载待处理基板108，所述第二支撑台102设置于所述第一支撑台101上。

如图4所示，所述基板运载设备包括至少两个所述第一支撑台101，为了便于对实施例的说明，对比文件中只显示了两个所述第一支撑台101，所述第一支撑台101设置在所述基板运载设备的两侧，且以所述第二支撑台102的中线对称，所述除静电支撑结构103位于所述第二支撑台102的两侧。

在现有技术中，加工完成的基板，经传送装置被运输至第二支撑台102放置，以等待下一道制程工序；而由于待处理基板108与第二支撑台102之间的静电作用，存在较大的吸附力，难以剥离；因此，本发明将传统的支撑探针更换成所述除静电支撑结构103。

如图3所示，所述基板运载设备包括多个所述除静电支撑结构103，为了便于说明，图3中只画了三个所述除静电支撑结构103；所述除静电支撑结构103固定在所述第一支撑台101上，优选的，所述除静电支撑结构103一般设置在所述第二支撑台102的两侧；如图5所示，初始状态时，待处理基板108放置在所述第二支撑台102上，所述除静电支撑结构103不与所述待处理基板108相接触；

当所述基板运载设备工作时，所述第一支撑台101通过与之相连的支撑部件而上下滑动，因此，所述第一支撑台101可以用于控制所述除静电支撑结构103上、下运动；当所述第一支撑台101向上运动时，所述除静电支撑结构103与所述待处理基板108相接触，用于支撑所述待处理基板108。

优选的，在本实施例中，如图3所示，当所述第一支撑台101向上运动时，所述喷嘴104与所述待处理基板108接触，并将所述待处理基板108支撑起来。

具体操作流程：加工完成或完成某一道工序的基板被放置在所述第二支撑台102后，所述基板运载设备其中一侧的第一支撑台101带动第一支撑台101上的除静电支撑结构103向待处理基板108靠近，当所述除静电支撑结构103与所述待处理基板108接触后，所述除静电支撑结构103开始工作，并在释放正负离子的同时，该基板运载设备继续向上运动，将待处理基板108的一侧抬升至一定高度；此时，所述基板运载设备另一侧的所述第一支撑台101开始工作，重复先前的步骤。

图6所示为本发明优选实施例二一种基板运载设备的结构示意图，此实施例为在实施例一上的改进实施例；

在本实施例中，所述第二支撑台上还包括多个通孔(未画出)，部分所述除静电支撑结构203通过所述通孔贯穿所述第二支撑台202与所述待处理基板208接触。

如图6所示，所述基板运载设备包括三个所述第一支撑台201，三个所述第一支撑台201根据待处理基板208上升的距离依次开始工作；同理，所述基板运载设备还可以包括三个以上所述第一支撑台，根据实际情况进行配置。

本发明提供了一种除静电支撑结构、基板运载设备，所述基板运载设备包括所述除静电支撑结构，所述除静电支撑结构包括喷嘴、电极部件、电极针、放电防止帽以及气管，所述除静电支撑结构用于支撑待处理基板、以及释放中和所述待处理基板与载台之间静电的正负离子，减少基板破片发生，提升产品品质；另外，基板与载台之间不再发生粘片，探针上升速度加快，使得设备生产节拍加快，提高了生产设备的产能。

综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种用于承载基板的除静电支撑结构，其特征在于，所述除静电支撑结构包括用于释放离子的喷嘴和用于产生所述离子的电极部件；

所述喷嘴位于所述除静电支撑结构的一端，所述喷嘴与所述电极部件连接；

所述除静电支撑结构用于支撑待处理基板、以及释放中和所述待处理基板与载台之间静电的正负离子。

2.根据权利要求1所述的除静电支撑结构，其特征在于，所述喷嘴包括至少一个出风口，所述出风口用于释放所述除静电支撑结构所产生的所述正负离子。

3.根据权利要求2所述的除静电支撑结构，其特征在于，所述除静电支撑结构还包括电极针，所述电极部件和所述电极针用于产生所述待处理基板所需的所述正负离子。

4.根据权利要求1所述的除静电支撑结构，其特征在于，还包括用于防止所述电极部件极化的放电防止帽。

5.根据权利要求1所述的除静电支撑结构，其特征在于，所述除静电支撑结构还包括气管，

所述气管用于输送压缩空气，所述压缩空气用于将所述电极部件和所示电极针产生的所述正负离子输送至所述喷嘴。

6.根据权利要求5所述的除静电支撑结构，其特征在于，所述气管包括第一气管和第二气管，所述第一气管设置于所述电极部件和所述电极针的内部；

所述第一气管的一端固定于与所述电极部件的出口处，所述第一气管的另一端与所述第二气管连接；

所述第二气管的一端与所述第一气管连接，所述第二气管的另一端与压缩空气源连接，所述第二气管被铝制金属所包裹。

7.根据权利要求5所述的除静电支撑结构，其特征在于，所述气管为全氟丙基全氟乙烯基醚与聚四氟乙烯的共聚物制成。

8.根据权利要求1所述的除静电支撑结构，其特征在于，所述除静电支撑结构还包括AC适配器和延伸电缆。

9.一种包括如权利要求1所述的除静电支撑结构的基板运载设备，其特征在于，所述基板运载设备包括第一支撑台、第二支撑台以及除静电支撑结构；

所述第二支撑台设置于所述第一支撑台上，所述第二支撑台用于装载待处理基板；

所述除静电支撑结构的一端固定在所述第一支撑台上，所述除静电支撑结构的另一端与所述待处理基板接触，所述第一支撑台通过控制所述除静电支撑结构上、下运动，以控制所述待处理基板的升降。

10.根据权利要求9所述的基板运载设备，其特征在于，所述第二支撑台包括多个通孔，部分所述除静电支撑结构通过所述通孔与所述待处理基板接触。