CN103811332B - 一种干法刻蚀设备的下部电极基台和干法刻蚀设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种干法刻蚀设备的下部电极基台和干法刻蚀设备，用以提供一种新型的用于放置衬底基板的下部电极基台，置于该下部电极基台上的衬底基板经干法刻蚀设备刻蚀后，可以避免衬底基板内部结构均匀性的破坏，避免显示器件发生印花(Embossing？Mura)不良现象。所述干法刻蚀设备的下部电极基台，包括：第一基板以及位于第一基板上的多个支撑件；其中，所述支撑件的顶部材质至少包括树脂。
Description
技术领域
本发明涉及刻蚀技术领域，尤其涉及一种干法刻蚀设备的下部电极基台和干法刻蚀设备。
背景技术
在显示技术领域，通常通过干法刻蚀工艺对玻璃基板进行刻蚀，以制作相应的图形。具体地，将待刻蚀的玻璃基板置于采用干法刻蚀设备中，利用等离子体放电来去除玻璃基板上待刻蚀的材料进行刻蚀。
以下结合干法刻蚀设备的结构说明其刻蚀的原理。
参见图1，为现有技术干法刻蚀设备结构示意图，包括：反应腔100、位于反应腔100内的上部电极101和下部电极102，位于下部电极102上用于放置玻璃基板104的基台103；在具体实施时，将待刻蚀的玻璃基板104置于下部电极102上方的基台103上，反应腔100内通入等离子气体，将反应腔100密闭，为上部电极101和下部电极102施加电压，二者之间形成电势差，从而促使等离子体向玻璃基板运动，对玻璃基板进行刻蚀。
目前，一种较佳的下部电极102上方的基台103由基板和基板表面的表面浮点(EmbossingDot)构成，该表面浮点由氧化铝陶瓷构成，由于氧化铝陶瓷的硬度较高，一般其硬度高于玻璃，当待刻蚀的玻璃基板置于硬度较高的表面浮点上时，表面浮点不可避免地对所述玻璃基板的表面和/或内部结构造成一定程度的损伤，导致与表面浮点相接触的位置及接触附近区域的玻璃基板的厚度均匀性下降，和/或内部结构的均匀性下降。当经干法刻蚀过的玻璃基板作为显示面板的衬底基板时，来自背光源或外界光源的光线透过所述玻璃基板时，容易造成光散射现象，光散射现象在显示面板显示图像时会导致印花(EmbossingMura)不良现象的发生，严重影响显示面板的光学特性，从而影响显示面板图像的显示品质。
发明内容
本发明实施例提供一种干法刻蚀设备的下部电极基台和干法刻蚀设备，用以提供一种新型的用于放置衬底基板的下部电极基台，置于该下部电极基台上的衬底基板经干法刻蚀设备刻蚀后，可以避免玻璃基板内部结构均匀性的破坏，避免显示器件发生印花(EmbossingMura)不良现象。
为实现上述目的，本发明实施例提供的干法刻蚀设备的下部电极基台，包括：
第一基板以及位于所述第一基板上的多个支撑件；
其中，所述支撑件的顶部材质至少包括树脂。
较佳地，所述支撑件为表面浮点结构。
较佳地，所述树脂包括聚四氟乙烯和/或环氧树脂。
较佳地，所述支撑件的顶部材质还包括无机矿物材料。
较佳地，还包括位于所述第一基板上的树脂层，所述树脂层与所述各支撑件连接成一体式结构。
较佳地，还包括：设置于所述第一基板上的多个用于紧固所述第一基板和所述树脂层的紧固件。
较佳地，所述支撑件的顶部与所述树脂层之间的垂直距离为0.4～0.6mm。
较佳地，所述支撑件的形状为正立的锥形状。
较佳地，所述锥形状支撑件的侧表面设置有凹陷区域，所述凹陷区域的凹陷方向朝向所述支撑件的顶部，且与所述第一基板具有设定夹角。
较佳地，所述支撑件的顶部为具有至少一个呈针刺状的凸起结构。
较佳地，所述支撑件的侧表面至少包括多个由所述支撑件的顶部延伸至底部的第一沟壑。
较佳地，所述支撑件的侧表面还包括多个与所述第一沟壑的延伸方向相交叉的第二沟壑。
较佳地，所述第一基板为陶瓷基板。
较佳地，还包括位于所述支撑件之间的气孔，所述气孔贯穿所述第一基板和所述树脂层。
本发明实施例提供一种干法刻蚀设备，包括上述任一方式的下部电极基台。
综上所述，本发明实施例提供一种干法刻蚀设备的下部电极基台和干法刻蚀设备包括：第一基板以及位于第一基板上的多个支撑件；其中，支撑件的顶部材质至少包括树脂。所述支撑件上与放置的衬底基板的接触位置为树脂材质；树脂的硬度较小。由包括树脂的材料形成的支撑件顶部与衬底基板接触，相比较现有技术采用陶瓷形成的支撑件与衬底基板，例如玻璃基板接触，可以有效避免对衬底基板表面或内部结构的破损，从而避免所述刻蚀后的衬底基板作为显示面板的衬底基板时出现印花(EmbossingMura)不良现象，提高了显示面板的光学特性，从而提高了显示面板图像的显示品质。
附图说明
图1为现有技术干法刻蚀设备结构示意图；
图2为本发明实施例提供的下部电极基台俯视示意图之一；
图3为图2所示的下部电极基台在A-A向的截面图；
图4为本发明实施例提供的包括树脂层的下部电极基台结构示意图；
图5为本发明实施例提供的下部电极基台俯视示意图之二；
图6为图5所示的下部电极基台在B-B向的截面图；
图7为本发明实施例提供的支撑件结构示意图之一；
图8为本发明实施例提供的支撑件结构示意图之二；
图9为本发明实施例提供的支撑件结构示意图之三；
图10为本发明实施例提供的支撑件结构示意图之四；
图11为本发明实施例提供的设置有气孔的下部电极基台结构示意图。
具体实施方式
本发明实施例提供一种干法刻蚀设备的下部电极基台和干法刻蚀设备，用以提供一种新型的用于放置衬底基板的下部电极基台，置于该下部电极基台上的衬底基板经干法刻蚀设备刻蚀后，可以避免衬底基板内部结构均匀性的破坏，避免显示器件发生印花(EmbossingMura)的不良现象。
以下将结合附图具体说明本发明实施例提供的技术方案，本发明说明书内容和附图仅用于解释说明本发明，并不用于限制本发明。
本发明提供的干法刻蚀设备的下部电极基台为位于下部电极上用于支撑待刻蚀的玻璃基板的基台。所述基台与所述下部电极叠层设置，二者的结合方式与现有技术类似，本发明下述主要对所述基台做具体描述。
本发明实施例提供的衬底基板可以为玻璃基板或柔性基板等。本发明以玻璃基板为例说明。
参见图2和图3，图2为本发明实施例提供的干法刻蚀设备的下部电极基台俯视示意图；图3为图2所示的下部电极基台在A-A向的截面图；
本发明实施例提供的干法刻蚀设备的下部电极基台截面示意图，包括：
第一基板1以及位于第一基板1上的多个支撑件2；
其中，支撑件2的顶部材质至少包括树脂。
图2和图3所示的支撑件2用于支撑置于第一基板1上的待刻蚀的玻璃基板，支撑件2的设置可以减小第一基板1与玻璃基板之间的接触面积，保证玻璃基板在刻蚀过程中，各区域温度一致，从而保证对玻璃基板刻蚀的均匀性。
本发明图2和图3所示的支撑件2的顶部材质至少包括树脂，即至少保证所述支撑件上与待刻蚀的玻璃基板的接触位置为树脂材质；树脂的硬度小于玻璃的硬度，陶瓷的硬度高于玻璃的硬度。由包括树脂的材料形成的支撑件顶部与玻璃基板接触，相比较现有技术采用陶瓷形成的支撑件与玻璃接触，可以有效避免对玻璃基板表面或内部结构的破损，从而避免所述刻蚀后的玻璃基板作为显示面板的衬底基板时引起印花(EmbossingMura)不良现象，提高了显示面板的光学特性，从而提高了显示面板图像的显示品质。
所述支撑件的结构不限，优选为正立的锥形状，后续将会针对支撑件的结构做进一步描述；所述第一基板的材质不限，第一基板优选为陶瓷基板。
进一步地，所述支撑件为一体式结构，即整个支撑件的制作材料相同，由包括树脂的材料制作而成。这样在制作过程中可以降低制作工艺难度。
优选地，所述支撑件为表面浮点结构(EmbossingDot)，表面浮点结构相比较无支撑件的第一基板，可以避免玻璃基板边缘对应的显示面板产生印花不良。
所述树脂可以为任何具有物理化学稳定性、耐腐蚀性、高润滑不粘性、良好电绝缘性、强抗老化能力、耐温优异等特点的树脂。
优选地，所述树脂可以为聚四氟乙烯（Polytetrafluoroethylene）和/或环氧树脂等。
所述聚四氟乙烯具有优良的化学稳定性、耐腐蚀性、高润滑不粘性、良好电绝缘性、强抗老化能力、耐温优异，无毒性等特点，用于本发明支撑件制作，由于其高润滑不粘性特点，在刻蚀过程中产生的粉尘落于支撑件上不容易与支撑件结合，支撑件上即使有少量粉尘，后续清洗也比较容易。
凡分子结构中含有环氧基团的高分子化合物统称为环氧树脂。固化后的环氧树脂具有良好的物理、化学性能、介电性能良好、制品尺寸稳定性好、硬度高，以及柔韧性较好等特点。用于本发明支撑件制作，在刻蚀过程中产生的粉尘落于支撑件上不容易与支撑件结合，支撑件上即使有少量粉尘，后续清洗也比较容易。
上述由树脂材料制成的支撑件，为了进一步提高支撑件的硬度，所述支撑件的顶部材质除所述聚四氟乙烯（Polytetrafluoroethylene）和/或环氧树脂等之外，还可以包括无机矿物材料，无机矿物材料可以为高岭土、云母、硅灰石、滑石粉等，无机矿物材料可以提高支撑件的硬度。
优选地，整个支撑件由聚四氟乙烯（Polytetrafluoroethylene）和/或环氧树脂，混合有无机矿物材料制作而成。
本发明各支撑件可以分别制作在第一基板上，与第一基板结合。为了提高支撑件与第一基板之间的结合力，提高支撑件的稳定性，将所述各支撑件制作为一体式结构，其中一种实施方式为：如图4所示，在图3所示的结构的基础上：还包括位于第一基板1上的树脂层3，树脂层3与各支撑件2连接成一体式结构。该一体式结构方便整体更换。
树脂层3与第一基板1叠层设置，二者的接触面积较大，相对比较稳固。具体实施过程中，支撑件与树脂层的材质相同，同一次工艺形成。
进一步地，为了保证树脂层3与第一基板1的平整性，所述一体式的树脂层3与各支撑件2可以通过挤压成型的方式或3D打印的方式制作而成，制成的一体式结构中的树脂层的平整度较好。
进一步地，为了使得所述树脂层3紧紧贴合在第一基板1上，避免长时间使用二者分离，参见图5和图6，图6为图5在B-B向的截面图，基于前述实施例的下部电极基台，还包括：设置于第一基板1上的多个用于紧固第一基板1和树脂层3的紧固件4。
较佳地，紧固件4可以通过螺钉、螺栓、销或铆钉等实现。
进一步地，还可以在具有紧固件4的基础上，通过粘接剂将第一基板1和树脂层3粘接，进一步提高树脂层3与第一基板1的稳固性。
本发明由于支撑件与树脂层为一体式，通过紧固件将第一基板与树脂层紧紧固定，从而使得所述支撑件与第一基板紧紧固定，避免了支撑件从所述第一基板上脱落。
优选地，参见图6，支撑件2的顶部与树脂层3之间的垂直距离h为0.4～0.6mm，优选为0.5mm。
本发明上述任一方式的下部电极基台中的支撑件的结构为类似锥形的结构，即支撑件的整体形状为锥形状，顶部结构比较尖，这样可以减少支撑件与置于其上的玻璃基板之间的接触面积，保证玻璃基板上的局部温度不受支撑件的影响。
以下将具体介绍本发明实施例提供的几种典型的支撑件结构。
参见图7，为第一种较佳的支撑件结构的放大示意图；
支撑件2的形状为正立的锥形状，该锥形状的支撑件2为圆锥形或三棱锥形，相比较三棱锥形，圆锥形支撑件2上落上的粉尘更容易顺着侧壁滑落到支撑件2底部周围，延长了支撑件2的清洗周期。
较佳地，图7所示的支撑件2的表面为光滑结构，相比较粗糙结构的表面，粉尘更容易顺着侧壁滑落到支撑件2底部周围，延长了支撑件2的清洗周期。
参见图8，为第二种较佳的支撑件结构的放大示意图；
支撑件2的形状为正立的锥形状，该锥形状的支撑件2为圆锥形或三棱锥形，锥形状支撑件2的侧表面设置有凹陷区域21，凹陷区域21的凹陷方向（如箭头所示）朝向支撑件的顶部（O点），且与第一基板1具有设定夹角α。该锥形状支撑件2类似常规的松树状。当刻蚀过程中粉尘落到支撑件2的侧壁时，由于侧壁表面具有凹陷区域21（即具有缺口），侧壁表面不容易形成一整层较厚的粉尘，进一步有利于粉尘脱落于支撑件2底部周围，更进一步延长了支撑件的清洗周期。
优选地，图8所示的凹陷区域21为V型，V型凹陷区域21不容易积聚粉尘。
参见图9，为第三种较佳的支撑件结构的放大示意图；
支撑件2的整体结构不限，可以为杆状，或橄榄球状等，或者为图7和图8所示的结构。
支撑件2的顶部为具有至少一个呈针刺状的凸起结构22。
多个呈针刺状的凸起结构22可以提高玻璃基板在支撑件上的稳定性，同时减少支撑件与玻璃基板之间的接触面积。
为了进一步增加清洗支撑件的周期，还可以在图9所示的支撑件2上设置沟壑，使得粉尘进入沟壑沿着沟壑滑落到支撑件的底部周围。
参见图10，在图9所示的结构的基础上，支撑件2的侧表面至少包括多个由支撑件的顶部延伸至底部的第一沟壑23；
进一步地，支撑件2的侧表面还包括多个与第一沟壑23的延伸方向相交叉的第二沟壑24。
参见图11，为了降低玻璃基板的温度，第一基板1上还设置有位于支撑件2之间的气孔6，气孔6贯穿第一基板1和树脂层3。
本发明实施例提供的第一基板上支撑件的高度、形状等外观、排列分布及数量根据实际情况而定；气孔的大小、排列分布及数量根据实际情况而定，适当增加电极周边的气孔数目，更好的用于为玻璃基板降温。
本发明实施例提供一种干法刻蚀设备，包括上述任一方式的下部电极基台，该下部电极基台下放放置有下部电极。
综上所述，本发明实施例提供一种干法刻蚀设备的下部电极基台包括：第一基板以及位于第一基板上的多个支撑件；其中，支撑件的顶部材质至少包括树脂。至少保证所述支撑件上与待刻蚀的玻璃基板的接触位置为树脂材质；树脂的硬度小于玻璃的硬度，陶瓷的硬度高于玻璃的硬度。由包括树脂的材料形成的支撑件顶部与玻璃基板接触，相比较现有技术采用陶瓷形成的支撑件与玻璃接触，可以有效避免对玻璃基板表面或内部结构的破损，从而避免所述刻蚀后的玻璃基板作为显示面板的衬底基板时，导致印花(EmbossingMura)不良现象，提高了显示面板的光学特性，从而提高了显示面板图像的显示品质。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (11)
1.一种干法刻蚀设备的下部电极基台，其特征在于，包括：
第一基板以及位于所述第一基板上的多个支撑件；
其中，所述支撑件的顶部材质至少包括树脂；所述第一基板的表面为水平面；
所述支撑件的形状为正立的锥形状；所述锥形状支撑件的侧表面设置有凹陷区域，所述凹陷区域的凹陷方向朝向所述支撑件的顶部，且与所述第一基板具有设定夹角；或，
所述支撑件的顶部为具有至少一个呈针刺状的凸起结构；所述呈针刺状的凸起结构的支撑件的侧表面至少包括多个由所述支撑件的顶部延伸至底部的第一沟壑。
2.根据权利要求1所述的下部电极基台，其特征在于，所述支撑件为表面浮点结构。
3.根据权利要求2所述的下部电极基台，其特征在于，所述树脂包括聚四氟乙烯和/或环氧树脂。
4.根据权利要求3所述的下部电极基台，其特征在于，所述支撑件的顶部材质还包括无机矿物材料。
5.根据权利要求4所述的下部电极基台，其特征在于，还包括位于所述第一基板上的树脂层，所述树脂层与各所述支撑件连接成一体式结构。
6.根据权利要求5所述的下部电极基台，其特征在于，还包括：设置于所述第一基板上的多个用于紧固所述第一基板和所述树脂层的紧固件。
7.根据权利要求5所述的下部电极基台，其特征在于，所述支撑件的顶部与所述树脂层之间的垂直距离为0.4～0.6mm。
8.根据权利要求1所述的下部电极基台，其特征在于，所述支撑件的侧表面还包括多个与所述第一沟壑的延伸方向相交叉的第二沟壑。
9.根据权利要求1所述的下部电极基台，其特征在于，所述第一基板为陶瓷基板。
10.根据权利要求5所述的下部电极基台，其特征在于，还包括位于所述支撑件之间的气孔，所述气孔贯穿所述第一基板和所述树脂层。
11.一种干法刻蚀设备，其特征在于，包括权利要求1-10任一所述的下部电极基台。
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