TWI557841B - 輸送處理裝置與輸送處理方法 - Google Patents

Description

輸送處理裝置與輸送處理方法

本發明是有關於一種輸送處理裝置與輸送處理方法，且特別是有關於一種以複數層平台來傳送並處理基板的輸送處理裝置與輸送處理方法。

於現代高科技產業的製造的過程中，基板是經過如清洗、蝕刻、塗佈、顯影、乾燥等多道工序來製造，所述各製造工序中均設有輸送裝置，如此便可藉由輸送裝置將基板輸送至各道製造工序的位置，並進行相關製程加工。

就習知輸送過程中，將基板置放於傳輸平台上，並使基板沿著單一輸送路徑上輸送並進行如清洗、顯影、蝕刻、剝膜、塗佈或重工等製程。然而，此傳輸平台採用單一輸送路徑的方式往往占用工廠的空間。

為了降低工廠的空間占用率，習用技術中有採用雙層輸送平台的方式，在雙層輸送平台之間的傳送過程中，基板先置放在第一層輸送平台中的輸送單元的一特定位置上。於第一層輸送平台中會先用一第一叉架(fork)承接由第一層輸送平台中的輸送單元所送來的基板，並再利用一第 二叉架(fork)承接由第一叉架所送來的基板，以將基板傳送至第二層輸送平台中的輸送單元。然而，此第一叉架、第二叉架與輸送單元的交錯設計過於複雜，如此造成維護上不容易且可靠性(reliability)差。並且，輸送過程中仍會再利用第二叉架將基板移動至第一叉架，將基板回傳至第一層輸送平台的輸送單元的特定位置，並將基板傳送至外界。也就是說，輸送過程會在第一層輸送平台上的特定位置開始傳送製程前未處理的基板(此時基板上的粉塵particle較多)，也會自第一層輸送平台上的特定位置移出製程後已處理的基板(此時基板上的粉塵particle較少)，如此往往造成製程前未處理的基板與製程後已處理的基板交互污染的風險存在。

因此，如何有效活用工廠的空間，並能簡化輸送裝置的設計，更能降低因輸送過程中基板被污染的風險，來維持製程品質，為目前業界的重要課題。

本發明的一目的在於，減少整體設備長度，並能增加場地空間利用。

本發明的另一目的在於，在不同層取放基板，得以避免基板於傳送過程中交互污染，亦能縮短取放片的時間。

本發明的又一目的在於，於輸送過程中可避免交互污染，並且，經由單一滾輪平台便能達到承接並移動基板至下滾輪組的目的，藉以簡化設計並達到易於維護且可靠性佳。

本發明的一實施例提出一種輸送處理裝置，輸送處理裝置用 於傳送並處理一基板，輸送處理裝置包含一框架、一第一輸送裝置、一第二輸送裝置、一處理單元、一第一滾輪平台、一第三輸送裝置以及一第二滾輪平台。框架包含複數層平台。第一輸送裝置位於複數層平台中的一中層平台，第一輸送裝置具有相對的一第一端部與一第二端部，第一端部位於中層平台之中央處，第二端部位於中層平台之側緣，第一輸送裝置將基板由第一端部輸送至第二端部。第二輸送裝置位於複數層平台中的一下層平台，第二輸送裝置具有相對的一第三端部與一第四端部。處理單元位於第二輸送裝置的第三端部與第四端部之間，第二輸送裝置將基板由第三端部輸送至第四端部，處理單元對基板進行一製程處理。第一滾輪平台於複數層平台中的中層平台與下層平台之間移動，第一滾輪平台將基板由中層平台的第一輸送裝置的第二端部移動至下層平台的第二輸送裝置的第三端部。第三輸送裝置位於複數層平台中的一上層平台，第三輸送裝置具有相對的一第五端部與一第六端部，第三輸送裝置將基板由第五端部移動至第六端部。第二滾輪平台於複數層平台中的下層平台與上層平台之間移動，第二滾輪平台將基板由下層平台的第二輸送裝置的第四端部移動至上層平台的第三輸送裝置的第五端部。

本發明的一實施例提出一種輸送處理方法，輸送處理方法用於傳送並處理一基板，輸送處理方法包含下步驟。接收基板於一中層平台的一第一輸送裝置的一第一端部，其中第一輸送裝置具有第一端部與一第二端部，第一端部位於中層平台之中央處，第二端部位於中層平台之側緣。輸送基板由第一輸送裝置的第一端部至第一輸送裝置的第二端部。經由一第一滾輪平台，輸送基板由第一輸送裝置的第二端部至一下層平台的一第 二輸送裝置的一第三端部，其中第二輸送裝置具有相對的第三端部與一第四端部。於下層平台的第二輸送裝置的第三端部與第四端部之間，對基板進行一製程處理。輸送基板至下層平台的第二輸送裝置的第四端部。經由一第二滾輪平台，輸送基板由第二輸送裝置的第四端部至一上層平台的一第三輸送裝置的一第五端部，其中第三輸送裝置具有相對的第五端部與一第六端部。輸送基板由第三輸送裝置的第五端部至第三輸送裝置的第六端部。

基於上述，在本發明的輸送處理裝置與輸送處理方法中，經由此輸送處理裝置的複數層平台，得以減少整體設備長度，並能有效提升場地空間之利用。此外，在不同層取放基板，得以避免基板於傳送過程中交互污染，亦能縮短取放片的時間。並且，經由單一滾輪平台便能達到承接並移動基板至下滾輪組的目的，藉以簡化設計並達到易於維護且可靠性佳。

20‧‧‧液體

50、60‧‧‧基板

100、200、300、400、500‧‧‧輸送處理裝置

100A‧‧‧框架

110B‧‧‧中層平台

110C‧‧‧下層平台

110D‧‧‧上層平台

110‧‧‧第一輸送裝置

112‧‧‧第一端部

114‧‧‧第二端部

118‧‧‧滾輪

120‧‧‧第二輸送裝置

122‧‧‧第三端部

124‧‧‧第四端部

126‧‧‧滾輪

126a‧‧‧傾斜滾輪

131‧‧‧第一平台本體

132、132a‧‧‧第一滾輪平台

134、134a‧‧‧第二滾輪平台

136‧‧‧第一滑軌

138‧‧‧第一皮帶缸

142‧‧‧第一定位元件

142a‧‧‧罩體

142b‧‧‧夾具

144‧‧‧第二定位元件

150‧‧‧處理單元

152‧‧‧噴灑件

160‧‧‧乾燥單元

170‧‧‧第三輸送裝置

172‧‧‧第五端部

174‧‧‧第六端部

180‧‧‧氣流裝置

292‧‧‧第一傾斜單元

294‧‧‧第二傾斜單元

L1、L2‧‧‧箭號

S100‧‧‧輸送處理方法

S110~S180‧‧‧步驟

S132~S138‧‧‧步驟

S142~S144‧‧‧步驟

圖1為本發明之輸送處理裝置之第一實施例的示意圖。

圖2為圖1中處理單元一實施例的示意圖。

圖3為本發明之輸送處理裝置之第二實施例的示意圖。

圖4為本發明之輸送處理裝置之第三實施例的示意圖。

圖5為本發明之輸送處理裝置之第三實施例之第一滾輪平台上定位基板的一實施例的示意圖。

圖6為本發明之輸送處理裝置之第三實施例之第一滾輪平台上定位基板的另一實施例的示意圖。

圖7為本發明之輸送處理裝置之第四實施例的示意圖。

圖8為本發明之輸送處理裝置之第五實施例的示意圖。

圖9為本發明之輸送處理裝置之第五實施例之第一滾輪平台的示意圖。

圖10至圖11為本發明之輸送處理裝置之第五實施例之處理基板之不同過程的示意圖。

圖12為本發明之輸送處理方法的流程圖。

圖13為圖12對應至本發明之輸送處理裝置一過程的示意圖。圖14為圖12之輸送基板由第一輸送裝置的第二端部至第二輸送裝置的第三端部的流程圖。

圖15為圖12之對基板進行製程處理的流程圖。

圖16為以圖8之輸送處理裝置進行輸送處理方法的示意圖。

以下謹結合附圖和實施例，對本發明的具體實施方式作進一步描述。以下實施例僅用於更加清楚地說明本發明的技術方案，而不能以此限制本發明的保護範圍。

圖1為本發明之輸送處理裝置之第一實施例的示意圖。請參閱圖1。

在本實施例中，輸送處理裝置100用於傳送並處理一基板50，輸送處理裝置100例如為一清洗機、一顯影機、一蝕刻機、一剝膜機、 一塗佈機或一重工機，依照不同的製程機台而對基板進行清洗製程、顯影製程、蝕刻製程、剝膜製程、塗佈製程或者重工製程等處理程序。

輸送處理裝置100包括一框架100A、一第一輸送裝置110、一第二輸送裝置120、一第一滾輪平台132、一第二滾輪平台134、一處理單元150以及一第三輸送裝置170。需說明的是，圖式為示意圖，存在各尺寸的比率等與實物不同的情況，端視實際情況而擇定，以圖1而言，基板50位於第一輸送裝置110上，而第一輸送裝置110、第二輸送裝置120、第一滾輪平台132、第二滾輪平台134及第三輸送裝置170的實際長度約略至少等同基板50，以供移載相同長度的基板50。並且，為了簡化圖式起見，圖1中的第二輸送裝置120、第一滾輪平台132及第二滾輪平台134部分以省略線的方式表示。此外，在圖1所示的實施例中，定義第一輸送裝置110、第一滾輪平台132、第二輸送裝置120、第二滾輪平台134及第三輸送裝置170是呈一水平狀態，即第一輸送裝置110、第一滾輪平台132、第二輸送裝置120、第二滾輪平台134及第三輸送裝置170是以一水平移動的方式來移載基板50。

框架100A包含複數層平台，以本實施例而言，複數層平台的層數為三層，其具有一上層平台110D、一中層平台110B與一下層平台110C，其中中層平台110B位於上層平台110D與下層平台110C之間，然本發明不以此為限，端視實際情況而可調整平台的層數。

第一輸送裝置110位於複數層平台中的中層平台110B，第一輸送裝置110具有相對的一第一端部112與一第二端部114，第一輸送裝置110的第一端部112與第二端部114分別位於中層平台110B的相對兩側緣。

需說明的是，本發明不對第一輸送裝置110的結構加以限 制，在本實施例中，第一輸送裝置110例如包括複數個滾輪118與複數個桿體(未繪示)，滾輪118間隔排列並呈一水平狀態，且滾輪118可轉動地設於桿體。以圖1而言，基板50置於呈水平狀態的滾輪118上，使得第一輸送裝置110是以水平移動的方式來移載基板50。於一未繪示實施例中，第一輸送裝置例如包括一運送平台與一夾持結構，夾持結構設於運送平台上，基板置於運送平台上，藉由夾持結構夾固基板而來輸送基板。

第二輸送裝置120位於複數層平台中的下層平台110C，換言之，第二輸送裝置120設於第一輸送裝置110之下。第二輸送裝置120具有相對的一第三端部122與一第四端部124。此外，第二輸送裝置120例如是包括複數個桿體與複數個滾輪的結構特徵，以圖1而言，第二輸送裝置120的滾輪126為呈水平狀態，使得第二輸送裝置120能以水平移動的方式來移載基板50。於一未繪示實施例中，第二輸送裝置例如是藉由夾持結構夾固基板而來輸送基板，在此不重複贅述。

第三輸送裝置170位於複數層平台中的一上層平台110D，換言之，第三輸送裝置170設於第一輸送裝置110之上。第三輸送裝置170具有相對的一第五端部172與一第六端部174，其中，而上層平台110D的第三輸送裝置170位於中層平台110B的第一輸送裝置110之垂直上方。此外，第三輸送裝置170例如是包括複數個桿體與複數個滾輪的結構特徵，或者是，第三輸送裝置例如是藉由夾持結構夾固基板而來輸送基板，在此不重複贅述。

第一滾輪平台132位於複數層平台中的中層平台110B與下層平台110C的側緣。第一滾輪平台132例如是具有複數個桿體與複數個滾輪的結構特徵，以承接如自第一輸送裝置110的第二端部114所送來的基板。 第一滾輪平台132於複數層平台中的中層平台110B與下層平台110C之間移動。

第二滾輪平台134位於複數層平台中的上層平台110D與下層平台110C的另一側緣，換言之，第一滾輪平台132與第二滾輪平台134分別位於框架100A內的相對兩測。第二滾輪平台134例如是具有複數個桿體與複數個滾輪的結構特徵，以承接如自第二輸送裝置120的第四端部124所送來的基板。第二滾輪平台134於複數層平台中的下層平台110C與上層平台110D之間移動。

處理單元150位於第二輸送裝置120的第三端部122與第四端部124之間。當基板50被第二輸送裝置120的滾輪126輸送至處理單元150時，處理單元150對基板50進行一製程處理。詳細而言，如圖2所示，圖2為圖1中處理單元一實施例的示意圖。處理單元150包括一噴灑件152。噴灑件152位於滾輪126的上方，基板50位於滾輪126之上。如此配置之下，噴灑件152對基板50噴灑一液體，以進行製程處理。在本實施例中，例如是進行清洗製程、顯影製程、蝕刻製程、剝膜製程、塗佈製程或者重工製程，而所搭配的液體則分別為清洗藥水、顯影劑、蝕刻劑、剝離液、塗佈劑及重工劑。然本發明不以此為限，端視實際製程需求而擇定搭配的液體種類。

圖3為本發明之輸送處理裝置之第二實施例的示意圖。請參閱圖3。需說明的是，圖3的輸送處理裝置200與圖1的輸送處理裝置100相似，其中相同的元件以相同的標號表示且具有相同的功效而不再重複說明，以下僅說明差異處。

在本實施例中，輸送處理裝置200包括乾燥單元160，乾燥單 元160設於第二輸送裝置120的第三端部122與第四端部124之間，並位於處理單元150旁。經由處理單元150製程基板後，乾燥單元160去除基板上的液體。

圖4為本發明之輸送處理裝置之第三實施例的示意圖。請參閱圖4。需說明的是，圖4的輸送處理裝置300與圖3的輸送處理裝置200相似，其中相同的元件以相同的標號表示且具有相同的功效而不再重複說明，以下僅說明差異處。

在本實施例中，輸送處理裝置300包括第一定位元件142與第二定位元件144。第一定位元件142設於第一滾輪平台132上，第一定位元件142於第一滾輪平台132下移時限制基板，以避免基板下移時飛出或偏移。第二定位元件144設於第二滾輪平台134上，第二定位元件144於第二滾輪平台134上移時限制基板，以避免基板上移時飛出或偏移。需說明的是，本實施例是同時配置第一定位元件142與第二定位元件144。於一未繪示實施例中，只在第一滾輪平台設置第一定位元件，或者是只在第二滾輪平台設置第二定位元件，端視實際輸送處理裝置而可調配定位元件的配置態樣。

在此並不限制第一定位元件142與第二定位元件144限制基板的方式。以下以第一定位元件142為例並分別藉由圖5與圖6舉例說明，而第二定位元件144結構類同於第一定位元件142結構，可參照第一定位元件142的說明，故以下不對第二定位元件144重複贅述。

圖5為本發明之輸送處理裝置之第三實施例之第一滾輪平台上定位基板的一實施例的示意圖。圖6為本發明之輸送處理裝置之第三實施例之第一滾輪平台上定位基板的另一實施例的示意圖。

於一實施例中，如圖5所示。第一定位元件142例如是一罩體142a。罩體142a可移動地設於第一滾輪平台132上。如此，當基板50位於第一滾輪平台132時，罩體142a則會罩住並固定基板50。於另一實施例中，如圖6所示，第一定位元件142例如是一夾具142b。夾具142b可移動地設於第一滾輪平台132上。如此，當基板50位於第一滾輪平台132時，夾具142b夾持於基板50兩側並固定基板50。

圖7為本發明之輸送處理裝置之第四實施例的示意圖。請參閱圖7。需說明的是，圖7的輸送處理裝置400與圖4的輸送處理裝置300相似，其中相同的元件以相同的標號表示且具有相同的功效而不再重複說明，以下僅說明差異處。

在本實施例中，輸送處理裝置400包括氣流裝置180。氣流裝置180設於上層平台110D的第三輸送裝置170之上方，換言之，上層平台110D的第三輸送裝置170位於氣流裝置180之下方，而中層平台110B的第一輸送裝置110位於上層平台110D的第三輸送裝置170之垂直下方。如此配置之下，氣流裝置180提供一氣流，將氣流由上層平台110D的第三輸送裝置170吹向中層平台110B的第一輸送裝置110。

圖8為本發明之輸送處理裝置之第五實施例的示意圖。請參閱圖8。需說明的是，圖8的輸送處理裝置500與圖7的輸送處理裝置400相似，其中相同的元件以相同的標號表示且具有相同的功效而不再重複說明，以下僅說明差異處。

在本實施例中，輸送處理裝置500包括第一傾斜單元292與第二傾斜單元294，而第二輸送裝置120包含一傾斜滾輪126a。需說明的是， 相較於第一輸送裝置110與第三輸送裝置170(呈水平狀態的滾輪)，第二輸送裝置120藉由傾斜滾輪126a而呈一傾斜狀態，亦即，第二輸送裝置120是以一傾斜移動的方式來移動基板50。

第一傾斜單元292設於第一滾輪平台132a的下方，第一傾斜單元292於第一滾輪平台132a下移時傾斜基板50而使基板50呈一傾斜狀態，且第一定位元件142於第一滾輪平台132下移時限制基板50，以避免基板50下移時飛出或偏移。

傾斜滾輪126a與第一滾輪平台132a是呈同一傾斜角度，以承接自第一滾輪平台132a所輸送來的基板。處理單元150與乾燥單元160分別位於傾斜滾輪126a之上。

第二傾斜單元294設於第二滾輪平台134a的下方，第二傾斜單元294用以傾斜基板而使基板呈一傾斜狀態，而第二滾輪平台134與傾斜滾輪126a是呈同一傾斜角度，以承接自傾斜滾輪126a所輸送來的基板。並且，第二傾斜單元294於第二滾輪平台134上移之前，將基板由傾斜狀態回復至一水平狀態(如圖1所示)。另需說明的是，在本實施例中，分別在第一、第二滾輪平台設置第一、第二傾斜單元。於一未繪示實施例中，只在第一滾輪平台設置第一傾斜單元，或者是只在第二滾輪平台設置第二傾斜單元，端視實際輸送處理裝置而可調配定位元件的配置態樣。

圖9為本發明之輸送處理裝置之第五實施例之第一滾輪平台的示意圖。請參閱圖9。

第一滾輪平台132a包括一第一平台本體131、兩第一滑軌136以及一第一皮帶缸138，其中第一皮帶缸138位於兩第一滑軌136之間。在此 並不限制第一滾輪平台的型態，於其他實施例中，例如是藉由螺桿缸與配重箱的方式，亦可達到將基板自第一輸送裝置下移至第二輸送裝置的功能，此外，平台本體131例如是具有複數個桿體與複數個滾輪的結構特徵，以承接自第一輸送裝置110的第二端部114所送來的基板，在此不重複贅述。另外，如圖1、圖3、圖4及圖7中的第一滾輪平台132可參閱此處第一滾輪平台132a的結構，兩者差異在於，第一滾輪平台132a多出第一傾斜單元292。

在本實施例中，第一傾斜單元292位於第一滾輪平台132a之第一平台本體131的下方，以傾斜第一滾輪平台132a之第一平台本體131。在此並不限制第一傾斜單元292的型態，只要可以傾斜第一滾輪平台之第一平台本體131的機構即可。

第二滾輪平台134a包括一第二平台本體、兩第二滑軌以及一第二皮帶缸，需說明的是，第二滾輪平台134a的結構類同於第一滾輪平台132a，可參照前述對於第一滾輪平台132a的說明，在此不重複贅述。

圖10至圖11為本發明之輸送處理裝置之第五實施例之處理基板之不同過程的示意圖。請參閱圖8、圖10及圖11。需說明的是，相較於圖2，圖10及圖11不同之處在於，由於此時第二輸送裝置120的傾斜滾輪126a呈傾斜狀態，使得傾斜滾輪126a具有一傾斜角度A1，基板50置於傾斜滾輪126a上是呈傾斜狀態，換言之，相對於圖2的滾輪126，圖10及圖11的傾斜滾輪126a呈傾斜狀態，而基板50置於傾斜滾輪126a上亦是呈傾斜狀態。

接著，如圖11所示，噴灑件152對基板50噴灑一液體20，以進行製程處理。由於傾斜滾輪126a將基板50傾斜，使得液體20不會殘留於 基板50的表面，而防止形成水池效應的現象產生。

圖12為本發明之輸送處理方法的流程圖。圖13為圖12對應至本發明之輸送處理裝置一過程的示意圖。請先參閱圖12。本實施例的輸送處理方法S100，用於傳送並處理如圖7所示的基板50。需說明的是，圖12是以圖7的第四實施例作為以下輸送處理方法S100的步驟流程說明，而圖1、圖3、圖4及圖8中與圖7相同元件以相同的標號表示且具有相同的步驟流程，故不再重複說明。

輸送處理方法S100包括以下步驟S110至步驟S180。

進行步驟S110，如圖7所示，接收基板50於一中層平台110B的一第一輸送裝置110，其中第一輸送裝置110具有第一端部112與一第二端部114，第一輸送裝置110的第一端部112與第二端部114分別位於中層平台110B的相對兩側緣。

進行步驟S120，輸送基板50由第一輸送裝置110的第一端部112至第一輸送裝置110的第二端部114。換言之，第一輸送裝置110將基板50由第一端部112輸送至第二端部114。

進行步驟S130，經由一第一滾輪平台132，輸送基板50由第一輸送裝置110的第二端部114(沿箭號L1方向)至一下層平台110C的一第二輸送裝置120的一第三端部122，其中第二輸送裝置120具有相對的第三端部122與一第四端部124。換言之，第一滾輪平台132將基板50由中層平台110B的第一輸送裝置110的第二端部114移動至下層平台110C的第二輸送裝置120的第三端部122。

所述輸送基板50由第一輸送裝置110的第二端部114至第二 輸送裝置120的第三端部122的步驟S130中，包括以下步驟S132至步驟S138。並且參閱圖14，圖14為圖12之輸送基板由第一輸送裝置的第二端部至第二輸送裝置的第三端部的流程圖。

進行步驟S132，經由第一滾輪平台132，承接由第一輸送裝置110的第二端部114所送來的基板50。

進行步驟S134，定位基板50。

第一定位元件142設於第一滾輪平台132上，第一定位元件142於第一滾輪平台132下移時限制基板50，以避免基板50下移時飛出或偏移，在此並未限制定位基板50的方式。舉例而言，例如是以圖5所示的罩體142a或者是以圖6所示的夾具142b均可達到定位基板50的功能。

進行步驟S136，移動基板50至下層平台110C的第二輸送裝置120的第三端部122。舉例而言，如圖9所示，基板50位於第一平台本體131，藉由如圖9所示的第一滾輪平台132a中的兩第一滑軌136與第一皮帶缸138，或者是，於其他實施例中，例如是藉由螺桿缸與配重箱的方式，亦可達到將基板50自第一輸送裝置110下移至第二輸送裝置120的目的。

需說明的是，所述輸送基板50由第一輸送裝置110的第二端部114至第二輸送裝置120的第三端部122的步驟S130中，第一輸送裝置110、第一滾輪平台132及第二輸送裝置120是呈水平狀態，亦即，第一輸送裝置110、第一滾輪平台132及第二輸送裝置120是以水平移動的方式來移載基板50。然本發明不以此為限，於進一步的實施例中，進行步驟S138，傾斜基板50。舉例而言，如圖8所示，第一傾斜單元292於第一滾輪平台132a下移時傾斜基板50，藉以縮短作動時間。接著，第一滾輪平台132a將基板 50下移至下層平台110C的第二輸送裝置120時，由於第一滾輪平台132a與第二輸送裝置120的傾斜滾輪126a是呈同一傾斜角度，使得第二輸送裝置120的傾斜滾輪126a直接就能承接自第一滾輪平台132a所輸送來的基板50，藉以縮短傳送基板50的時間。

上述進行步驟S130後，基板50便由第一輸送裝置110下移至第二輸送裝置120。請復參閱圖12，接著進行步驟S140，於下層平台110C的第二輸送裝置120的第三端部122與第四端部124之間，對基板50進行一製程處理。

於進一步的實施例中，第二輸送裝置120將基板50由第三端部122輸送至第四端部124的過程中，當基板50由第三端部122傳送至處理單元150的位置時，如圖10所示，處理單元150位於傾斜滾輪126a上，基板50位於傾斜滾輪126a上而呈一傾斜狀態。此時可同時參閱如圖11所示，噴灑件152對基板50噴灑一液體20，以進行製程處理。在本實施例中，例如是進行清洗製程、顯影製程、蝕刻製程、剝膜製程、塗佈製程或者重工製程，而所搭配的液體20別為清洗藥水、顯影劑、蝕刻劑、剝離液、塗佈劑及重工劑。然本發明不以此為限，端視實際製程需求而擇定搭配的液體種類。

由於傾斜滾輪126a將基板50傾斜，使得液體20不會殘留於基板50的表面，而防止形成水池效應的現象產生。

於下層平台110C的第二輸送裝置120的第三端部122與第四端部124之間，對基板50進行製程處理的步驟S140中，包括以下步驟S142至步驟S144。並且參閱圖15，圖15為圖12之對基板進行製程處理的流程圖。

進行步驟S142，乾燥基板50。

在本實施例中，對基板50進行製程處理後，基板50由處理單元150輸送至乾燥單元160時，可藉由乾燥單元160去除基板50上的液體20，藉以達到短時間內進行乾燥。在此不限制乾燥單元160的形式，舉例來說，乾燥單元例如為一風刀結構。

請復參閱圖12，接著進行步驟S150。輸送基板20至下層平台110C的第二輸送裝置120的第四端部124。而後第二滾輪平台134承接自第二輸送裝置120的第四端部124所輸送來的基板50。

需說明的是，如圖1、圖3、圖4、圖7所示，輸送基板20至下層平台110C的第二輸送裝置120的第四端部124的步驟S150中，第二輸送裝置120及第二第二滾輪平台134是呈水平狀態，亦即，第二輸送裝置120及第二第二滾輪平台134是以水平移動的方式來移載基板50。然本發明不以此為限，於另一實施例中，如圖8所示，由於傾斜滾輪126a與第二滾輪平台134a是呈同一傾斜角度，使得第二滾輪平台134a便於承接自第二滾輪平台134a所輸送來的基板50。

請復參閱圖12，進行步驟S160，經由一第二滾輪平台134，輸送基板50由第二輸送裝置120的第四端部124至一上層平台110D的一第三輸送裝置170的一第五端部172，其中第三輸送裝置170具有相對的第五端部172與一第六端部174。

進一步而言，進行步驟S144，回復基板50至一水平狀態。基板50被傳送出第二輸送裝置120外，而基板50位於第二滾輪平台134a上，如圖8所示，第二滾輪平台134a是呈一傾斜角度而呈一傾斜狀態，此時如圖16所示，圖16為以圖8之輸送處理裝置進行輸送處理方法的示意圖。第二傾 斜單元292於第二滾輪平台134a上移時，將基板50由傾斜狀態回復至水平狀態，藉以縮短作動時間。此外，在其他實施例中，如圖1、圖3、圖4、圖7所示，第二滾輪平台134未設置第二傾斜單元，此時第二滾輪平台呈水平狀態。因此，步驟S144可在步驟S150之前，先將如第二輸送裝置120的傾斜滾輪126a回復成水平狀態，使得第二滾輪平台與傾斜滾輪呈同一角度，故可便於將基板自傾斜滾輪傳送至第二滾輪平台。

接著進行步驟S170，輸送基板50由第三輸送裝置170的第五端部172至第三輸送裝置170的第六端部174。

第三輸送裝置170將基板50由第三輸送裝置170的第五端部172移動至第三輸送裝置170的第六端部174。需說明的是，此時以圖1、圖3及圖4所述的實施例而言，基板50便暫置於第三輸送裝置170的第六端部174，以待後續輸送基板50至外界。如此一來，由於基板50自中層平台110B的第一端部112進入，而自上層平台110D的第六端部174出去，得以避免基板50於傳送過程中交互污染，亦能縮短取放基板50的時間。

進一步地，若以圖7與圖8所述的實施例而言，繼續進行步驟S180，如圖13所示，將氣流由上層平台110D的第三輸送裝置170吹向中層平台110B的第一輸送裝置110。如此一來，由於中層平台110B的第一輸送裝置110位於上層平台110D的第三輸送裝置170垂直下方，而製程前未處理的基板60由第一輸送裝置110之第一端部112與第二端部114之間進入，藉由此步驟S180得以避免位於中層平台110B的製程前未處理的基板60的污染源不會往跑至上層平台110D，進而確保製程後的基板50被移到上層平台110D後不會受到中層平台110B的製程前未處理的基板60再次污染。

綜上所述，在本發明的輸送處理裝置與輸送處理方法中，經由此輸送處理裝置的複數層平台，得以減少整體設備長度，並能有效提升場地空間之利用。

此外，在不同層取放基板，得以避免基板於傳送過程中交互污染，亦能縮短取放片的時間。

進一步地，附加功效在於，藉由氣流由上層平台吹往下層平台，得以避免位於中層平台的基板的污染源不會往上跑至上層平台，確保清洗後的基板被移到上層平台後不會受到中層平台的再次污染，而能維持製程後基板的品質。

另外，經由單一滾輪平台便能達到承接並移動基板至下滾輪組的目的，藉以簡化設計並達到易於維護且可靠性佳。進一步地，附加功效在於，在一實施例中，由於第二輸送裝置中傾斜滾輪是呈傾斜狀態，於第一滾輪平台下移的同時也傾斜基板，而無需在第一滾輪平台移動至第二輸送裝置後，才傾斜基板以符合第二輸送裝置中傾斜滾輪的傾斜角度，如此一來，於第一滾輪平台移動至第二輸送裝置後，第二輸送裝置中傾斜滾輪便能承接第一滾輪平台所送來的基板，藉以達到縮短作動時間，進而節省後續製程時間。

另外，在製程處理的附加功效在於，藉由使基板傾斜的方式，來使得液體不會殘留於基板的表面，藉以防止形成水池效應的現象產生。

以上所述，乃僅記載本發明為呈現解決問題所採用的技術手段的較佳實施方式或實施例而已，並非用來限定本發明專利實施的範圍。 即凡與本發明專利申請範圍文義相符，或依本發明專利範圍所做的均等變化與修飾，皆為本發明專利範圍所涵蓋。

50‧‧‧基板

400‧‧‧輸送處理裝置

100A‧‧‧框架

110B‧‧‧中層平台

110C‧‧‧下層平台

110D‧‧‧上層平台

110‧‧‧第一輸送裝置

112‧‧‧第一端部

114‧‧‧第二端部

118‧‧‧滾輪

120‧‧‧第二輸送裝置

122‧‧‧第三端部

124‧‧‧第四端部

126‧‧‧滾輪

132‧‧‧第一滾輪平台

134‧‧‧第二滾輪平台

142‧‧‧第一定位元件

144‧‧‧第二定位元件

150‧‧‧處理單元

160‧‧‧乾燥單元

170‧‧‧第三輸送裝置

172‧‧‧第五端部

174‧‧‧第六端部

180‧‧‧氣流裝置

L1‧‧‧箭號

Claims (17)

1. 一種輸送處理裝置，用於傳送並處理一基板，該輸送處理裝置包含：一框架，包含複數層平台；一第一輸送裝置，位於該複數層平台中的一中層平台，該第一輸送裝置具有相對的一第一端部與一第二端部，該第一端部位於該中層平台之中央處，該第二端部位於該中層平台之側緣，該第一輸送裝置將該基板由該第一端部輸送至該第二端部；一第二輸送裝置，位於該複數層平台中的一下層平台，該第二輸送裝置具有相對的一第三端部與一第四端部；一處理單元，位於該第二輸送裝置的該第三端部與該第四端部之間，該第二輸送裝置將該基板由該第三端部輸送至該第四端部，該處理單元對該基板進行一製程處理；一第一滾輪平台，於該複數層平台中的該中層平台與該下層平台之間移動，該第一滾輪平台將該基板由該中層平台的該第一輸送裝置的該第二端部移動至該下層平台的該第二輸送裝置的該第三端部；一第三輸送裝置，位於該複數層平台中的一上層平台，該第三輸送裝置具有相對的一第五端部與一第六端部，該第三輸送裝置將該基板由該第五端部移動至該第六端部；一氣流裝置，設於該上層平台的該第三輸送裝置之上方，該氣流裝置提供一氣流，將該氣流由該上層平台的該第三輸送裝置吹向該中層平台的該第一輸送裝置；以及一第二滾輪平台，於該複數層平台中的該下層平台與該上層平台之間移動，該第二滾輪平台將該基板由該下層平台的該第二輸送裝置的該第四端部移動至該上層平台的該第三輸送裝置的該第五端部。
2. 如申請專利範圍第1項所述之輸送處理裝置，其中該第一滾輪平台位於該複數層平台中的該中層平台與該下層平台的側緣。
3. 如申請專利範圍第1項所述之輸送處理裝置，其中該第二滾輪平台位於該複數層平台中的該上層平台與該下層平台的另一側緣。
4. 如申請專利範圍第1項所述之輸送處理裝置，其中該上層平台位於該中層平台之垂直上方。
5. 如申請專利範圍第1項所述之輸送處理裝置，包括：一乾燥單元，該乾燥單元設於該第二輸送裝置的該第三端部與該第四端部之間，並位於該處理單元旁，該乾燥單元去除該基板上的一液體。
6. 如申請專利範圍第1項所述之輸送處理裝置，包括：一第一傾斜單元，第一傾斜單元設於該第一滾輪平台的下方，第一傾斜單元於該第一滾輪平台下移時傾斜該基板。
7. 如申請專利範圍第1項所述之輸送處理裝置，包括：一第一定位元件，該第一定位元件設於該第一滾輪平台上，該第一定位元件於該第一滾輪平台下移時限制該基板。
8. 如申請專利範圍第1項所述之輸送處理裝置，包括：一第二定位元件，該第二定位元件設於該第二滾輪平台上，該第二定位元件於該第二滾輪平台上移時限制該基板。
9. 如申請專利範圍第1項所述之輸送處理裝置，包括：一第二傾斜單元，該第二傾斜單元設於該第二滾輪平台的下方，該第二傾斜單元用以傾斜該基板而使該基板呈一傾斜狀態，且該第二傾斜單元於該第二滾輪平台上移時，將該基板由該傾斜狀態回復至一水平狀態。
10. 如申請專利範圍第1項所述之輸送處理裝置，其中該第一滾輪平台包括一第一滑軌以及一第一皮帶缸。
11. 如申請專利範圍第1項所述之輸送處理裝置，其中該第二滾輪平台包括一第二滑軌以及一第二皮帶缸。
12. 如申請專利範圍第1項所述之輸送處理裝置，其中該輸送處理裝置為一清洗機、一顯影機、一蝕刻機、一剝膜機、一塗佈機或一重工機。
13. 一種輸送處理方法，用於傳送並處理一基板，該輸送處理方法包含下步驟：接收該基板於一中層平台的一第一輸送裝置的一第一端部，其中該第一輸送裝置具有該第一端部與一第二端部，該第一端部位於該中層平台之中央處，該第二端部位於該中層平台之側緣；輸送該基板由該第一輸送裝置的該第一端部至該第一輸送裝置的該第二端部；經由一第一滾輪平台，輸送該基板由該第一輸送裝置的該第二端部至一下層平台的一第二輸送裝置的一第三端部，其中該第二輸送裝置具有相對的該第三端部與一第四端部；於該下層平台的該第二輸送裝置的該第三端部與該第四端部之間，對該基板進行一製程處理；輸送該基板至該下層平台的該第二輸送裝置的該第四端部；經由一第二滾輪平台，輸送該基板由該第二輸送裝置的該第四端部至一上層平台的一第三輸送裝置的一第五端部，其中該第三輸送裝置具有相對的該第五端部與一第六端部；以及輸送該基板由該第三輸送裝置的該第五端部至該第三輸送裝置的該第六端部。
14. 如申請專利範圍第13項所述之輸送處理方法，其中所述輸送該基板由該第三輸送裝置的該第五端部至該第三輸送裝置的該第六端部的步驟後，包括以下步驟：將該氣流由該上層平台的該第三輸送裝置吹向該中層平台的該第一輸送裝置。
15. 如申請專利範圍第13項所述之輸送處理方法，其中所述輸送該基板由該第一輸送裝置至該下層平台的該第二輸送裝置的該第三端部的步驟中，包括以下步驟：經由該第一滾輪平台，承接由該第一輸送裝置的該第二端部所送來的該基板；移動該基板至該下層平台的該第二輸送裝置的該第三端部；以及傾斜該基板。
16. 如申請專利範圍第15項所述之輸送處理方法，其中所述經由該第一滾輪平台承接由該第一輸送裝置的該第二端部所送來的該基板的步驟之後，包括以下步驟：定位該基板。
17. 如申請專利範圍第13項所述之輸送處理方法，其中所述於該下層平台的該第二輸送裝置的該第三端部與該第四端部之間，對該基板進行該製程處理的步驟之後，包括以下步驟：乾燥該基板；以及回復該基板至一水平狀態。