JP6595040B2 - 基板処理装置及び基板搬送方法 - Google Patents
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Description
記基板を保持するように構成される。
ときに、前記基板の両側の面内方向に沿って気体を吹き付ける第2気体噴出部を有する。
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。以下で説明する図面において、同一の又は相当する構成要素には、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
うに、この基板処理装置250には、半導体ウェハ等の基板を収納した4台のカセット30a,30b,30c,30dと、処理後の基板を乾燥させる2台の基板乾燥機31a,31bと、基板ホルダに対して基板の着脱を行うフィキシングユニット40a,40bと、これらのユニット間で基板を搬送する2台の基板搬送ロボット32a,32bが配置されている。なお、基板乾燥機31a、31bが配置される位置に、それぞれ2台の基板乾燥機を上下方向に配置して、基板処理装置250に4台の基板乾燥機を配置するようにしてもよい。
Water)を用いて洗浄および乾燥される。乾燥した基板は、基板搬送ロボット32aによりカセット30a又はカセット30bに戻される。
ダは、基板搬送装置50aによりいずれかのレジスト剥離モジュール150が有するリフタ70に受け渡され、リフタ70によりレジスト剥離モジュール150の処理槽に収納される。基板がレジスト剥離モジュール150で処理された後、基板ホルダは、レジスト剥離モジュール150が有するリフタ70により処理槽から取り出され、基板搬送装置50aに受け渡される。基板ホルダは、基板搬送装置50aにより、フィキシングユニット40aに戻される。
図2は基板ホルダの斜視図である。図示のように、基板ホルダ80は、細長く形成された板状部材である基部81と、基部81の両端から延在して形成される板状部材である2つのアーム部82−1,82−2と、基板を保持するための2つのホルダ部83−1,83−2とを有する。基部81とアーム部82−1,82−2とホルダ部83−1,83−2が交わる箇所が基板ホルダ80の被把持部85−1,85−2であり、被把持部85−1,85−2が基板搬送装置50a,50bに把持される。アーム部82−1,82−2
は後述するように基板ホルダ80を処理槽に浸漬した際に処理槽の側壁に懸架される部分であり、また、リフタ70により支持される部分である。ホルダ部83−1,83−2は、基部81の両端から、基部81の長手方向に対して略直角方向に形成された、略L字状の板状部材である。基板ホルダ80は、ホルダ部83−1とホルダ部83−2との間の空間84に、半導体ウェハなどの基板を収容し、保持することができる。
次に、図1に示したプリウェット槽115a,115b、プリウェット槽145a,145b、エッチングモジュール120、及びレジスト剥離モジュール150にそれぞれ設けられるリフタ70について詳細を説明する。図4は、リフタ70を示す斜視図である。なお、リフタ70と処理槽との位置関係を説明するため、図4には処理槽の例としてのエッチングモジュール120も示されている。
続いて、図1に示した基板搬送装置50bについて説明する。なお、基板搬送装置50aは基板搬送装置50bと同様の構成を有するので説明を省略する。図5は図1に示した基板搬送装置50bの斜視図であり、図6は基板Wを水平方向に保持した基板搬送装置50bの斜視図であり、図7は基板Wの基板面の法線方向が水平方向であり且つ搬送方向に対して直角方向を向くように基板Wを保持した基板搬送装置50bの斜視図であり、図8は基板搬送装置50bの正面図であり、図9は保持機構の部分拡大図である。図5ないし図8においては、処理槽と基板搬送装置50bとの位置関係を説明するために、便宜上、処理槽66が示されている。処理槽66は、図1に示したプリウェット槽115又はエッチングモジュール120等を簡易的に示したものであり、その槽数は図1に示したものとは異なる。また、図5ないし図7においては、図1に示したフィキシングユニット40bと基板搬送装置50bとの位置関係を説明するために、便宜上、フィキシングユニット40bが示されている。
して多少の角度を有する場合も含む。同様に、ここでの「搬送方向の軸」とは、軸が完全に搬送方向を向く場合に限らず、軸が搬送方向に対して多少の角度を有する場合も含む。
向に延在する棒状の部材である。押え部63の端部63aは、基板Wと接触する面に切り欠き(図示せず)が形成されている。基板検知センサ64は、押え部63の他端に固定手段を介して固定された、例えば光学センサや磁気センサである。
、基板Wの面内方向が水平方向を向くように基板Wを保持する(図6参照)。続いて、基板搬送装置50bの第2駆動機構47が保持機構54を搬送方向の軸(図中X軸)回りに旋回させる。これにより、保持機構54は、図7に示すような基板Wの基板面の法線方向が水平方向であり且つ搬送方向に対して直角方向を向くように基板Wを保持する。
次に、本発明の第2実施形態に係る基板処理装置について図面を参照して説明する。第2実施形態に係る基板処理装置は、第1実施形態に係る基板処理装置250と比べて、基板搬送装置50a,50bの構成が異なる。その他の構成は第1実施形態と同様であるので、第1実施形態と同様の構成については図示及び説明を省略し、異なる部分である基板搬送装置50a,50bについて説明する。
ことができる。
の場合基板Wはどのような向きを向いていてもよい。
51…搬送機構
54…保持機構
66…処理槽
67…液受けパン
46…第1駆動機構
47…第2駆動機構
48,77…第1気体噴出部
49,78a,78b…第2気体噴出部
76…第3駆動機構
Claims (4)
- 基板を保持する基板ホルダと、
前記基板ホルダを着脱可能に保持する保持部と、前記保持部に保持された前記基板ホルダを搬送する搬送部と、を備える搬送機と、
前記基板を基板面の法線方向が搬送方向を向いた状態で前記基板ホルダを支持し、前記基板を処理するために前記基板ホルダを収納する複数の処理槽と、を有し、
前記搬送部は、前記保持部を鉛直方向の軸回りで旋回させるように構成された駆動機構を備え、基板面の法線方向が水平方向を向き且つ搬送方向に対して直角方向を向いた状態で、前記基板を搬送するように構成され、
前記搬送部が基板面の法線方向が水平方向を向き且つ搬送方向に対して直角方向を向いた状態で前記基板を搬送するとき、前記保持部は、前記処理槽の側方で前記基板を保持するように構成される、基板処理装置。 - 前記処理槽の側方に設けられた液受け部を有し、
前記搬送部が基板面の法線方向が水平方向を向き且つ搬送方向に対して直角方向を向いた状態で前記基板を搬送するとき、前記保持部は、前記液受け部の上方で前記基板を保持するように構成される、請求項1に記載された基板処理装置。 - 基板面の法線方向が水平方向を向き且つ搬送方向に対して直角方向を向いた状態で保持された前記基板と前記処理槽との間を雰囲気分離するためのエアカーテンを形成する第1気体噴出部を有する、請求項1又は2に記載された基板処理装置。
- 前記基板が前記処理槽の上方に位置するときに、前記基板の両側の面内方向に沿って気体を吹き付けるための第2気体噴出部を有する、請求項1から3のいずれか一項に記載された基板処理装置。
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