JP2001097552A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 仕切り領域を仕切る遮断部材に処理液ミスト
が付着するのを解消する。 【解決手段】 仕切り部材で仕切り領域を廃幣する仕切
り機構を、遮断部材を複数の分割遮断部材２０Ａ、２０
Ｂに分割し、それら分割遮断部材は板状であって、その
表面に垂直な方向へ、互いに間隔を空けて配置し、ファ
ンフィルターユニットによって、仕切り領域に配置され
た第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂに対して上
方から下方に向けて清浄な気体ＡＲを流下する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示器用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基
板、光ディスク用の基板などの基板を処理する基板処理
装置に係り、特には、装置内における雰囲気の流通の遮
断などを行うための、所定の仕切り領域と収納領域との
間で遮断部材を移動させて仕切り領域を開閉する仕切り
開閉手段を備えた基板処理装置の改良技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の基板処理装置として、例えば、
図１３に示すように、複数枚の基板を一括して処理する
ための複数の処理槽１００Ａ、１００Ｂを備えた装置が
ある。この装置では、各処理槽１００Ａ、１００Ｂに処
理液が貯留され、複数枚の基板が、各処理槽１００Ａ、
１００Ｂに貯留された処理液内に順次浸漬させて処理さ
れる。複数枚の基板は、各処理槽１００Ａ、１００Ｂの
上方空間で、図示しない基板搬送機構によって一括して
保持され、搬送方向１０１に沿って搬送されるようにな
っている。

【０００３】ところで、処理槽１００Ａの上方空間の雰
囲気には、処理槽１００Ａに貯留された処理液の成分が
含まれ、一方、処理槽１００Ｂの上方空間の雰囲気に
は、処理槽１００Ｂに貯留された処理液の成分が含まれ
る。各処理槽１００Ａ、１００Ｂに貯留される処理液が
同一である場合には特に問題はないが、各処理槽１００
Ａ、１００Ｂに貯留される処理液が異なる場合、処理槽
１００Ａの上方空間の雰囲気と処理槽１００Ｂの上方空
間の雰囲気とが混じり合って化学反応を起こし、基板に
悪影響を与えることもある。

【０００４】そこで、この種の装置には、処理槽１００
Ａの上方空間と処理槽１００Ｂの上方空間との間におけ
る雰囲気の流通の遮断を行うために、処理槽１００Ａの
上方空間と処理槽１００Ｂの上方空間との間を仕切り領
域ＳＡとして、この仕切り領域を開閉する仕切り開閉機
構を備えている。すなわち、処理槽１００Ａから処理槽
１００Ｂへ基板を搬送するときだけ、仕切り領域ＳＡを
開き、それ以外は仕切り領域ＳＡを閉じて、処理槽１０
０Ａの上方空間の雰囲気と処理槽１００Ｂの上方空間の
雰囲気とが混じり合うことを抑制する。

【０００５】このような仕切り開閉機構を備えた従来の
基板処理装置は、例えば、特開平１０−３３５２８５号
公報などに開示されている。すなわち、図１３、図１４
に示すように、仕切り領域ＳＡと収納領域ＰＡとの間で
１つの遮断部材１１０を移動させて仕切り領域ＳＡを開
閉するように構成している。なお、仕切り領域ＳＡと収
納領域ＰＡとの間の遮断部材１１０の移動は、例えば、
図１３、図１４（ａ）に示すように、直線移動でなされ
るものや、図１４（ｂ）に示すように、１つの軸芯Ｊ周
りでの回動動作によってなされるものなどがある。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。従来装置は、仕切り領域ＳＡにおいて必要とされ
る遮断面積を有する遮断面１１１を持つ１つの遮断部材
１１０を、仕切り領域ＳＡと収納領域ＰＡとの間で移動
させて仕切り領域ＳＡを開閉しているので、収納領域Ｐ
Ａとして、遮断部材１１０の遮断面１１１方向に、仕切
り領域ＳＡと同等の面積の領域を確保しなければならな
い。

【０００７】また、図１４（ｂ）に示す回動動作によっ
て遮断部材１１０を移動させる構成では、それに加えて
さらに、遮断部材１１０を回動させるための斜線で示す
余分な移動領域ＩＡも確保しなければならない。

【０００８】そのため、装置内に組み込む部材（処理液
の貯留タンクなど）の配置や、装置内の配線、配管、メ
ンテナンスエリアの確保などを行う上で制約が大きくな
り、装置が大型化したり、メンテナンスエリアが確保し
難くなったり、メンテナンス作業が行い難くなるなどの
問題を招いている。

【０００９】かかる問題を解決する対策として、複雑な
形状の部材を多様して、複雑な機構で仕切り開閉機構を
構成することが考えられる。

【００１０】しかし、仕切り開閉機構を複雑な形状や機
構にすると、仕切り開閉機構の周囲の気流が乱され、気
流の渦が生じる等して、処理液が蒸発して生じた処理液
ミストが仕切り開閉機構に付着して、仕切り開閉機構が
腐食して耐久性が低下したり、また、仕切り開閉機構に
付着したミストが新たな汚染源となって周囲にパーティ
クルをまき散らして基板を汚染すよ不具合が生じるおそ
れがあった。

【００１１】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、仕切り領域において仕切り機構に処理
液ミストが付着することがない基板処理装置を提供する
ことを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、仕切り領域と収納領域と
の間で遮断部材を移動させて前記仕切り領域を開閉する
仕切り開閉手段を備えた基板処理装置において、前記遮
断部材は分割された複数の分割遮断部材で構成し、前記
仕切り領域を閉じるように前記各分割遮断部材ごとに割
り当てられた各配置位置と、前記各分割遮断部材ごとに
設けた各収納領域との間で、前記各分割遮断部材をそれ
ぞれ移動させる移動手段を備えるとともに、前記仕切領
域にて、前記分割遮断部材の表面に沿って流れる雰囲気
遮断用の気流を生ずる遮断用気流形成手段を備え、前記
各分割遮断部材は板状であって、その表面に垂直な方向
へ、互いに間隔を空けて、前記各配置位置に配置するこ
とを特徴とする基板処理装置である。

【００１３】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。仕切り領域を閉じるための遮断部材は複数の分割遮
断部材に分割されている。移動手段は、仕切り領域を閉
じるように各分割遮断部材ごとに割り当てられた各配置
位置と、各分割遮断部材ごとに設けた各収納領域との間
で、各分割遮断部材をそれぞれ移動させる。

【００１４】各分割遮断部材が、それぞれに割り当てら
れた配置位置に配置されると仕切り領域は閉じた姿勢に
なりる。この姿勢では、板状の各分割遮断部材どうし
は、板状であるその表面と垂直な方向へ、互いに間隔を
空けて配置されている。このため、仕切り領域を気密に
は閉じるわけではないが、しかし、遮断用気流形成手段
にっよって生じる雰囲気遮断用の気流は、前記仕切り部
材の板面に沿って流れるので、かかる雰囲気遮断用の気
流が、いわゆるエアーカーテンとして機能し、仕切り領
域の周囲の雰囲気が、仕切り領域を通過するように流れ
ようとするのを遮る。また、気密に閉じないまで、各分
割遮断部材は、雰囲気が仕切り領域を通過するのを、壁
のようにして遮る。また、各分割遮断部材は、各々が雰
囲気遮断用気流を、その表面と平行な向きに流すよう整
流板としても機能する。

【００１５】上記のようにして、仕切り領域の周囲の雰
囲気が仕切り空間を通過するのを阻止するにつけ、板状
の各分割遮断部材どうしは、互いに板状であるその表面
に垂直な方向へ、互いに間隔を空けて配置してるので、
雰囲気遮断用の気流が、板状である各分割遮断部材の板
面に沿って流れるのは、板面同士が接するように配置す
るのと違って、流れが乱されることはなく、滑らかに流
れる。

【００１６】このため、個々の分割遮断部材は、雰囲気
遮断用の気流に、こと全面が確実に覆われた状態とな
り、雰囲気に処理液ミストや、その他不具合な成分が浮
遊していても、それらが分割遮断部材に付着することは
ない。

【００１７】なお、対比例として例えば分割遮断部材ど
うしが一部重なるように配置した場合を想定すると、そ
のような場合には重なり部分にて段差がつき、かかる段
差部分にて、それまで分割遮断部材の表面に沿って滑ら
かに流れてきた雰囲気遮断用の気流のが微少な渦を形成
するなどして流れが乱れ、分割遮断部材の表面は雰囲気
遮断用の気流に覆われなく部分が一部生ずるが、本発明
ではそのようことは生じない。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は本発明の一実施例に係る基
板処理装置の全体的な構成を示す平面図であり、図２は
図１のＡ−Ａ矢視断面図、図３は図１のＢ−Ｂ矢視断面
図、図４は仕切り領域と第１、第２の配置位置と第１、
第２の収納領域との位置関係を示す図である。

【００１９】この実施例装置は、複数枚の基板Ｗ（基板
群ＷＧ）を一括して処理することができるバッチ式の処
理装置であり、キャリアストッカ１や、基板移載ロボッ
ト２、姿勢転換ロボット３、基板受渡しロボット４、基
板搬送機構５、処理部６Ａ〜６Ｄ、仕切り開閉手段に相
当する仕切り開閉機構７などを備えている。

【００２０】キャリアストッカ１は、複数枚の基板Ｗを
収容するキャリアＣを搬送したり、一時保管したりする
ためのもので、キャリアＣを一時的に保管するキャリア
保管部（図示せず）や、キャリアＣを搬送するキャリア
搬送機構１０などを備えている。キャリア搬送機構１０
は、キャリア保管部と、キャリアＣを搬入／搬出する搬
入搬出位置Ｐ１と、基板移載ロボット２がキャリアＣに
対する各基板Ｗの取り出し／収容を行う移載位置Ｐ２と
の間で、キャリアＣを搬送する。なお、このキャリアス
トッカ１内では、各基板Ｗが水平姿勢で収納された状態
でキャリアＣを扱う。

【００２１】基板移載ロボット２は、移載位置Ｐ２に置
かれたキャリアＣから、未処理の基板Ｗを取り出して姿
勢転換ロボット３に引き渡したり、姿勢転換ロボット３
から処理済の基板Ｗを受け取って移載位置Ｐ２に置かれ
たキャリアＣに収納したりする複数枚の基板Ｗの移載動
作を行う。なお、この基板移載ロボット２による基板Ｗ
の移載動作も、基板Ｗを水平姿勢にして行われる。

【００２２】姿勢転換ロボット３は、複数枚の基板Ｗを
平行に並べて保持した状態で水平軸周りで回動させて、
各基板Ｗが水平姿勢で垂直方向に並べられた状態と、垂
直姿勢で水平方向に並べられた状態との間で姿勢転換す
る。

【００２３】基板受渡しロボット４は、垂直姿勢で水平
方向に並べられた基板群ＷＧを、姿勢転換ロボット３と
基板搬送機構５（挟持機構５ａ）との間で受け渡す。な
お、この基板受渡しロボット４による基板Ｗの受渡し
や、後述する基板搬送機構５による基板Ｗの搬送、各処
理部６Ａ〜６Ｄでの処理は、基板Ｗを垂直姿勢にして行
われる。

【００２４】基板搬送機構５は、一対の挟持機構５ａ
と、挟持機構５ａを各処理部６Ａ〜６Ｄの並び方向に水
平移動させる水平移動機構部５ｂとを備え、垂直姿勢で
水平方向に並べられた基板群ＷＧを挟持機構５ａで一括
挟持して各処理部６Ａ〜６Ｄの上方空間を水平移動し、
各基板Ｗを各処理部６Ａ〜６Ｄに順次搬送する。

【００２５】処理部６Ａ〜６Ｃは、処理液を貯留し、そ
の処理液内に基板群ＷＧを浸漬させて複数枚の基板Ｗを
一括して処理液で処理する処理槽１１Ａ〜１１Ｃをそれ
ぞれ備えるとともに、基板群ＷＧを保持し、一括して昇
降させる昇降機構１２をそれぞれ備えている。昇降機構
１２は、基板搬送機構５の挟持機構５ａから未処理の基
板群ＷＧを受け取って処理槽１１Ａ〜１１Ｃに浸漬させ
たり、処理済の基板群ＷＧを処理槽１１Ａ〜１１Ｃから
引き上げて基板搬送機構５の挟持機構５ａに引き渡した
りする。

【００２６】処理部６Ｄは、基板群ＷＧを回転させて乾
燥させる処理を行う。この処理部６Ｄにも、上記昇降機
構１２と同様の動作を行う図示しない昇降機構を備え、
基板搬送機構５の挟持機構５ａと処理部６Ｄ内との間の
基板群ＷＧの受渡しを行うように構成している。

【００２７】基板搬送機構５の水平移動機構部５ｂと、
各処理部６Ａ〜６Ｄの上方空間（基板群ＷＧの搬送空
間）との間には仕切り１３が設けられ、上記基板群ＷＧ
の搬送空間とメンテナンスエリア１４との間とも仕切り
１５が設けられている。

【００２８】また、基板搬送機構５の水平移動機構部５
ｂが配置された空間と上記基板群ＷＧの搬送空間との天
井部分には、粉塵除去用などのフィルター１６と、気体
を下方に送り出すファン１７とを有するファンフィルタ
ーユニット１８が配設され、基板搬送機構５の水平移動
機構部５ｂが配置された空間と上記基板群ＷＧの搬送空
間とに清浄な気体が流下されるようになっている。

【００２９】本実施例では、各処理槽１１Ａ〜１１Ｃに
貯留される処理液の種類が全て異なるものとして、処理
槽１１Ａの上方空間と処理槽１１Ｂの上方空間との間に
おける雰囲気の流通の遮断と、処理槽１１Ｂの上方空間
と処理槽１１Ｃの上方空間との間における雰囲気の流通
の遮断とを行うために、処理槽１１Ａの上方空間と処理
槽１１Ｂの上方空間との間と、処理槽１１Ｂの上方空間
と処理槽１１Ｃの上方空間との間とをそれぞれ仕切り領
域ＳＡとし、各仕切り領域ＳＡごとにそれぞれ仕切り開
閉機構７を設けている。

【００３０】詳細は後述するが、各仕切り開閉機構７は
それぞれ、仕切り領域ＳＡを閉じる板状の遮断部材を、
複数（本実施例では２つ）の分割遮断部材（第１の分割
遮断部材２０Ａ及び第２の分割遮断部材２０Ｂ）に分割
し、仕切り領域ＳＡを閉じるように各分割遮断部材２０
Ａ、２０Ｂごとに割り当てられた各配置位置（図１ない
し図３で各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂが実線で示され
た状態の位置であって、図４のＳＡ１、ＳＡ２）と、仕
切り領域ＳＡから外れた領域に各分割遮断部材２０Ａ、
２０Ｂごとに設けた各収納領域（図２、図３で各分割遮
断部材２０Ａ、２０Ｂが二点鎖線で示された状態の位置
であって、図４のＰＡ１、ＰＡ２）との間で、各分割遮
断部材２０Ａ、２０Ｂをそれぞれ移動させる移動手段に
相当する第１、第２の移動機構（詳細は後述する）を備
えて構成し、かつ、図３、図４に示すように、各収納領
域ＰＡ１、ＰＡ２に各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを収
納したとき、各分割遮断部材同士２０Ａ、２０Ｂは、遮
断面２１に向かって見て、それら分割遮断部材２０Ａ、
２０Ｂの遮断面２１の少なくとも一部が重複した状態で
各々の収納領域ＰＡ１、ＰＡ２に収納されるように各収
納領域ＰＡ１、ＰＡ２を設けて構成されている。

【００３１】このように構成したことにより、仕切り領
域ＳＡにおいて必要とされる遮断面積を遮断することが
できるとともに、第１、第２の収納領域ＰＡ１、ＰＡ２
を合わせた全収納領域ＰＡ（図４参照）の、遮断面２１
方向の面積を小さくすることができ、収納領域ＰＡ１、
ＰＡ２をコンパクトに構成することができる。

【００３２】次に、本発明の要部である仕切り開閉機構
７の詳細な構成を、図１ないし図８を参照して説明す
る。図５は仕切り開閉機構の外観を示す斜視図であり、
図６は分割遮断部材が移動時に通過する開口側から見た
拡大断面図、図７は図６のＣ−Ｃ矢視断面図、図８は駆
動室側から見た拡大断面図である。

【００３３】本実施例では、仕切り１３、１５やファン
フィルターユニット１８、各処理部６Ａ〜６Ｄの上面な
どで囲まれた矩形の仕切り領域ＳＡを開閉するために、
各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂは、遮断面２１が略矩形
である板状の部材で構成している。

【００３４】また、図３ないし図５に示すように、本実
施例では、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂが仕切り領域
ＳＡに配置されたとき、遮断面２１に向かって見て、各
分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの各遮断面２１が上下に並
んで配置されるように、仕切り領域ＳＡ内に配置する第
１の分割遮断部材２０Ａの配置位置（第１の配置位置）
ＳＡ１と、第２の分割遮断部材２０Ｂの配置位置（第２
の配置位置）ＳＡ２とは、遮断面２１に向かって見て、
仕切り領域ＳＡ内に上下方向に並べて割り当てている。

【００３５】なお、本実施例では、後述するように、第
１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの対向する側の
各遮断面２１の間に隙間が形成された状態で、すなわ
ち、第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂは互いに
板面同士が間隔を空けて配置されるように、各配置位置
ＳＡ１、ＳＡ２への配置、各収納領域ＰＡ1 、ＰＡ２へ
の収納、及び、それらの間の移動を行うように構成して
おり、第１の配置位置ＳＡ１と第２の配置位置ＳＡ２と
は、遮断面２１に向かって見て、分割遮断部材２０Ａ、
２０Ｂの遮断面２１が若干重複するように設定してい
る。

【００３６】また、第１の収納領域ＰＡ１と第２の収納
領域ＰＡ２とを、第１の配置位置ＳＡ１と第２の配置位
置ＳＡ１との並び方向に沿った仕切り領域ＳＡの一側方
側に設けている。なお、この第１の収納領域ＳＡ１と第
２の収納領域ＳＡ２とは、各収納領域ＳＡ１、ＳＡ２に
各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを収納したとき、遮断面
２１に向かって見て、第１、第２の分割遮断部材２０
Ａ、２０Ｂの遮断面２１の少なくとも一部が重複した状
態で各々収納されるように設けている。

【００３７】そして、第１の分割遮断部材２０Ａを第１
の配置位置ＳＡ１と第１の収納領域ＰＡ１との間で移動
させる第１の移動機構２２Ａは、第１の分割遮断部材２
０Ａの一端部を中心に、遮断面２１に向かって見て、第
２の配置位置ＳＡ２を通過するように第１の分割遮断部
材２０Ａを回動させて、第１の配置位置ＳＡ１と第１の
収納領域ＰＡ１との間で第１の分割遮断部材２０Ａを移
動させ、第２の分割遮断部材２０Ｂを第２の配置位置Ｓ
Ａ２と第２の収納領域ＰＡ２との間で移動させる第２の
移動機構２２Ｂは、第２の分割遮断部材２０Ｂの一端部
を中心に、遮断面２１に向かって見て、第１の配置位置
ＳＡ１を通過するように第２の分割遮断部材２０Ｂを回
動させて、第２の配置位置ＳＡ２と第２の収納領域ＰＡ
２との間で第２の分割遮断部材２０Ｂを移動させるよう
に構成している。

【００３８】より具体液には、第１の分割遮断部材２０
Ａを回動させる際の第１の回動軸芯Ｊ１を、第１の配置
位置ＳＡ１と第２の配置位置ＳＡ１との並び方向に沿っ
た仕切り領域ＳＡの一側方付近で、かつ、第２の配置位
置ＳＡ２及び第２の収納位置ＰＡ２から離れた側の第１
の配置位置ＳＡ１及び第１の収納位置ＰＡ１の端部付近
に設定し、その第１の回動軸芯Ｊ１周りで、第１の分割
遮断部材２０Ａの一端部（本実施例では、第１の分割遮
断部材２０Ａの一つの頂点付近の端部）を中心に、遮断
面２１に向かって見て、第２の配置位置ＳＡ２を通過す
る軌跡をとる回動方向に回動させるとともに、第２の分
割遮断部材２０Ｂを回動させる際の第２の回動軸芯Ｊ２
を、第１の配置位置ＳＡ１と第２の配置位置ＳＡ１との
並び方向に沿った仕切り領域ＳＡの一側方付近で、か
つ、第１の配置位置ＳＡ１及び第１の収納位置ＰＡ１か
ら離れた側の第２の配置位置ＳＡ２及び第２の収納位置
ＰＡ２の端部付近に設定し、その第２の回動軸芯Ｊ２周
りで、第２の分割遮断部材２０Ｂの一端部（本実施例で
は、第２の分割遮断部材２０Ｂの一つの頂点付近の端
部）を中心に、遮断面２１に向かって見て、第１の配置
位置ＳＡ１を通過する軌跡をとる回動方向に回動させる
ように構成している。

【００３９】そのため、本実施例の第１の移動機構２２
Ａは、第１の回動軸芯Ｊ１周りで回動可能に支持され、
かつ、第１の分割遮断部材２０Ａの一端部に一端側を固
定した第１の回動軸部材２３Ａを、第１の駆動源２４Ａ
により、第２の回動軸芯Ｊ２に対向するθ（略９０°）
の回動範囲で回動させることで、第１の配置位置ＳＡ１
と第１の収納領域ＰＡ１との間で第１の分割遮断部材２
０Ａを移動させている。また、第２の移動機構２２Ｂも
同様に、第２の回動軸芯Ｊ２周りで回動可能に支持さ
れ、かつ、第２の分割遮断部材２０Ｂの一端部に一端側
を固定した第２の回動軸部材２３Ｂを、第２の駆動源２
４Ｂにより、第１の回動軸芯Ｊ１に対向するθ（略９０
°）の回動範囲で回動させることで、第２の配置位置Ｓ
Ａ２と第２の収納領域ＰＡ２との間で第２の分割遮断部
材２０Ｂを移動させている。

【００４０】このように構成したことにより、図４に示
すように、遮断面２１に向かって見て、第１の分割遮断
部材２０Ａの移動領域の一部と第２の分割遮断部材２０
Ｂの移動領域の一部を重複させ、第１の分割遮断部材２
０Ａの移動領域及び第２の分割遮断部材２０Ｂの移動領
域の殆ど全てを、第１、第２の配置位置ＳＡ１、ＳＡ２
及び第１、第２の収納領域ＰＡ１、ＰＡ２からなる領域
内に収めることができる。従って、第１、第２の分割遮
断部材２０Ａ、２０Ｂを移動させるための特別な移動領
域を殆ど設ける必要もなくなり、仕切り領域ＳＡを開く
ために必要な領域をさらに小さくすることができる。

【００４１】なお、第１、第２の回動軸芯Ｊ１、Ｊ２の
位置や、第１、第２の回動軸芯Ｊ１、Ｊ２周りで回動さ
せる第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの一端部
の位置を適宜に調節することで、第１の分割遮断部材２
０Ａの移動領域及び第２の分割遮断部材２０Ｂの移動領
域を、第１、第２の配置位置ＳＡ１、ＳＡ２及び第１、
第２の収納領域ＰＡ１、ＰＡ２からなる領域内に完全に
収めることもでき、第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、
２０Ｂを移動させるための特別な移動領域を完全に無視
するように構成することもできる。

【００４２】本実施例では、第１、第２の駆動源２４
Ａ、２４Ｂをエアシリンダで構成しているが、それ以外
にもモーターなどで構成することもできる。なお、第
１、第２の駆動源２４Ａ、２４Ｂをエアシリンダで構成
すると以下のような利点がある。例えば、第１、第２の
駆動源２４Ａ、２４Ｂをモーターで構成した場合、通
常、分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２１に直交す
る方向に、モーターの回転軸を配置することになるが、
モーター自体は、通常、モーターの回転軸方向の寸法が
長いので、モーターを配置する関係で、仕切り開閉機構
７は、分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２１に直交
する方向の寸法が大きくなる。また、モーターを駆動す
るための大きなドライバも配置しなければならないの
で、仕切り開閉機構７が大型化することになる。これに
対して、第１、第２の駆動源２４Ａ、２４Ｂをエアシリ
ンダで構成した場合、エアシリンダの長手方向となるロ
ッド２５の伸縮方向を、分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの
遮断面２１に平行な方向に配置することができるので、
仕切り開閉機構７は、分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮
断面２１に直交する方向の寸法を小さくすることでき
る。また、エアシリンダを駆動（ロッド２５を伸縮駆
動）するためには、エアの給排管や電磁弁などを配設す
る必要であるが、エアの給排管は配置の自由度が高く、
電磁弁は小型である。従って、第１、第２の駆動源２４
Ａ、２４Ｂをエアシリンダで構成すると、仕切り開閉機
構７を小型化することができる。

【００４３】ここで、エアシリンダ２４Ａ（２４Ｂ）に
より回動軸部材２３Ａ（２３Ｂ）を回動させる原理を、
図６ないし図８を参照して簡単に説明する。

【００４４】すなわち、回動軸部材２３Ａ（２３Ｂ）か
ら側方に突出された突起片２６と、エアシリンダ２４Ａ
（２４Ｂ）のロッド２５の先端部を、回動軸芯Ｊ１（Ｊ
２）と平行な軸芯Ｑ１（Ｑ２）周りで回動自在に連結す
る。これにより、ロッド２５を伸縮すると、突起片２６
を押し出したり引き戻したりして、軸芯Ｊ１（Ｊ２）周
りで回動可能に支持されている回動軸部材２３Ａ（２３
Ｂ）を軸芯Ｊ１（Ｊ２）周りで回動させることができ
る。ここで、回動軸部材２３Ａ（２３Ｂ）の回動の際
に、軸芯Ｑ１（Ｑ２）は、図８のＱＲ１（ＱＲ２）に示
すような軌跡で移動するので、軸芯Ｑ１（Ｑ２）がこの
軌跡ＱＲ１（ＱＲ２）で移動できるように、エアシリン
ダ２４Ａ（２４Ｂ）の基端部は軸芯Ｒ１（Ｒ２）周りで
回動自在に支持している。

【００４５】また、本実施例では、第１、第２の駆動源
２４Ａ、２４Ｂを配置する駆動室２７と、第１、第２の
収納領域ＰＡ１、ＰＡ２を設ける収納室２８とを完全に
分離している。

【００４６】すなわち、外壁で囲まれた容器内を、隔壁
２９、３０で２つの部屋に分離し、一方の部屋を駆動室
２７とし、他方の部屋を収納室２８としている。収納室
２８側の外壁には、第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、
２０Ｂが移動時に通過する開口３１が形成され、駆動室
２７側の外壁（開口３１と反対側の外壁）には、エアの
給排管を導出するための開口（図示せず）が設けられて
いる。

【００４７】第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２３Ｂ
は、収納時の第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂ
と、第１、第２の駆動源２４Ａ、２４Ｂとの間に設けら
れた隔壁２９を貫通して、この隔壁２９に対してそれぞ
れ第１、第２の回動軸芯Ｊ１、Ｊ２周りで回動自在に支
持されている。

【００４８】また、第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２
３Ｂを隔壁２９に回動自在に貫通すると、第１、第２の
回動軸部材２３Ａ、２３Ｂの周囲にリング状の隙間３２
が残るが、本実施例では、この隙間３２も回転シール機
構でシールしている。すなわち、この隙間３２の外周を
覆うように先端部が隔壁２９に固定された部材３３（隔
壁２９の面でもよい）に密着した柔軟なシール部材３４
を第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２３Ｂに取り付けて
回転シール機構を構成している。これにより、第１、第
２の回動軸部材２３Ａ、２３Ｂの回動の際もシール部材
３４は、その先端部が部材３３に密着した状態を維持し
て第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２３Ｂと一体的に回
動し、第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２３の回動時も
上記隙間３２をシールすることができる。

【００４９】このように、駆動室２７と収納室２８とを
完全に分離したことにより、処理槽１１Ａ〜１１Ｃで扱
われる薬液などの雰囲気が、開口３１や収納室２８を介
して駆動室２７内に入り込むことを防止でき、薬液など
で駆動源２４Ａ、２４Ｂが腐食されることを防止でき
る。逆に、駆動源２４Ａ、２４Ｂからの発塵が収納室２
８や開口３１を介して基板群ＷＧの搬送空間や処理槽１
１Ａ〜１１Ｃなどに流出することも防止でき、基板Ｗの
汚染も防止することができる。

【００５０】ところで、本実施例では、隔壁２９からの
第１、第２のエアシリンダ２４Ａ、２４Ｂの距離を同じ
にし、第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２３Ｂの長さ
を、第１、第２の分割遮断部材２０Ａと２０Ｂの板厚以
上に違えて、第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂ
の対向する側の各遮断面２１の間に隙間が形成された状
態で、各配置位置ＳＡ１、ＳＡ２への配置、各収納領域
ＰＡ1 、ＰＡ２への収納、及び、それらの間の移動を行
うように構成している。つまり、第１、第２の分割遮断
部材２０Ａ、２０Ｂは各々板状であって、その表面に垂
直な方向へ、互いに間隔を空けるようにして、各配置位
置ＳＡ１、ＳＡ２へ配置されている。このように間隔を
空けているのは、次のような理由による。

【００５１】本実施例では、ファンフィルターユニット
１８によって、仕切り領域ＳＡに配置された第１、第２
の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂに対して上方から下方に
向けて清浄な気体が流下されているので、図９（ａ）に
示すように、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの各遮断面
２１に沿って清浄な気流ＡＲが流下し、この気体ＡＲの
流下により形成されるエアカーテンで、各分割遮断部材
２０Ａ、２０Ｂの間の隙間３５を閉じられて、雰囲気の
流通を遮断することができる。また、各分割遮断部材２
０Ａ、２０Ｂの各遮断面２１に沿って流下する清浄な気
流ＡＲによって、処理槽１１Ａ〜１１Ｃの上方空間に漂
う薬液などの雰囲気が、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂ
の各遮断面２１に触れることも防止でき、薬液などによ
り各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂが腐食されることも防
止することができる。

【００５２】すなわち、本実施例のように、各分割遮断
部材２０Ａ、２０Ｂの対向する側の各遮断面２１の間に
隙間が形成されて各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを配置
する場合には、図９（ａ）に示すように、各分割遮断部
材２０Ａ、２０Ｂの各遮断面２１に沿って流れる清浄な
気流ＡＲが乱れ難く、上述した乱流ＲＲなどが発生し難
く、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの腐食を起き難くす
ることができる。なお、対比例として、各分割遮断部材
２０Ａ、２０Ｂの対向する側の各遮断面２１の間の隙間
を無くすように各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを配置す
るならば、図９（ｂ）に示すように、第１の分割遮断部
材２０Ａの下端部付近と、第２の分割遮断部材２０Ｂの
上端部付近とに形成される段差によって、流下される気
流ＡＲに乱流ＲＲが形成され、この乱流ＲＲによって、
処理槽１１Ａ〜１１Ｃの上方空間に漂う薬液などの雰囲
気を巻き込んで、薬液が各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂ
の各遮断面２１に触れ、薬液などにより各分割遮断部材
２０Ａ、２０Ｂが腐食されることが起こり易くなる。

【００５３】なお、第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、
２０Ｂの対向する側の各遮断面２１の間に隙間が形成さ
れた状態で、各配置位置ＳＡ１、ＳＡ２への配置、各収
納領域ＰＡ1 、ＰＡ２への収納、及び、それらの間の移
動を行うように構成したことにより、各分割遮断部材２
０Ａ、２０Ｂの遮断面２１が擦れないようにしている。
これにより、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２
１が擦れて発塵が起きることがなく、基板Ｗの汚染を防
止することができる。

【００５４】ところで、各仕切り領域ＳＡ付近に流下す
る気流ＡＲは、その流速を速くする方が上記エアカーテ
ンによる遮断をより効果的に達成することが期待でき
る。そこで、図２に示すように、ファンフィルターユニ
ット１８内のファン１７（気体供給手段）が、少なくと
も各仕切り領域ＳＡの上方に配置されるように構成し、
各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの各遮断面２１に沿って
流す（流下する）気流ＡＲの流速を任意に調節できるよ
うに構成することが好ましい。

【００５５】また、移動手段は、上記実施例の構成に限
定されない。例えば、図１０に示すように、各分割遮断
部材２０Ａ、２０Ｂを直線移動させて、各配置位置ＳＡ
１、ＳＡ２と各収納領域ＰＡ１、ＰＡ２との間で、各分
割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを移動させることも可能であ
る。

【００５６】ただし、図１０に示すように、移動手段を
直線移動する機構で構成すると、各分割遮断部材２０
Ａ、２０Ｂを移動させるための移動領域ＩＡ１、ＩＡ２
の一部が、斜線で示すように、第１、第２の配置位置Ｓ
Ａ１、ＳＡ２及び第１、第２の収納領域ＰＡ１、ＰＡ２
からなる領域からはみ出るので、仕切り領域ＳＡを開く
ために必要な領域が大きくなる。また、各分割遮断部材
２０Ａ、２０Ｂを直線移動させるためには、移動方向に
沿って配設されたガイド軸に、各分割遮断部材２０Ａ、
２０Ｂに連結された部材を摺動させて各分割遮断部材２
０Ａ、２０Ｂを移動させることになるので、広範囲にわ
たって発塵し、発塵量も多くなる。これに対して、上記
実施例の構成では、上述したように各分割遮断部材２０
Ａ、２０Ｂを移動させるための特別な移動領域ＩＡ１、
ＩＡ２を殆ど必要とせず、また、各分割遮断部材２０
Ａ、２０Ｂの移動に伴って摺動して変動する部材及びそ
の部材の変動量が少なく、それだけ発塵を少なくするこ
ともできる。従って、図１０に示すように構成するより
も上記実施例のように構成する方が好ましい。

【００５７】また、上記実施例では、仕切り領域ＳＡを
閉じる遮断部材を２つの分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂに
分割して構成したが、３つ以上の分割遮断部材に分割し
てもよい。

【００５８】３つ以上の分割遮断部材に分割する場合、
例えば、図１１（ａ）に示すように、遮断面２１に向か
って見て、収納時に全ての分割遮断部材２０Ａ〜２０Ｃ
同士で遮断面２１が重複するように構成してもよいし、
図１１（ｂ）に示すように、遮断面２１に向かって見
て、収納時に一部の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂだけ遮
断面２１が重複するように構成してもよし、図１２に示
すように、遮断面２１に向かって見て、グループ分けさ
れた分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂ同士、及び分割遮断部
材２０Ｃ、２０Ｄ同士で、それぞれ収納時に遮断面２１
が重複するように構成してもよい。

【００５９】なお、図１１、図１２中の、符号ＳＡ３、
ＳＡ４は、分割遮断部材２０Ｃ、２０Ｄそれぞれに割り
当てた仕切り領域ＳＡ内の配置位置であり、ＰＡ３、Ｐ
Ａ４は、分割遮断部材２０Ｃ、２０Ｄそれぞれの収納領
域、Ｊ３、Ｊ４は、分割遮断部材２０Ｃ、２０Ｄそれぞ
れの移動の際の回動軸芯である。

【００６０】また、例えば、図１１に示すように、３つ
以上の分割遮断部材２０のうちの２つの分割遮断部材２
０Ａ、２０Ｂを上記実施例のように構成してもよいし、
例えば、図１２に示すように、複数の分割遮断部材２０
を２つの分割遮断部材２０ずつにグループ分けして、各
グループごとに上記実施例のように構成し、上記実施例
を複数組備えて仕切り領域ＳＡを閉じるように構成して
もよい。

【００６１】また、遮断面２１に向かって見て、遮断面
２１を重複させて収納する分割遮断部材同士は、収納時
に、各分割遮断部材の遮断面２１の一部だけが重複する
ように構成してもよいし、各分割遮断部材の遮断面２１
の全体が完全に重複するように構成してもよい。

【００６２】さらに、ある分割遮断部材の収納領域は、
上記実施例や変形例の図に示すように、その分割遮断部
材に割り当てた仕切り領域内の配置位置と隣接するよう
に設けてもよいが、本発明はそれに限定されず、ある分
割遮断部材の収納領域を、その分割遮断部材に割り当て
た仕切り領域内の配置位置から離れた位置や、配置位置
と一部が重複する位置などに設けてもよい。

【００６３】また、複数の分割遮断部材の遮断面は、全
て同じ形状で同じ大きさである必要はなく、仕切り領域
ＳＡの形状や大きさなどに応じて、形状や大きさが種々
に異なる遮断面を持つ複数の分割遮断部材で構成しても
よい。

【００６４】また、上記実施例では、複数の処理槽１１
Ａ〜１１Ｃの上方空間の間を仕切り領域ＳＡとして、そ
の仕切り領域ＳＡの開閉に本発明を適用する場合を例に
採ったが、本発明はこのような適用形態に限定されな
い。例えば、チャンバで囲まれた基板処理部と、そのチ
ャンバの外側に設けられた基板搬送空間とを備え、チャ
ンバに形成された基板搬入搬出口を介して基板搬送空間
から基板処理部内に対する基板の搬入搬出を行うように
構成された基板処理装置において、基板搬入搬出口を仕
切り領域としてその仕切り領域（基板搬入搬出口）を開
閉する場合などにも本発明を適用することができる。

【００６５】また、上記実施例は、基板を一括して処理
するバッチ式の基板処理装置を例に採ったが、本発明は
これに限定されず、基板を１枚ずつ処理する枚葉式の基
板処理装置にも本発明を適用することができる。

【００６６】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、仕切り領域を閉じる遮断部材
を、複数の分割遮断部材に分割して構成し、板状の各分
割遮断部材どうしは、それら分割遮断部材は板状であっ
て、その表面に垂直な方向へ、互いに間隔を空けて配置
するので、仕切り領域を気密に閉じるわけではないが、
しかし、遮断用気流形成手段にっよって生じる雰囲気遮
断用の気流が、前記仕切り部材の板面に沿って流せてい
るので、かかる雰囲気遮断用の気流が、いわゆるエアー
カーテンとして機能し、仕切り領域の周囲の雰囲気が、
仕切り領域を通過するように流れようとするのを遮る。
また、気密に閉じないまで、各分割遮断部材は、雰囲気
が仕切り領域を通過するのを、壁のようにして遮る。

【００６７】上記のようにして、仕切り領域の周囲の雰
囲気が仕切り空間を通過するのを阻止するにつけ、板状
の各分割遮断部材どうしは、互いに板状であるその表面
に垂直な方向へ、互いに間隔を空けて配置してるので、
雰囲気遮断用の気流が、板状である各分割遮断部材の板
面に沿って滑らかに流れ、個々の分割遮断部材は、雰囲
気遮断用の気流に、こと全面が確実に覆われた状態とな
り、雰囲気に処理液ミストや、その他不具合な成分が浮
遊していても、それらが分割遮断部材に付着することが
なく、分割遮断遮断部材の耐久性が高い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る基板処理装置の全体的
な構成を示す平面図である。

【図２】図１のＡ−Ａ矢視断面図である。

【図３】図１のＢ−Ｂ矢視断面図である。

【図４】仕切り領域と第１、第２の配置位置と第１、第
２の収納領域との位置関係を示す図である。

【図５】仕切り開閉機構の外観を示す斜視図である。

【図６】仕切り開閉機構を分割遮断部材が移動時に通過
する開口側から見た拡大断面図である。

【図７】図６のＣ−Ｃ矢視断面図である。

【図８】仕切り開閉機構を駆動室側から見た拡大断面図
である。

【図９】仕切り領域に気流を流下させる場合に各分割部
材の分割部分に隙間を形成した状態と対比例として隙間
を無くした状態とで気流の流れを比較した図である。

【図１０】移動手段の変形例を示す図である。

【図１１】分割遮断部材を３つで構成する場合の変形例
を示す図である。

【図１２】分割遮断部材を４つで構成する場合の変形例
を示す図である。

【図１３】従来装置の要部構成を示す斜視図である。

【図１４】従来の仕切り開閉機構の概略構成を示す図で
ある。

【符号の説明】

７：仕切り開閉機構 １８：ファンフィルターユニット ２０Ａ〜２０Ｄ：分割遮断部材 ２１：遮断面 ２２Ａ、２２Ｂ：移動機構 ２４Ａ、２４Ｂ：駆動源（エアシリンダ） Ｗ：基板 ＳＡ：仕切り領域 ＳＡ１〜ＳＡ４：各分割遮断部材に割り当てられた仕切
り領域内の配置位置 ＰＡ１〜ＰＡ４：各分割遮断部材の収納領域 Ｊ１〜Ｊ４：各分割遮断部材の回動軸芯

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 仕切り領域と収納領域との間で遮断部材
   を移動させて前記仕切り領域を開閉する仕切り開閉手段
   を備えた基板処理装置において、 前記遮断部材は分割された複数の分割遮断部材で構成
   し、 前記仕切り領域を閉じるように前記各分割遮断部材ごと
   に割り当てられた各配置位置と、前記各分割遮断部材ご
   とに設けた各収納領域との間で、前記各分割遮断部材を
   それぞれ移動させる移動手段を備えるとともに、 前記仕切領域にて、前記分割遮断部材の表面に沿って流
   れる雰囲気遮断用の気流を生ずる遮断用気流形成手段を
   備え、 前記各分割遮断部材は板状であって、その表面に垂直な
   方向へ、互いに間隔を空けて、前記各配置位置に配置す
   ることを特徴とする基板処理装置。