JP5293459B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
前記液槽に前記置換液を供給する第1の流体供給部と、
前記液槽に設けられた第1の流体排出部と、
前記液槽を収容すると共に、前記開口部を介して液槽内の空間と連通し、前記基板に対して超臨界流体による処理を行うための処理容器と、
前記処理容器内に超臨界流体を得るための液体または超臨界流体を供給する第2の流体供給部と、
前記処理容器に設けられた第2の流体排出部と、
前記第1の流体供給部から前記液槽に、前記置換液を供給するステップと、前記置換液の供給中、前記第1の流体排出部を介して液槽から液体を排出するステップと、前記第1の流体供給部からの置換液の供給を停止し、次いで前記第2の流体供給部から、処理容器内に超臨界流体を得るための液体または超臨界流体を供給して、前記液槽内の置換液と置換すると共に、基板を超臨界流体により処理するステップと、前記第1の流体排出部及び第2の流体排出部から、処理容器内の流体を排出するステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする。
(a)前記超臨界流体を得るための液体を加熱することにより当該液体を超臨界状態とし、または前記超臨界流体を加熱することにより超臨界状態を維持する加熱部を備えたこと。
(b)前記超臨界流体を得るための液体を加圧することにより当該液体を超臨界状態とし、または前記超臨界流体を加圧することにより超臨界状態を維持する加圧部を備えたこと。
(c)前記第1の流体供給部と第2の流体供給部とは共通化されていること。
また切り替え弁58に接続されたもう一本の流路である排出路582は洗浄槽21内部の流体をウエハ処理装置2の装置外へと排出するための流路である。
本例では洗浄液供給路271が超臨界流体を得るための液体であるHFEを供給する流体供給部の機能を兼ね備えており、排出路272、273が流体排出部に相当する。
本例では洗浄液供給路271が超臨界流体を得るための液体であるHFEを供給する流体供給部の機能を兼ね備えており、排出路273が流体排出部に相当する。
1 ウエハ処理システム
120 ウエハ処理室
2 ウエハ処理装置
21 洗浄槽
214 ウエハ保持部
22 超臨界乾燥容器
3 ウエハ搬送機構
4 制御部
53 CO2供給部
531 CO2供給路
532 昇圧ポンプ
54 アルカリ性薬液供給部
55 酸性薬液供給部
56 DIW供給部
57 切り替え弁
571 洗浄液供給路
581 第1の流路
6 FOUP
Claims (4)
- 洗浄液による洗浄が行われ、超臨界流体と置換されるべき液体である置換液に覆われた状態の基板を収容する、開口部を備えた液槽と、
前記液槽に前記置換液を供給する第1の流体供給部と、
前記液槽に設けられた第1の流体排出部と、
前記液槽を収容すると共に、前記開口部を介して液槽内の空間と連通し、前記基板に対して超臨界流体による処理を行うための処理容器と、
前記処理容器内に超臨界流体を得るための液体または超臨界流体を供給する第2の流体供給部と、
前記処理容器に設けられた第2の流体排出部と、
前記第1の流体供給部から前記液槽に、前記置換液を供給するステップと、前記置換液の供給中、前記第1の流体排出部を介して液槽から液体を排出するステップと、前記第1の流体供給部からの置換液の供給を停止し、次いで前記第2の流体供給部から、処理容器内に超臨界流体を得るための液体または超臨界流体を供給して、前記液槽内の置換液と置換すると共に、基板を超臨界流体により処理するステップと、前記第1の流体排出部及び第2の流体排出部から、処理容器内の流体を排出するステップと、を実行するように制御信号を出力する制御部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記超臨界流体を得るための液体を加熱することにより当該液体を超臨界状態とし、または前記超臨界流体を加熱することにより超臨界状態を維持する加熱部を備えたことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記超臨界流体を得るための液体を加圧することにより当該液体を超臨界状態とし、または前記超臨界流体を加圧することにより超臨界状態を維持する加圧部を備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記第1の流体供給部と第2の流体供給部とは共通化されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一つに記載の基板処理装置。
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