JP2018006635A - 洗浄装置、これを備えためっき装置、及び洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】洗浄装置が提供される。この洗浄装置は、被処理物の入口と、被処理物の出口と、入口から投入された被処理物が搬送される第1搬送経路と、第1搬送経路において被処理物が搬送される方向とは逆方向に被処理物が搬送され、第1搬送経路及び出口につながる第2搬送経路と、第1搬送経路に配置され、被処理物を非接触式で洗浄する洗浄ユニットと、第1搬送経路に配置され、被処理物を非接触式で乾燥する乾燥ユニットと、第2搬送経路に配置され、上方から下方に向けて気体を送出する送風ユニットと、を有する。
【選択図】図2
Description
に関する。
物が搬送され、前記第1搬送経路及び前記出口につながる第2搬送経路と、前記第1搬送経路に配置され、前記被処理物を非接触式で洗浄する洗浄ユニットと、前記第1搬送経路に配置され、前記被処理物を非接触式で乾燥する乾燥ユニットと、前記第2搬送経路に配置され、上方から下方に向けて気体を送出する送風ユニットと、を有する。
が基板ホルダと共に洗浄液(純水等)で洗浄される。ブロー槽35では、洗浄後の基板の液切りが行われる。リンス槽36では、めっき後の基板が基板ホルダと共に洗浄液で洗浄される。プリウェット槽32、プリソーク槽33、プリリンス槽34、ブロー槽35、リンス槽36は、この順に配置されている。
7bとを有する。第1洗浄ユニット57aは、DIW(De−Ionized Water;洗浄液の一例に相当する)を、基板W1の両面又は片面に噴射して基板W1を洗浄する。第2洗浄ユニット57bは、DIWと気体を基板W1の両面又は片面に同時にジェット噴射して、基板W1表面のパーティクルを除去する。第2洗浄ユニット57bで噴射する気体としては、クリーンドライエアや窒素を用いることができる。第1洗浄ユニット57a及び第2洗浄ユニット57bは、液体又は気体を用いて基板W1を洗浄するいわゆる非接触式の洗浄ユニットである。乾燥ユニット58は、例えば、細長いスリットから圧縮気体を薄い層状に噴出するいわゆるエアナイフであり、基板W1の両面又は片面に付着した洗浄液を除去又は乾燥する。乾燥ユニット58は、気体を用いて基板W1を乾燥するいわゆる非接触式の乾燥ユニットである。
ニット57bによって非接触式で洗浄される。具体的には、まず第1洗浄ユニット57aが、基板W1の表面にDIWを噴射して洗浄し、続いて第2洗浄ユニット57bが基板W1の表面に洗浄液及び気体を同時に噴射して洗浄する。その後、基板W1は乾燥ユニット58においてエアナイフにより洗浄液が除去され且つ乾燥される。
浄及び乾燥することができる。ひいては、基板W1表面にパーティクルが付着して除去し難くなることを防止することができる。
6と、ブロー槽35と、を有する。リンス槽36、ブロー槽35は、後段側に向かってこの順に配置されている。
の被処理物の取り出しを行うことができる。
したパーティクルが浮遊しているので、めっき装置やCMP装置等の雰囲気に比べて清浄度が低くなり得る。洗浄装置内を負圧に維持すれば、洗浄装置内のパーティクルが洗浄装置外部に流出することを抑制できるが、圧力調整装置の故障等により洗浄装置内を負圧に維持できなくなることもあり得る。第6態様によれば、洗浄装置の内部と外部とを、入口シャッタ及び出口シャッタで分離できるので、洗浄装置内のパーティクルが外部に流出することをいっそう抑制することができる。
前記被処理物を前記出口から取り出す工程と、を有する。
ひいては、被処理物表面にパーティクルが付着して除去し難くなることを防止することができる。
50…洗浄装置
51…入口
51a…入口シャッタ
52…第1搬送経路
53…鉛直搬送経路
54…第2搬送経路
55…出口
55a…出口シャッタ
57,57a,57b…洗浄ユニット
58…乾燥ユニット
61…鉛直搬送機構
62…送風ユニット
Claims (16)
- 被処理物の入口と、
前記被処理物の出口と、
前記入口から投入された前記被処理物が搬送される第1搬送経路と、
前記第1搬送経路において前記被処理物が搬送される方向とは逆方向に前記被処理物が搬送され、前記第1搬送経路及び前記出口につながる第2搬送経路と、
前記第1搬送経路に配置され、前記被処理物を非接触式で洗浄する洗浄ユニットと、
前記第1搬送経路に配置され、前記被処理物を非接触式で乾燥する乾燥ユニットと、を有する、洗浄装置。 - 請求項1に記載された洗浄装置において、
前記第2搬送経路に配置され、上方から下方に向けて気体を送出する送風ユニットをさらに有する、洗浄装置。 - 請求項1又は2に記載された洗浄装置において、
前記第1搬送経路と前記第2搬送経路は、上下方向に並んで配置される、洗浄装置。 - 請求項3に記載された洗浄装置において、
前記第1搬送経路は、前記第2搬送経路の下方に位置する、洗浄装置。 - 請求項1から4のいずれか一項に記載された洗浄装置において、
前記第2搬送経路は、前記被処理物を一時的に保管するストッカとして機能する、洗浄装置。 - 請求項1から5のいずれか一項に記載された洗浄装置において、
前記第1搬送経路と前記第2搬送経路とを接続する鉛直搬送経路と、
前記鉛直搬送経路において、前記第1搬送経路から前記第2搬送経路に向かって鉛直方向に前記被処理物を搬送する鉛直搬送機構を有する、洗浄装置。 - 請求項1から6のいずれか一項に記載された洗浄装置において、
前記入口を開閉する入口シャッタと、
前記出口を開閉する出口シャッタと、さらに有する、洗浄装置。 - 請求項1から7のいずれか一項に記載された洗浄装置において、
前記洗浄ユニットは、
前記被処理物に洗浄液を噴射するように構成された第1洗浄ユニットと、
前記被処理物に洗浄液及び気体を同時に噴射するように第2洗浄ユニットと、を有する、洗浄装置。 - 請求項1から8のいずれか一項に記載された洗浄装置を備えためっき装置であって、
処理部と、
基板搬送部と、を備え、
前記基板搬送部は、前記処理部でめっき処理された前記被処理物を前記洗浄装置の入口に投入し、前記洗浄装置で処理された前記被処理物を前記出口から取り出すように構成される、めっき装置。 - 被処理物の入口と、前記被処理物の出口と、前記入口から投入された前記被処理物が搬送される第1搬送経路と、前記第1搬送経路において前記被処理物が搬送される方向とは逆方向に前記被処理物が搬送され、前記第1搬送経路及び前記出口につながる第2搬送経
路と、を備えた洗浄装置において前記被処理物を洗浄する方法であって、
前記入口から前記被処理物を前記洗浄装置に投入する工程と、
前記被処理物を前記第1搬送経路に沿って搬送する工程と、
前記第1搬送経路において前記被処理物を非接触式で洗浄する洗浄工程と、
前記第1搬送経路において前記被処理物を非接触式で乾燥する乾燥工程と、
前記被処理物を前記第2搬送経路に沿って搬送する工程と、
前記被処理物を前記出口から取り出す工程と、を有する、洗浄方法。 - 請求項10に記載された洗浄方法において、
前記第2搬送経路において、上方から下方に向けて気体を送出する送風工程をさらに有する洗浄方法。 - 請求項10又は11に記載された洗浄方法において、
前記第1搬送経路と前記第2搬送経路は、上下方向に並んで配置される、洗浄方法。 - 請求項12に記載された洗浄方法において、
前記第1搬送経路は、前記第2搬送経路の下方に位置する、洗浄方法。 - 請求項10から13のいずれか一項に記載された洗浄方法において、
前記第2搬送経路に前記被処理物を一時的に保管する工程をさらに有する、洗浄方法。 - 請求項10から14のいずれか一項に記載された洗浄方法において、
前記第1搬送経路から前記第2搬送経路に向かって鉛直方向に前記被処理物を搬送する工程をさらに有する、洗浄方法。 - 請求項10から15のいずれか一項に記載された洗浄方法において、
前記洗浄工程は、
前記被処理物に洗浄液を噴射する第1洗浄工程と、
前記被処理物に洗浄液及び気体を同時に噴射する第2洗浄工程と、を有する、洗浄方法。
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