TWI595587B - 雙層輸送處理裝置與雙層輸送處理方法 - Google Patents

Description

雙層輸送處理裝置與雙層輸送處理方法

本發明是有關於一種雙層輸送處理裝置與雙層輸送處理方法，且特別是有關於一種用於傳送並處理基板的雙層輸送處理裝置與雙層輸送處理方法。

於現代高科技產業的製造的過程中，基板需要經過多道加工程序，例如清洗、蝕刻、塗佈、顯影等，因此會採用基板輸送裝置以將基板輸送至不同加工處進行加工。

習知之基板輸送裝置，將基板置放於傳輸平台上，並使基板在單一輸送路徑上輸送並進行如清洗、蝕刻、塗佈、顯影等製程。然而，此傳輸平台採用單一輸送路徑的方式往往占用工廠的空間。

此外，習知有採用雙層輸送平台的方式，來降低工廠的空間使用率。但在兩層輸送平台之間的傳送過程中，在第一層輸送平台中會先用一第一叉架(fork)承接由第一層輸送平台中的輸送單元所送來的基板，並再利用一第二叉架(fork)承接由第一叉架所送來的基板，以將基板傳送至第二層輸送平台中的輸送單元。然而，此第一叉架、第二叉架與輸送單元的 交錯設計過於複雜，如此造成維護上不容易且可靠性(reliability)差。並且，之後仍會再利用第二叉架將基板移動至第一叉架，以回傳至第一層輸送平台而待傳送至外界。也就是說，在第一層輸送平台具有傳送與移出基板的功能，此舉往往造成基板交互感染的風險存在。

本發明提供一種雙層輸送處理裝置，於輸送過程中可避免交互感染，並且，經由單一滾輪平台便能達到承接並移動基板至下滾輪組的目的，藉以簡化設計並達到易於維護且可靠性佳。

本發明提供一種雙層輸送處理方法，藉此雙層輸送方法可避免交互感染，並且，經由單一滾輪平台輸送基板由上滾輪組至下滾輪組的方式，藉以減少輸送過程的繁雜，並達到易於維護且可靠性佳的目的。

本發明的一實施例提出一種雙層輸送處理裝置，用於傳送並處理一基板。雙層輸送處理裝置包括一上滾輪組、一下滾輪組、一滾輪平台以及一處理單元。上滾輪組包含一第一端部與一第二端部。第一端部與第二端部分別位於上滾輪組的相對兩側。基板由第一端部輸送至第二端。下滾輪組設於上滾輪組之下。下滾輪組包含第三端部與第四端部。第三端部與第四端部分別位於下滾輪組的相對兩側。基板由第三端部輸送至第四端部，以將基板輸送至外界。滾輪平台於上滾輪組與下滾輪組之間移動。滾輪平台承接由上滾輪組的第二端部所送來的基板，且將基板下移並輸送至下滾輪組的第三端部。處理單元設於下滾輪組的第三端部與第四端部之間。處理單元對基板噴灑一液體，以進行一製程處理。

本發明的一實施例提出一種雙層輸送處理方法，用於傳送並處理一基板。雙層輸送處理方法包括以下步驟。接收基板於一上滾輪組的一第一端部，其中上滾輪組具有相對的第一端部與一第二端部。輸送基板由上滾輪組的第一端部至上滾輪組的第二端部。經由一滾輪平台，輸送基板由上滾輪組的第二端部至下滾輪組的一第三端部，其中下滾輪組具有相對的第三端部與一第四端部。於下滾輪組的第三端部與第四端部之間，對基板進行一製程處理。輸送基板至下滾輪組的第四端部。

基於上述，在本發明的雙層輸送處理裝置與雙層輸送處理方法中，上滾輪組負責傳送基板，而下滾輪組則接收上滾輪組的基板，並於下滾輪組的輸送路徑上對基板進行製程處理之後，便將基板置在下滾輪組，以待後續輸送基板至外界，而不會再傳送回上滾輪組，如此可避免交互感染。

再者，藉由滾輪平台於上滾輪組與下滾輪組之間移動的方式，便能達到承接並移動基板至下滾輪組的目的，以能減少部分上滾輪組與下滾輪組的重疊設計，而此滾輪平台易於維護且可靠性佳。

50‧‧‧基板

100、200‧‧‧雙層輸送處理裝置

110‧‧‧上滾輪組

112‧‧‧第一端部

114‧‧‧第二端部

118‧‧‧滾輪

120‧‧‧下滾輪組

122‧‧‧第三端部

124‧‧‧第四端部

126a‧‧‧第一傾斜滾輪

126b‧‧‧第二傾斜滾輪

128‧‧‧水平滾輪

130‧‧‧滾輪平台

132‧‧‧平台本體

134‧‧‧第一滑軌

136‧‧‧第二滑軌

138‧‧‧皮帶缸

140‧‧‧定位元件

140a‧‧‧罩體

140b‧‧‧夾具

150‧‧‧處理單元

152‧‧‧噴灑件

154‧‧‧承載件

160‧‧‧乾燥單元

170‧‧‧儲放卡匣

172‧‧‧置放槽

280‧‧‧第一傾斜單元

290‧‧‧第二傾斜單元

A1‧‧‧傾斜角度

L1‧‧‧箭號

S100‧‧‧雙層輸送處理方法

S110~S160‧‧‧步驟

S132~S138‧‧‧步驟

S142~S144‧‧‧步驟

圖1至圖7為本發明之雙層輸送處理裝置用於傳送並處理基板之不同過程之第一實施例的示意圖。

圖8為本發明之雙層輸送處理裝置之第一實施例之滾輪平台上定位基板的一實施例的示意圖。

圖9為本發明之雙層輸送處理裝置之第一實施例之滾輪平台上定位基 板的另一實施例的示意圖。

圖10至圖15為本發明之雙層輸送處理裝置用於傳送基板之不同過程之第二實施例的示意圖。

圖16為本發明之雙層輸送處理裝置之第二實施例之滾輪平台的示意圖。

圖17至圖18為本發明之雙層輸送處理裝置之第二實施例之用於處理基板之不同過程的示意圖。

圖19為本發明之雙層輸送處理方法的流程圖。

圖20為圖19之輸送基板由上滾輪組的第二端部至下滾輪組的第三端部的流程圖。

圖21為圖19之對基板進行製程處理的流程圖。

以下謹結合附圖和實施例，對本發明的具體實施方式作進一步描述。以下實施例僅用於更加清楚地說明本發明的技術方案，而不能以此限制本發明的保護範圍。

圖1至圖7為本發明之雙層輸送處理裝置用於傳送並處理基板之不同過程之第一實施例的示意圖。請先參閱圖1。在本實施例中，雙層輸送處理裝置100用於傳送並處理一基板50。雙層輸送處理裝置100包括一上滾輪組110、一下滾輪組120、一滾輪平台130、一定位元件140、一處理單元150、一乾燥單元160以及一儲放卡匣170。

上滾輪組110包含一第一端部112與一第二端部114。第一端部112與第二端部114分別位於上滾輪組110的相對兩側。本發明不對上滾輪 組110的結構加以限制，在一實例中，上滾輪組110例如包括複數個滾輪118與複數個桿體(未繪示)，滾輪118間隔排列於且可轉動地設於桿體，如此配置之下，上滾輪組110得以藉由滾輪118來傳送基板50。

下滾輪組120設於上滾輪組110之下。下滾輪組120包含第三端部122、第四端部124。第三端部122與第四端部124分別位於下滾輪組120的相對兩側。此外，下滾輪組120例如是包括複數個桿體與複數個滾輪的結構特徵，在此不重複贅述。

滾輪平台130於上滾輪組110與下滾輪組120之間移動。定位元件140設於滾輪平台130上。如圖1至圖3所示，箭號L1代表滾輪平台130由上滾輪組110移動至下滾輪組120的方向。

定位元件140如圖3至圖4所示於滾輪平台130下移時限制基板50，以避免基板50下移時飛出或偏移。在此並不限制定位元件140限制基板50的方式。以下分別藉由圖8與圖9舉例說明。

圖8為本發明之雙層輸送處理裝置之第一實施例之滾輪平台上定位基板的一實施例的示意圖。圖9為本發明之雙層輸送處理裝置之第一實施例之滾輪平台上定位基板的另一實施例的示意圖。於一實施例中，如圖8所示。定位元件140例如是一罩體140a。罩體140a可移動地設於滾輪平台130上。如此，當基板50位於滾輪平台130時，罩體140a則會罩住並固定基板50。於另一實施例中，如圖9所示，定位元件140例如是一夾具140b。夾具140b可移動地設於滾輪平台130上。如此，當基板50位於滾輪平台130時，夾具140b則會夾持並固定基板50。

請復參閱圖1，處理單元150設於下滾輪組120的第三端部122 與第四端部124之間。乾燥單元160設於下滾輪組120的第三端部122與第四端部124之間，並位於處理單元150旁。

此外，儲放卡匣170設於下滾輪組120的第四端部124。儲放卡匣170置放基板50，且儲放卡匣170包括複數個置放槽172。

圖10至圖15為本發明之雙層輸送處理裝置用於傳送基板之不同過程之第二實施例的示意圖。需說明的是，圖10至圖15的雙層輸送處理裝置200與圖1至圖7的雙層輸送處理裝置100相似，其中相同的元件以相同的標號表示且具有相同的功效而不再重複說明，以下僅說明差異處。以圖10而言，雙層輸送處理裝置200包括一第一傾斜單元280以及一第二傾斜單元290。第二傾斜單元290設於滾輪平台130的下方。第一傾斜單元280設於下滾輪組120的第三端部122與第四端部124之間。

詳細而言，下滾輪組120由第三端部122至第四端部124區分成一第一傾斜滾輪126a、一第二傾斜滾輪126b以及一水平滾輪128。

處理單元150與乾燥單元160設於第一傾斜滾輪126a上。第一傾斜單元280設於第二傾斜滾輪126b，並位於乾燥單元160旁。第一傾斜滾輪126a相對於水平滾輪128呈傾斜狀態，第二傾斜滾輪126b相對於水平滾輪128呈傾斜狀態，而第一傾斜滾輪126a與第二傾斜滾輪126b的傾斜角度相同。

圖16為本發明之雙層輸送處理裝置之第二實施例之滾輪平台的示意圖。請參閱圖16，滾輪平台130包括一平台本體132、一第一滑軌134、一第二滑軌136以及一皮帶缸138。在此並不限制滾輪平台的型態，於其他實施例中，例如是藉由螺桿缸與配重箱的方式，亦可達到將基板自上 滾輪組下移至下滾輪組的功能。此外，平台本體132例如是具有複數個桿體與複數個滾輪的結構特徵，以承接如圖3所示的自上滾輪組110的第二端部114所送來的基板50，在此不重複贅述。第二傾斜單元290位於滾輪平台130之平台本體132的下方，以傾斜滾輪平台130之平台本體132。在此並不限制第二傾斜單元的型態，只要可以傾斜滾輪平台之平台本體的機構即可。

圖17至圖18為本發明之雙層輸送處理裝置之第二實施例之用於處理基板之不同過程的示意圖。請先參閱第17圖。處理單元150包括一噴灑件152。噴灑件152位於下滾輪組120的第一傾斜滾輪126a的上方。由於此時下滾輪組120的第一傾斜滾輪126a呈傾斜狀態，故下滾輪組120的第一傾斜滾輪126a具有一傾斜角度A1，基板50置於下滾輪組120的第一傾斜滾輪126a上是呈傾斜狀態。

圖19為本發明之雙層輸送處理方法的流程圖。請參閱圖19。本實施例的雙層輸送處理方法S100，用於傳送並處理如圖1所示的一基板50。

雙層輸送處理方法S100包括以下步驟S110至步驟S160。

進行步驟S110，如圖1所示，接收基板50於一上滾輪組110的一第一端部112，其中上滾輪組110具有相對的第一端部112與一第二端部114。需說明的是，本發明之雙層輸送處理方法S100並不限定由何種方式傳送至上滾輸組110，舉例而言，可以是藉由一機器手臂接收基板50並將基板50傳送至上滾輪組110的第一端部112。

進行步驟S120，輸送基板50由如圖1所示的上滾輪組110的第一端部112至如圖2所示的上滾輪組110的第二端部114。

進行步驟S130，如圖3至圖4，經由一滾輪平台130，輸送基板50由上滾輪組110的第二端部114(沿箭號L1方向)至下滾輪組120的一第三端部122，其中下滾輪組120具有相對的第三端部122與一第四端部124。

所述輸送基板50由上滾輪組110的第二端部114至下滾輪組120的第三端部122的步驟S130中，包括以下步驟S132至步驟S138。並且參閱圖20，圖20為圖19之輸送基板由上滾輪組的第二端部至下滾輪組的第三端部的流程圖。

進行步驟S132，如圖3所示，經由滾輪平台130，承接由上滾輪組110的第二端部114所送來的基板50。

接著進行步驟S134，定位基板50，如此可以避免基板50下移至下滾輪組120時飛出或偏移。在此不限制定位基板50的方式。舉例而言，於滾輪平台130下移至下滾輪組120時藉由如圖8或圖9所示的定位元件140限制基板50。

而後進行步驟S136，如圖4所示，移動基板50至下滾輪組120的第三端部122。舉例而言，藉由如圖16所示的滾輪平台130，即利用第一滑軌134、第二滑軌136以及皮帶缸138，來達到將基板50下移至下滾輪組120的第三端部122的目的。

於進一步的實施例中，進行步驟S138，傾斜基板50。舉例而言，如圖10至圖11所示，滾輪平台130將基板50下移至下滾輪組120，與此同時，第二傾斜單元290於滾輪平台130下移時傾斜基板50，以縮短作動時間。如圖11所示，滾輪平台130將基板50下移至下滾輪組120時，由於滾輪平台130與下滾輪組120的第一傾斜滾輪126a是呈同一傾斜角度，使得下 滾輪組120的第一傾斜滾輪126a直接就能承接自滾輪平台130所送來的基板50，以縮短傳送基板50的時間。

此時，基板50便由上滾輪組110下移至下滾輪組120。接著，如圖5至圖7所示，基板50由第三端部122輸送至第四端部124，以將基板50輸送至外界。

詳細而言，進行步驟S140，如圖5所示，於下滾輪組120的第三端部122與第四端部124之間，對基板50進行一製程處理。

於進一步的實施例中，基板50由第三端部122輸送至如圖12所示的位置時，處理單元150位於第一傾斜滾輪126a上，以傾斜基板50。此時如圖17所示，基板50置於下滾輪組120的第一傾斜滾輪126a上是呈傾斜狀態。接著，如圖18所示，噴灑件152對基板50噴灑一液體20，以進行製程處理。在本實施例中，例如是進行清洗製程、顯影製程、蝕刻製程、塗佈製程或者剝膜製程，而所搭配的液體20則分別為清洗藥水、顯影劑、蝕刻劑、塗佈劑及剝離液。然本發明不以此為限，端視實際製程需求而擇定搭配的液體種類。由於下滾輪組120的第一傾斜滾輪126a將基板50傾斜，使得液體20不會殘留於基板50的表面，而防止形成水池效應的現象產生。

下滾輪組120的第三端部122與第四端部124之間，對基板50進行製程處理的步驟S140中，包括以下步驟S142至步驟S144。並且參閱圖21，圖21為圖19之對基板進行製程處理的流程圖。

進行步驟S142，乾燥基板50。

對基板50進行製程處理後，基板50由如圖5所示的位置輸送至如圖6所示的位置或者由如圖12所示的位置輸送至如圖13所示的位置 時，可藉由乾燥單元160去除基板50上的液體20，藉以達到短時間內進行乾燥。在此不限制乾燥單元160的形式，舉例來說，乾燥單元例如為一風刀結構。

進行步驟S144，回復基板50至一水平狀態。

如圖14所示，基板50被傳送出乾燥單元160外，而基板50位於第二傾斜滾輪126b，第一傾斜單元280如圖15所示將基板50回復成一水平狀態，由於此時第二傾斜滾輪126b與水平滾輪128呈同一角度，以便於進行將基板50自第二傾斜滾輪126b傳送至水平滾輪128的動作。

進行步驟S150，輸送基板50至下滾輪組120的第四端部124。

進行步驟S160，如圖7所示，存放已完成製程處理的基板50。在此不限制存放基板50的方式。舉例而言，將已完成製程處理的基板50置放於儲放卡匣170的其中一個置放槽172內，以待後續輸送基板50至外界。

綜上所述，在本發明的雙層輸送處理裝置與雙層輸送處理方法中，雙層輸送處理裝置為具上下兩層輸送的結構。上滾輪組與下滾輪組分別位於雙層輸送處理裝置的上層與下層，其中上滾輪組負責傳送基板，而下滾輪組則接收上滾輪組的基板，並於下滾輪組的輸送路徑上對基板進行製程處理之後，便將基板置在下滾輪組，以待後續輸送基板至外界，而不會再傳送回上滾輪組，如此可避免交互感染。

再者，藉由滾輪平台於上滾輪組與下滾輪組之間移動的方式，便能達到承接並移動基板至下滾輪組的目的，以能減少部分上滾輪組與下滾輪組的重疊設計，而此滾輪平台易於維護且可靠性佳。進一步地， 由於部分下滾輪組(即第一傾斜滾輪與第二傾斜滾輪)是呈傾斜狀態，在一實施例中，於滾輸平台下移的同時也傾斜基板，而無需在滾輪平台移動至下滾輪組後，才傾斜基板以符合部分下滾輪組(即第一傾斜滾輪與第二傾斜滾輪)的傾斜角度，如此一來，於滾輪平台移動至下滾輪組後，部分下滾輪組(即第一傾斜滾輪與第二傾斜滾輪)便能承接滾輪平台所送來的基板，藉以達到縮短作動時間，進而節省後續製程時間。

另外，在製程處理上，藉由使基板傾斜的方式，來使得液體不會殘留於基板的表面，藉以防止形成水池效應的現象產生。進一步地，於製程處理且經由乾燥單元乾燥基板後，可以藉由第一傾斜單元將基板回復成水平狀態，使得第二傾斜滾輪與其連接的水平滾輪呈同一角度，以便於進行將基板自第二傾斜滾輪傳送至水平滾輪的動作。

以上所述，乃僅記載本發明為呈現解決問題所採用的技術手段的較佳實施方式或實施例而已，並非用來限定本發明專利實施的範圍。即凡與本發明專利申請範圍文義相符，或依本發明專利範圍所做的均等變化與修飾，皆為本發明專利範圍所涵蓋。

50‧‧‧基板

100‧‧‧雙層輸送處理裝置

110‧‧‧上滾輪組

112‧‧‧第一端部

114‧‧‧第二端部

118‧‧‧滾輪

120‧‧‧下滾輪組

122‧‧‧第三端部

124‧‧‧第四端部

130‧‧‧滾輪平台

140‧‧‧定位元件

150‧‧‧處理單元

160‧‧‧乾燥單元

170‧‧‧儲放卡匣

172‧‧‧置放槽

L1‧‧‧箭號

Claims (10)

1. 一種雙層輸送處理裝置，用於傳送並處理一基板，該雙層輸送處理裝置包括：一上滾輪組，包含一第一端部與一第二端部，該第一端部與該第二端部分別位於該上滾輪組的相對兩側，該第一端部用以接收該基板，該基板由該第一端部輸送至該第二端部；一下滾輪組，設於該上滾輪組之下，該下滾輪組包含一第三端部與一第四端部，該第三端部與該第四端部分別位於該下滾輪組的相對兩側，該基板由該第三端部輸送至該第四端部，以將該基板輸送至外界；一滾輪平台，於該上滾輪組與該下滾輪組之間移動，該滾輪平台承接由該上滾輪組的該第二端部所送來的該基板，且將該基板下移並輸送至該下滾輪組的該第三端部；一定位元件，該定位元件設於該滾輪平台上，該定位元件於該滾輪平台下移時限制該基板；以及一處理單元，設於該下滾輪組的該第三端部與該第四端部之間，該處理單元對該基板噴灑一液體，以進行一製程處理。
2. 如申請專利範圍第1項所述之雙層輸送處理裝置，包括：一乾燥單元，該乾燥單元設於該下滾輪組的該第三端部與該第四端部之間，並位於該處理單元旁，該乾燥單元去除該基板上的該液體。
3. 如申請專利範圍第1項所述之雙層輸送處理裝置，包括：一第一傾斜單元，該第一傾斜單元設於該下滾輪組的該第三端部與該第四端部之間。
4. 如申請專利範圍第1項所述之雙層輸送處理裝置，包括：一第二傾斜單元，該第二傾斜單元設於該滾輪平台的下方，該第二 傾斜單元於該滾輸平台下移時傾斜該基板。
5. 如申請專利範圍第1項所述之雙層輸送處理裝置，包括：一儲放卡匣，該儲放卡匣設於該下滾輪組的該第四端部，該儲放卡匣置放該基板。
6. 如申請專利範圍第1項所述之雙層輸送處理裝置，其中該滾輪平台包括一滑軌以及一皮帶缸。
7. 一種雙層輸送處理方法，用於傳送並處理一基板，該雙層輸送處理方法包括以下步驟：接收該基板於一上滾輪組的一第一端部，其中該上滾輪組具有相對的該第一端部與一第二端部；輸送該基板由該上滾輪組的該第一端部至該上滾輪組的該第二端部；經由一滾輪平台，承接由該上滾輪組的該第二端部所送來的該基板；定位在該滾輪平台上的該基板；經由該滾輪平台，輸送該基板由該上滾輪組的該第二端部至一下滾輪組的一第三端部，其中該下滾輪組具有相對的該第三端部與一第四端部；於該下滾輪組的該第三端部與該第四端部之間，對該基板進行一製程處理；以及輸送該基板至該下滾輪組的該第四端部，以將該基板輸送至外界。
8. 如申請專利範圍第7項所述之雙層輸送處理方法，其中所述輸送該基板至該下滾輪組的該第三端部的步驟之後，包括以下步驟：傾斜該基板。
9. 如申請專利範圍第7項所述之雙層輸送處理方法，其中所述於該下滾輪組的該第三端部與該第四端部之間，對該基板進行該製程處理的步驟之後，包括以下步驟：乾燥該基板；以及回復該基板至一水平狀態。
10. 如申請專利範圍第7項所述之雙層輸送處理方法，其中輸送該基板至該下滾輪組的該第四端部的步驟之後，包括以下步驟：存放已完成該製程處理的該基板。