TWI554395B - 偏光板及其製造方法 - Google Patents

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TWI554395B TW101135254A TW101135254A TWI554395B TW I554395 B TWI554395 B TW I554395B TW 101135254 A TW101135254 A TW 101135254A TW 101135254 A TW101135254 A TW 101135254A TW I554395 B TWI554395 B TW I554395B
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Description

偏光板及其製造方法
本發明是關於偏光板及其製造方法。
偏光板是在液晶顯示裝置中做為偏光的供給元件，或做為偏光的檢出元件，而廣被使用。做為這種偏光板，以往使用在包含聚乙烯醇系樹脂的偏光經膜接著包含三乙醯基纖維素的保護膜的偏光板，但近年來，隨著液晶顯示裝置的筆記型個人電腦及行動電話等可移動機器的發展，更有向大型電視的發展等，有薄形輕量化的要求。
在專利文獻1(日本特開2008-165199號公報)中，有說明在以往的偏光膜(直線偏光板)積層相位差膜而成的橢圓偏光板，使用儲藏彈性率低的柔軟的黏著劑貼合於液晶胞，而防止起因於偏光膜熱收縮等之相位差膜破裂的方法。但是，使用彈性率低的黏著劑之故，有偏光板的尺寸變化大的問題。
又，在專利文獻2(日本特關2002-122739號公報)中，陳述偏光膜的保護層的MD方向的線膨張係數與構成偏光板的黏著劑的彈性率之積設定在特定的範圍，而緩和漏光 現象的方法。但是，這個方法也是將偏光膜的膨張收縮，以使用線膨張率低的保護膜及彈性率低的黏著劑來緩和，所以有偏光板的尺寸變化大的問題。
又，在專利文獻3(國際公開第2009/069799號)中，有說明在偏光膜的一面積層透明保護層(三乙醯基纖維素膜)而成的偏光板，再將相位差板積層而成的圓偏光板，使用儲藏彈性率高的黏著劑而與液晶胞貼合，則可抑制與液晶胞貼合而暴露於高濕環境下時，在偏光膜的邊緣容易發生的隆起或漏光的方法。但是，以此方法即使能抑制偏光板的尺寸，但由於偏光膜收縮，仍有相位差膜等光化學膜有產生破裂的掛慮。
本發明是有鑑於上述課題而做的，提供偏光膜或相位差膜等其他光學膜的破裂或剝離受抑制，漏光現象、尺寸變化小的偏光板及其製造方法為目的。
本發明是一種偏光板，該偏光板為：至少具備偏光膜及保護膜者，其特徵為：前述偏光膜的至少一面積層保護膜，與前述保護膜相反側的最表面設有黏著劑層，與前述偏光膜的吸收軸直交方向的每2mm寬度的收縮力，在80℃溫度保持240分鐘時在1.0N以下，前述黏著劑層在23℃的儲藏彈性率在0.20MPa以上。
前述偏光膜之與前述保護膜相反側至少具備1片光學膜，前述偏光膜最遠的前述光學膜的與前述偏光膜相反側 之面設有前述黏著劑層為理想。
將前述偏光膜，在前述偏光膜的吸收軸方向的每2mm寬度的收縮力，在80℃溫度保持240分鐘時，在2.5N以下為理想。又，前述偏光膜的厚度在10μm以下為理想。
前述黏著層在80℃的儲藏彈性率在0.15MPa以上為理想。又，前述光學膜是保護膜或相位差膜為理想。
又，本發明也關於在液晶胞的至少一側，經由前述黏著劑層與上述偏光板貼合的液晶顯示裝置。
又，本發明也關於一種偏光板的製造方法，該方法含有以下面所列順序的步驟：底塗層形成步驟，係在基材膜的一面塗工底塗溶液而形成底塗層；聚乙烯醇系樹脂層形成步驟，係在前述底塗層上形成聚乙烯醇系樹脂層，而得將前述基材膜，前述底塗層及前述聚乙烯醇系樹脂層依此順序具備的積層膜；偏光膜化處理步驟，係得前述聚乙烯醇系樹指層施偏光膜化處理成為偏光膜，而得前述基材膜，前述底塗層及前述偏光膜層依此順序具備的偏光性積層膜；保護膜貼合步驟，係在前述偏光性積層膜與前述基材膜的相反側之面貼合保護膜；基材膜剝離步驟，係將前述基材膜由偏光性積層膜剝離；及黏著劑積層步驟，係將在前述保護膜相反側的最表面積層黏著劑層； 並有下列的特徵：與前述偏光膜的吸收軸直交的方向的每2mm寬度的收縮力，在80℃溫度保持240分鐘時為1.0 N以下，前述黏著劑層在23℃的儲藏彈性率在0.20MPa以上。
在前述基材膜剝離步驟與前述黏著劑層積層步驟之間，包含在前述基材膜被剝離的面側至少積層1片其他光學膜的光學膜積層步驟為理想。
在前述黏著劑積層步驟中，離前述偏光膜最遠的前述光學膜的與前述偏光膜相反側的面積層前述黏著劑層為理想。
又，本發明也關於一種偏光板的製造方法，該方法含有以下面所列順序的步驟：底塗層形成步驟，係在基材膜的一面塗工底塗溶液而形成底塗層；聚乙烯醇系樹脂層形成步驟，係在前述底塗層上形成聚乙烯醇系樹脂層，而得將前述基材膜，前述底塗層及前述聚乙烯醇系樹脂層依此順序具備的積層膜；偏光膜化處理步驟，係在前述聚乙烯醇系樹指層施以偏光膜化處理作為偏光膜，而得將前述基材膜，前述底塗層及前述偏光膜層依此順序具備的偏光性積層膜；保護膜貼合步驟，係在前述偏光性積層膜與前述基材膜的相反側之面貼合保護膜；基材膜剝離步驟，係將前述基材膜由偏光性積層膜剝 離；及附有黏著劑層的光學膜積層步驟，係在前述保護膜相反側的最表面，以黏著劑層側成為最表面的方式積層附有黏著劑層的光學膜；並有下列的特徵：與前述偏光膜的吸收軸直交的方向的每2mm寬度的收縮力，在80℃的溫度保持240分鐘時為1.0 N以下，前述黏著劑層在23℃的儲藏彈性率在0.20MPa以上。
在前述基材膜剝離步驟與前述附有黏著劑層的光學膜積層步驟之間，包含在前述基材膜被剝離的面側至少含有積層1片其他光學膜的光學膜積層步驟為理想。
在前述聚乙烯醇系樹脂層形成步驟中所得的前述偏光膜中，前述聚乙烯醇系樹脂層的厚度在20μm以下為理想。
前述偏光膜化處理步驟理想是含有將前述積層膜延伸的延伸步驟，及將前述聚乙烯醇系樹脂層以二色性物質染色的染色步驟。
在前述延伸步驟中，延伸倍率是超過5倍強為理想。又，前述黏著劑在80℃的儲藏彈性率為0.15MPa以上為理想。又，前述光學膜是保護膜或相位差膜為理想。
依本發明，將收縮力小的偏光膜與彈性率高的黏著劑組合，而可得偏光膜及相位差膜等其他的光學膜的破裂或剝離、漏光受到抑制，尺寸變化小的偏光板。
1‧‧‧偏光板
10‧‧‧保護膜
11‧‧‧偏光膜
11A‧‧‧吸收軸
12‧‧‧相位差膜
12B‧‧‧遲相軸
C‧‧‧長邊方向
α‧‧‧角度
β‧‧‧角度
S10‧‧‧聚乙烯醇系樹脂層形成步驟
S20‧‧‧偏光膜化處理步驟
S21‧‧‧延伸步驟
S22‧‧‧染色步驟
S30‧‧‧保護膜貼合步驟
S40‧‧‧基材膜剝離步驟
S50‧‧‧光學膜積層步驟
S60‧‧‧黏著劑層積層步驟
S60’‧‧‧附有黏著劑層的光學膜積層步驟
第1圖係表示本發明的偏光板的製造方法的一實施形態的流程圖。
第2圖係表示本發明的偏光板的製造方法的另一個實施形態的流程圖。
第3圖係用以說明本發明的偏光板的各構成元件的配置關係的概略圖。
下面，參照附圖而詳細說明本發明的偏光板的製造方法的理想實施形態。
第1圖是表示本發明的偏光板的製造方法的一實施形態的流程圖。在第1圖所示的本發明的偏光板的製造方法是以下述的順序具備：聚乙烯醇系樹脂層形成步驟(S10)，係在基材膜的一邊的表面上形成聚乙烯醇系樹脂層而作為積層膜；偏光膜化處理步驟(S20)，係在上述聚乙烯醇系樹脂層施以偏光膜化處理而作為偏光膜；保護膜貼合步驟(S30)，係在與上述偏光膜的基材膜側之面為相反側之面貼合保護膜；基材膜剝離步驟(S40)，係將基材膜由積層膜剝離；黏著劑層積層步驟(S60)，係在與保護膜相反側的最表面積層黏著劑層。再者，在基材膜剝離步驟(S40)與黏著劑層積層步驟(S60)之間，亦可包含在基材膜被剝離的面側積層至少1片光學膜的光學膜積層步驟(S50)。
第2圖是表示本發明的偏光板的製造方法的另一個實施形態的流程圖。在第2圖所示的本發明的偏光板的製造 方法，自聚乙烯醇系樹脂層形成步驟(S10)至基材膜剝離步驟(S40)是與第1圖所示的製造方法同樣。第2圖所示的製造方法在基材膜剝離步驟(S40)以後的步驟是具備光學膜積層步驟(S60’)，係在與保護膜相反側的最表面，將附有黏著劑層的光學膜以黏著層成為最表面的方式積層。再者，基材膜剝離步驟(S40)與附有黏箸劑層的光學膜積層步驟(S60’)之間，亦可包含在基材膜被剝離之面側積層至少有1片光學膜的光學膜積層步驟(S50)。
偏光膜化處理步驟(S20)，含有延伸積層膜的延伸步驟(S21)，及，將聚乙烯醇系樹脂層以二色性物質染色的染色步驟(S22)。偏光膜化處理步驟(S20)中，延伸步驟(S21)及染色步驟(S22)，不限定於此順序，可在染色步驟(S22)之後進行延伸步驟(S21)，也可同時進行延伸步驟(S21)與染色步驟(S22)。
[基材膜]
在本發明所用的基材膜的材料而言，例如，使用有優異的透明性，機械性的強度，熱安定性，延伸性等的熱可塑性樹脂。這種熱可塑性樹脂的具體例而言，可舉纖維素三乙酸酯等纖維素酯系樹脂，聚酯系樹脂，聚醚磺酸系樹脂，聚磺酸系樹脂，聚碳酸酯系樹脂，聚醯胺系樹脂，聚醯亞胺系樹脂，聚烯烴系樹脂，(甲基)丙烯酸酯系樹脂，環狀聚烯烴系樹脂(降冰片系樹脂)，聚烯丙酯(polyallylate)系樹脂，聚苯乙烯系樹脂，聚乙烯醇系樹脂，及這些的混合物，共聚物等。基材膜可為，上述的樹脂只用1種的單 層，也可為2種以上樹脂混合者。當然，不是單層而是形成多層膜也可以。
纖維素酯系樹脂是纖維素與脂肪酸的酯。這種纖維素酯系樹脂的具體例而言，可舉纖維素三乙酸酯，纖維素二乙酸酯，纖維素三丙酸酯，纖維素二丙酸酯等。其中，以纖維素三乙酸酯特別理想。纖維素三乙酸酯有多種製品的商品，入手容易性及價格之點也是有利的。纖維素三乙酸酯的商品之例而言，可舉Fujitac(登錄商標)TD80(富士Film(股)製)，Fujitac(登錄商標)TD80UF(富士Film(股)製)，Fujitac(登錄商標)TD80UZ(富士Film(股)製)，Fujitac(登錄商標)TD40UZ(富士Film(股)製)，KC8UX2M(Konica Minolata Opto Co.(股)製)，KC4UY(Konica Minolata Opto Co.(股)製)等。
聚酯系樹脂是有酯鍵的聚合物，主要是多元羧酸與多元醇的聚縮合物。所用的多元羧酸是，主要是使用2元的二羧酸，例如有，異酞酸，對酞酸，對酞酸二甲酯，萘二甲酸二甲酯等。又，所用的多元醇也是主要使用2元的二醇，可舉丙二醇，丁二醇，新戊二醇，環己二醇等。
聚酯系樹脂的具體例而言，可舉聚對酞酸乙二酯，對酞酸丁二酯，聚萘二甲酸乙二酯，聚萘二甲酸丁二酯，聚對酞酸丙二酯，聚萘二甲酸丙二酯，聚對酞酸環己二甲酯，聚萘二甲酸環己二甲酯等。這些的混合樹脂，及共聚物也可以合適使用。
聚碳酸酯系樹脂是包含經由碳酸基鍵合單體單元的聚 合物的工程用塑膠，為具有高耐衝擊性，耐熱性，難燃性的樹脂。又，由於有高透明性在光學用途也可合適使用。在光學用途為了降低光彈性係數，如將聚合物骨架加以修飾的稱為改質聚碳酸酯的樹脂，及改良波長依賴性的共聚碳酸酯等也有商品，可以合適使用。
這種聚碳酸酯樹脂銷售廣大，例如，Panlite(登錄商標)(帝人化成(股))，Iupilon(登錄商標)(三菱Engineering-Plastics Co.(股))，SD Polyca(登錄商標)(住友Dow(股))，Caliber(登錄商標)(Dow Chemicals(股))。
聚烯烴系樹脂而言，可舉聚乙烯，聚丙烯等，容易安定的高倍率的延伸而為理想。又，將丙烯與乙烯共聚合而得的乙烯-丙烯共聚物等也可以使用。共聚合是其他種類的單體也可能，與丙烯可以共聚合的其他種的單體而言，例如可舉，乙烯，α-烯烴。α-烯烴而言，碳數4以上的α-烯烴為理想地被使用，較理想是碳數4至10的α-烯烴。碳數4至10的α-烯烴的具體例而言，例如可舉，1-丁烯，1-戊烯，1-己烯，1-庚烯，1-辛烯，1-癸烯等直鏈狀單烯烴類；3-甲基-1-丁烯，3-甲基-1-戊烯，4-甲基-1-戊烯等支鏈狀單烯烴類；乙烯基環己烷等。丙烯及與其可共聚合的其他的單體的共聚物，可為無規共聚物，也可為嵌段共聚物。共聚物中的其他的單體來源的構成單元的含有率，可遵照在「高分子分析手冊」(1995年，紀伊國屋書店發行)的第616頁中有說明的方法，測定紅外線(IR)光譜而求得。
上述中，做為構成聚丙烯酸酯系樹脂膜的聚丙烯酸酯 系樹脂而言，使用丙烯的單獨聚合物，丙烯-乙烯無規共聚物，丙烯-1-丁烯無規共聚物，及，丙烯-乙烯-1-丁烯無規共聚物為理想。
又，構成聚丙烯酸酯系樹脂膜的聚丙烯酸酯系樹脂的立體規則性，實質上是同排或對排為理想。包含實質上有同排或對排的立體規則性的聚丙烯酸酯系樹脂的聚丙烯酸酯系樹脂膜，其操作性比較良好，並且在高溫環境下的機械性強度優異。
做為環狀聚烯烴系樹脂而言，理想是使用降冰片系樹脂。環狀聚烯烴系樹脂為以環狀烯烴做為聚合單元而聚合的樹脂的總稱，例如，可舉日本專利特開平1-240517號公報，特開平3-14882號公報，特開平3-122137號公報等所說明的樹脂。具體例而言，環狀烯烴的開環(共)聚合物，環狀烯烴的加成聚合物，環狀烯烴與乙烯，丙烯等α-烯烴及其共聚物(代表性的是無規共聚物)，及這些以不飽和羧酸或其衍生物改質的接枝聚合物，以及這些的氫化物等。環狀烯烴的具體例言，可舉降冰片系單體。
做為環狀聚烯烴系樹脂而言，有種種製品上市。具體例而言，可舉Topas(登錄商標)(Ticona公司製)，Arton(登錄商標)(JSR(股)製)，ZEONOR(登錄商標)(日本Zeon(股)製)，ZEONEX(登錄商標)(日本Zeon(股)製)，Apel(登錄商標)(三井化學(股)製)。
做為(甲基)丙烯酸系樹脂而言，可採用任意的合適的(甲基)丙烯酸系樹脂。例如，可舉聚甲基丙烯酸甲酯等聚 (甲基)丙烯酸，甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物，甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物，甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物，(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)，有脂環族烴基的聚合物(例如，甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物，甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚物等)。理想是，可舉聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯。做為(甲基)丙烯酸系樹脂，較理想是使用甲基丙烯酸甲酯為主成分(50至100重量%，理想是70至100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
對基材膜，上述的熱可塑性樹脂之外，添加任意的合適的添加劑也可以。這種添加劑而言，例如可舉，紫外線吸收劑，氧化防止劑，滑劑，可塑劑，離模劑，著色防止劑，難燃劑，核劑，帶電防止劑，顏料，及著色劑等。基材膜中的上述例示的熱可塑性樹脂的含有量，理想是50至100重量%，較理想是50至99重量%，更理想是60至98重量%，特別理想是70至97重量%。基材膜中的熱可塑性樹脂的含有量未達50重量%時，熱可塑性樹脂本來有的高透明性等有顯現不足之虞之故。
基材膜的厚度，可適宜決定，但一般而言由強度及操作性等作業性之點而言在1至500μm為理想，1至300μm為較理想，再以6至200μm為更理想。基材膜的厚度，在5至150μm最為理想。
基材膜為了，要提高與聚乙烯醇系樹脂層的密著性起 見，至少在形成聚乙烯醇系樹脂層側的表面，也可進行電暈處理，電漿處理，火燄處理等。又為了提高密著性起見，也可在基材膜的形成聚乙烯醇系樹脂層側的表面形成底塗層等薄層。
[底塗層]
底塗層而言，如是在基材膜與聚乙烯醇樹脂層對雙方會發揮某種程度的強密著力的材料則無特別的限定。例如，可使用透明性，熱安定性，延伸性等優異的熱可塑樹脂。具體而言可舉丙烯酸系樹脂，聚乙烯醇系樹脂，但不限定於這些。
構成底塗層的樹脂，以溶解於溶媒的狀態使用也可以。視對樹脂溶解性，而可使用苯，甲苯，二甲苯等芳香族烴類，丙酮，甲基乙基酮，甲基異丁基酮等酮類，乙酸乙酯，乙酸異丁酯等酯類，氯化甲烷，三氯乙烷，三氯甲烷等氯化烴類，乙醇，1-丙醇，2-丙醇，1-丁醇等醇類等，可使用一般性的有機溶媒。只是，使用含有有機溶媒的熔液而形成底塗層時，有將基材溶解的情況，也要考慮基材的溶解性而選擇溶媒為理想。考慮對環境的影響則由以水作為溶媒的塗工液形成底塗層為理想。其中，尤以使用密著性良好的聚乙烯醇系樹脂為理想。
做為底塗層而使用的聚乙烯醇系樹脂而言，例如可舉，聚乙烯醇樹脂及其衍生物。聚乙烯醇樹脂的衍生物而言，可舉聚乙烯醇縮甲醛(polyvinyl formal)，聚乙烯醇縮乙醛(polyvinyl acetal)等之外，可舉將聚乙烯醇樹脂以乙烯， 丙烯等烯烴，丙烯酸，甲基丙烯酸，巴豆酸等不飽和羧酸，不飽和羧酸的烷酯，丙烯醯胺等改質者。上述的聚乙烯醇系樹脂材料中，使用聚乙烯醇系樹脂為理想。
為提高底塗層的強度起見在上述熱可塑性樹脂添加交聯劑也可以。添加於樹脂的交聯劑，可使用有機系，無機系等公知者。對使用的熱可塑性樹脂，可適宜選擇較合適的交聯劑，例如，可選擇環氧系，異氰酸酯系，二醛系，金屬系的交聯劑。環氧系的交聯劑而言，可使用一液硬化型的，或二液硬化型的任一種。可舉乙二醇環氧丙基醚，聚乙二醇環氧丙基醚，甘油二或三環氧丙基醚，1,6-己二醇二環氧丙基醚，三羥甲基丙烷三環氧丙基醚，二環氧丙基苯胺，二環氧丙基胺等環氧類。
做為異氰酸酯系的交聯劑而言，可舉三氯乙烯二異氰酸酯(trilene diisocyanate)，氫化三氯乙烯二異氰酸酯，三羥甲基丙烷-三氯乙烯二異氰酸酯加成物，三苯基甲烷三異氰酸酯，亞甲基雙(4-苯甲烷三異氰酸酯)，異佛爾酮二異氰酸酯，及這些的酮肟嵌段物或酚嵌段物等異氰酸酯類。
二醛系的交聯劑而言，可舉乙二醛，丙二醛，丁二醛，戊二醛，順丁烯二醛，酞二醛等。
金屬系的交聯劑而言，例如可舉，金屬鹽，金屬氧化物，金屬氫氧化物，有機金屬化合物，金屬的種類並無特別限定，適宜選擇即可。金屬鹽，金屬氧化物，金屬氫氧化物而言，例如可舉，鈉，鉀，鎂，鈣，鋁，鐵，鎳，鋯，鈦，矽，硼，鋅，銅，釩，鉻，錫等之具有二價以上的原 子價的金屬的鹽及其氧化物，氫氧化物。
有機金屬化合物就是金屬原子直接與有機基鍵合，或在分子內至少有1個經由氧原子或氮原子等與有機基鍵結的構造的化合物。有機基表示至少含有碳元素的官能基，例如，可以是烷基，烷氧基，醯基等。又，鍵合就是不只表示共價鍵，也可為螯合物狀化合物等藉由配位的配位鍵。
上述金屬有機化合物的合適的例而言，可舉鈦有機化合物，鋯有機化合物，鋁有機化合物，及矽有機化合物。這些金屬有機化合物，只使用一種類也可以，適宜地將二種類以上混合使用也可以。
上述鈦有機化合物的具體例而言，例如可舉，鈦酸四正丁酯，鈦酸四異丙酯，鈦酸丁酯二聚物，鈦酸四(2-乙基己基)酯，鈦酸四甲酯等鈦正酯類；乙醯丙酮鈦，四乙醯丙酮鈦，聚乙醯丙酮鈦，伸辛基羥乙酸鈦(titaniuim octylene glyconate)，乳酸鈦，三乙醇胺鈦(titaniuim triethanolaminate)，乙基乙醯丙酮鈦等鈦螯合物類；聚羥硬脂酸鈦等醯化鈦(titanium acylate)類；等。
上述鋯有機化合物的具體例而言，例如可舉，正丙酸鋯，正丁酸鋯，四乙醯丙酮鋯，單乙醯丙酮鋯，雙乙醯丙酮鋯，乙醯丙酮鋯雙乙基乙醯丙酮等。
上述鋁有機化合物的具體例而言，例如可舉，乙醯丙酮鋁，鋁有機酸螯合物等。上述矽有機化合物的具體例而言，例如可舉，有上述鈦有機化合物及鋯有機化合物所例示的配位子的化合物。
上述的低分子交聯劑之外，也可使用羥甲基化三聚氰胺樹脂，及聚醯胺環氧樹脂等高分子系的交聯劑等。這種聚醯胺環氧樹脂的商品而言，有住化Chemtex(股)販賣的「Sumirez(登錄商標)樹脂650(30)」及Sumirez(登錄商標)樹脂675」(均為商品名)等。
熱可塑性樹脂而要使用聚乙烯醇系樹脂時，聚醯胺環氧樹脂，羥甲基化三聚氰胺，二醛，金屬螯合交聯劑等為特別理想。
為了要形成底塗層而使用的熱可塑性樹脂與交聯劑的比率，對樹脂100重量份，交聯劑在0.1至100重量份左右的範圍，視樹脂的種類及交聯劑的種類等而適宜決定即可，尤其在0.1至50重量份左右的範圍選擇為理想。又，底塗層用塗工液，其固形分濃度設在1至25重量%左右為理想。
底塗層的厚度是0.05至1μm為理想。更理想是0.5至1.0μm。比0.05μm薄時基材膜與聚乙烯醇層的密著力提高的效果小，比1μm厚時，偏光板變厚而不理想。
在形成底塗層時，所使用的塗工方式並無特別的限制，由線棒塗佈法(wire bar coating)，逆轉輥塗佈法，凹面塗佈等輥筒式塗佈法，模具塗佈法，刮刀式塗佈法(comma coating)，嘴唇塗佈法(lip coating)法，旋轉塗佈法，網面塗佈法，噴注式塗佈法(fountain coating)，浸漬塗佈法，噴塗法等由公知的方法可適宜選擇而採用。
[聚乙烯醇系樹脂層形成步驟]
在聚乙烯醇系樹脂層形成步驟(S10)中，基材膜的一個表面上形成包含聚乙烯醇系樹脂的樹脂層(聚乙烯醇系樹脂層)。聚乙烯醇系樹脂而言，可舉例如聚乙烯醇樹脂及其衍生物。聚乙烯醇樹脂的衍生物而言，可舉聚乙烯醇縮甲醛，聚乙烯醇縮乙醛之外，將聚乙烯醇樹脂以乙烯，丙烯等烯烴，丙烯酸，甲基丙烯酸，巴豆酸等不飽和羧酸，不飽和羧酸的烷基酯，丙烯醯胺等改質者。在上述聚乙烯醇系樹脂材料中，使用聚乙烯醇樹脂為理想。
聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度，100至10000為理想，1000至10000較理想。特別是，1500至8000較理想，再在2000至5000最為理想。這裏所稱的平均聚合度也是以JISK 6726(1994)規定的方法所求的數值。平均聚合度未達100則要得到理想光學特性有困難。超過10000則對水的溶解性惡化，聚乙烯醇系樹脂層的形成有困難。
在本發明所用的聚乙烯醇系樹脂，皂化品為理想。皂化度的範圍，80.0莫耳%至100.0莫耳%為理想，90.0莫耳%至99.5莫耳%較理想，再者94.0莫耳%至99.0莫耳%為最理想。皂化度未達80.0莫耳%，則製作成偏光板後的耐水性、耐濕熱性有顯著差的不利。又，使用皂化度超過99.5莫耳%的聚乙烯醇系樹脂時，染色速度顯著變慢，有不能得到充分偏光性能的偏光性積層膜的情況，又在製造中產生需要通常的數倍之多的時間的不利的情況。
在此所稱的皂化度就是，聚乙烯醇系樹脂的原料的聚乙酸乙烯系樹脂所含的乙酸基在皂化步驟中改變為羥基的 比率以單元比(莫耳%)表示的，為以下述式定義的數值。以JISK 6726(1994)所規定的方法可求得。
皂化度(莫耳%)=(羥基的數)÷(羥基的數+乙酸基的數)×100
皂化度愈高，表示羥基的比率高，即表示抑制結晶化的乙酸基的比率低。
又，本發明所用的聚乙烯醇系樹脂，有一部分改質的改質聚乙烯醇也可以。例如可舉，將聚乙烯醇系樹脂以乙烯，丙烯等烯烴，丙烯酸，甲基丙烯酸，巴豆酸等不飽和羧酸，不飽和羧酸的烷酯，丙烯醯胺等改質者等。改質的比率是未達30莫耳%為理想，未達10%較理想。有超過30莫耳%的改質時，變成不容易吸附二色性色素，會產生偏光性能之降低。
有這種特性的聚乙烯醇系樹脂而言，例如可舉(股)Kuraray製的PVA124(皂化度；98.0至99.0莫耳%，PVA117(皂化度：98.0至99.0莫耳%)，PVA624(皂化度：95.0至96.0莫耳%)及PVA617(皂化度：94.5至95.5莫耳%)；例如可舉日本合成化學工業(股)製AH-26(皂化度：97.0至98.8莫耳%)，AH-22(皂化度：97.5至98.5莫耳%)，NH18(皂化度：98.0至99.0莫耳%)，及N-300(皂化度：98.0至99.0莫耳%)；例如JAPAN VAM & POVAL CO.,LTD(股)的JC-33(皂化度：99.0莫耳%以上)，JM-33(皂化度：93.5至95.5莫耳%)，JM-26(皂化度：95.5至97.5莫耳%)，JP-45(皂化度：86.5至89.5莫耳%)，JF-17(皂化度：98.0至99.0莫耳%)， JF-17L(皂化度：98.0至99.0莫耳%)及JF-20(皂化度：98.0至99.0莫耳%)等，在本發明中可合適使用。
上述的聚乙烯醇系樹脂中，視需要而可添加，可塑劑，界面活性劑等添加劑也可以。可塑劑而言，可例示多元醇及其縮合物等，例如甘油，二甘油，三甘油，乙二醇，丙二醇，聚乙二醇等。添加物的配合量，並無特別的限制，但設定為聚乙烯醇系樹脂中20重量%以下為合適。
聚乙烯醇系樹脂層的厚度是，理想是大於3μm並在20μm以下，較理想是5至20μm。3μm以下則在延伸後變成過薄，染色性顯著惡化，超過20μm則偏光板的厚度變厚因而不理想。
在本發明的聚乙烯醇系樹脂層，理想是將聚乙烯醇系樹脂的粉末溶解於良溶媒而得的聚乙烯醇系樹脂溶液在基材膜的一邊的表面上塗工，將溶劑蒸發而形成。以這種方法，則可形成薄的聚乙烯醇系樹脂層。
將聚乙烯醇系樹脂溶液在基材膜塗工的方法而言，由線棒塗佈(wire bar coating)法，逆轉輥塗佈法，凹面塗佈等輥式塗佈法，模具塗佈法，刮刀式塗佈法，嘴唇塗佈法，旋轉塗佈法，網面塗佈法，噴注式塗佈法，浸漬塗佈法，噴塗法，等公知的方法可適宜選擇而採用。乾燥溫度，例如50至200℃，理想是60至150℃，乾燥時間是，例如2至20分鐘。
再者，在本發明中的聚乙烯醇系樹脂層，也可將包含聚乙烯醇系樹脂的原料膜在基材膜的一邊的表面上貼著而 形成。
[偏光膜化處理步驟(S20)] (延伸步驟)
在延伸步驟(S21)中，將包含基材膜及聚乙烯醇系樹脂的積層膜延伸。這時，一軸延伸為理想。又，對積層膜的原來長度，一軸延伸到超過5倍的延伸倍率為理想。較理想是，一軸延伸成為超過5倍並在17倍以下的延伸倍率。更理想是一軸延伸成為超過5倍並在8倍以下的延伸倍率。延伸倍率在5倍以下，則聚乙烯醇系樹脂層不會充分定向排列，結果而言，偏光膜的偏光度不會充分高。另一方面，延伸倍率超過17倍則延伸時的積層膜容易產生破裂，並且積層膜的厚度變成不需要的過薄，在後步驟的加工性、操作性有降低之虞。
延伸步驟(S21)中的延伸處理，並不限定於一段延伸，也可進行多段處理。進行多段處理時，將延伸處理的全段合起來達超過5倍的延伸倍率而進行延伸處理為理想。
在延伸步驟(S21)中，要進行一軸延伸時，對積層膜的長方向實施的縱延伸處理，或對寬方向實施的横延伸處理，斜延伸處理等。縱延伸方式而言，可舉輥筒間延伸方法，壓縮延伸方法等，横延伸方式而言可舉拉幅機(tenter)法等。
又，延伸處理可採用濕潤式延伸方法與乾式延伸方法的任一者，但使用乾式延伸方法時，在延伸積層膜時可由廣大的範圍選擇溫度之點而為理想。
(染色步驟)
在染色步驟(S22)中，將積層膜的聚乙烯醇系樹脂層，以二色性物質染色。二色性物質而言，例如，可舉碘及有機染料等。有機染料而言，例如可使用，紅BR，紅LR，紅R，粉紅LB，螢紅BL，波爾多紅GS，天藍LG，檸檬黃，藍BR，藍2R，海軍RY，綠LG，紫LB，紫B，黑H，黑B，黑GSP，黃3G，黃R，橙LR，橙3R，深紅GL，深紅KGL，剛果紅，亮紫BK，Supra藍G，Supra藍GL，Supra橙GL，直接天藍，直接耐晒橙S(direct fast orange S)，直接耐晒黑(direct fast black)等。這些二色性物質，一種類也可以，二種類以上併用而使用也可以。
染色步驟，例如，在含有上述二色性物質的溶液(染色溶液)，將包含基材膜及聚乙烯醇系樹脂層的積層膜整體浸漬而進行。染色溶液而言，可使用將上述二色性物質溶解於溶媒的溶液。染色溶液的溶媒而言，一般是使用水，但再添加與水有相溶性的有機溶媒也可以。二色性物質的濃度而言，0.01至10重量%為理想，0.02至7重量%為較理想，0.025至5量量%為特別理想。
做為二色性物質而使用碘時，由於可將染色效率更提高之故，再添加碘化物為理想。這種碘化物而言，例如可舉，碘化鉀，碘化鋰，碘化鈉，碘化鋅，碘化鋁，碘化鉛，碘化銅，碘化鋇，碘化鈣，碘化錫，碘化鈦等。這些碘化物的添加比率，在染色溶液中，0.01至20重量%為理想。碘化物中，尤以添加碘化鉀為理想。添加碘化鉀時，碘與 碘化鉀的比率以重量比，在1：5至1：100的範圍為理想，在1：6至1：80的範圍較理想，1：7至1：70的範圍為特別理想。
在染色溶液中的積層膜的浸漬時間，並無特別限定，但通常是15秒至15分鐘的範圍為理想，20秒至6分鐘為較理想。又，染色溶液的溫度，10至60℃的範圍為理想，20至40℃的範圍為較理想。
染色步驟是將二色性物質吸附在積層膜的聚乙烯醇系樹脂層，使二色性物質定向排列。染色步驟(S22)，可在延伸步驟(S21)之前，同時或之後即刻進行，但在聚乙烯醇系樹脂層吸附的二色性物質的定向排列良好之點而言，在積層膜施加延伸步驟(S21)後進行為理想。
(其他的步驟)
在偏光膜化處理步驟(S20)中，延伸步驟(S21)及染色步驟(S22)之外，可進行交聯步驟。交聯步驟，例如，可在含有交聯劑的溶液(交聯溶液)中將積層膜浸漬而進行。交聯劑而言，可使用以往公知的物質。例如可舉，硼酸，硼砂等硼化合物，乙二醛，戊二醛等。這些是一種類也可以，將二種類以上併用也可以。
做為交聯溶液而言，可使用將交聯劑溶解於溶媒的溶液。溶媒而言，例如可使用水，但再含有與水有相溶性的有機溶媒也可以。交聯溶液中的交聯劑的濃度，並不限定於此，但在1至20重量%的範圍為理想，在6至15重量%為較理想。
在交聯溶液中，添加碘化物也可以。由於碘化物的添加，可使聚乙烯醇系樹脂的面內的偏光特性更均勻化。碘化物而言，例如可舉，碘化鉀，碘化鋰，碘化鈉，碘化鋅，碘化鋁，碘化鉛，碘化銅，碘化鋇，碘化鈣，碘化錫，碘化鈦。碘化物的含有量是0.05至15重量%，較理想是0.5至8重量%。
在交聯溶液中的積層膜的浸漬時間，通常在15秒至20分鐘為理想，30秒至15分鐘為較理想。又，交聯溶液的溫度，在10至80℃的範圍為理想。
交聯步驟是將交聯劑在染色溶液中配合，可將交聯步驟與染色步驟(S22)同時進行。又，交聯步驟與延伸步驟(S21)同時進行也可以。
在偏光膜化處理步驟(S20)中，最後進行清洗步驟及乾燥步驟為理想。清洗步驟而言，可實施水清洗處理。水清洗處理，通常可在離子交換水，蒸餾水等純水中，將經過延伸步驟(S21)及染色步驟(S22)的積層膜浸漬而進行。水清洗溫度，通常3至50℃，理想是4℃至20℃的範圍。浸漬時間是通常2至300秒鐘，理想是8秒至240秒鐘。
清洗步驟可將用碘化物溶液的清洗處理與水清洗處理組合，也可適宜地配合甲醇，乙醇，異丙醇，丁醇，丙醇等液體醇的溶液而使用。又，在清洗步驟之後，使用夾輥(nip roll)或噴氣刮刀等甩掉水的步驟也可以。
在清洗步驟後，將積層膜乾燥為理想。在這種乾燥中，含有在60℃以上的溫度的乾燥步驟為理想，含有70℃以上 的溫度的乾燥步驟較理想。當然，含有溫度不同的多階段的乾操步驟也可以。這時，多階段的乾燥步驟中，有任何一個乾燥步驟在60℃以上即可。
溫度以外也要強化乾燥力起見，將風量及風向等熱風的循環方法最適化，或併設可以局部性的加熱的IR加熱器等也可以。由於這些補助乾燥的效率更可提高，貢獻於生產性的提高。
乾燥溫度的上限，比水的沸點低的溫度為理想，未達100℃為理想。再者，在95℃以下為理想，在90℃以下最為理想。
由以上的偏光膜化處理步驟(S20)，聚乙烯醇系樹脂層會具有做為偏光膜的功能。在本說明書中，經過偏光膜化處理步驟(S20)的聚乙烯醇系樹脂層稱為偏光膜。
所得的偏光膜，與偏光膜的吸收軸直交的方向的每2mm寬度收縮力，在80℃的溫度保持240分鐘時為1.0N以下。又，偏光膜的吸收軸方向的每2mm寬度的收縮力是，在80℃溫度保持240分鐘時在2.5N以下為理想。又，所得的偏光膜的厚度是10μm以下為理想。
[保護膜貼合步驟]
在保護膜貼合步驟(S30)中，在與偏光膜的基材膜側的面為相反側的面貼合保護膜。貼合保護膜的方法而言，可舉以黏著劑將偏光膜與保護膜貼合的方法，以接著劑將偏光膜與保護膜貼合的方法。
(保護膜)
在本發明所用的保護膜而言，不具光學功能的單純的保護膜也可以，併有相位差膜或輝度提高膜等光學功能的保護膜也可以。保護膜的材料而言，並無特別限定，但例如可舉，環狀聚烯烴系樹脂膜，由三乙醯基纖維素，二乙醯基纖維素等的樹脂所成的乙酸纖維系樹脂膜，聚對酞酸乙二酯，聚萘二甲酸乙二酯，聚對酞酸丁二酯等的樹脂所成的聚酯系樹脂膜，聚碳酸酯系樹脂膜，丙烯酸系樹脂膜，聚丙烯酸酯系樹脂膜等，在本領域中以往廣被使用的膜。
環狀聚烯烴系樹脂而言，可合適使用商品，例如Topas(登錄商標)(Ticona公司製)，Arton(登錄商標)(JSR(股)製)，ZEONOR(登錄商標)(日本Zeon(股)製)，ZONEX(登錄商標)(日本Zeon(股)製)，Apel(登錄商標)(三井化學(股)製)。這種環狀聚烯烴系樹脂在製膜而成膜時，可適宜使用溶劑澆鑄法(solvent casting method)，熔融押出法等的公知的方法。又Escena(登錄商標)(積水化學工業(股)製)，SCA40(積水化學工業(股)製)，ZEONOA(登錄商標)膜((股)Optes製)等的預先製膜好的環狀聚烯烴系樹脂製的膜的商品也可以。
環狀聚烯烴系樹脂膜，可為經過一軸延伸或二軸延伸的膜。由於延伸，在環狀聚烯烴系樹脂膜賦予任意的相位差值。延伸，通常將膜輥在捲出中連續性地進行，以加熱爐，向輥的進行方向，與其進行方向成垂直的方向，或向其雙方延伸。加熱爐的溫度，通常，自接近環狀聚烯烴系樹脂的玻璃轉移溫度到玻璃轉移溫度+100℃為止的範圍。 延伸的倍率，每一方向通常是1.1至6倍，理想是1.1至3.5倍。
環狀聚烯烴系樹脂膜，因一般而言表面活性差之故，在與偏光膜黏接的底面，實施電漿處理，電暈處理，紫外線照射處理，火燄處理，皂化處理等表面處理為理想。其中，尤以比較容易可實施的電漿處理，電暈處理為合適。
乙酸纖維系樹脂膜而言，可使用合適的商品，例如，Fujitac(登錄商標)TD 80(富士膜(股)製)，Fujitac(登錄商標)TD80UF(富士膜(股)製)，Fujitac(登錄商標)TD80UZ(富士膜(股)製)，Fujitac(登錄商標)TD40UZ(富士膜(股)製)，KC8UX2M(Konica Minalta Opto(股)製)，KC4UY(Konica Minolta Opto(股)製)。
在乙酸纖維素系樹脂膜的表面，為了改良視野角特性起見也可形成液晶層等。又，為了賦予相位差也可為乙酸纖維素系樹脂經延伸者。乙酸纖維素系樹脂膜，為了提高與偏光膜的接著性起見，通常是施加皂化處理。皂化處理而言，可採用在氫氧化鈉或氫氧化鉀等鹼的水溶液中浸漬的方法。
如上述製成的保護膜，成為輥的狀態時，膜間互相接著而有容易成塊狀的傾向，所以理想是將輥端部施加凹凸加工，或在端部插入帶狀物，或貼合保護膜等而捲成輥。
保護膜的厚度是薄為理想，但過薄時，強度降低，加工性差，另一方面過厚時，透明性降低，或在積層後需要的熟成時間變長等問題。因此，保護膜的厚度，90μm以 下為理想，較理想是5至60μm。又，市場有對包括面板，模組的薄型化的要求，有關偏光膜也有薄的要求，所以偏光膜與保護膜的合計的厚度在100μm以下為理想，較理想是90μm以下，更理想是80μm以下。
又，也可在保護膜表面，直接形成硬塗佈層，防眩層，反射防止層等光學層。在保護膜表面形成這些光學層的方法是沒有特別的限定，可使用公知的方法。
(使用黏著劑的保護膜的貼合)
保護膜與偏光膜的貼合使用黏著劑時，黏著劑通常是包含將丙烯酸系樹脂，苯乙烯系樹脂，聚矽氧系樹脂等做為底聚合物，在其中，加異氰酸酯化合物，環氧化合物，氮丙啶(aziridine)化合物等交聯劑組成物。再含有微粒子而成為表現光散射性的黏著劑層也可以。
黏著劑層的厚度是1至40μm為理想，但在不損失加工性，耐久性的特性的範圍內，塗薄為理想，較理想是3至25μm。在3至25μm時有良好的加工性，且在抑制偏光膜的尺寸變化上也是合適的厚度。黏著劑層未達1μm時有黏著性降低，超過40μm則容易產生黏著劑溢出等不利情況。
以黏著劑將保護膜貼合於偏光膜的方法中，在保護膜面設黏著劑層後，與偏光膜貼合也可以，在偏光膜面設黏著劑層後，在此將保護膜貼合也可以。
形成黏著劑層的方法並無特別限定，在偏光膜或在保護膜上，將上述的含有底聚合物以及其他各成分的溶液塗 佈，乾燥而形成黏著劑層後，將保護膜與偏光膜貼合也可以，在分隔件上形成黏著劑層後，在保護膜面或偏光膜面轉錄積層也可以。又，將黏著劑層在保護膜或偏光膜面形成時，視需要而將保護膜或偏光膜面，或黏著劑的一邊或兩邊施加密著處理，例如，施加電暈處理等也可以。
(使用接著劑的保護膜貼合)
在保護膜與偏光膜的貼合使用接著劑時，做為接著劑而言，例如，可舉使用聚乙烯醇系樹脂水溶液，水系二液型胺甲酸酯系乳液接著劑等水系接著劑。做為保護膜而使用以皂化處理等經過親水化處理的乙酸纖維素系膜時，做為與偏光膜貼合用的水系接著劑，而可合適使用聚乙烯醇系樹脂水浴液。做為接著劑而使用聚乙烯醇系樹脂，將乙酸乙烯酯的單獨聚合物的聚乙酸乙烯酯皂化處理而得的乙烯醇均聚合物之外，有將乙酸乙烯酯及與其可共聚合的其他單體的共聚物皂化處理而得的乙烯醇系共聚物，以及將這些的羥基的一部分改質的改質聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑而言，將多元醛，水溶性環氧化合物，三聚氰胺系化合物，氧化鋯化合物，鋅化合物等做為添加劑而添加也可以。使用這種水系的接著劑時，由此所得的接著劑層，通常成為1μm以下，以通常的光學顯微鏡觀察截面，該接著劑層事實上觀察不到。
使用水系接著劑將偏光膜與保護膜貼合的方法並無特別的限定，例如可舉將偏光膜及/或保護膜的表面均勻塗佈接著劑，在塗佈面將另外一方的膜重疊以輥等貼合、乾燥 的方法等。通常，接著劑是在其調製後，在15至40℃的溫度下塗佈，貼合溫度是通常在15至30℃的範圍。
使用水系接著劑時，將偏光膜與保護膜貼合後，為了除去水系接著劑中所含的水起見，將積層膜乾燥。乾燥爐的溫度，30℃至90℃為理想。未達30℃則偏光膜面與保護膜面有容易剝離的傾向。90℃以上時因熱而光學性能有劣化之虞。乾燥時間是可設在10至1000秒鐘。
乾燥後再在室溫或比室溫稍高的溫度，例如，20至45℃程度的溫度熟成12至600小時左右也可以。熟成的溫度，一般是設定在比乾燥時所採用的溫度為低。
又做為將偏光膜與保護膜貼合時的接著劑而言，也可使用光硬化性接著劑。光硬化性接著劑而言，例如，可舉光硬化性環氧樹脂與光陽離子聚合起始劑的混合物等。
將偏光膜與保護膜以光硬化性黏著劑貼合時的方法而言，可使用以往公知的方法，例如可舉，使用流延法，繞線棒塗佈法(Myer bar coating)，凹面塗佈法，刮片式塗佈法(comma coater)法，刮刀塗佈法(doctor blade method)，模具塗佈法，浸漬塗佈法，噴霧法等，在偏光膜及/或保護膜的接著面塗佈接著劑，將二者重疊的方法。流延法就是將被塗佈物的偏光膜或保護膜，向略成垂直方向，略成水平方向，或二者之間的斜的方向移動中，在其表面流下而使接著劑擴展的方法。
在偏光膜或保護膜的表面塗佈接著劑後，將偏光膜及保護膜經由接著劑塗佈面以軋輥(nip roll)等挾持而貼合而 接著。又，將偏光膜與保護膜重疊的狀態而在偏光膜與保護膜之間滴下接著劑後，將此積層膜以輥等加壓而均勻推展的方法也可合適使用。這時，輥材質而言可使用金屬或橡膠等。再者，採用偏光膜與保護膜之間滴下接著劑後，將此積層膜通過輥與輥之間，加壓而推展的方法也是理想。這時，這些輥是同一材質也可以，不同材質也可以。使用上述軋輥而貼合之後的接著劑層的乾燥或硬化前的厚度是5μm以下並在0.01μm以上為理想。
在偏光膜及/或保護膜的接著表面，為提高接著性，適宜施加電漿處理，電暈處理，紫外線照射處理，火燄處理，皂化處理等表面處理也可以。皂化處理而言，可舉在氫氧化鈉或氫氧化鉀等鹼的水溶液中浸漬的方法。
做為接著劑而使用光硬化性樹脂時，偏光膜與保護膜貼合後，照射活性能量線而使光硬化性接著劑硬化。活性能量線的光源是並無特別限定，但在波長400nm以下有發光分佈的活性能量線為理想，具體而言，使用低壓水銀燈，中壓水銀燈，高壓水銀燈，超高壓水銀燈，化學燈，紫外光燈，微波激發水銀燈，金屬鹵化物燈等為理想。
對光硬化性接者劑的光照射強度，視光硬化性接著劑的組成而適宜決定，並無特別限定，對聚合起始劑的活性化有效的波長領域的照射強度在0.1至6000mW/cm2為理想。照射強度在0.1mW/cm2以上時，反應時間不會過長，6000mW/cm2以下時，由光源輻射的熱及光硬化性接著劑的硬化時的發熱引起的環氧樹脂的變黃或偏光膜劣化之虞 少。對光硬化性接著劑的光照射時間，視要使硬化的光硬化性接著劑而適用，並無特別的限定，但以上述的照射強度與照射時間之積而表示的積算光量設定在10至10000mJ/cm2為理想。光硬化性接著劑的積算光量在10mJ/cm2以上時，聚合起始劑來源的活性種發生充分量而可使硬化反應更確實進行，10000mJ/cm2以下時，照射時間不會過長，可維持良好的生產性。再者，活性能量線照射後的接著劑層的厚度，通常0.001至5μm左右，理想是0.01μm以上並在2μm以下，再理想是0.01μm以上並在1μm以下。
以活性能量線的照射使光硬化性接著劑硬化時，偏光膜的偏光度，透過率及色相，以及保護膜的透明性等，偏光膜的諸功能不會降低的條件進行硬化為理想。
[基材膜剝離步驟]
在本發明的偏光板的製造方法中，將保護膜貼合於偏光膜的保護膜貼合步驟(S30)之後，進行基材膜剝離步驟(S40)。在基材膜剝離步驟(S40)中，將基材膜由積層膜剝離，基材膜的剝離方法並無特別限定，可用在通常的附有黏著劑的偏光板所實施的剝離膜(分隔膜)的剝離步驟同樣的方法剝離。在保護膜貼合步驟(S30)之後，直接即刻剝離也可以，將保護膜在貼合步驟(S30)之後，先捲取成輥狀後，在後步驟中於捲出中剝離也可以。
[光學膜積層步驟]
如以上製造的本發明的偏光板，在光學膜積層步驟 (S50)中，在實用時將其他光學膜積層也可以。再者，上述保護膜有這些的光學膜的功能也可以。其他的光學膜之例而言，可舉保護膜，相位差膜，透過某種的偏光光，而將顯示與此有相反性質的偏光反射的反射型偏光膜，在表面有凹凸形狀的附有防眩功能膜，附有表面反射防止功能膜，在表面有反射功能的反射膜，併有反射功能與透過功能的半透過反射膜，視野角補償膜。理想是保護膜或相位差膜。
保護膜而言，可舉上述的保護膜同樣的膜。相位差膜而言，例如可舉，包含三乙醯基纖維素系樹脂，聚碳酸酯系樹脂或環狀聚烯烴系樹脂的相位差膜。相當於包含環狀聚烯烴樹脂的相位差膜的商品而言，可舉Arton(登錄商標)膜(JSR(股)製)，Escena(登錄商標)(積水化學工業(股)製)，Zeonoa(登錄商標)膜((股)Optes製)等。
相當於透過某種的偏光光，將顯示與此相反性質的偏光光反射的反射型偏光膜的商品市販品而言，例如可舉DBEF(3M公司製，可由住友3M(股)入手)，APF(3M公司製，可由住友3M(股)入手)。視野角補償膜而言可舉在基材表面塗佈液晶性化合物，有定向排列的光學補償膜。相當於在基材表面塗佈液晶性化合物，有定向排列的光學補償膜的商品而言，可舉WV膜(富士Film(股)製)，NH膜(新日本石油(股)製)，NR膜(新日本石油(股)製)等。
[黏著劑層積層步驟]
在第1圖所示的黏著劑層積層步驟(S60)中，在與上述 保護膜相反側(基材膜被剝離的面側)的最表面積層黏著劑。前述基材膜被剝離的面側要積層至少1片光學膜時，在本步驟中，在離偏光膜最遠的光學膜的與偏光膜相反側之面積層黏著劑層為理想。
本發明的偏光板是具有將規定的收縮力抑制低的偏光膜，及保護膜的偏光板，而在其最外側形成在23℃的儲藏彈性率在0.20MPa以上的黏著劑層，此偏光板是經由前述黏著劑層而液貼附於液晶胞。
以往的偏光膜，將聚乙烯醇系樹脂層的單獨膜延伸，染色而製作，因此要薄型化時需要將單獨膜直接變薄。但是，這種薄型化在之後步驟的操作性會悪化之故，非常的困難，又，如此所得的偏光膜是收縮力大的膜。因此，要緩和這種偏光膜的收縮力起見，雖然明知有偏光板全體尺寸變化的惡化但不得不在偏光板最外層設置在23℃的儲藏彈性率小的黏著劑層的狀況。
與此相比，在本發明，具備由利用基材膜製作的薄型且收縮力低的規定的偏光膜，再者，做為偏光板最外層是設置在23℃的儲藏彈性率在0.20MPa以上的黏著劑層，因而偏光膜等的破裂或剝離、漏光可被抑制，並且，將偏光板由高溫環境下移到室溫環境下時的尺寸舉動的變化可更有效抑制。
又，不單是將設置在偏光板最外層的黏著劑層的在23℃的儲藏彈性率為0.20MPa以上，藉由80℃的儲藏彈性率為15MPa以上，則可特別有效抑制在高溫環境下的尺寸舉 動的變化。
在23℃的儲藏彈性率比0.2MPa小時，例如，由高溫環境下移到室溫環境下時的尺寸舉動有變大之虞。又，在80℃的儲藏彈性率比0.15MPa小時在高溫環境下的尺寸有變化之虞。
由黏著劑所形成的黏著劑層在23℃的儲藏彈性率是在0.20MPa以上。理想是，黏著劑層的80℃的儲藏彈性率在0.15MPa以上。
在本步驟所用的黏著劑是以往用於影像顯示裝置的種種的黏著劑做為基底而形成。例如，有丙烯酸系，橡膠系，胺甲酸酯系，聚矽氧系，聚乙烯醚等黏著劑。又，能量線硬化型，熱硬化型等也可以。這些中，尤以有優異的透明性，耐候性，耐熱性等丙烯酸系樹脂做為底聚合物的感壓黏著劑為合適。
丙烯酸系樹脂而言，並無特別限定，(甲基)丙烯酸丁酯，(甲基)丙烯酸乙酯，(甲基)丙烯酸異辛酯，(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸烷酯的單獨聚合物，或(甲基)丙烯酸烷酯的2種以上的共聚物，再有(甲基)丙烯酸烷酯的1種或2種以上與極性單體的共聚物可合適使用。極性單體而言，例如可舉，(甲基)丙烯酸，(甲基)丙烯酸2-羥丙酯，(甲基)丙烯酸2-羥乙酯，(甲基)丙烯醯胺，(甲基)丙烯酸2-N,N-二甲基胺乙酯，(甲基)丙烯酸環丙氧酯等，具有羧基，羥基，醯胺基，胺基，環氧基等的單體。
這些的丙烯酸系樹脂，單獨當然可以使用，但通常是 併用交聯劑。交聯劑而言，可例示是2價或多價金屬離子與羧基之間形成羧酸金屬鹽者，聚胺化合物與羧基之間形成醯胺鍵者，聚環氧化合物或多元醇化合物而與羧基之間形成酯鍵者，聚異氰酸酯化合物而與羧基之間形成醯胺鍵者等。其中，尤以聚異氰酸酯化合物做為有機系交聯劑而廣被使用。
能量線硬化型感壓黏著劑就是有接受紫外線或電子線等能量線的照射而硬化的性質，有在能量線照射前也有黏著性而密著於膜等被著體，由能量線的照射而硬化密著力的調整性質的感壓黏著劑。能量線硬化型感壓黏著劑而言，特別是使用紫外線硬化型感壓黏著劑為理想。能量線硬化型感壓黏著劑，一般是將丙烯酸系樹脂，與能量線聚合性化合物做為主成分而成。通常是再配合交聯劑，又視需要而混合光起始劑，光増感劑等也可以。
本發明所用的感壓黏劑，上述的底聚合物及交聯劑之外，視需要而為了調整感壓黏著劑的黏著力，凝集力，黏性，彈性率，玻璃轉移溫度等起見，可配合例如將天然物或合成物的樹脂類，黏著性賦予樹脂，強氧化防止劑，染料，顏料，消泡劑，腐蝕劑，光聚合起始劑等適宜的添加劑。再者，使其含有微粒子而成為表現光散射性的感壓黏著劑層也可以。
在本發明所規定的黏著劑層，以在23℃表現0.20MPa以上的儲藏彈性率的感壓黏著劑所構成。儲藏彈性率是使用商品的黏彈性測定裝置，例如後述的實施例所示，可使 用REOMETRIC公司製的黏彈性測定裝置“DYNAMlC ANALYZER RDA II”而測定。在通常的影像顯示裝置或影像顯示裝置用的光學膜所用感壓接著劑的儲藏彈性率，不過是0.10MPa左右，與此相比，本發明所規定的黏著劑層的儲藏彈性率(0.20MPa以上)是相對的高值。
將儲藏彈性率要成為這種高值時的手段是並無特別限定，但例如在如上述的通常的感壓接著劑，配合寡聚物，具體的而言是配合胺甲酸酯丙烯酸酯系的寡聚物為有效。理想是，將這種胺甲酸酯丙烯酸酯系的寡聚物配合之後，添加異氰酸酯系交聯劑的感壓接著劑，會成為由低溫領域至高溫領域表現高儲藏彈性率的感壓接著劑。配合胺甲酸酯丙烯酸酯系寡聚物的感壓黏著劑，或將其在支持膜上塗工，以紫外線硬化的膜狀感壓接著劑是公知的。
感壓黏著劑層的厚度，在1至40μm為理想。要得到薄型的複合偏光板，則在不損失加工性及耐久性等特性的範圍，形成薄的感壓黏著劑層為理想，例如，設為3至25μm，則在保持良好的加工性，同時在抑制偏光膜的尺寸變化是合適的。
形成黏著劑層的方法並無特別限制，例如，在偏光膜或光學膜上使用如上述的黏著劑而形成黏著劑層之後，積層包含聚矽氧系等施加過離模處理的樹脂膜的分隔件的方法，或在上述的分隔件上形成黏著劑層後，轉錄在偏光膜或光學膜上的方法而設置。又，將黏著劑層在偏光膜或光學膜上形成時，視需要在偏光膜及光學膜或黏著劑的貼合 側之面(一邊或兩邊)，施加提高密著性的處理，例如電暈處理等也可以。
[附有黏著劑層的光學膜的積層步驟]
在第2圖所示的附有黏著劑層的光學膜的積層步驟(S60’))中，在上述保護膜的相反側(基材膜被剝離的面側)的最表面，將預先在一面將黏著劑所形成的附有黏著劑光學膜，積層在黏著劑層側的最表面。在此，黏著劑層是與上述黏著劑層積層步驟同樣的黏著劑層，光學膜是與上述光學膜積層步驟同樣的光學膜。
上述黏著劑層是與上述偏光板的液晶胞貼合的面，也就是位於偏光板的最外側為理想。這是由於與偏光膜愈靠近愈會受到偏光膜的收縮的影響之故。上述黏著劑層是設在離偏光膜遠的位置則在減小尺寸變化上為理想。
再者，在製作液晶顯示裝置時，在液晶胞的至少一邊，經由上述黏著劑層將上述的偏光膜貼合。
實施例
以下，提示實施例及比較例而更具體的說明本發明，但本發明並不受這些例所限定。
[儲藏彈性率的測定法]
在以下的例中，黏著劑(感壓接著劑)的儲藏彈性率是以直徑8mm，厚度1mm的圓柱做為試驗片，使用REOMETRIC公司製的測定器“DYNAMIC ANARYZER RDA II”，以頻率1Hz的扭轉剪力法測定在23℃及80℃的儲藏彈性率(G’)。
[黏著劑]
在以下的例中，做為黏著劑而使用下面的物質。
(黏著劑A)
將丙烯酸丁酯與丙烯酸的共聚物配合胺甲酸酯丙烯酸酯寡聚物，再將添加異氰酸酯系交聯劑的有機溶劑溶液，在施加過離模處理的厚度38μm聚對酞酸乙二酯膜(分隔膜)的離模處理面上，以模具塗佈機塗佈成為乾燥後的厚度為25μm的薄片狀黏著劑。這裏，將此黏著劑的儲藏彈性率以前述的方法測定的結果，黏著劑A的儲藏彈性率，在23℃為0.41MPa，在80℃為0.19MPa。
(黏著劑B)
將在丙烯酸丁酯與丙烯酸甲酯與丙烯酸2-苯氧基乙酯與丙烯酸2-羥乙酯的共聚物添加異氰酸酯系交聯劑而成的丙烯酸系黏著劑(C)的有機溶劑溶液，在施加過離模處理的厚度38μm的聚對酞酸乙二酯膜(分隔膜)的離模處理面，以模具塗佈機塗佈成為乾燥後的厚度為20μm的附有分隔膜的薄片狀黏著劑。再者，將此黏著劑B的儲藏彈性率以前述的方法測定的結果，黏著劑B的儲藏彈性率，在23°為0.08MPa，80℃為0.04MPa。
(黏著劑C)
將在丙烯酸丁酯與丙烯酸的共聚物添加異氰酸酯系交聯劑所成的有機溶劑溶液在施加過離模處理厚度38μm的聚對酞酸乙二酯膜(分隔膜)的離模處理面，以模具塗佈機塗佈成為乾燥後的厚度為15μm的附有分隔模的薄片狀黏 著劑。再者，將此黏著劑C的儲藏彈性率以前述的方法測定的結果，黏著劑C的儲藏彈性率，在23°為0.05MPa，80℃為0.04MPa。
(黏著劑D)
將在丙烯酸丁酯與丙烯酸的共聚物添加胺甲酸酯丙烯酸酯寡聚物及異氰酸酯系交聯劑的黏著劑層，在施加過離模處理的聚對酞酸乙二酯膜(分隔膜)的離模處理面，形成5μm厚度的薄片狀黏著劑。再者，將此黏著劑D的儲藏彈性率以前述的方法測定的結果，黏著劑D的儲藏彈性率，在23°為0.5MPa，80℃為0.21MPa。
[附有黏著劑的相位差膜]
在以下的例中，做為附有黏著劑的相位差膜而使用下面的相位差膜。
(附有黏著劑的相位差膜X)
厚度為20μm的包含降冰片系樹脂的相位差膜的一面施加電暈處理後，將黏著劑A貼著的膜(相位差膜/黏著劑A/分隔膜)。
(附有黏著劑的相位差膜Y)
在厚度為20μm的包含降冰片系樹脂的相位差膜的一面施加暈光處理後，將黏著劑B貼著的膜(相位差膜/黏著劑B/分隔膜)。
(實施例1) (1)基材膜的製作
將包含具乙烯單元約5重量%的丙烯/乙烯的無規共聚 物(住友化學(股)製「住友Noblen W151」，融點Tm=138℃)的樹脂層的兩側配置包含丙烯的單獨聚合物的均聚丙烯(住友化學(股)製「住友Noblen FLX80E4」，融點Tm=163℃)的樹脂層的3層構造的基材膜，以使用多層押出成形機的共押出成形而製作。所得的基材膜的合計厚度是90 μm，各層的厚度比(FLX80E4/W151/FLX80E4)是3/4/3。
(2)底塗層的形成
將聚乙烯醇粉末(日本合成化學工業(股)製「Z-200」，平均聚合度1100，平均皂化度99.5莫耳%)溶解於95℃熱水，調製濃度3重量%的聚乙烯醇水溶液。將所得的聚乙烯醇水溶液，在切成25cm×35cm的上述基材膜的一面施加電暈處理，在其處理面上，使用桌上棒塗佈機塗佈，在80℃乾燥10分鐘，而形成厚度0.2μm的底塗層。
(3)聚乙烯醇系樹脂層形成步驟
將聚乙烯醇粉末(Kuraray(股)製「PVA124」，平均聚合度2400，平均皂化度98.0至99.0莫耳%)溶解於95℃的熱水，調製濃度8重量%的聚乙烯醇水溶液。將所得的水溶液，在上述底塗層上使用桌上棒塗佈機塗工，在80℃乾燥5分鐘，而製作「基材膜/底塗層/聚乙烯醇系樹脂層」所成的3層構造的積層膜。這時的聚乙烯醇系樹脂層的厚度為11μm。
(4)偏光膜化處理步驟 (延伸步驟)
將上述的積層膜切除端部，而得寬18cm×長30cm的積 層膜。將此積層膜以拉幅機延伸裝置在160℃的延伸溫度，向寬方向在自由端一軸延伸5.8倍。這時的聚乙烯醇系樹脂層的厚度為5.1μm。
(染色步驟、交聯步驟)
其次，由延伸過的上述積層膜的中央部，切出10cm×16cm的膜，以下述步驟進行聚乙烯醇系樹脂層的染色及交聯。首先，將切出的積層膜，在含有30℃的碘與碘化鉀的水溶液的30℃的染色溶液中浸漬150秒鐘左右，進行聚乙烯醇系樹脂層的染色，繼而在100℃的純水沖走多餘的碘液。其次，在含有硼酸與碘化鉀的水溶液的76℃的交聯溶液中浸漬600秒鐘。之後，在10℃的純水中清洗4秒鐘，最後在80℃乾燥300秒鐘，而將聚乙烯醇系樹脂層偏光膜化，得到包含10cm×15cm的「基材膜/底塗層/偏光膜」的3層構造的偏光性積層膜。這時的偏光膜(聚乙烯醇系樹脂層)的厚度為5.1μm。
只對所得的偏光性積層膜的偏光膜，以下述的測定方法測定與吸收軸成直交的方向的收縮力，及吸收軸方向的收縮力。其結果，偏光膜與吸收軸直交的方向的收縮力為0.28N，吸收軸成方向的收縮力為1.2N。
(收縮力的測定方法)
將所得的偏光性積層膜以使要測定收縮力的方向成為長軸的方式，以Super Cutter(股份有限公司荻野精機製作所製)切成寬2mm，長50mm大小。由所得的條狀的片(偏光性積層膜)將基材膜剝離成為只有偏光膜的試驗片。
將試驗片的收縮力使用熱機械分析裝置(SII，Nanotechnology股份有限公司製，型式TMA/6100)而測定。這個測定是在尺寸一定模式下實施(固定器間距離設為10mm)，將試驗片在20℃室內放置充分的時間後將試樣的室內的溫度設定由20℃至80℃在1分鐘中昇溫，昇溫後將試樣的室內溫度設定維持在80℃。昇溫後再放置4小時後，在80℃的環境下測定試驗片在長邊方向的收縮力。在此測定中静負荷重設為0mN，夾具是使用SUS製的探針。
(5)保護膜貼合步驟
首先，將聚乙烯醇粉末((股)Kuraray製「KL-318」，平均聚合度1800)溶解於95℃的熱水，調製濃度3重量%的聚乙烯醇水溶液。在所得的聚乙烯醇水溶液中，混合對聚乙烯醇粉末2重量份為1重量份的交聯劑(住化Chemtex(股)製「Sumireze樹脂650」)，調製接著劑溶液。
其次，在所得的偏光性積層膜的聚乙烯醇系樹脂層上，將上述接著劑溶液塗佈後，與包含三乙醯基纖維素(TAC)的保護膜(Konica Mninolta Opto(股)製「KC4UY」)貼合，而得包含「基材膜/底塗層/偏光膜/接著劑層/保護膜」的5層的附有基材膜的偏光板。
(6)基材膜剝離步驟
將由所得的10cm×15cm的附有基材膜偏光板剝離基材膜，製作包含「底塗層/偏光膜/接著劑層/保護膜」的4層的偏光板A'。
(7)黏著劑層積層步驟
在所得的偏光板A'的底塗層側的表面施加電暈處理，在其表面貼合黏著層A，製作包含「分隔膜/黏著劑A/底塗層/偏光膜/接著劑層/保護膜」的附有黏著劑的偏光板。
(8)評估用試樣的製作
將所得的附有黏著劑的偏光板以第1表所示的尺寸，軸角度切成做為評估用試樣。再者，第1表中的「偏光膜的軸角度」就是由保護膜10側，對偏光板的長邊方向C的偏光膜11的吸收軸11A的反時鐘方向的角度α(參照第3圖)。又，「相位差膜的軸角度」就是，由保護膜10側，對偏光板1的長邊方向C的相位差膜12的遲相軸12B的反時鐘方向的角度β(參照第3圖)。
<比較例1>
取代黏著劑A而使用黏著劑C以外，與實施例1同樣操作，製成包含「分隔膜/黏著劑層/底塗層/偏光膜/接著劑層/保護膜」的附有黏著劑的偏光板。又，與實施例1同樣的操作製作評估用試樣。
<實施例2>
將實施例1的偏光板A'的底塗層側的表面施加電暈處理後，在其表面將黏著劑D貼著。又，附有黏著劑的相位差膜X的相位差膜側，經由黏著劑D，以與偏光板的吸收軸與相位差膜的遲相軸成為45°傾斜的方式貼合。再者，預先與附有黏著劑相位差膜X的黏著劑相反的面有施加電暈處理。如此方式，製作包含「分隔膜/黏著劑A/相位差膜/黏著劑D/底塗層/偏光膜/接著劑層/保護膜」，具有相位 差膜的附有黏著劑的偏光板。
又，與實施例1同樣操作而製作評估用試樣。
<比較例2>
取代附有黏著劑的相位差膜X而使用附有黏著劑的相位差膜Y以外，與實施例2同樣操作，而製成「分隔膜/黏著劑B/相位差膜/黏著劑D/底塗層/偏光膜/接著劑層/保護膜」所成的具備相位差膜的附有黏著劑的偏光板。又，與實施例1同樣操作而製作評估用視樣。
<比較例3> (1)偏光膜的製作
在本比較例中，不使用基材膜而製作偏光膜。首先，將平均聚合度約2400，皂化度99.9莫耳%以上而厚度75μm的聚乙烯醇樹脂膜，以乾式一軸延伸約5倍，在保持緊張狀態下，在60℃的純水浸漬1分鐘後，在含30℃的碘與碘化鉀的水溶液的染色溶液中浸漬60秒鐘。之後，在含有硼酸與碘化鉀的水溶液的72℃交聯溶液浸漬300秒鐘。繼而以10℃的純水清洗5秒鐘後，在80℃乾燥3分鐘，得在聚乙烯醇樹脂膜中有碘被吸附定向排列的偏光膜。
這時的偏光膜的厚度為28μm，以前述的方法測定收縮力，結果是在與延伸方向直交方向的收縮力為2.10N，在延伸方向的收縮力為3.70N。
(2)偏光板的製作
在所得偏光膜，以與在實施例1的保護膜貼合步驟調製的同樣的接著劑溶液塗佈之後，與包含三乙醯基纖維素 (TAC)的保護膜(Konical Minolota Opto(股)製「KC4UY」貼合，而得包含「偏光膜/接著劑層/保護膜」的3層的偏光板B’。
(3)相位差膜的貼合
在偏光板B’的偏光膜側，將厚度33μm的降冰片系相位差膜，對偏光膜的吸收軸的相位差膜的遲相軸成45°傾斜的方式，以在保護膜的貼合所用的同樣的接著劑貼合，而製作包含「相位差膜/接著劑層/偏光膜/接著劑層/保護膜」的5層的偏光板。再者，在貼合之前，將相位差膜的貼合面預先施加電暈處理。
(4)黏著劑層的形成
將所得的偏光板的相位差膜側施加電暈處理而將黏著劑B貼著，製成包含「分隔膜/黏著劑B/相位差膜/接著劑層/偏光膜/接著劑層/保護膜」，具備相位差膜的附有黏著劑的偏光板。
(5)評估用試樣的製作
將所得的附有黏著劑的偏光板與實施例1同樣，以第1表所示的軸角度，尺寸切割而製作評估用試樣。
[偏光板的耐久性評估]
將在實施例1、2及比較例1至3製作的評估用試樣的分隔膜剝離，將各評估用試樣的黏著劑層在厚度0.7mm的玻璃板貼著，在溫度50℃，壓力0.5MPa的條件以高壓釜處理20分鐘。自然冷却後，將各別的試樣投入於保持溫度在85℃的烤箱內，進行保持500小時的加熱試驗。對在此 加熱試驗後的試樣，以NEXIVVMR-12072(Nikon(股)製)測定由初期的尺寸的尺寸變化量(「試驗後之值」-[初期值])。結果示於第2表。
1‧‧‧偏光板
10‧‧‧保護膜
11‧‧‧偏光膜
11A‧‧‧吸收軸
12‧‧‧相位差膜
12B‧‧‧遲相軸
C‧‧‧長邊方向
α‧‧‧角度
β‧‧‧角度

Claims (16)

  1. 一種偏光板，該偏光板為：至少具備偏光膜及保護膜者，該偏光板的特徵為前述偏光膜的至少一面積層保護膜，與前述保護膜相反側的最表面設有黏著劑層，與前述偏光膜的吸收軸直交方向的每2mm寬度的收縮力，在80℃之溫度保持240分鐘為0.28N以下，前述黏著劑層在23℃的儲藏彈性率在0.20MPa以上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中，在前述偏光膜之前述保護膜的相反側至少具備1片的光學膜，在離前述偏光膜最遠的前述光學膜的與前述偏光膜為相反側之面設有前述黏著劑層。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之偏光板，其中，前述偏光膜的厚度在10μm以下。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之偏光板，其中，前述黏著劑層在80℃的儲藏彈性率為0.15MPa以上。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之偏光板，其中，前述光學膜是保護膜或相位差膜。
  6. 一種液晶顯示裝置，在其液晶胞的至少一邊，經由前述黏著劑層而與申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述之偏光板貼合。
  7. 一種偏光板的製造方法，係有如下的步驟：底塗層形成步驟：在基材膜的一面塗工底漆溶液 而形成底塗層；聚乙烯醇系樹脂層形成步驟：係在前述底塗層上形成聚乙烯醇系樹脂層，而得具備以前述基材膜，前述底塗層及前述聚乙烯醇系樹脂層的順序具備的積層膜；偏光膜化處理步驟：係將前述聚乙烯醇系樹脂層施加偏光膜化處理而成為偏光膜，而得具備以前述基材膜，前述底塗層及前述偏光膜的順序的偏光性積層膜；保護膜貼合步驟：係在前述偏光性積層膜的與前述基材膜為相反側之面貼合保護膜；基材膜剝離步驟：係將前述基材膜由偏光性積層膜剝離；黏著劑層積層步驟：係在與前述保護膜相反側的最表面積層黏著劑層；並有如下特徵：前述偏光膜的與吸收軸直交的方向的每2mm寬的收縮力在80℃溫度保持240分鐘為0.28N以下，前述黏著劑層在23℃的儲藏彈性率在0.20MPa以上。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之偏光板的製造方法，其中，在前述基材膜剝離步驟與前述黏著劑層積層步驟之間，包含在前述基材膜被剝離之面側積層至少1片光 學膜的光學膜積層步驟。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之偏光板製造方法，其中，在前述黏著劑積層步驟中，與離前述偏光膜最遠的前述光學膜之與前述偏光膜為相反側的面積層前述黏著劑層。
  10. 一種偏光板的製造方法，係有如下的步驟：底塗層形成步驟：在基材膜的一面塗工底漆溶液而形成底塗層；聚乙烯醇系樹脂層形成步驟：係在前述底塗層上形成聚乙烯醇系樹脂層，而得具備以前述基材膜，前述底塗層及前述聚乙烯醇系樹脂層的順序的積層膜；偏光膜化處理步驟：係將前述聚乙烯醇系樹脂層施加偏光膜化處理而成為偏光膜，而得具備以前述基材膜，前述底塗層及前述偏光膜的順序的偏光性積層膜；保護膜貼合步驟：係在前述偏光性積層膜的與前述基材膜為相反側之面貼合保護膜；基材膜剝離步驟：係將前述基材膜由偏光性積層膜剝離；附有黏著劑層的光學膜積層步驟：係在與前述保護膜為相反側的最表面，以黏著劑層側成為最表面的方式積層附有黏著劑層的光學膜；並有如下特徵：前述偏光膜的與吸收軸直交的方向的每2mm寬的 收縮力在80℃溫度保持240分鐘為0.28N以下，前述黏著劑層在23℃的儲藏彈性率在0.20MPa以上。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之偏光板製造方法，其中，在前述基材膜剝離步驟與前述附有黏著劑層光學膜積層步驟之間，含有在與前述基材膜被剝離的面側積層至少1片其他光學膜的光學膜積層步驟。
  12. 如申請專利範圍第7項至第11項中任一項所述之偏光板製造方法，其中，在前述聚乙烯醇系樹脂層形成步驟所得的前述積層膜中，前述聚乙烯醇系樹脂層的厚度在20μm以下。
  13. 如申請專利範圍第7項至第11項中任一項所述之偏光板製造方法，其中，前述偏光膜化處理步驟是含有：延伸前述積層膜的延伸步驟，及將前述聚乙烯醇系樹脂層以二色性物質染色的染色步驟。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之偏光板製造方法，其中，在前述延伸步驟中，延伸倍率是超過5倍。
  15. 如申請專利範圍第7項至第11項中任一項所述之偏光板製造方法，其中，前述黏著劑層的80℃的儲藏彈性率在0.15MPa以上。
  16. 如申請專利範圍第7項至第11項中任一項所述之偏光板製造方法，其中，前述光學膜是保護膜或相位差膜。
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Families Citing this family (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6437230B2 (ja) * 2013-09-04 2018-12-12 東友ファインケム株式会社Ｄｏｎｇｗｏｏ Ｆｉｎｅ−Ｃｈｅｍ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． 端面加工偏光板の製造方法
JP6233921B2 (ja) * 2013-09-05 2017-11-22 日東電工株式会社 積層フィルムの剥離装置、積層フィルムの剥離方法およびそれを用いた光学フィルム積層体の製造方法。
JP6262514B2 (ja) 2013-12-12 2018-01-17 住友化学株式会社 偏光板
KR101938411B1 (ko) * 2014-01-13 2019-01-15 동우 화인켐 주식회사 편광판
JP6219781B2 (ja) * 2014-05-23 2017-10-25 住友化学株式会社 偏光フィルム、偏光板及び液晶パネル
TW201908770A (zh) * 2014-07-29 2019-03-01 日商住友化學股份有限公司 偏光板、附有黏著劑之偏光板及液晶顯示裝置
JP2016071347A (ja) * 2014-09-29 2016-05-09 住友化学株式会社 偏光板
JP2016071349A (ja) * 2014-09-30 2016-05-09 住友化学株式会社 偏光性積層フィルム及び偏光板の製造方法
CN107076908B (zh) 2014-09-30 2020-09-29 日东电工株式会社 单侧保护偏振膜、带粘合剂层的偏振膜、图像显示装置及其连续制造方法
WO2016052549A1 (ja) * 2014-09-30 2016-04-07 日東電工株式会社 片保護偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
KR101883795B1 (ko) 2014-09-30 2018-08-01 닛토덴코 가부시키가이샤 편광 필름의 제조 방법
US10247979B2 (en) 2014-09-30 2019-04-02 Nitto Denko Corporation Polarizing film, pressure-sensitive-adhesive-layer-attached polarizing film, and image display device
JP6075424B2 (ja) * 2014-09-30 2017-02-08 住友化学株式会社 偏光板、液晶表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置
JP6077620B2 (ja) * 2014-09-30 2017-02-08 日東電工株式会社 片保護偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
JP6077618B2 (ja) * 2014-09-30 2017-02-08 日東電工株式会社 片保護偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
JP6931518B2 (ja) * 2015-09-28 2021-09-08 日東電工株式会社 片保護偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
TWI683142B (zh) * 2014-09-30 2020-01-21 日商日東電工股份有限公司 單面保護偏光薄膜、附黏著劑層之偏光薄膜、影像顯示裝置及其連續製造方法
JP6077619B2 (ja) 2014-09-30 2017-02-08 日東電工株式会社 片保護偏光フィルム、粘着剤層付偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
JP2016118761A (ja) * 2014-12-22 2016-06-30 住友化学株式会社 偏光板及びその製造方法、並びに偏光板のセット、液晶パネル、液晶表示装置
KR102527505B1 (ko) * 2014-12-26 2023-04-28 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광판
JP2016147737A (ja) * 2015-02-12 2016-08-18 富士フイルム株式会社 積層フィルムの剥離方法、及び機能性フィルムの製造方法
JP6125063B2 (ja) * 2015-02-13 2017-05-10 日東電工株式会社 粘着剤層付偏光フィルム、その製造方法並びに画像表示装置およびその連続製造方法
WO2016129632A1 (ja) * 2015-02-13 2016-08-18 日東電工株式会社 粘着剤層付偏光フィルム、その製造方法並びに画像表示装置およびその連続製造方法
JP6732407B2 (ja) * 2015-03-20 2020-07-29 日東電工株式会社 光学積層体およびその製造方法、ならびに該光学積層体を用いた画像表示装置
KR101813755B1 (ko) 2015-05-28 2017-12-29 삼성에스디아이 주식회사 편광판 및 이를 포함하는 표시장치
KR102368582B1 (ko) * 2015-06-03 2022-02-25 동우 화인켐 주식회사 편광판
KR101821801B1 (ko) 2015-06-18 2018-01-25 삼성에스디아이 주식회사 편광판, 그의 제조방법 및 이를 포함하는 광학표시장치
JPWO2017047407A1 (ja) * 2015-09-18 2018-07-05 住友化学株式会社 複合偏光板及びそれを用いた液晶パネル
JPWO2017047405A1 (ja) * 2015-09-18 2018-07-05 住友化学株式会社 複合偏光板及びそれを用いた液晶パネル
WO2017047408A1 (ja) * 2015-09-18 2017-03-23 住友化学株式会社 複合偏光板及びそれを用いた液晶パネル
JPWO2017047406A1 (ja) * 2015-09-18 2018-07-05 住友化学株式会社 複合偏光板及びそれを用いた液晶パネル
US20190025485A1 (en) * 2016-01-15 2019-01-24 Nitto Denko Corporation Pressure-sensitive-adhesive-layer-attached one-side-protected polarizing film, image display device, and method for continuously producing same
KR101803675B1 (ko) 2016-01-19 2017-11-30 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광판 및 화상 표시 장치
JP6806453B2 (ja) * 2016-03-17 2021-01-06 日東電工株式会社 透明樹脂層付の片保護偏光フィルムの製造方法、粘着剤層付偏光フィルムの製造方法、光学積層体の製造方法
JP6342963B2 (ja) * 2016-08-30 2018-06-13 住友化学株式会社 偏光板
KR101955765B1 (ko) 2016-08-31 2019-03-07 삼성에스디아이 주식회사 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치
JP7203486B2 (ja) * 2017-03-03 2023-01-13 住友化学株式会社 光学フィルム原反ロールの製造方法、および光学部材シートの製造方法
JP6730348B2 (ja) 2017-03-29 2020-07-29 日東電工株式会社 粘着剤層付片保護偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
KR102460885B1 (ko) 2017-03-29 2022-11-01 닛토덴코 가부시키가이샤 점착제층, 점착제층을 구비한 편보호 편광 필름, 화상 표시 장치 및 그 연속 제조 방법
JP6688822B2 (ja) 2017-03-29 2020-04-28 日東電工株式会社 粘着剤層付片保護偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
JP7154002B2 (ja) 2017-05-25 2022-10-17 日東電工株式会社 偏光フィルム、粘着剤層付き偏光フィルム、及び画像表示装置
US11487148B2 (en) 2017-07-14 2022-11-01 Shanjin Optoelectronics (Suzhou) Co., Ltd. Polarizing plate having specified ratio of polarizing film shrinkage force to protective film shrinkage force
JP2018084827A (ja) * 2017-12-18 2018-05-31 住友化学株式会社 偏光板
CN111527427B (zh) * 2017-12-28 2023-06-20 住友化学株式会社 偏振板
TWI790337B (zh) * 2017-12-28 2023-01-21 日商住友化學股份有限公司 偏光板
JP2019207391A (ja) * 2018-05-25 2019-12-05 住友化学株式会社 光学積層体の製造方法
JP7142497B2 (ja) 2018-06-26 2022-09-27 日東電工株式会社 粘着剤層付片保護偏光フィルム、画像表示装置およびその連続製造方法
WO2020066125A1 (ja) * 2018-09-25 2020-04-02 日東電工株式会社 偏光板およびその製造方法、ならびに該偏光板を含む画像表示装置
JP7300906B2 (ja) * 2018-11-16 2023-06-30 住友化学株式会社 光学積層体及びそれを備えた画像表示装置
JP2020101574A (ja) * 2018-12-11 2020-07-02 住友化学株式会社 偏光板
JP2020098326A (ja) * 2018-12-11 2020-06-25 住友化学株式会社 偏光板
KR102403280B1 (ko) 2018-12-24 2022-05-27 삼성에스디아이 주식회사 편광판, 이를 위한 편광판용 접착제 조성물 및 이를 포함하는 광학 표시 장치
JP2020118827A (ja) * 2019-01-23 2020-08-06 日東電工株式会社 ヘッドアップディスプレイ装置およびその製造方法
JP2020157577A (ja) * 2019-03-26 2020-10-01 住友化学株式会社 積層体及び表示装置
JP2020157578A (ja) * 2019-03-26 2020-10-01 住友化学株式会社 積層体及び表示装置
KR102376554B1 (ko) 2019-04-08 2022-03-18 삼성에스디아이 주식회사 편광판용 점착 필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치
JP2020073977A (ja) * 2019-10-08 2020-05-14 住友化学株式会社 偏光板
KR102671520B1 (ko) 2020-03-16 2024-05-31 삼성에스디아이 주식회사 편광판용 점착 필름, 이를 포함하는 편광판 및 이를 포함하는 광학표시장치
JP2020126275A (ja) * 2020-05-15 2020-08-20 住友化学株式会社 偏光板
JP7217723B2 (ja) * 2020-05-16 2023-02-03 日東電工株式会社 光学積層体およびその製造方法、ならびに該光学積層体を用いた画像表示装置
JP7420700B2 (ja) * 2020-05-29 2024-01-23 住友化学株式会社 光学積層体及び表示装置
CN115943332A (zh) * 2020-07-01 2023-04-07 日东电工株式会社 带相位差层及粘合剂层的偏振片以及使用了该带相位差层及粘合剂层的偏振片的图像显示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002006133A (ja) * 2000-06-19 2002-01-09 Nitto Denko Corp 偏光子、偏光板及びそれを用いた液晶表示装置
JP2009104062A (ja) * 2007-10-25 2009-05-14 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光フィルム、その製造方法および偏光板
JP2009186995A (ja) * 2008-01-08 2009-08-20 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001343521A (ja) * 2000-05-31 2001-12-14 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光板及びその製造方法
JP2002122739A (ja) * 2000-10-18 2002-04-26 Nitto Denko Corp 偏光板及びこれを備えた液晶表示装置
JP5098593B2 (ja) * 2006-12-04 2012-12-12 住友化学株式会社 楕円偏光板及び液晶表示装置
JP5470048B2 (ja) * 2007-11-30 2014-04-16 住友化学株式会社 高弾性率粘着剤層を有する偏光板及びそれを用いた画像表示装置
JP2010277018A (ja) * 2009-06-01 2010-12-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 耐久性に優れた偏光板およびその製造方法、それを用いた画像表示装置
JP2011039239A (ja) * 2009-08-10 2011-02-24 Sumitomo Chemical Co Ltd 複合偏光板およびｔｎモード液晶パネル
JP2011150313A (ja) * 2009-12-21 2011-08-04 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板の製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002006133A (ja) * 2000-06-19 2002-01-09 Nitto Denko Corp 偏光子、偏光板及びそれを用いた液晶表示装置
JP2009104062A (ja) * 2007-10-25 2009-05-14 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光フィルム、その製造方法および偏光板
JP2009186995A (ja) * 2008-01-08 2009-08-20 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板

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Publication number Publication date
JP2013072951A (ja) 2013-04-22
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