TW201908770A - 偏光板、附有黏著劑之偏光板及液晶顯示裝置 - Google Patents

偏光板、附有黏著劑之偏光板及液晶顯示裝置

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TW201908770A
TW201908770A TW107142972A TW107142972A TW201908770A TW 201908770 A TW201908770 A TW 201908770A TW 107142972 A TW107142972 A TW 107142972A TW 107142972 A TW107142972 A TW 107142972A TW 201908770 A TW201908770 A TW 201908770A
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村野耕太
松田俊介
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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種偏光板，其中，於已將該偏光板積層於液晶單元之液晶顯示裝置中，與偏光板接觸之構件的表面形狀不會轉寫(轉印)於偏光板表面。
本發明之偏光板，係於吸收型偏光膜之單側面，積層有第一保護膜，其中，第一保護膜在與吸收型偏光膜為相反側之表面的維氏硬度(Vickers hardness)為10kgf/mm2以上。第一保護膜可為熱塑性樹脂膜。而且，第一保護膜亦可為反射型偏光膜。進一步地，第一保護膜可為反射型偏光膜以及熱塑性樹脂膜之積層體，且以熱塑性樹脂膜側來積層於吸收型偏光膜。

Description

偏光板、附有黏著劑之偏光板及液晶顯示裝置
本發明係有關於光源側之偏光板、附有黏著劑之偏光板及液晶顯示裝置。
偏光板通常有著在吸收型偏光膜之至少單側面積層有樹脂膜之構成，視需要而積層於樹脂膜或代替樹脂膜之光學膜。於是，偏光板係與液晶單元或其他的構件組合而構成液晶顯示裝置(專利文獻1)。於液晶顯示裝置中，有時會發生與偏光板接觸之其他的構件的表面形狀轉寫於偏光板表面，即所謂的「轉印」。當轉印發生時，由於顯示影像之際會看到轉寫痕跡，故有顯示品質明顯降低之問題。
[先行技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2013-190779號公報
本發明之課題係提供不易發生上述之轉印之偏光板。
本發明係提供以下之偏光板、於此偏光板設有黏著劑層之附有黏著劑之偏光板、以及適用此附有黏著劑之偏光板之液晶顯示裝置。
〔1〕一種偏光板，係於吸收型偏光膜之單側面，積層有第一保護膜，其中，第一保護膜在與吸收型偏光膜為相反側之表面的維氏硬度(Vickers hardness)為10kgf/mm2以上。
〔2〕如〔1〕所述之偏光板，其中，第一保護膜係熱塑性樹脂膜。
〔3〕如〔1〕所述之偏光板，其中，第一保護膜係反射型偏光膜。
〔4〕如〔1〕所述之偏光板，其中，第一保護膜係反射型偏光膜以及熱塑性樹脂膜之積層體，且以熱塑性樹脂膜側來積層於吸收型偏光膜。
〔5〕如〔1〕至〔4〕中任一者所述之偏光板，其中，於吸收型偏光膜之單側面積層有第一保護膜，其中，第一保護膜在與吸收型偏光膜為相反側之表面的維氏硬度為10kgf/mm2以上，於另一側之面積層有第二保護膜。
〔6〕一種附有黏著劑之偏光板，係於如〔1〕至〔4〕中任一者所述之偏光板之吸收型偏光膜側形成有黏著劑層。
〔7〕一種附有黏著劑之偏光板，係於如〔5〕所述之偏光板之第二保護膜側形成有黏著劑層。
〔8〕一種液晶顯示裝置，其中，〔6〕或〔7〕所述之附有黏著劑之偏光板係積層於液晶單元。
〔9〕如〔8〕所述之液晶顯示裝置，其中，附有黏著劑之偏光板，係以其黏著劑層側積層於液晶單元之光源側。
依據本發明之偏光板，由於將偏光板之最表面(保護膜之與吸收型偏光膜為相反側之表面)之維氏硬度設為一定值以上，將偏光板與其他的構件組合而作為液晶顯示裝置時，抑制了會於其表面發生的轉印。因此，本發明之液晶顯示裝置的顯示品質優異。
1‧‧‧吸收型偏光膜
3‧‧‧第一保護膜
5‧‧‧第二保護膜
10‧‧‧偏光板
15‧‧‧黏著劑層
20‧‧‧附有黏著劑之偏光板
25‧‧‧偏光板(視認側)
30‧‧‧液晶單元
40‧‧‧光擴散板
50‧‧‧背光
55‧‧‧液晶顯示裝置
60‧‧‧稜鏡圖案以成為直列的方式2片重疊之光擴散片
65‧‧‧鋁板
第1圖(A)及第1圖(B)係表示本發明之偏光板以及附有黏著劑之偏光板之層構成之一例之剖面示意圖。
第2圖(A)及第2圖(B)係表示本發明之液晶顯示裝置之層構成之一例之剖面示意圖。
第3圖係測定偏光板之維氏硬度時之剖面示意圖。
〈吸收型偏光膜〉
偏光板係在吸收型偏光膜的單側或兩側具有保護膜。吸收型偏光膜通常係使用於聚乙烯醇系樹脂膜吸附配 向有二色性色素者。構成吸收型偏光膜之聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了為乙酸乙烯酯之均聚物之聚乙酸乙烯酯之外，亦例示有將乙酸乙烯酯以及可與其共聚合之其他的單體之共聚物等。與乙酸乙烯酯共聚合之其他的單體，例如可列舉不飽和羧酸、烯烴、乙烯基醚、不飽和磺酸、具有銨基之丙烯醯胺等。聚乙烯醇系樹脂之皂化度，通常為85至100莫耳%左右，較佳為98莫耳%以上。
此聚乙烯醇系樹脂可進一步經改質，例如，可使用經醛改質之聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯醇縮乙醛等。而且，聚乙烯醇系樹脂之聚合度，通常為1,000至10,000左右，較佳為1,500至5,000左右。具體的聚乙烯醇系樹脂與二色性色素，例如可列舉日本特開2012-159778號公報所例示之聚乙烯醇系樹脂與二色性色素。
將聚乙烯醇系樹脂製成膜後的產物，係使用作為吸收型偏光膜之原料膜。將聚乙烯醇系樹脂製成膜之方法並無特別限定，可使用公知的方法製膜。由聚乙烯醇系樹脂所成之原料膜的厚度並無特別限定，惟例如為150μm以下。若亦考量到延伸的容易度等，該膜厚較佳為3μm以上，且較佳為75μm以下。
吸收型偏光膜，例如可經由將聚乙烯醇系樹脂膜以一軸延伸之步驟來延伸，將聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色而使其吸附該二色性色素之步驟，將吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜以硼酸水溶液處理之步 驟，以及於此硼酸水溶液之處理後水洗之步驟，最後使之乾燥而製造。此外，吸收型偏光膜，例如可依據日本特開2012-159778號所記載之方法製造。此方法係可藉由於基材膜塗布聚乙烯醇系樹脂，而形成作為吸收型偏光膜之聚乙烯醇系樹脂層。吸收型偏光膜之厚度通常為2至40μm，較佳為3至30μm左右。
〈第一保護膜〉
偏光板係於吸收型偏光膜之至少一面積層有第一保護膜。本發明之偏光板只要於吸收型偏光膜之至少單側面積層有第一保護膜即可，如第1圖所示，亦可僅於吸收型偏光膜1之單側面設有第一保護膜3〔第1圖(A)〕，亦可於吸收型偏光膜1之單側面積層第一保護膜3，並於另一側積層第二保護膜5〔第1圖(B)〕。
於吸收型偏光膜之單側面所積層之第一保護膜3，例如可列舉由熱塑性樹脂所形成之熱塑性樹脂膜、反射型偏光膜、反射型偏光膜與熱塑性樹脂膜之積層體等。
(熱塑性樹脂膜)
由熱塑性樹脂所形成之熱塑性樹脂膜，較佳由透明性與均一之光學特性、機械強度、熱安定性等優異之樹脂所成。熱塑性樹脂之具體例可列舉三乙醯纖維素、二乙醯纖維素般的纖維素系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯般的聚酯系樹脂；聚(甲 基)丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯般的(甲基)丙烯酸系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚碸系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚乙烯、聚丙烯般的聚烯烴系樹脂；聚降莰烯系樹脂。其中，較佳為由纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、以及聚烯烴系樹脂所形成之樹脂膜。在此，(甲基)丙烯酸酯係可指甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯之任一者，此外，提及(甲基)丙烯酸等時的「(甲基)」所指亦為相同。
該等熱塑性樹脂膜可使用適宜之市售品。舉例纖維素系樹脂膜之市售品之例，可各自以商品名舉例如，富士FILM(股)製之「Fujitac(註冊商標)TD80」、「Fujitac(註冊商標)TD80UF」以及「Fujitac(註冊商標)TD80UZ」；KONICA MINOLTA(股)製之「KC2UAW」、「KC8UX2M」以及「KC8UY」等。
聚酯系樹脂膜可使用適宜之市售品。舉例聚酯系樹脂膜之市售品之例，可各自以商品名舉例如，三菱樹脂(股)製之「Diafoil(註冊商標)」，東麗(Toray)(股)製之「Lumirror(註冊商標)」」、東洋紡(股)製之「Cosmoshine(註冊商標)」等。
(甲基)丙烯酸系樹脂膜可使用適宜之市售品。舉例(甲基)丙烯酸系樹脂膜之市售品之例，可各自以商品名舉例如，住友化學(股)製之「Technolloy(註冊商標)」、三菱Rayon(股)製之「Acryplen(註冊商標)」等。
聚碳酸酯系樹脂膜可使用適宜之市售品。舉 例聚碳酸酯系樹脂膜之市售品之例，可各自以商品名舉例如，帝人化成(股)製之「Panlite(註冊商標)」。
聚烯烴系樹脂之市售品之例有Topas Advanced Polymers GmbH公司製，聚塑膠(Polyplastics)(股)販賣之「Topas」、JSR(股)販賣之「ARTON」(註冊商標)、日本Zeon(股)販賣之「ZEONOR(註冊商標)」以及「ZEONEX(註冊商標)」、三井化學(股)販賣之「APEL」(註冊商標)(以上，任一者均為商品名)等，可由該等商品製作膜。此外，亦可使用聚烯烴系樹脂膜，例如可列舉JSR(股)販賣之「ARTON film」(「ARTON」係同公司之註冊商標)、積水化學工業(股)販賣之「ESSINA」(註冊商標)、日本Zeon(股)販賣之「Zeonor Film」(註冊商標)等。
熱塑性樹脂膜之厚度通常為5至100μm，較佳為10至50μm。
(反射型偏光膜)
反射型偏光膜可列舉柵型偏光膜、有折射率差之2種以上的材料所成之2層以上之多層薄膜積層體，分光鏡等所使用之折射率相異之蒸鍍多層薄膜，有雙折射之2種以上之材料所成之2層以上之雙折射層多層薄膜積層體，將使用有雙折射之2種以上之樹脂之2層以上之樹脂積層體予以延伸者，在與直線偏光正交之軸方向藉由反射/透射而分離者等。
反射型偏光膜例如可使用將以聚萘二甲酸乙 二酯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯為代表之藉由延伸而產生相位差之材料，與以聚甲基丙烯酸甲酯為代表之丙烯酸系樹脂、以JSR(股)製之「ARTON」(註冊商標)為代表之降莰烯系樹脂等相位差顯現量少之樹脂交互作為多層積層體予以一軸延伸所得者。反射型偏光膜之具體例可列舉3M公司製之「DBEF」(註冊商標)，「APF-V3」(製品名)以及「APF-V2」(製品名)等。反射型偏光膜之厚度通常為5至100μm，較佳為10至50μm。
(反射型偏光膜/熱塑性樹脂膜之積層體)
反射型偏光膜以及熱塑性樹脂膜之積層體可為將該等膜透過例如黏著劑或接著劑而積層者。黏著劑或接著劑可選擇適宜之公知者。從接著作業之簡便性與防止光學應變之產生等觀點而言，較佳為使用黏著劑。黏著劑例如可採用將丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺酯(polyurethane)、聚醚等作為基質聚合物者。其中，較佳為選擇使用如丙烯酸系黏著劑般，光學透明性優異，保持適度的潤濕性與凝集力，與反射型偏光膜以及熱塑性樹脂膜之接著性亦優異，進一步地有良好的耐熱性，在高溫環境下不會發生浮起剝裂等剝離問題者。
由黏著劑所形成之黏著劑層，視需要可含有用以顯示光散射性之微粒子，亦可含有玻璃纖維、玻璃珠、樹脂珠、金屬粉或其他的無機粉末般的填充劑、顏料、著色料、抗氧化劑，紫外線吸收劑等。紫外線吸收劑有水楊 酸酯系化合物、二苯基酮系化合物、苯并三唑系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等。
第一保護膜3可為在與偏光膜之貼合面為相反側之面設有硬塗層者。藉此，可防止加工偏光板時產生之刮傷等。設有硬塗層時，從兼備保護性與可撓性之觀點而言，硬塗層之厚度較佳為1至8μm，更佳為1至6μm。硬塗層之厚度超過8μm時，可撓性降低，撓曲時有容易導入裂紋之傾向。另一方面，硬塗層之厚度未達1μm時，雖然可撓性良好，但從面內均勻性的觀點來看多有無法得到充分之特性之傾向。
硬塗層可由樹脂被膜層所形成。形成樹脂被膜層之樹脂材料只要在樹脂皮膜層形成後的皮膜係保有充分的強度、且有透明性者則可無特別限制地使用。前述樹脂可列舉熱硬化型樹脂、熱塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂以及電子束硬化型樹脂等活性能量線硬化型樹脂、二液混合型樹脂等。
其中，紫外線硬化型樹脂除了可藉由紫外線的照射而使樹脂硬化，可藉由簡單的加工操作而有效率地形成樹脂被膜層之外，亦可形成防眩處理層等光擴散層，故為較合適。紫外線硬化型樹脂可列舉聚酯系、丙烯酸系、胺酯系、醯腔系、聚矽氧系、環氧系等各種類者，包含紫外線硬化型之單體、寡聚物、聚合物等。較佳使用之紫外線硬化型樹脂，例如可列舉具有紫外線聚合性之官能基者，其中包括具有2個以上、特別是3至6個該官能基之 丙烯酸系之單體或寡聚物成分者。此外，紫外線硬化型樹脂中係調配有紫外線聚合起始劑。
樹脂被膜層的形成方法可採用適宜之公知的方法，例如，有將前述樹脂(塗布液)塗布於第一保護膜3並乾燥之方法。使用硬化性樹脂時，於乾燥後進行硬化處理。前述塗布液之塗布方法，可採用噴注式(Fountain)、壓模塗佈、澆鑄、旋塗、噴注式金屬包鍍(fountain metaling)、凹版等方法。另外，塗布時，前述塗布液可由甲苯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、異丙醇、乙醇等一般的溶劑稀釋，亦可不稀釋而直接塗布。
本發明之偏光板10係在吸收型偏光膜1之至少單側面，積層有上述之第一保護膜3，此第一保護膜3採用在與積層有吸收型偏光膜1之面為相反側之面的維氏硬度為10kgf/mm2以上者係為重要。當維氏硬度為10kgf/mm2以上時，將此偏光板適用於液晶顯示裝置時，可避免於偏光板10產生轉印。此外，只要第一保護膜3之與積層有吸收型偏光膜1之面為相反側之面的維氏硬度為10kgf/mm2以上，即可適用於液晶顯示裝置。維氏硬度較佳為30kgf/mm2以下。
〈第二保護膜〉
第二保護膜5可為與上述之熱塑性樹脂膜相同者。第一保護膜3為熱塑性樹脂膜時，第二保護膜5與第一保護膜3可為相同，亦可為相異。
〈偏光板〉
偏光板10係積層有吸收型偏光膜1以及第一保護膜3者。積層吸收型偏光膜以及保護膜之方法，通常採用藉由接著劑或黏著劑將該等膜積層之方法。於吸收型偏光膜之兩面積層保護膜時，可使用同種的接著劑或黏著劑，亦可使用不同種的接著劑或黏著劑。
接著劑可列舉水系接著劑、光硬化性接著劑等。水系接著劑係將接著劑成分溶解於水中或使接著劑成分分散於水中者，可使接著劑層薄化。水系接著劑例如，接著劑(組成物)之主成分為聚乙烯醇系樹脂或胺酯樹脂者可舉例作為較佳之接著劑。
聚乙烯醇系樹脂除了部分皂化聚乙烯醇與完全皂化聚乙烯醇外，亦可為羧基改質聚乙烯醇、乙醯乙醯基(acetoacetyl)改質聚乙烯醇、羥甲基改質聚乙烯醇、胺基改質聚乙烯醇等經改質之聚乙烯醇系樹脂。接著劑成分使用聚乙烯醇系樹脂時，該接著劑大多調製為聚乙烯醇系樹脂之水溶液。相對於水100重量份，接著劑中之聚乙烯醇系樹脂之濃度通常為1至10重量份左右，較佳為1至5重量份。
含有聚乙烯醇系樹脂作為主成分之接著劑，為了提升接著性，較佳係添加乙二醛或水溶性環氧樹脂等硬化性成分或交聯劑。水溶性環氧樹脂，例如可列舉於二伸乙基三胺或三伸乙基四腔般的多伸烷基多胺與己二酸般 的二羧酸之反應所得之聚醯胺聚胺，使表氯醇與之反應而得之聚醯胺聚胺環氧樹脂。該聚醯胺聚胺環氧樹脂之市售品，各自以商品名，有田岡化學工業(股)販賣之「Sumirez Resin(註冊商標)650(30)」以及「Sumirez Resin(註冊商標)675」，星光PMC(股)販賣之「WS-525」等，該等可適合地使用。相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份，該等硬化性成分或交聯劑之添加量通常為1至100重量份，較佳為1至50重量份。添加量少時，接著性提升效果變小，另一方面，添加量多時，接著劑層有脆化之傾向。
透過水系接著劑接合之積層體，通常係施以乾燥處理，進行接著劑層之乾燥，硬化。乾燥處理係可藉由例如熱風吹拂而進行。
乾燥溫度係適宜選自40至100℃左右，較佳為60至100℃的範圍。乾燥時間，例如為20至1,200秒左右。乾燥後之接著劑層之厚度，通常為0.001至5μm左右，較佳為0.01μm以上，更佳為2μm以下，再更佳為1μm以下。接著劑層之厚度過大時，偏光板易變得外觀不良。
乾燥處理之後，可於室溫以上之溫度施以至少半日，通常為1日以上之熟化以取得充分的接著強度。該熟化典型上係在捲取成輥狀的狀態進行。較佳的熟化溫度為30至50℃之範圍，再更佳為35℃以上且45℃以下。熟化溫度超過50℃時，於輥卷的狀態，容易發生所謂的「捲繞過緊」。另外，熟化時之濕度，例如，較佳為以使相對濕 度成為70%以下之範圍之方式適宜選擇。熟化時間，通常為1至10日左右，較佳為2至7日左右。
光硬化性接著劑，例如可列舉光硬化性環氧樹脂與光陽離子聚合起始劑之混合物等。光硬化性環氧樹脂，例如可列舉脂環式環氧樹脂、不具脂環式構造之環氧樹脂，以及該等的混合物等。
此外，光硬化性接著劑可使用已於環氧樹脂、丙烯酸樹脂、氧雜環丁烷樹脂、胺酯樹脂、聚乙烯醇樹脂等添加自由基聚合型起始劑以及/或陽離子聚合型起始劑者。
透過光硬化性接著劑接合之積層體，於積層後，藉由照射活性能量線而使光硬化性接著劑硬化。活性能量線之光源，例如，較佳為於波長400nm以下有發光分布之活性能量線，具體而言，較佳係使用低壓水銀燈，中壓水銀燈，高壓水銀燈，超高壓水銀燈，化學燈，黑光燈，微波激發水銀燈，金屬鹵化物燈等。對光硬化性接著劑之光照射強度，係依照該光硬化性接著劑之組成而適宜地決定，雖無特別限定，但對聚合起始劑的活化有效的波長區域的照射強度較佳為0.1至6,000mW/cm2。該照射強度在0.1mW/cm2以上時，反應時間不會變得過長，在6,000mW/cm2以下時，發生由於從光源輻射的熱以及光硬化性接著劑硬化時的發熱所致之環氧樹脂之黃變與偏光板之劣化之可能性較少。
對光硬化性接著劑之光照射時間，雖然係隨 著硬化之光硬化性接著劑而逐一控制，但較佳為以使以上述照射強度與照射時間之積所表示之累積光量成為10至10,000mJ/cm2之方式設定。對光硬化性接著劑之累積光量為10mJ/cm2以上時，可產生足夠量之來自聚合起始劑之活性種，使硬化反應更為確實地進行，在10,000mJ/cm2以下時，照射時間不會變得過長，可維持良好的生產性。另外，活性能量線照射後之接著劑層之厚度，通常為0.001至5μm左右，較佳為0.01μm以上，更佳為2μm以下，再更佳為1μm以下。
藉由活性能量線的照射而使光硬化性接著劑硬化時，較佳在偏光膜之偏光度、穿透率及色相、以及保護膜等透明膜之透明性等偏光板之各功能不會減低的條件下進行硬化。
積層吸收型偏光膜以及保護膜之方法，亦有採用以黏著劑積層之方法。黏著劑例如可採用以丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚酯、聚胺酯，聚醚等作為基質聚合物者。進一步地，於該等基質聚合物中，可調配聚異氰酸酯化合物等交聯劑，矽烷偶合劑，離子性化合物等抗靜電劑等。
〈附有黏著劑之偏光板〉
附有黏著劑之偏光板，係於構成偏光板之保護膜之單側面設有黏著劑層。如第1圖所示，本發明之附有黏著劑之偏光板20，在將第一透明保護膜3僅積層於吸收型偏光 膜1之單側面時，可於吸收型偏光膜1之表面設有黏著劑層15，在將第一透明保護膜3積層於吸收型偏光膜1之單側面，並且於另一側之面積層第二保護膜5時，可於第二保護膜5之表面設有黏著劑層15。
形成黏著劑層15之黏著劑，只要滿足使用於光學膜之各特性(透明性、耐久性，再製性(rework)等)即可，例如，使用含有丙烯酸系樹脂以及交聯劑之丙烯酸樹脂黏著劑，該丙烯酸系樹脂為將以(甲基)丙烯酸酯作為主成分，並進一步地含有少量的具有官能基之(甲基)丙烯酸單體之丙烯酸系單體組成物於聚合起始劑的存在下自由基聚合而成，且玻璃轉移溫度(Tg)為0℃以下者。
〈液晶顯示裝置〉
上述之附有黏著劑之偏光板20，係適合使用於液晶顯示裝置。參照第2圖，液晶顯示裝置55，係具備液晶面板者，液晶面板係，附有黏著劑之偏光板20透過該黏著劑層在液晶單元30之單側面上積層，偏光板25透過相同或不同的黏著劑層在另一側之面上積層者。此液晶單元可為IPS模式、VA模式、TN模式等以往公知的任何模式。
在貼合有本發明之附有黏著劑之偏光板20之液晶單元之相反側，可積層同種類的偏光板或公知之偏光板。此外，附有黏著劑之偏光板20較佳係配置於液晶顯示裝置55之背面側(背光側)，更佳為以使第一保護膜3成為背光側的方式來配置。
(實施例)
以下，係列示實施例以進一步地具體說明本發明，但本發明不限於該等實施例。於例中，含量或使用量所表示之%以及份，在無特別標記時係為重量基準。
〔實施例1〕 (A)第一保護膜之製作
使用於厚度25μm之三乙醯纖維素膜〔KONICA MINOLTA(股)製之商品名「KC2UAW」〕積層有丙烯酸系之硬塗層之膜作為第一保護膜。於此第一保護膜中，將三乙醯纖維素膜中之未積層有丙烯酸系之硬塗層之面，作為積層吸收型偏光膜之面。
於第一保護膜中，將與積層吸收型偏光膜之面為相反側之表面作為測定面，依據JIS Z 2244：2009「維氏硬度試驗-試驗方法」之方法，使用Fischer Instruments公司製 超微小硬度計HM2000測定第一保護膜之維氏硬度。賦予於測定面之測定荷重係300mN/10s，3點測定並將其平均值作為測定值。結果表示於表1。
(B)水系接著劑之調製
相對於水100份，調配羧基改質聚乙烯醇〔取自Kuraray(股)之商品名「KL-318」〕3份，於其水溶液中添加水溶性環氧樹脂之聚醯胺環氧系添加劑〔取自田岡化學工業(股)之商品名「Sumirez Resin(註冊商標)650(30)」， 固形分濃度30%之水溶液〕1.5份，調製水系接著劑。
(C)吸收型偏光膜之製作
將平均聚合度約2,400，皂化度99.9莫耳%以上且厚度75μm之聚乙烯醇膜，以乾式一軸延伸成約5倍，進一步地保持在緊張狀態，於60℃之純水浸漬1分鐘後，於碘/碘化鉀/水之重量比為0.05/5/100之水溶液在28℃浸漬60秒。之後，於碘化鉀/硼酸/水之重量比為8.5/8.5/100之水溶液在72℃浸漬300秒。接著在26℃之純水洗淨20秒後，在65℃乾燥，製作於聚乙烯醇有碘吸附配向之吸收型偏光膜。
(D)偏光板之製作
在上述(C)所製作之吸收型偏光膜之單側面，透過上述(B)所調製之水系接著劑而積層上述(A)所製作之第一保護膜，將在單側面施有電暈放電處理之厚度23μm之環狀烯烴系樹脂膜〔日本Zeon(股)之商品名「Zeonor Film(註冊商標)ZF14」〕，透過上述(B)所調製之水系接著劑而以其電暈放電處理面積層於吸收型偏光膜之另一側之面，製作偏光板。接著劑之乾燥，係藉由在將膜積層後，在80℃乾燥5分鐘來進行。所得之偏光板在之後於40℃靜置168小時。
(耐轉印性之評價)
首先，如第3圖所示般，將偏光板10、稜鏡圖案以成為直列的方式2片重疊之光擴散片60〔3M公司製之商品名「BEF」〕、鋁板65依此順序，且以偏光板10之第一保護膜成為光擴散片60側之方式重疊。其次，從偏光板10側施加0.125g/mm2之荷重，在85℃靜置24小時，之後，以目視進行確認BEF之痕跡是否有轉寫至偏光板。於偏光板未確認到BEF之痕跡時記為「○」，確認到BEF之痕跡時記為「×」。
〔實施例2〕
作為第一保護膜，係使用於取自3M公司之商品名「Advanced Polarized Film,Version 3(APF-V3)」積層有丙烯酸系之硬塗層之膜。之後，與實施例1同樣地製作偏光板。第一保護膜之維氏硬度之測定，以及偏光板之耐轉印性之評價係與實施例1同樣地進行。
〔實施例3〕
除了作為第一保護膜，使用未形成硬塗層之「Advanced Polarized Film,Version 3(APF-V3)」以外，與實施例2同樣地製作偏光板。第一保護膜之維氏硬度之測定，以及偏光板之耐轉印性之評價係與實施例1同樣地進行。
〔實施例4〕
除了作為第一保護膜，使用KONICA MINOLTA(股) 之商品名「KC2UAW」與取自3M公司之「APF-V3」之積層體以外，與實施例1同樣地製作偏光板。該等膜之積層，係在「KC2UAW」上積層市售之黏著劑層之厚度為5μm之丙烯酸系黏著劑片，透過此黏著劑層進一步地積層「APF-V3」來進行，將「KC2UAW」側作為積層於吸收型偏光膜之面。第一保護膜之維氏硬度之測定，以及偏光板之耐轉印性之評價係與實施例1同樣地進行。
〔比較例1〕
除了作為第一保護膜，使用取自3M公司之商品名「Advanced Polarized Film,Version 2(APF-V2)」以外，與實施例4同樣地製作偏光板。第一保護膜之維氏硬度之測定，以及偏光板之耐轉印性之評價係與實施例1同樣地進行。

Claims (10)

  1. 一種偏光板，係於吸收型偏光膜之單側面，積層有第一保護膜，其中，第一保護膜在與吸收型偏光膜為相反側之表面的維氏硬度為10kgf/mm 2以上，前述吸收型偏光膜的厚度為30μm以下。
  2. 一種偏光板，係於吸收型偏光膜之單側面，積層有第一保護膜，其中，第一保護膜在與吸收型偏光膜為相反側之表面的維氏硬度為10kgf/mm 2以上，前述吸收型偏光膜係將吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜經由硼酸水溶液處理之步驟製成的吸收型偏光膜。
  3. 一種偏光板，係於吸收型偏光膜之單側面，積層有第一保護膜，其中，第一保護膜在與吸收型偏光膜為相反側之表面的維氏硬度為10kgf/mm 2以上，前述第一保護膜為熱塑性樹脂膜，該熱塑性樹脂膜的厚度為50μm以下。
  4. 一種偏光板，係於吸收型偏光膜之單側面，積層有第一保護膜，其中，第一保護膜在與吸收型偏光膜為相反側之表面的維氏硬度為10kgf/mm 2以上，前述第一保護膜為反射型偏光膜，該反射型偏光膜的厚度為50μm以下。
  5. 一種偏光板，係於吸收型偏光膜之單側面，以接著劑或黏著劑積層有第一保護膜，其中，第一保護膜在與吸收型偏光膜為相反側之表面的維氏硬度為10kgf/mm 2 以上。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之偏光板，其中，於吸收型偏光膜之單側面積層有與吸收型偏光膜為相反側之表面的維氏硬度為10kgf/mm 2以上之第一保護膜，於另一側之面積層有第二保護膜。
  7. 一種附有黏著劑之偏光板，係於申請專利範圍第1至5項中任一項所述之偏光板之吸收型偏光膜側形成有黏著劑層。
  8. 一種附有黏著劑之偏光板，係於申請專利範圍第6項所述之偏光板之第二保護膜側形成有黏著劑層。
  9. 一種液晶顯示裝置，其中，申請專利範圍第7或8項所述之附有黏著劑之偏光板係積層於液晶單元。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之液晶顯示裝置，其中，附有黏著劑之偏光板係以其黏著劑層側積層於液晶單元之光源側。
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