TWI790337B - 偏光板 - Google Patents

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Abstract

一種偏光板100，係依序包含偏光片11、第1黏著劑層12、相位差層14、及第2黏著劑層13之偏光板100；其中，將前述第1黏著劑層12的厚度T1(μm)與前述第2黏著劑層13的厚度T2(μm)之和亦即Ta(μm)除以前述偏光板100的總厚度Tp(μm)而得到的值亦即Ta/Tp為0.40以下，且前述偏光片11的厚度為15μm以下。

Description

偏光板
本發明係有關於一種偏光板。
近年來，以液晶顯示裝置及有機電致發光顯示裝置(以下亦稱為有機EL)作為代表之畫像顯示裝置係急速地普及。畫像顯示裝置係廣泛地使用有具備偏光片及相位差層之偏光板。
最近，由於有機EL的興起，伴隨著對畫像顯示裝置的薄型化之要求增強，亦要求偏光板薄型化。而且，注目於可撓性用途而從先前的相位差膜，進行著用韌性較高的聚合性液晶化合物作為相位差層的原料之研究(例如參照專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2017-54093號公報
另一方面，嘗試偏光板的薄型化時，亦有偏光板的耐久性不充分之問題。特別是偏光板被暴露在高溫、高濕的環境時，造成在偏光板產生皺紋之不良。
偏光板的皺紋，係使以有機EL為代表之畫像顯示裝置的畫像變形。因此前述偏光板的皺紋，有顯著地損害畫像顯示裝置的可見性之問題。伴隨著行動電話等的防水技術進步，在高溫、高濕環境的浴室、蒸氣浴室等使用行動電話等之人們增加。因此，對於在高溫、高濕的環境具有耐久性的偏光板之需求提高。
本發明係鑒於此種情形而進行，其課題係提供一種即便在高溫、高濕的環境下，亦具有耐久性且不容易產生皺紋之偏光板。
亦即，本發明係具有以下的構成。
[1]一種偏光板，係依序包含偏光片、第1黏著劑層、相位差層、及第2黏著劑層之偏光板；其中將前述第1黏著劑層的厚度T1(μm)與前述第2黏著劑層的厚度T2(μm)之和亦即Ta(μm)除以前述偏光板的總厚度Tp(μm)而得到的值亦即Ta/Tp為0.40以下，且前述偏光片的厚度為15μm以下。
[2]如[1]所述之偏光板，其進一步包含接著劑層，且依序包含第1相位差層、接著劑層、及第2相位差層。
[3]一種偏光板，係依序包含偏光片、第1黏著劑層、第1相位差層、第3黏著劑層、第2相位差層、及第2黏著劑層之偏光板；將前述第1黏著劑層的厚度T1(μm)與前述第2黏著劑層的厚度T2(μm)與前述第3黏著劑層的厚度T3(μm)之和亦即Ta’(μm)除以前述偏光板的總厚度Tp’(μm)而得到的值亦即Ta’/Tp’為0.40以下，且前述偏光片的厚度為15μm以下。
依照本發明，能夠提供一種即便在高溫、高濕的環境下亦具有耐久性且不容易產生皺紋之偏光板。
11‧‧‧偏光片
12‧‧‧第1黏著劑層
13‧‧‧第2黏著劑層
14‧‧‧相位差層
15‧‧‧第1相位差層
16‧‧‧第2相位差層
17‧‧‧接著劑層或第3黏著劑層
100‧‧‧偏光板
101‧‧‧偏光板
第1圖係顯示第1實施形態之偏光板的構成之概略剖面圖的一個例子。
第2圖係顯示第2實施形態之偏光板的構成之概略剖面圖的一個例子。
[用以實施發明之形態]
以下，詳細地說明本發明之偏光板的具體實施形態。本發明係不限定於以下的實施形態，在不變更本發明的要旨之範圍能夠進行各種變更。
[第1實施形態]
<偏光板>
在本說明書中，所謂「偏光板」，係具備偏光片及相位差層之光學膜。
第1實施形態的偏光板係依序具備偏光片、第1黏著劑層、相位差層、及第2黏著劑層。
第1圖係顯示第1實施形態之偏光板的構成之概略剖面圖的一個例子。如第1圖顯示，偏光板100係依序將偏光片11、第1黏著劑層12、相位差層14、及第2黏著劑層13積層而成。
在此，相位差層14係例如將供給λ/2的相位差之層、供給 λ/4的相位差之層、及正C層、以及該等層的組合積層而得到之層。作為組合而得到之積層體，可舉出供給λ/2的相位差之層與供給λ/4的相位差之層之積層體、供給λ/4的相位差之層與正C層之積層體等作為例子。
在本說明書中，所謂「供給λ/2的相位差之層」，係指使某特定波長的直線偏光之偏光方位變換90°之相位差層。
在本說明書中，所謂「供給λ/4的相位差之層」，係指使某特定波長之直線偏光變換成為圓偏光(或將圓偏光變換成為直線偏光)之相位差層。相位差層14係供給λ/4的相位差之層時，具備偏光片11、及相位差層14之偏光板100，係能夠作為圓偏光板的功能。
在本說明書中，所謂「正C層」，係指將在面內之慢軸方向的折射率設為Nx，將在其面內之快軸方向的折射率設為Ny，將在其厚度方向之折射率設為Nz時，滿足Nz>Nx≧Ny的關係之層。Nx之值與Ny之值的差，係以Ny之值的0.5%以內為佳，以0.3%以內為較佳。在0.5%以內的話，能夠實質上看作Nx=Ny。
將如上述的構成之偏光板在高溫、高濕環境下保存時有產生皺紋之情形。本發明者等進行研討時，另外亦確認在高溫、高濕環境下保存後產生皺紋之偏光板，其相位差層會產生變形。此種現象，係暗示在高溫、高濕環境下會相位差層產生變形之應力起作用。使相位差層變形之應力，認為與相位差層接觸之黏著劑所造成的影響為較大。
本發明者等進一步研討之結果，發現在如上述構成的偏光板中，藉由控制與相位差層接觸之黏著劑層的構成，將偏光板保持在高溫、高濕環境之後，能夠抑制產生皺紋。亦即，得到在如上述構成的偏光板中， 藉由控制與相位差層接觸之黏著劑的構成，能夠抑制施加在相位差層的應力之構想，而完成了本發明。
以下，詳細地說明構成本實施形態的偏光板100之各層。
<偏光片>
本實施形態的偏光板100係具偏光片11。在本說明書中，所謂「偏光片」係指入射無偏光的光線時，具備使具有對吸收軸為正交的振動面之直線偏光透射的性質之光學膜。
作為偏光片，能夠採用任意適當的偏光片。例如，形成偏光片之樹脂膜可為單層的樹脂膜，亦可為二層以上的積層膜。偏光片亦可為使二色性色素配向在聚合性液晶化合物且使聚合性液晶化合物聚合而成之硬化膜。
作為由單層樹脂膜所構成之偏光片的具體例，可舉出對聚乙烯醇(以下亦略記為PVA)系薄膜、部分甲縮醛化PVA系薄膜、乙烯．乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等的親水性高分子膜，施行使用碘、二色性染料等的二色性物質之染色處理、及延伸處理而成之物，可舉出PVA的脫水處理物、聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等的多烯系配向膜等。因為具有優異的光學特性，所以使用以碘將PVA系薄膜染色且單軸延伸而得到的偏光片為佳。
為PVA系薄膜的原料之聚乙烯醇系樹脂，係能夠藉由將聚乙酸乙烯系樹脂皂化而製造。聚乙酸乙烯系樹脂亦能夠為乙酸乙烯酯的同元聚合物之聚乙酸乙烯酯、以及乙酸乙烯酯和能夠與乙酸乙烯酯共聚合的 其它單體之共聚物。作為能夠與乙酸乙烯酯共聚合的其它單體，例如可舉出不飽和羧酸、烯烴、乙烯醚、不飽和磺酸、具有銨基之丙烯醯胺等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常係為85至100莫耳%左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂亦可經改質，例如亦能夠使用經醛類改質之聚乙烯基甲縮醛、聚乙烯基縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常係1,000至10,000左右，較佳為1,500至5,000左右。
此種將聚乙烯醇系樹脂製膜而成之物亦能夠使用作為PVA系薄膜。將聚乙烯醇系樹脂製膜之方法並無特別限定，能夠使用習知的方法製膜。PVA系薄膜的膜厚係例如10至100μm左右，較佳為10至50μm左右。
偏光片的厚度係以2μm以上為佳，以3μm以上為較佳。又，前述偏光片的厚度為15μm以下，以12μm以下為佳。而且，上述上限值及下限值係能夠任意地組合。
偏光片的厚度變薄時，則偏光片端部的碘在高溫、高濕的環境下容易脫離。因此偏光片的厚度係以2μm以上為佳。又，偏光片的厚度較厚時，偏光片在冷熱交換試驗容易產生裂紋。因為本發明的偏光板係能夠抑制施加在相位差層之應力，所以亦能夠顯示優異的耐久性。
在本說明書中，「層的厚度」係意味著在偏光板之層的積層方向的尺寸。作為在本實施形態之「層」，例如可舉出偏光片、黏著劑層、接著劑層、相位差層、保護膜等。層的厚度係例如能夠藉由使用白色干渉式之非接觸膜厚計、或使用接觸式膜厚計而測定層的任意點且算出其平均值而得到。使用非接觸式膜厚計時，能夠不必接觸測定對象而精密地測定， 且即便測定對象為積層體之一部分的層，亦能夠不必將各層剝離而進行測定對象之膜厚。
在偏光片的一面、或兩面積層有後述保護膜時，前述偏光片的厚度係不包含前述保護膜的厚度。
前述偏光片亦可在一面或兩面隔著後述黏著劑層、或接著劑層而積層保護膜。作為能夠積層在偏光片的一面或兩面之保護膜，例如能夠使用由具有優異的透明性、機械強度、熱安定性、水分隔離性、等方性、延伸性等之熱塑性樹脂所形成的薄膜。作為此種熱塑性樹脂的具體例，能夠舉出三乙酸纖維素等的纖維素樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等的聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、耐綸、芳香族聚醯胺等的聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚乙烯、聚丙烯、乙烯．丙烯共聚物等的聚烯烴樹脂、具有環系及降莰烯構造之環狀聚烯烴樹脂(亦稱為降莰烯系樹脂)、(甲基)丙烯酸樹脂、聚芳香酯(polyarylate)樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、以及該等樹脂的混合物。
將保護膜積層在偏光片的兩面時，二片保護膜的樹脂組成可相同亦可不同。
由熱塑性樹脂所形成之薄膜，為了提升與由PVA系樹脂及二色性物質所構成的偏光片之密著性，亦可施行表面處理(例如電暈處理等)，亦可形成底漆層(亦稱為底塗層)等的薄層。
保護膜在溫度40℃、濕度90%RH的透濕度，係以1至1500g/m2．24小時[hr]為佳。保護膜的透濕度大於1500g/m2．24hr時，在高溫高濕環境下，包含前述保護膜之偏光板容易產生皺紋。保護膜的透濕 度越低，包含前述保護膜之偏光板防止產生皺紋的效果越顯著，在溫度40℃、濕度90%RH的透濕度係以1000g/m2．24hr以下為較佳，以100g/m2．24hr以下為更佳。透濕度係能夠依據JIS Z 0208：1976而測定。
前述保護膜的厚度係以3μm以上為佳，以5μm以上為較佳。前述保護的厚度係以50μm以下為佳，以30μm以下為較佳。上述上限值及下限值係能夠任意地組合。
在偏光片的一面或兩面具有保護膜時，因為能夠充分地增強偏光片，所以偏光板的各種耐久性能夠進一步提升。
<第1黏著劑層>
偏光片與相位差層，係隔著第1黏著劑層而被積層。
在本說明書中，所謂「黏著劑」係指為柔軟的橡膠狀，藉由將其本身貼附在前述偏光片、前述保護膜等的被黏著物而顯現接著性。後述活性能量線硬化型黏著劑係能夠藉由照射能量線而調整接著力。
作為構成第1黏著劑層之黏著劑並無特別限制而能夠使用先前習知之具有優異的光學透明性之黏著劑，例如能夠使用具有丙烯酸系聚合物、胺甲酸酯系聚合物、聚矽氧系聚合物、聚乙烯基醚系聚合物等基質聚合物之黏著劑。又，亦可使用活性能量線硬化型黏著劑、熱硬化型黏著劑等。該等黏著劑之中，以將具有優異的透明性、黏著力、再剝離性(以下亦稱為再加工性)、耐候性、耐熱性等之丙烯酸系樹脂作為基質聚合物之黏著劑為佳。在本實施形態，第1黏著劑層係以由含有(甲基)丙烯酸系樹脂(1)、交聯劑(2)及矽烷化合物(3)之黏著劑組成物的反應生成物所構成為 佳。
[(甲基)丙烯酸系樹脂(1)]
在本實施形態，在構成第1黏著劑層之黏著劑組成物所含有的(甲基)丙烯酸系樹脂(1)，係以源自下述式(I)表示之(甲基)丙烯酸烷酯的結構單元(以下亦稱為「結構單元(I)」)作為主成分(例如，含有50質量%以上的結構單元(I))之聚合物(以下亦稱為「(甲基)丙烯酸酯聚合物」)為佳。
在本說明書中，所謂「源自」，係意味著由於(甲基)丙烯酸烷酯等的化合物進行聚合，所以化學結構產生變化。
Figure 107146965-A0202-12-0009-3
式中，R10係表示氫原子或甲基，R20係表示碳數1至20的烷基，前述烷基係可具有直鏈狀、分枝狀或環狀的任一結構，前述烷基的氫原子係可經碳數1至10的烷氧基取代。
在本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸」，係意味著可為丙烯酸或甲基丙烯酸的任一者。(甲基)丙烯酸酯等的「(甲基)」亦是相同的意思。
作為式(I)表示之(甲基)丙烯酸酯，可舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正及異壬酯、 (甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯等。作為含烷氧基的丙烯酸烷酯之具體例，可舉出(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等。尤其是以含有(甲基)丙烯酸正丁酯或(甲基)丙烯酸2-乙基己酯為佳，以含有(甲基)丙烯酸正丁酯為特佳。
(甲基)丙烯酸酯聚合物亦可含有源自結構單元(I)以外的其它單體之結構單元。源自其它單體之結構單元可為1種亦可為2種以上。作為(甲基)丙烯酸酯聚合物能夠含有的其它單體，可舉出具有極性官能基之單體、具有芳香族基之單體、及丙烯醯胺系單體。
作為具有極性官能基之單體，可舉出具有極性官能基之(甲基)丙烯酸酯。作為極性官能基，可舉出羥基、羧基、取代胺基、未取代胺基等。作為極性官能基，亦可舉出環氧基等的雜環基等。
(甲基)丙烯酸酯聚合物中源自極性官能基的單體之結構單元的含量，係相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物的總結構單元100質量份，以20質量份以下為佳，較佳為0.1質量份以上且20質量份以下，更佳為0.1質量份以上且10質量份以下，特佳為0.5質量份以上且10質量份以下。
作為具有芳香族基之單體，可舉出在分子內具有1個(甲基)丙烯醯基及1個以上的芳香環(例如、苯環、萘環等)且具有苯基、苯氧基乙基、或苄基之(甲基)丙烯酸酯。藉由含有該等結構單元，能夠抑制偏光板在高溫、高濕環境下產生的白點現象。
(甲基)丙烯酸酯聚合物中源自芳香族基的單體之結構單元的含量，相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物的總結構單元100質量份，以50質 量份以下為佳，較佳為4質量份以上且50質量份以下，更佳為4質量份以上且25質量份以下。
作為丙烯醯胺系單體，可舉出N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺等。藉由含有該等結構單元，能夠抑制後述抗靜電劑等添加物的滲出。
而且，作為源自結構單元(I)以外的其它單體之結構單元，亦可含有源自苯乙烯系單體之結構單元、源自乙烯系單體之結構單元、及源自在分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之結構單元等。
(甲基)丙烯酸系樹脂(1)的重量平均分子量(以下亦簡稱「Mw」)係以50萬至250萬為佳。重量平均分子量為50萬以上時，能夠使在高溫、高濕的環境下之第1黏著劑層的耐久性提升。重量平均分子量為250萬以下時，將含有黏著劑組成物之塗佈液進行塗佈時的操作性變為良好。重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(以下亦簡稱「Mn」)之比表示之分子量分布(Mw/Mn)通常係2至10。在本說明書中，所謂「重量平均分子量」及「數量平均分子量」，係使用凝膠滲透層析法(GPC)法而測定之聚苯乙烯換算值。
(甲基)丙烯酸系樹脂(1)於使其溶解在乙酸乙酯而成為濃度20質量%的溶液時，在25℃之黏度係以20Pa．s以下為佳，以0.1至15Pa．s為較佳。(甲基)丙烯酸樹脂(1)在25℃之黏度為前述範圍內時，係有助於包含使用前述樹脂所形成的第1黏著劑層之偏光板的耐久性提升和再加工(rework)性。前述黏度係能夠使用布魯克菲爾德(Brookfield)黏度計而測定。
從黏著性及耐久性並存之觀點而言，(甲基)丙烯酸系樹脂(1)的玻璃轉移溫度係以-60℃至-10℃為佳。又，玻璃轉移溫度係能夠使用示差掃描熱量計(DSC)而測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(1)亦可含有2種以上的(甲基)丙烯酸酯聚合物。作為此種(甲基)丙烯酸酯聚合物，例如可舉出以結構單元(I)作為主成分之物且重量平均分子量在如5萬至30萬的範圍之較低分子量的(甲基)丙烯酸酯聚合物。
[交聯劑(2)]
形成第1黏著劑層之黏著劑組成物，係以含有交聯劑(2)為佳。作為交聯劑(2)，可舉出常用的交聯劑(異氰酸酯化合物、環氧化合物、吖環丙烷化合物、金屬鉗合物化合物、過氧化物等)，特別是從黏著劑組成物的適用期、交聯速度、及偏光板的耐久性等的觀點而言，係以異氰酸酯系化合物為佳。
作為異氰酸酯系化合物，係以在分子內具有至少2個異氰酸基(-NCO)之化合物為佳，例如可舉出脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯等)、脂環族異氰酸酯系化合物(例如異佛爾酮二異氰酸酯)、氫化苯二甲基二異氰酸酯、氫化二苯基甲烷二異氰酸酯、芳香族異氰酸酯系化合物(例如甲苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯、三苯基甲烷三異氰酸酯等)等。交聯劑(2)亦可為前述異氰酸酯化合物藉由多元醇化合物而得到的加成物(加成體)[例如藉由甘油、三羥甲基丙烷等而得到的加成物]、使前述異氰酸酯化合物與異三聚氰酸酯化合物、縮二脲(biuret)型化合物、聚醚多元醇、聚酯多元醇、丙烯酸 多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等加成反應而成之胺甲酸酯預聚合物型的異氰酸酯化合物等的衍生物。交聯劑(2)係能夠單獨或組合2種以上而使用。該等化合物之中，從耐久性的觀點而言，係以甲苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯及該等二異氰酸酯的多元醇化合物或該等二異氰酸酯的異三聚氰酸酯化合物為佳。
交聯劑(2)的比例相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(1)100質量份，例如可為0.01至10質量份，較佳為0.1至3質量份，更佳為0.1至1質量份。在上述上限值以下時，對提升耐久性為有利的，在上述下限值以上時，對抑制產生氣體且提升再加工性為有利的。
[矽烷化合物(3)]
黏著劑組成物係能夠含有矽烷化合物(3)。藉由含有矽烷化合物(3)，能夠提高第1黏著劑層與積層在前述第1黏著劑層之層的密著性。亦可使用2種以上的矽烷化合物(3)。
作為矽烷化合物(3)，可舉出乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-氫硫基丙基三甲氧基矽烷等。
作為矽烷化合物(3)，能夠含有源自上述例子顯示的化合物之寡聚物。
在黏著劑組成物之矽烷化合物(3)的含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(1)100質量份，通常係0.01至10質量份，以0.03至5質量份為佳，較佳為0.05至2質量份，更佳為0.1至1質量份。矽烷化合物(3)的含量為0.01質量份以上時，第1黏著劑層與被黏著物的密著性容易提升。含量為10質量份以下時，能夠抑制矽烷化合物(3)從第1黏著劑層滲出。
[其它成分(4)]
形成第1黏著劑層之黏著劑組成物能夠單獨或含有2種以上之紫外線吸收劑、抗靜電劑、溶劑、交聯觸媒、黏著賦予樹脂(膠黏劑(tackifier))、塑化劑等的添加劑。又，在黏著劑組成物調配紫外線硬化性化合物而形成第1黏著劑層後，照射紫外線使其硬化而成為較硬的黏著劑層亦為有用者。
第1黏著劑層的厚度係以3μm以上為佳，以5μm以上為較佳。又，第1黏著劑層的厚度係以40μm以下為佳，以30μm以下為較佳。而且，上述上限值及下限值係能夠任意地組合。
第1黏著劑層的厚度為前述下限值以上時，能夠將偏光片與相位差層充分地貼合。第1黏著劑層的厚度為前述上限值以下時，相位差層不容易產生偏移，且抑制伴隨著相位差層變形而引起偏光板產生皺紋之效果提高。
在製造本實施形態的積層體時，使用較強的壓力且隔著第1黏著劑將偏光片與相位差層貼合時，相較於使用較弱的壓力貼合時，第1黏著劑層的厚度有變薄之情形。這是因為第1黏著劑層係具有伸縮性致，但是將偏光片與相位差層貼合後，若暫時放置，則第1黏著劑層的厚度係恢復如原來。因此使用較強的壓力隔著第1黏著劑將偏光片與相位差層貼 合時，例如能夠藉由放置5分鐘後而測定第1黏著劑層的厚度，得到一定值。
<第2黏著劑層>
第2黏著劑層係積層在相位差層之與第1黏著劑層接觸的面為相反側的面。偏光板係隔著第2黏著劑層積層在例如顯示面板等。
作為構成在相位差層與例如顯示面板等的積層所使用的第2黏著劑層之黏著劑，可無特別限制地使用先前習知之具有優異的光學透明性之黏著劑。
作為構成第2黏著劑層之黏著劑，能夠使用與作為構成第1黏著劑層之黏著劑所例示者相同者。第1黏著劑層與第2黏著劑層之厚度可各自相同亦可不同。
作為第2黏著劑層的黏著劑，亦能夠使用活性能量線硬化型黏著劑。「活性能量線硬化型黏著劑」係具有受到紫外線、電子射線等能量線的照射而硬化之性質。因為活性能量線硬化型黏著劑係即便在能量線照射前亦具有黏著性，所以是能夠與薄膜等的被黏著物密著且具有藉由能量線的照射而硬化來調整密著力的性質之黏著劑。在本實施形態，作為在第2黏著劑層所使用的黏著劑係以活性能量線硬化型黏著劑為佳，其中以紫外線硬化型黏著劑為較佳。
活性能量線硬化型黏著劑通常係含有丙烯酸系黏著劑及能量線聚合性化合物作為主成分。通常進一步調配有交聯劑，而且按照必要亦能夠調配光聚合起始劑、光敏化劑等。
使用活性能量線硬化型黏著劑將相位差層與例如顯示面板貼合時，係首先隔著活性能量線硬化型黏著劑將相位差層積層在顯示面板上。其次，照射如紫外線、可見光、電子射線、X射線之活性能量線而使由活性能量線硬化型黏著劑所構成之黏著劑層硬化。作為活性能量線，係以紫外線為佳，作為此時的光源，係能夠使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、鹵化金屬燈等。
第2黏著劑層的厚度係以3μm以上為佳，以5μm以上為較佳。又，第2黏著劑層的厚度係以40μm以下為佳，以30μm以下為較佳，亦可為22μm以下。而且，上述上限值及下限值係能夠任意地組合。
第2黏著劑層的厚度為前述下限值以上時，能夠將相位差層與例如顯示面板等充分地貼合。
第2黏著劑層的厚度為前述上限值以下時，隔著第2黏著劑層而被積層的相位差層與顯示面板不容易產生偏移。因此，能夠將相位差層牢固地固定且偏光片與相位差層不容易偏移。結果抑制伴隨著相位差層變形引起偏光板產生皺紋之效果提高。第2黏著劑層的厚度亦可比第1黏著劑層的厚度更大。
在製造本實施形態的積層體時，隔著第2黏著劑且使用較強的壓力將相位差層與顯示面板等貼合時，相較於使用較弱的壓力貼合時，第2黏著劑層的厚度有變薄之情形。這是因為第2黏著劑層係具有伸縮性而產生，但是將相位差層與例如顯示面板等貼合後，若暫時放置，則第2黏著劑層的厚度係恢復如原來。因此使用較強的壓力隔著第2黏著劑將相 位差層與顯示面板等貼合時，例如能夠藉由放置5分鐘後而測定第2黏著劑層的厚度，得到一定值。
作為本實施形態之一態樣，係一種偏光板，將前述第1黏著劑層的厚度T1(μm)與前述第2黏著劑層的厚度T2(μm)之和亦即Ta(μm)除以前述偏光板的總厚度Tp(μm)而得到的值亦即Ta/Tp為0.40以下，Ta(μm)係前述第1黏著劑層的厚度T1(μm)與前述第2黏著劑層的厚度T2(μm)之和。
前述Ta/Tp係以0.10以上為佳，以0.20以上為較佳，以0.25以上為更佳。前述Ta/Tp0係以0.38以下為佳。上述上限值及下限值係能夠任意地組合。
Ta/Tp為前述上限值以下時，相位差層不容易產生偏移且抑制伴隨著相位差層變形引起偏光板產生皺紋之效果提高。咸認這是因為藉由使用在偏光板所佔有的黏著劑層之比例成為一定值以下，而能夠成為不容易通過水蒸氣之層結構。
前述Ta/Tp之值，係能夠藉由調整構成偏光板之層的厚度而調整。在確保某種程度偏光板的總厚度之同時，使第1黏著劑層的厚度及第2黏著劑層的厚度薄化為有效的。
在本說明書中，所謂「偏光板的總厚度」，係意味著偏光板積層方向的尺寸。亦即，所謂「在第1實施形態之偏光板的總厚度」，係意味著將偏光片的厚度、第1黏著劑層的厚度、相位差層的厚度、第2黏著劑層的厚度、在其它偏光板所包含的全部光學膜層、黏著劑層、接著劑層的厚度進行合計而成之厚度。偏光板的總厚度不包含最後未殘留在顯示 裝置之構件。作為最後未殘留在顯示裝置之構件，可舉出積層在偏光板之與顯示面板為相反側的面之表面保護膜、及積層在第2黏著劑層上之隔離膜。該等層係在顯示裝置的製造過程被剝離除去且在最後未殘留在顯示裝置。
偏光板的總厚度，係例如能夠藉由使用測微計而測定偏光板的任意5點且算出其平均值而得到。
偏光板的總厚度，係能夠藉由各別測定偏光片的厚度、第1黏著劑層的厚度、相位差層的厚度、第2黏著劑層的厚度、在其它偏光板所包含的全部光學膜層、黏著劑層、接著劑層的厚度且將其值層合計而得到。
偏光片的厚度，第1黏著劑層的厚度、相位差層的厚度、第2黏著劑層的厚度、其它偏光板所包含的全部光學膜層、黏著劑層、接著劑層的厚度能夠使用本說明書記載的方法而測定。
在第1實施形態之偏光板的總厚度係以30μm以上為佳。又，前述偏光板的總厚度係以300μm以下為佳，200μm以下為較佳，150μm以下為更佳。而且，上述上限值及下限值係能夠任意地組合。
偏光板的總厚度為前述上限值以下時，係能夠有助於偏光板的薄層化。偏光板的總厚度為前述下限值以上時，偏光板的強度提升。
在溫度40℃、濕度90%之第1黏著劑層及第2黏著劑層的水蒸氣穿透度係各自以1,000至10,000g/m2．24h為佳，亦可為2,000至9,000g/m2．24h。前述水蒸氣穿透度係能夠使用Systech ILLINOIS公司製的Lyssy水蒸氣穿透度計L80 Series而測定。黏著劑層的水蒸氣穿透度較 高時，因為黏著劑強烈地受到高溫、高濕環境之影響，所以容易產生伴隨著相位差層的變形引起偏光板產生皺紋。為黏著劑單體而不容易測定水蒸氣穿透度時，亦可藉由將黏著劑貼合在透濕性較高的基材上且從與透濕性較高的基材之比來算出水蒸氣穿透度。
<相位差層>
相位差層14係具有由含有液晶化合物之液晶材料(亦稱為液晶組成物)所構成之層。所謂由含有液晶化合物之液晶材料所構成之層，具體而言係意味著液晶化合物硬化而成之層。在本說明書中，係有將供給λ/2的相位差之層、供給λ/4的相位差之層及正C層等總稱為相位差層之情形。而且，相位差層亦可包含後述的透明基材、配向層。
液晶化合物硬化而成之層係例如形成在透明基材所設置的配向層上。所謂「透明基材」係指能夠透射光，特別是具有能夠透射可見光程度的透明性之基材。在本說明書中，所謂「透明性」，係指對波長380至780nm範圍的可見光區域的光線之透射率為80%以上之特性。
前述透明基材亦可為具有支撐配向層的功能且形成長條之基材。該透明基材係能夠作為脫模性支撐體的功能且支撐轉印用的相位差層。而且，其表面係以具有能夠剝離的程度之接著力者為佳。
作為前述透明基材，例如能夠舉出玻璃基材及塑膠基材，較佳為塑膠基材。作為構成塑膠基材之塑膠，例如可舉出聚乙烯、聚丙烯、降莰烯系聚合物等的聚烯烴、環狀烯烴系樹脂、聚乙烯醇、聚對苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸酯、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素及 纖維素乙酸酯丙酸酯等的纖維素酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚碸、聚醚碸、聚醚酮、聚苯硫(polyphenylene sulfide)及聚苯醚。尤其是就能夠容易地從市場取得或具有優異的透明性而言，特佳可舉出纖維素酯、環狀烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯或聚甲基丙烯酸酯。作為透明基材，可為由該等材料所構成之單層，亦可為積層2種以上而成之積層體。又，設為複數層的積層體時亦可積層相同組成的層。
透明基材的厚度並無特別限定，例如以設為20μm以上且200μm以下的範圍為佳。若透明基材的厚度為20μm以上，則能夠賦予強度。另一方面，厚度為200μm以下時，在將透明基材進行裁斷加工而成為單片透明基材時，能夠抑制加工屑的增加及裁斷刀刃的磨耗。
透明基材亦可經施行各種抗結塊處理。作為抗結塊處理，可舉出易接著處理、摻合填料等之處理、壓花加工(滾紋處理(knurling process))等。藉由對透明基材施行此種抗結塊處理，能夠有效地防止在將透明基材捲取時在基材之間產生貼附亦即所謂的結塊且能夠生產性較高地製造光學膜。
液晶化合物硬化而成之層係隔著配向層而形成在透明基材上。亦即，相位差層係依序將透明基材、及配向層積層且將液晶化合物硬化而成之層積層在前述配向層上。
配向層不限定為垂直配向層，亦可為使液晶化合物的分子軸水平配向之配向層，亦可為使液晶化合物的分子軸傾斜配向之配向層。作為配向膜，係以具有不因使用含有後述的液晶化合物塗佈液進行塗佈等而溶解之溶劑耐受性之膜，在溶劑的除去和液晶化合物的配向用加熱處理時 具有耐熱性之膜為佳。作為配向膜，可舉出含有配向性聚合物之配向膜、在光配向膜及表面形成凹凸圖案和複數條溝且使其配向之溝配向膜。配向膜的厚度通常係10nm至10000nm的範圍，以10nm至1000nm的範圍為佳，較佳為500nm以下，更佳為10nm至200nm的範圍。
作為在配向層所使用的樹脂，只要為被使用作為習知配向膜的材料之樹脂，就沒有特別限定，而且能夠使用使先前習知單官能或多官能的(甲基)丙烯酸酯系單體在聚合起始劑下硬化而成之硬化物等。具體而言，作為(甲基)丙烯酸酯系單體，係例如能夠例示丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸環己酯、二乙二醇單2-乙基己醚丙烯酸酯、二乙二醇單苯基醚丙烯酸酯、四乙二醇單苯基醚丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸月桂酯、丙烯酸異莰酯、甲基丙烯酸異莰酯、丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸四氫糠酯、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸四氫糠酯、甲基丙烯酸2-羥基丙酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸、胺甲酸酯丙烯酸酯等。又，樹脂可為1種類，亦可為2種類以上的混合物。
就本實施形態所使用的液晶化合物之種類而言並無限定，但從其形狀能夠分類成為棒狀型(棒狀液晶化合物)及圓盤狀型(圓盤狀液晶化合物、碟狀液晶化合物)。而且，各別有低分子型及高分子型。又，所謂高分子，通常係指聚合度為100以上之物(高分子物理．相轉移動力、土井正男著、第2頁、岩波書店、1992年)。
在本實施形態，能夠使用任何液晶化合物。進一步地，亦可使用2種以上的棒狀液晶化合物、2種以上的圓盤狀液晶化合物、或棒狀 液晶化合物與圓盤狀液晶化合物之混合物。
作為棒狀液晶化合物，例如能夠適合使用在特表平11-513019號公報的請求項1、特開2005-289980號公報的段落[0026]至[0098]記載之化合物。作為圓盤狀液晶化合物，例如能夠適合使用在特開2007-108732號公報的段落[0020]至[0067]或特開2010-244038號公報的段落[0013]至[0108]等記載的化合物。
前述液晶化合物硬化而成之層，係以使用具有聚合性基之棒狀液晶化合物、或具有聚合性基之圓盤狀液晶化合物而形成為較佳。藉此，能夠減低光學特性之溫度變化和濕度變化。
液晶化合物亦可併用2種類以上。此時，係以至少1種類在分子內具有2個以上的聚合性基為佳。亦即，前述液晶化合物硬化而成之層，係以具有聚合性基之棒狀液晶化合物或具有聚合性基之圓盤狀液晶化合物藉由聚合而被固定且形成之層為佳。此時，成為層之後，係已經不必顯示液晶性。
棒狀液晶化合物或圓盤狀液晶化合物係具有聚合性基時，其聚合性基的種類並無特別限制。作為聚合性基，以聚合性乙烯性不飽和基、環聚合性基等能夠加成聚合反應之官能基為佳。更具體地，作為聚合性基，係例如能夠舉出(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等。其中以(甲基)丙烯醯基為佳。又，所謂(甲基)丙烯醯基係包含甲基丙烯醯基及丙烯醯基的兩者之概念。
液晶化合物硬化而成之層如後述般，能夠藉由將含有液晶化合物塗佈液塗佈在例如配向層上而形成。前述塗佈液亦可含有上述液晶化 合物以外的成分。前述塗佈液亦可含有聚合起始劑。所使用的聚合起始劑，係能夠按照聚合反應的形式而選擇例如熱聚合起始劑和光聚合起始劑。作為光聚合起始劑，可舉出α-羰基化合物、醯偶姻醚(acyloin ether)、α-烴取代芳香族醯偶姻化合物、多核苯醌化合物、三芳基咪唑二聚物與對胺基苯基酮之組合等。相對於前述塗佈液中的總固體成分，聚合起始劑的使用量，以0.01至20質量%為佳，以0.5至5質量%為較佳。
就塗佈膜的均勻性及膜強度而言，前述塗佈液亦可含有聚合性單體。作為聚合性單體，可舉出自由基聚合性或陽離子聚合性的化合物。其中以多官能性自由基聚合性單體為佳。
作為聚合性單體，係以能夠與上述具有聚合性基之液晶化合物(以下亦稱為聚合性液晶化合物)共聚合之化合物為佳。作為具體的聚合性單體，例如可舉出在特開2002-296423號公報中的段落[0018]至[0020]記載之物。聚合性單體的使用量係相對於液晶化合物的總質量，以1至50質量%為佳，以2至30質量%為較佳。
就塗佈膜的均勻性及膜強度而言，前述塗佈液亦可含有界面活性劑。作為界面活性劑，可舉出先前習知的化合物。其中以氟系化合物為特佳。作為具體的界面活性劑，例如可舉出特開2001-330725號公報中的段落[0028]至[0056]記載的化合物、及在特願2003-295212號說明書中的段落[0069]至[0126]記載之化合物。
前述塗佈液亦可含有溶劑且能夠適合使用有機溶劑。
作為有機溶劑，例如可舉出醯胺(例如N,N-二甲基甲醯胺)、亞碸(例如二甲基亞碸)、雜環化合物(例如吡啶)、烴(例如苯、己烷)、烷基鹵化物(例 如氯仿、二氯甲烷)、酯(例如乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯)、酮(例如丙酮、甲基乙基酮)、醚(例如四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)。其中，以烷基鹵化物、酮為佳。亦可併用2種類以上的有機溶劑作為前述塗佈液。
前述塗佈液亦可有偏光片界面側垂直配向劑、空氣界面側垂直配向劑等的垂直配向促進劑、以及、偏光片界面側水平配向劑、空氣界面側水平配向劑等的水平配向促進劑之各種配向劑。進一步地，前述塗佈液除了上述成分以外，亦可含有密著改良劑、塑化劑、聚合物等。
在本實施形態，相位差層的厚度係以0.5μm以上為佳。前述相位差層的厚度係以10μm以下為佳，以5μm以下為較佳。上述上限值及下限值係能夠任意地組合。
相位差層的厚度為前述下限值以上時，能夠得到充分的耐久性。相位差層的厚度為前述上限值以下時，能夠有助於偏光板的薄層化。
相位差層的厚度係能夠以可得到供給λ/4的相位差之層、供給λ/2的相位差之層、或正C層所需要的面內相位差值、及厚度方向的相位差值之方式調整。
作為相位差層在溫度40℃濕度90%RH之透濕度比，係以0.5至1.0的範圍為佳。透濕度比係指使用以下的方法所算出的值。因為相位差層單體時厚度和機械特性較低，所以測定透濕度為困難的。因此，係隔著黏著劑而將相位差層與透濕性較高的基材貼合且測定透濕度。透濕度的測定，係能夠使用與保護膜的透濕度之測定相同的方法而進行。透濕度比係藉由所測定的透濕度與基材的透濕度之比而算出。
透濕度比越低，抑制在高溫、高濕環境下產生皺紋為越有效。
[第2實施形態]
第2實施形態的偏光板，係依序具備偏光片、第1黏著劑層、第1相位差層、接著劑層或第3黏著劑層、第2相位差層、及第2黏著劑層之偏光板。亦即，第2實施形態的偏光板係包含至少2層相位差層。
第2圖係顯示第2實施形態的偏光板的構成之概略剖面圖的一個例子。 如第2圖顯示，偏光板101係依序積層有偏光片11、第1黏著劑層12、第1相位差層15、接著劑層或第3黏著劑層17、第2相位差層16、及第2黏著劑層13。
又，針對與上述第1實施形態相同態樣的構成要素(偏光片11、第1黏著劑層12、第2黏著劑層13)係附加相同符號且將其說明省略。
<包含2層相位差層之積層體>
第1相位差層15及第2相位差層16係隔著接著劑層或第3黏著劑層17積層而成。第1相位差層15及第2相位差層16係各自能夠為供給λ/2的相位差之層、供給λ/4的相位差之層、或正C層。作為本實施形態之一態樣，較佳是第1相位差層15及第2相位差層16的任一者係作為供給λ/4的相位差之層的功能，另一者係作為供給λ/2的相位差之層的功能；或者第1相位差層15及第2相位差層16的任一者係作為供給λ/4的相位差之層的，另一者係作為正C層的功能。因而，第1相位差層15及第2相位差層16的厚度以及構成該等層之材料，係以能夠得到供給λ/4的相位差之層、供給λ/2的相位差之層、或正C層所需要的面內相位差值、厚度方向的相位差值之方式調整。
第1相位差層15係作為供給λ/2的相位差之層的功能，且第2相位差層16係作為供給λ/4的相位差之層的功能時，第1相位差層15的厚度係例如1μm以上且10μm以下，第2相位差層16的厚度係例如1μm以上且10μm以下。第1相位差層15係作為供給λ/4的相位差之層的功能，且第2相位差層16係作為正C層的功能時，第1相位差層15的厚度係例如1μm以上且10μm以下，第2相位差層16的厚度係例如1μm以上且10μm以下。
在第1相位差層及第2相位差層的形成所使用的透明基材、配向層、液晶化合物，係能夠使用與在第1實施形態已例示者相同者。第1相位差層及第2相位差層的組成可以相同亦可不同。第1相位差層及第2相位差層的各厚度，係各自能夠使用在第1實施形態已說明之層厚度的測定方法而得到。
第1相位差層及第2相位差層係各別為與第1實施形態的相位差層相同的構成且依序將透明基材、配向層、相位差層積層而成。透明基材、及配向層亦可被剝離。第1相位差層及第2相位差層係隔著接著劑層或第3黏著劑層積層而成。亦即，第2實施形態的偏光板係包含依序將第1相位差層、接著劑層及第3黏著劑層、以及第2相位差層積層而成之積層體。
第2實施形態的偏光板，較佳是依序包含第1相位差層、接著劑層、及第2相位差層。
在本說明書中，構成接著劑層之「接著劑」係設為塗佈在基材時能夠以液狀塗佈在基材，藉由進行硬化而顯現接著性(亦即至硬化為止 係不顯現接著性)者。
更具體地，所謂「接著劑」，係指將被接著構件之間接著時的玻璃轉移溫度(Tg)為25℃以上之物。另一方面，所謂「黏著劑」，係指將被黏著構件之間接著時的玻璃轉移溫度(Tg)為未達25℃者。
<接著劑層>
作為將第1相位差層與第2相位差層貼合之接著劑，例如可舉出水系接著劑及活性能量線硬化性接著劑。作為水系接著劑，例如可舉出使聚乙烯醇系樹脂溶解或分散於水中而成之接著劑。作為活性能量線硬化性接著劑，例如可舉出藉由照射如紫外線、可見光、電子射線、X射線的活性能量線而硬化之含有硬化性化合物的接著劑。硬化後的活性能量線硬化性接著劑之儲存彈性模數，多半的情形係比水系接著劑的儲存彈性模數更高。因為相位差層間的接著劑層的作為指示硬度的指標之儲存彈性模數較高時，相位差層之間不容易產生偏移，故以使用活性能量線硬化性接著劑為佳。
作為活性能量線硬化性接著劑，就顯示良好的接著性而言，以含有陽離子聚合性硬化性化合物、及自由基聚合性硬化性化合物的任一者或兩者為佳。活性能量線硬化性接著劑亦能夠進一步含有陽離子聚合起始劑、及自由基聚合起始劑的任一者或兩者，用以使上述硬化性化合物的硬化反應開始。
作為陽離子聚合性硬化性化合物，例如能夠舉出環氧系化合物(在分子內具有1個或2個以上的環氧基之化合物)、氧雜環丁烷(oxetane)系化合物(在分子內具有1個或2個以上的氧雜環丁烷環之化合物)、或該等化合物的組合。
作為自由基聚合性硬化性化合物，例如能夠舉出(甲基)丙烯酸系化合物(在分子內具有1個或2個以上的(甲基)丙烯醯基氧基之化合物)、具有自由基聚合性雙鍵之其它乙烯系化合物、該等化合物的組合等。
活性能量線硬化性接著劑係能夠按照必要而含有陽離子聚合促進劑、離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、黏著賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、塑化劑、消泡劑、抗靜電劑、調平劑、溶劑等的添加劑。
使用接著劑而將第1相位差層與第2相位差層貼合時，係首先，將接著劑塗佈在第1相位差層與第2相位差層之任一者的接合面或兩者的接合面。
作為將接著劑塗佈在上述接合面之方法，採用使用模塗佈器、刮刀式塗佈器(comma coater)、逆輥塗佈器、凹版塗佈器、棒塗佈器、繞線棒塗佈器、刮刀片塗佈器、氣動刮塗器等之通常的塗佈技術即可。
針對使用水系接著劑時之乾燥方法，並無特別限定，例如能夠採用使用熱風乾燥機和紅外線乾燥機而乾燥之方法。
另一方面，使用活性能量線硬化性接著劑時，係照射如紫外線、可見光、電子射線、X射線的活性能量線而使活性能量線硬化性接著劑硬化。作為活性能量線，係以紫外線為佳，作為此時的光源，係能夠使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、鹵化金屬燈等。
接著劑層的厚度係以10μm以下為佳，以5μm以下為較佳。
接著劑層的厚度為前述上限值以下時，在第1相位差層與第2相位差 層之間不容易產生浮起和剝落。
隔著接著劑層將第1相位差層與第2相位差層積層而成之本實施形態之一態樣，將Ta(μm)除以前述偏光板的總厚度Tp(μm)而得到的值亦即Ta/Tp為0.40以下之偏光板，Ta(μm)係第1黏著劑層的厚度T1(μm)與前述第2黏著劑層的厚度T2(μm)之和。
前述Ta/Tp係以0.10以上為佳，以0.20以上為較佳，以0.25以上為更佳。又，前述Ta/Tp係以0.38以下為佳。上述上限值及下限值係能夠任意地組合。
Ta/Tp為前述上限值以下時，相位差層不容易產生偏移，抑制伴隨著相位差層變形引起偏光板產生皺紋之效果提高。
前述Ta/Tp之值係能夠藉由增大Tp之值、或減小Ta之值而減小。但是因為Tp之值變大時，難以製造薄型的偏光板，所以減小Ta之值為佳。亦即，使第1黏著劑層的厚度、第2黏著劑層的厚度薄化為有效的。
在本實施形態，所謂偏光板的總厚度，係意味著將偏光片的厚度、第1黏著劑層的厚度、第1相位差層的厚度、接著劑層的厚度、第2相位差層的厚度、第2黏著劑層的厚度、以及在其它偏光板所包含的全部光學膜層、黏著劑層及接著劑層的厚度合計而成之厚度。與上述相同地，偏光板的總厚度係不包含最後在未殘留在顯示裝置的構件。
在本實施形態之偏光板的總厚度，係例如能夠藉由使用測微計測定偏光板的任意5點且算出測定值的平均值而得到。
偏光板的總厚度係例如亦能夠藉由各別測定偏光片的厚度、 第1黏著劑層的厚度、第1相位差層的厚度、接著劑層的厚度、第2相位差層的厚度、第2黏著劑層的厚度、以及在其它偏光板所包含的全部光學膜層、黏著劑層、接著劑層的厚度，將其值合計而得到。
偏光片的厚度、第1黏著劑層的厚度、第1相位差層的厚度、接著層的厚度、第2相位差層的厚度、第2黏著劑層的厚度、以及在其它偏光板所包含的全部光學膜層、黏著劑層、接著劑層的厚度能夠使用本說明書記載的方法而測定。
偏光板的總厚度Tp係以30μm以上為佳。前述偏光板的總厚度Tp(μm)係以300μm以下為佳，以200μm以下為較佳，以150μm以下為更佳。上述上限值及下限值係能夠任意地組合。
偏光板的總厚度為前述上限值以下時，能夠有助於偏光板的薄層化。偏光板的總厚度為前述下限值以上時，偏光板的強度提升。
在本實施形態之第1黏著劑層的厚度T1(μm)與第2黏著劑層的厚度T2(μm)之和亦即Ta(μm)，係以50μm以下為佳，以45μm以下為較佳。Ta係以、20μm以上為佳。
<第3黏著劑層>
作為將本實施形態之第1相位差層與第2相位差層隔著之第3黏著劑，並無特別限制而能夠使用先前習知之具有優異的光學的透明性之黏著劑。作為構成第3黏著劑層之黏著劑，係能夠使用與構成上述的第1黏著劑層之黏著劑相同者。又，亦可使用活性能量線硬化型黏著劑。第1黏著劑層、第2黏著劑層及第3黏著劑層之厚度可各自相同亦可不同。
第3黏著劑層的厚度係以3μm以上為佳。前述第3黏著劑層的厚度係以20μm以下為佳，以15μm以下為較佳，以10μm以下為更佳。上述上限值及下限值係能夠任意地組合。
第3黏著劑層的厚度為前述下限值以上時，能夠將第1相位差層與第2相位差層充分地貼合。第1黏著劑層的厚度為前述上限值以下時，第1相位差層及第2相位差層不容易產生偏移且抑制伴隨著相位差層變形引起偏光板產生皺紋之效果提高。
在製造本實施形態的積層體時，使用較強的壓力且隔著第3黏著劑將第1相位差層與第2相位差層貼合時，相較於使用較弱的壓力貼合時，第3黏著劑層的厚度有變薄之情形。這是因為第3黏著劑層係具有伸縮性而產生，但是將第1相位差層與第2相位差層貼合後，若暫時放置時，則第3黏著劑層的厚度係恢復如原來。因此使用較強的壓力著第3黏著劑將第1相位差層與第2相位差層貼合時，例如能夠藉由放置5分鐘後而測定第3黏著劑層的厚度，得到一定值。
將第1相位差層及第2相位差層隔著第3黏著劑層積層而成之本實施形態的一態樣，係前述第1黏著劑層的厚度T1(μm)與前述第2黏著劑層的厚度T2(μm)與前述第3黏著劑層的厚度T3(μm)之和亦即Ta’(μm)除以偏光板的總厚度Tp’(μm)而得到的值亦即Ta’/Tp’為0.40以下之偏光板。
前述Ta’/Tp’係以0.10以上為佳，以0.20以上為較佳，以0.25以上為更佳。前述Ta’/Tp’係以0.40以下為佳，以0.38以下為較佳。上述上限值及下限值、係能夠任意地組合。
Ta’/Tp’為前述上限值以下時，相位差層係不容易產生偏移且抑制伴隨著相位差層變形引起偏光板產生皺紋之效果提高。
前述Ta’/Tp’之值係能夠藉由調整構成偏光板之層的厚度而控制。在確保某種程度偏光板的總厚度之同時，使第1黏著劑層的厚度、第2黏著劑層的厚度、及第3黏著劑層的厚度薄化為有效的。
所謂偏光板的總厚度Tp’(μm)，係意味著將偏光片的厚度、第1黏著劑層的厚度、第1相位差層的厚度、第3黏著劑層的厚度、第2相位差層的厚度、第2黏著劑層的厚度、在其它偏光板所包含的全部光學膜層、黏著劑層、接著劑層的厚度合計而成之厚度。
本發明之偏光板的總厚度，係例如能夠藉由使用測微計(micrometer)而測定偏光板的任意5點且算出其平均值而得到。
本發明之偏光板的總厚度，亦能夠藉由各別測定偏光片的厚度、第1黏著劑層的厚度、相位差層的厚度、第2黏著劑層的厚度、在其它偏光板所包含的全部光學膜層、黏著劑層、接著劑層的厚度且將其值層合計而得到。
偏光片的厚度、第1黏著劑層的厚度、第1相位差層的厚度、第3黏著劑層的厚度、第2相位差層的厚度、第2黏著劑層的厚度、以及在其它偏光板所包含的全部光學膜層、黏著劑層及接著劑層的厚度係能夠使用本說明書記載的方法而測定。
偏光板的總厚度Tp’(μm)係以30μm以上為佳，50μm以上為較佳。又，前述偏光板的總厚度係以300μm以下為佳，200μm以下為較佳，150μm以下為更佳。又，上述上限值及下限值係能夠任意地組合。
偏光板的總厚度為前述上限值以下時，係能夠有助於偏光板的薄層化。偏光板的總厚度為前述下限值以上時，偏光板的強度提升。
第1黏著劑層的厚度T1(μm)與第2黏著劑層的厚度T2(μm)與第3黏著劑層的厚度T3(μm)之和亦即Ta’(μm)，係以50μm以下為佳，以45μm以下為較佳。Ta’係以20μm以上為佳。
<<偏光板的製造方法>>
以下說明製造本發明的偏光板之方法的例子。
[偏光片的製造方法]
偏光片通常係能夠經過下列步驟而製造：將PVA系薄膜進行單軸延伸之步驟；使用二色性色素將PVA系薄膜進行染色而使該PVA系薄膜吸附二色性色素之步驟；使用硼酸水溶液處理吸附有二色性色素之PVA系薄膜而使其交聯之步驟；及在使用硼酸水溶液進行交聯處理後進行水洗之步驟(以下亦稱為硼酸處理)。
PVA系薄膜的單軸延伸，係能夠在使用二色性色素進行染色之前、與染色同時、或染色之後進行。在染色之後進行單軸延伸時，該單軸延伸可在硼酸處理前進行，亦可在硼酸處理中進行。當然亦能夠在此顯示的複數階段進行單軸延伸。單軸延伸係能夠採用下列方法：在周速不同之輥筒之間，於薄膜搬運方向進行單軸延伸之方法；使用熱輥於薄膜搬運方向進行單軸延伸方法；使用拉幅機於寬度方向進行延伸之方法等。又，單軸延伸可藉由在大氣中進行延伸之乾式延伸而進行，亦可藉由使用水等的溶劑，在使PVA系薄膜膨潤之狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸倍率通 常係3至8倍左右。
PVA系薄膜之使用二色性色素進行之染色，例如能夠使用將PVA系薄膜浸漬在含有二色性色素的水溶液之方法而進行。作為二色性色素，具體而言，係能夠使用碘和二色性有機染料。又，PVA系薄膜係以在染色處理前，預先施行浸漬在水中而膨潤之處理為佳。
使用碘作為二色性色素時，通常係採用將PVA系薄膜浸漬在含有碘及碘化鉀之水溶液而進行染色之方法。在該水溶液之碘的含量，係水每100質量份，通常為0.01至1質量份左右，碘化鉀的含量係水每100質量份，通常為0.5至20質量份左右。在染色所使用的水溶液之溫度，通常係20至40℃左右。又，在該水溶液的浸漬時間(染色時間)通常係20至1,800秒鐘左右。
另一方面，使用二色性有機染料作為二色性色素時，通常係採用將PVA系薄膜浸漬在含有水溶性二色性有機染料之水溶液而進行染色之方法。在該水溶液之二色性有機染料的含量係水每100質量份，通常係0.0001至10質量份左右，較佳為0.001至1質量份。該染料水溶液亦可含有如硫酸鈉的無機鹽作為染色助劑。在染色所使用的二色性有機染料水溶液之溫度通常係20至80℃左右。又，在該水溶液的浸漬時間(染色時間)通常係10至1,800秒鐘左右。
使用二色性色素進行染色後之硼酸處理，係能夠使用將經染色的PVA系薄膜浸漬在含硼酸的水溶液之方法來進行。在含硼酸的水溶液之硼酸的含量，水每100質量份，通常係2至15質量份左右，較佳為5至12質量份。使用碘作為二色性色素時，該含硼酸的水溶液係以含有碘化鉀 為佳。在含硼酸的水溶液之碘化鉀的含量，係水每100質量份，通常係0.1至15質量份左右，較佳為5至12質量份。在含硼酸的水溶液的浸漬時間通常係60至1,200秒鐘左右，較佳為150至600秒鐘，更佳為200至400秒鐘。含硼酸的水溶液之溫度通常係50℃以上，較佳為50至85℃，更佳為60至80℃。
硼酸處理後的PVA系薄膜，通常係進行水洗處理。水洗處理係例如能夠使用將經硼酸處理的PVA系薄膜浸漬在水中之方法而進行。在水洗處理之水的溫度通常係5至40℃左右。又，浸漬時間通常係1至120秒鐘左右。
水洗後係施行乾燥處理而得到偏光片。乾燥處理係能夠使用熱風乾燥機和遠紅外線加熱器而進行。乾燥處理的溫度通常係30至100℃左右，較佳為50至80℃。乾燥處理的時間通常係60至600秒鐘左右，較佳為120至600秒鐘。藉由乾燥處理，偏光片中的水分率係能夠減低至實用程度為止。其水分率係相對於偏光片的總質量，通常係5至20質量%左右，較佳為8至15質量%。水分率為5質量%以上時，因為偏光片係具有充分的可撓性，能夠抑制在乾燥後產生損傷或斷裂。又，水分率為20質量%以下時，偏光片係具有充分的熱安定性。
如以上進行而能夠製造二色性色素吸附配向在PVA系薄膜而成之偏光片11。
上述所得到的偏光片，亦可進一步隔著上述接著劑將保護膜貼合在該偏光片的一面或兩面。
[第1黏著劑層、第2黏著劑層、及第3黏著劑層的製造方法]
如前述，第1黏著劑層、第2黏著劑層、及第3黏著劑層係以由將丙烯酸系樹脂作為基質聚合物之黏著劑所形成為佳。
前述(甲基)丙烯酸系樹脂(1)通常能夠使用溶液聚合法、塊狀聚合法、懸浮聚合法、乳化聚合法等習知的聚合方法而製造。在(甲基)丙烯酸系樹脂(1)的製造中，通常係在聚合起始劑的存在下進行聚合。聚合起始劑的使用量係相對於構成(甲基)丙烯酸系樹脂(1)之全部單體的合計100質量份，通常為0.001至5質量份。(甲基)丙烯酸系樹脂(1)亦能夠使用藉由紫外線等的活性能量線而聚合之方法而製造。
作為聚合起始劑，可舉出熱聚合起始劑及光聚合起始劑。作為光聚合起始劑，可舉出4-(2-羥乙氧基)苯基(2-羥基-2-丙基)酮。作為熱聚合起始劑，可舉出2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮雙(2-羥甲基丙腈)等的偶氮化合物、過氧化月桂醯、第三丁基過氧化氫、過氧化苯甲醯、過氧化苯甲酸第三丁酯、異丙苯過氧化氫、過氧化二碳酸二異丙酯、過氧化二碳酸二丙酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化三甲基乙酸第三丁酯、過氧化(3,5,5-三甲基己醯)等的有機過氧化物、過硫酸鉀、過硫酸銨、過氧化氫等的無機過氧化物。又，將過氧化物及還原劑併用而成之氧化還原系起始劑亦能夠使用作為聚合起始劑。
(甲基)丙烯酸系樹脂(1)係較佳是能夠使用溶液聚合法而製造。具體而言，係將所需要的單體與有機溶劑混合，而且在氮氣環境下將 熱聚合起始劑添加在所得到的溶液。能夠藉由將所得到的混合物於40℃至90℃左右，較佳為60℃至80℃左右攪拌3至10小時左右，而得到(甲基)丙烯酸酯聚合物。為了控制聚合反應，亦可在聚合反應中將單體、熱聚合起始劑或其兩者連續或間歇地添加至反應系統內，或是在溶解於有機溶劑的狀態下添加至反應系統內。作為有機溶劑，可舉出甲苯、二甲苯等的芳香族烴溶劑、乙酸乙酯、乙酸丁酯等的酯溶劑、丙醇、異丙醇等的脂肪族醇溶劑、丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮等的酮溶劑。
如此進行而得到的(甲基)丙烯酸系樹脂(1)，係能夠與前述交聯劑(2)、前述矽烷化合物(3)、進而按照必要之有機溶劑混合而得到黏著劑組成物的塗佈溶液。作為有機溶劑，係能夠使用與在上述液相聚合所使用的溶液相同之物。能夠將前述塗佈溶液例如塗佈在被黏著物且進行乾燥而形成黏著劑層。又，亦能夠將前述塗佈溶液例如塗佈在隔離膜上且進行乾燥而將黏著劑層形成在隔離膜上。
作為將前述黏著劑組成物的塗佈溶液塗佈在被黏著物、或隔離膜上之方法，係採用使用模塗佈器、刮刀式塗佈器、逆輥塗佈器、凹版塗佈器、棒塗佈器、繞線棒塗佈器、刮刀片塗佈器、氣動刮塗器等之通常的塗佈技術即可。
隔離膜係以由塑膠膜及剝離層所構成為佳。作為塑膠膜，可舉出聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜、及聚萘二甲酸乙二酯膜等的聚酯膜、聚丙烯膜等的聚烯烴膜。
又，剝離層係例如能夠由剝離層形成用組成物所形成。作為構成剝離層形成用組成物之主要成分(樹脂)，並無特別限定，可舉出聚矽氧樹脂、醇 酸樹脂、丙烯酸樹脂、及長鏈烷基樹脂等。
第1黏著劑層、第2黏著劑層及第3黏著劑層的厚度係能夠按照黏著劑組成物的種類而調整。為了使黏著劑層的厚度薄化，減小塗佈厚度為有效。
[相位差層的製造方法]
相位差層係如前述，可具有液晶化合物硬化而成之層，進而具有透明基材、及配向層。
配向層係由已如上述的樹脂所構成之層，將含有形成前述樹脂的單體之配向層用組成物塗佈在透明基材而使其乾燥，隨後，藉由施行預定硬化處理而形成。使用如此進行而形成的硬化物來構成配向層。
作為配向層用組成物中所使用的溶劑(稀釋溶劑)，係只要能夠使配向材料溶解於所需要的濃度，就沒有特別限定、例如能夠例示苯、己烷等的烴系溶劑、甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環己酮(CHN)等的酮系溶劑；四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷、丙二醇單乙醚等的醚系溶劑；氯仿、二氯甲烷等的鹵化烷基系溶劑；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲醚乙酸酯等的酯系溶劑；N,N-二甲基甲醯胺等的醯胺系溶劑；二甲基亞碸等的亞碸系溶劑；環己烷等的環己烷(anone)系溶劑；甲醇、乙醇、異丙醇等的醇類系溶劑。溶劑可為1種類，亦可為2種類以上的溶劑之混合溶劑。
作為將前述配向層用組成物塗佈在透明基材之方法，係採用使用模塗佈器、刮刀式塗佈器、逆輥塗佈器、凹版塗佈器、棒塗佈器、繞 線棒塗佈器、刮刀片塗佈器、氣動刮塗器等之通常的塗佈技術即可。
液晶化合物硬化而成之層，係能夠藉由將含有聚合性液晶化合物之塗佈液塗佈在前述配向層且使其乾燥，隨後施行預定硬化處理而形成。使用如此進行而形成的硬化物來構成相位差層。
相對於含有前述聚合性液晶化合物之塗佈液的總質量，前述聚合性液晶化合物的含量並無特別限定，能夠設為5至40質量%的範圍內。欲按照塗佈在配向層上之塗佈方法而調整黏度等時，係調整前述聚合性液晶化合物的含量即可。聚合性液晶化合物能夠單獨1種或混合2種以上而使用。
含有上述聚合性液晶化合物之塗佈液，通常係被溶解在如已說明的溶劑(稀釋溶劑)，以對前述聚合性液晶化合物的聚合反應為惰性的溶劑為佳。
作為塗佈含有聚合性液晶化合物的塗佈液之方法，係採用習知的方法，例如繞線棒塗佈法、擠出塗佈法、直輥凹版塗佈法、逆輥凹版塗佈法、及模塗佈法等即可。
藉由使形成在配向層上之膜所含有的聚合性液晶化合物聚合，而得到相位差層。聚合方法係按照聚合性液晶化合物的聚合性基種類而選擇即可。前述聚合基為光聚合性基時，能夠使用光聚合法而聚合。又，聚合性基為熱聚合性基時，能夠使用熱聚合法而聚合。在本實施形態的相位差層的製造方法，係以光聚合法為佳。因為光聚合法沒有將透明基材加熱至高溫的必要，所以能夠使用耐熱性較低的透明基材。光聚合法係藉由對由含有聚合性液晶化合物之液晶組成物所構成之膜，照射可見光、或紫 外光而進行。就操作容易而言，係以紫外光為佳。
[包含2層相位差層之積層體的製造方法]
針對在第2實施形態之偏光板所包含之由2層相位差層所形成的積層體之製造方法進行說明。隔著接著劑層或第3黏著劑層將第1相位差層與第2相位差層積層。
隔著接著劑層將第1相位差層與第2相位差層積層時，係將上述的水系接著劑或活性能量線硬化性接著劑塗佈在第1相位差層及第2相位差層的任一者或兩者而將第1相位差層的第2相位差層貼合。
使用水系接著劑時，隨後能夠藉由使用前述乾燥方法使接著劑硬化而得到包含2層相位差層之積層體。另一方面，使用活性能量線硬化性接著劑時，能夠藉由對接著劑照射以紫外線以為例之能量線而得到包含2層相位差層之積層體。
包含2層相位差層之積層體能夠為依序將透明基材、配向層、第1相位差層、接著劑層、第2相位差層、配向層、透明基材積層而成之積層體。透明基材及配向層係能夠在將相位差層貼合在偏光板之前進行剝離。
隔著第3接著層將第1相位差層與第2相位差層積層時，係能夠將第1相位差層或第2相位差層，貼合在位於例如在經施行脫模處理的隔離膜上所形成的第3黏著劑層之與積層有隔離膜的面為相反位置之面。
能夠將第1相位差層和第2相位差層貼合在將前述第3黏著劑層的隔離膜剝下且露出的面。
作為第3黏著劑層，係使用能量線硬化性黏著劑時，能夠藉由照射以紫外線以為首之能量線，來調整黏著力。
包含2層相位差層之積層體，係例如依序將透明基材、配向層、第1相位差層、第3黏著劑層、第2相位差層、配向層及透明基材積層而成之積層體。透明基材及配向層係能夠在將相位差層貼合在偏光板之前剝離。
[第1實施形態之偏光板的製造方法]
以下說明相位差層為1層之第1實施形態的偏光板100的製造方法之例子。又，在本實施形態所使用的偏光片、黏著劑層、及相位差層係能夠使用藉由上述方法而製造之物。
作為黏著劑，係能夠使用前述之黏著劑組成物或形成在隔離膜上之黏著劑層。以下，作為例子，係說明使用形成在隔離膜上之黏著劑層作為第1黏著劑層、及第2黏著劑層之情況。
將偏光片11與第1黏著劑層12進行積層。具體而言，係藉由將位於第1黏著劑層12之與積層有隔離膜之面為相反位置之第1黏著劑層12的面與偏光片11的一面貼合，而能夠將偏光片11與第1黏著劑層12積層。
隨後，將第1黏著劑層12與相位差層14積層。
藉由將相位差層14貼合在第1黏著劑層12之剝下隔離膜而露出的面，而能夠將第1黏著劑層12與相位差層14積層。接觸第1黏著劑層12之相位差層14的面，係將透明基材剝下而露出之配向層的面、 或位置於與前述配向層為相反側之相位差層14的面。
隨後，將相位差層14與第2黏著劑層13積層。
藉由將位於第2黏著劑層13之與積層有隔離膜之面為相反位置的面與相位差層14貼合，而能夠將相位差層14與第2黏著劑層13積層。接觸第2黏著劑層13之相位差層14的面，係位於相位差層14之與第1黏著劑層12接觸的面為相反側位置的面。
第1實施形態的偏光板100，亦可隔者第2黏著劑層13而積層在顯示面板等。
[第2實施形態之偏光板的製造方法]
以下說明第2實施形態的偏光板101的製造方法之例子。在本實施形態所使用的偏光片、黏著劑層、及相位差層係能夠使用藉由上述方法而製造之物。
作為黏著劑，係能夠使用前述之黏著劑組成物或形成在隔離膜上之黏著劑層。以下，作為例子，係說明使用形成在隔離膜上之黏著劑層作為第1黏著劑層、及第2黏著劑層之情況。
將偏光片11與第1黏著劑層12積層。具體而言，係藉由將位於第1黏著劑層12之與積層有隔離膜之面為相反位置的面與偏光片11的一面貼合，而能夠將偏光片11與第1黏著劑層12積層。
隨後，將第1黏著劑層12與包含2層相位差層之積層體積層。
能夠藉由將包含2層相位差層的積層體貼合在將第1黏著 劑層12的隔離膜剝下而露出的面，將第1黏著劑層12與上述積層體積層。接觸第1黏著劑層12之上述積層體的面，係將位於包含相位差層之積層體的兩端的位置之透明基材的任一者剝下而露出之配向層的面或將位於包含相位差層之積層體的兩端位置之透明基材及配向層的任一者剝下而露出之相位差層的面。
隨後，將包含2層相位差層的積層體與第2黏著劑層13積層。
藉由將在第2黏著劑層13之與積層有隔離膜的面為相反位置的面與前述包含2層相位差層的積層體貼合，能夠將上述積層體與第2黏著劑層13積層。接觸第2黏著劑層13之上述積層體的面，係位於與相位差層的積層體接觸第1黏著劑層12的面為相反側位置的面，將透明基材剝下而露出之配向層的面、或將透明基材及配向層剝下露出之相位差層的面。
第2實施形態的偏光板101，亦可隔著第2黏著劑層13而積層在顯示面板等。
使用如以上構成的偏光板時，即便在高溫、高濕的環境下，亦能夠抑制伴隨著相位差層變形引起偏光板產生皺紋。
<用途>
本發明之偏光板係能夠使用在各式各樣的顯示裝置。所謂顯示裝置，係具有顯示元件之裝置，包含發光元件或發光裝置作為發光源。作為顯示裝置，例如可舉出液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、無機電致發光(以下 亦稱為無機EL)顯示裝置、電子放出顯示裝置(例如電場放射顯示裝置(亦稱為FED)、表面電場放射顯示裝置(亦稱為SED))、電子紙(使用電子印墨和電泳動元件之顯示裝置)、電漿顯示裝置、投射型顯示裝置(例如柵光閥(亦稱為GLV；Grating Light Valve)顯示裝置、具有數位微鏡元件(亦稱為DMD；digital micromirror device)之顯示裝置)及壓電陶瓷顯示器等。
液晶顯示裝置亦包含穿透式液晶顯示裝置、半穿透式液晶顯示裝置等的任一者。該等顯示裝置可為顯示二維畫像之顯示裝置，亦可為顯示三維畫像之立體顯示裝置。
本偏光板係能夠特別有效地使用在特別是有機EL顯示裝置或無機EL顯示裝置。
[實施例]
以下，使用實施例更詳細地說明本發明，但是本發明不限定於等實施例限定。各種測定及評估係如以下進行。
[重量平均分子量(Mw)的測定]
黏著劑層形成用(甲基)丙烯酸樹脂的重量平均分子量(Mw)係使用凝膠滲透層析法(GPC)在以下的條件所測定之聚苯乙烯換算的重量平均分子量。
[測定條件]
．GPC測定裝置：TOSOH股份有限公司製，HLC-8020
．GPC管柱(依序通過下列)：TOSOH股份有限公司製
TSK guard column HXL-H
TSK gel GMHXL(×2)
TSK gel G2000HXL
．測定溶劑：四氫呋喃
．測定溫度：40℃
[偏光板及黏著劑層厚度的測定]
偏光板及黏著劑層厚度係使用股份有限公司Nikon製的數位測微計MH-15M而測定。
[透濕度比的測定]
相位差層的透濕度比係如以下測定。
將後述黏著劑組成物F使用棒塗佈器而塗佈在基材上，來形成厚度為2至3μm的黏著劑組成物層且得到基材的透濕度評估用積層體。基材係使用Konica Minolta股份有限公司製的三乙酸纖維素膜。
進一步將相位差層積層在前述基材的透濕度評估用積層體之黏著劑組成物層，而得到相位差層的透濕度評估用積層體。
依據JIS Z 0208：1976「防濕包裝材料的透濕度試驗方法(杯法)」在溫度40℃、濕度90%RH的條件下測定所得到的評估用積層體之透濕度。
而且，所使用的三乙酸纖維素膜的厚度為20μm。又，與上述相同地進行而求取的三乙酸纖維素膜透濕度為1200g/m2．24h。
前述基材的透濕度評估用積層體的透濕度為1000g/m2．24h。
藉由測定相位差層的透濕度評估用積層體的透濕度，除以前述基材的透濕度評估用積層體的透濕度，算出透濕度比。
[透濕度(水蒸氣穿透度)的測定]
在溫度40℃、濕度90%RH的條件，使用水蒸氣穿透度測定機(Lyssy公司製，機種名「Lyssy-L80-5000」)測定黏著劑層的水蒸氣穿透度。
[黏著劑的製造]
黏著劑係使用以下的方法製造。
[黏著劑A至E的製造]
在具備攪拌機、溫度計、回流冷卻器、滴加裝置及氮氣導入管之反應容器，添加丙烯酸正丁酯97.0質量份、丙烯酸1.0質量份、丙烯酸2-羥基乙酯0.5質量份、乙酸乙酯200質量份、及2,2’-偶氮雙異丁腈0.08質量份，使用氮氣取代上述反應容器內的空氣。在氮氣環境下邊攪拌邊將反應溶液升溫至60℃，使其反應6小時後，冷卻至室溫。測定所得到的溶液的一部分之重量平均分子量時，確認生成重量平均分子量為180萬的(甲基)丙烯酸酯聚合物。
將上述步驟所得到的(甲基)丙烯酸酯聚合物100質量份(固體成分換算值；以下相同)、作為異氰酸酯系交聯劑之三羥甲基丙烷改質甲苯二異氰酸酯(TOSOH股份有限公司製，商品名「CORONATE(註冊商標)L」)0.30質量份、作為矽烷偶合劑之3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業股份有限公司製，商品名「KBM403」)0.30質量份混合且充分地攪拌，藉由使用乙酸乙酯稀釋來得到黏著劑組成物的塗佈溶液。
在隔離膜(LINTEC股份有限公司製：SP-PLR382190)的脫模處理面(剝離層面)，使用塗佈器將前述塗佈溶液以乾燥後的厚度成為6μm(黏著劑A)、10μm(黏著劑B)、15μm(黏著劑C)、20μm(黏著劑D)、25μm(黏著劑E)之 方式塗佈之後，在100℃乾燥1分鐘且在黏著劑層之與貼合有隔離膜之面的相反面，貼合另1片隔離膜(LINTEC股份有限公司製：SP-PLR381031)，而得到兩面附隔離膜的黏著劑層。
黏著劑A、黏著劑B、黏著劑C、黏著劑D、黏著劑E的透濕度(水蒸氣穿透度)，係各別為8200g/m2．24h、6800g/m2．24h、6300g/m2．24h、4700g/m2．24h、3600g/m2．24h。
[黏著劑F的製造]
在具備攪拌機、溫度計、回流冷卻器、滴加裝置及氮氣導入管之反應容器，添加丙烯酸正丁酯95.0質量份、丙烯酸4.0質量份、丙烯酸2-羥基乙酯1.0質量份、乙酸乙酯200質量份、及2,2’-偶氮雙異丁腈0.08質量份，使用氮氣取代上述反應容器內的空氣。在氮氣環境下邊攪拌邊將反應溶液升溫至60℃，使其反應6小時後，冷卻至室溫。測定所得到的溶液的一部分之重量平均分子量時，確認生成重量平均分子量為180萬的(甲基)丙烯酸酯聚合物。
將上述步驟所得到的(甲基)丙烯酸酯聚合物100質量份(固體成分換算值；以下相同)、作為異氰酸酯交聯劑之三羥甲基丙烷改質甲苯二異氰酸酯(TOSOH股份有限公司製，商品名「CORONATE(註冊商標)L」)1.5質量份、作為矽烷偶合劑之3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業股份有限公司製，商品名「KBM403」)0.30質量份、作為紫外線硬化性化合物之乙氧基化異三聚氰酸三丙烯酸酯(新中村化學工業股份有限公司製：品名「A-9300」)7.5質量份、及作為光聚合起始劑之2-甲基 -1-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉丙烷-1-酮(BASF公司製：IRGACURE(註冊商標)907)0.5質量混合，而且藉由充分地攪拌且使用乙酸乙酯稀釋來得到黏著劑組成物的塗佈溶液。
在隔離膜(LINTEC股份有限公司製：SP-PLR382190)的脫模處理面(剝離層面)，使用塗佈器將前述塗佈溶液以乾燥後的厚度各別成為5μm(黏著劑F)之方式塗佈之後，在100℃乾燥1分鐘且在黏著劑層之與貼合有隔離膜之面的相反面，貼合另1片隔離膜(LINTEC股份有限公司製：SP-PLR381031)。對該黏著劑層使用附輸送帶的紫外線照射裝置(Fusion UV系統公司製，燈為使用D bulb)隔著剝離片而照射紫外線(照射強度500mW/cm2、累計光量500mJ/cm2)來得到兩面附隔離膜的黏著劑層。
黏著劑F的水蒸氣穿透度為7600g/m2．24h。
[偏光片的製造]
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上之厚度30μm的聚乙烯醇膜，藉由乾式延伸而單軸延伸成為約5倍，而且在保持緊張狀態下，在60℃的純水浸漬1分鐘後，浸漬在碘：碘化鉀：水的質量比為0.05：5：100之28℃的水溶液浸漬60秒鐘。隨後浸漬在碘化鉀：硼酸：水的質量比為8.5：8.5：100之72℃的水溶液300秒鐘。隨後使用26℃的純水洗淨20秒鐘後，在65℃乾燥而得到碘吸附配向在聚乙烯醇之厚度12μm的偏光片。其次，在該偏光片的一側，塗佈對水100份溶解3份羧基改質聚乙烯醇[從(股)KURARAY取得之商品名“KL-318”]且在該水溶液添加1.5份水溶性環氧樹脂之聚醯胺環氧系添加劑[從田岡化學工業(股)取得之商品名 “Sumirez Resin(註冊商標)650(30)”，固體成分濃度30%的水溶液]而成之環氧系接著劑，而且貼合厚度30μm的降莰烯系樹脂膜作為透明保護膜。該薄膜係以一表面係經施行表面處理且另一面成為與偏光片的貼合面之方式貼合。偏光片的另一側係使用前述接著劑貼合厚度20μm的三乙酸纖維素系樹脂膜。如此進行而得到在偏光片的兩面積層保護膜而成之厚度62μm的偏光片(1)。
[第1相位差層的製造]
作為第1相位差層，係準備向列液晶化合物硬化而成之層、配向膜、及由透明基材所構成之供給λ/4的相位差之層。又，向列液晶化合物硬化而成之層與配向層的合計厚度為2μm。又，第1相位差層的透濕度比為0.48。
[第2相位差層的製造]
使用厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯基材作為透明基材，將垂直配向層用組成物以成為膜厚3μm之方式塗佈在該透明基材的一面，照射20mJ/cm2的偏光紫外線而製造配向層。又，作為該垂直配向層用組成物，使用將丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸四氫糠酯、二新戊四醇三丙烯酸酯、雙(2-乙烯氧基乙基)醚以1：1：4：5的比例混合且以4%的比例添加LUCIRIN(註冊商標)TPO作為聚合起始劑而成之混合物。
隨後，在所形成的配向層上，將含有光聚合性向列液晶(Merck公司製，RMM28B)之液晶組成物藉由模塗佈而塗佈配向層上。在此，在液晶組成物中係使用將甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)與沸點為155℃之環己酮(CHN)以質量比(MEK：MIBK：CHN)為35：30： 35的比例混合而成之混合溶劑作為溶劑。而且，將以固體成分成為1至1.5g之方式調製而成之液晶組成物，以塗佈量成為4至5g(wet)之方式塗佈在配向層上。
將液晶組成物塗佈在配向層上之後，將乾燥溫度設為75℃，將乾燥時間設為120秒鐘而施行乾燥處理。隨後，藉由照射紫外線(UV)使液晶化合物聚合，而得到光聚合性向列液晶化合物硬化而成之層、配向層、及由透明基材所構成之正C層。光聚合性向列液晶化合物硬化而成之層與配向層的合計厚度為4μm。又，第2相位差層的透濕度比為0.60。
使用紫外線硬化型接著劑將第1相位差層2片以各自的相位差層面(與透明基材為相反側的面)為貼合面之方式貼合。其次，照射紫外線而使紫外線硬化型接著劑硬化，紫外線硬化型接著劑硬化後的厚度為2μm。如此進行而製造包含第1相位差層及第2相位差層之積層體(1)。
使用黏著劑F將第1相位差層與第2相位差層以各自的相位差層面(與透明基材為相反側的面)為貼合面之方式貼合。如此進行而製造包含第1相位差層及第2相位差層之積層體(2)。
[實施例1]
將厚度6μm的黏著劑A移轉至前述偏光片(1)的三乙酸纖維素膜面作為第1黏著劑層。將積層在黏著劑A之隔離膜剝下且積層在將前述積層體(1)之第1相位差層側的透明基材剝下後的面。將在前述積層體(1)之與積層有偏光片(1)之面為相反側透明基材剝下。將厚度25μm的黏著劑E積層在將透明基材剝下且露出的面作為第2黏著劑層。如此進行而得到由保護膜、 偏光片、保護膜、第1黏著劑層、第1相位差層(供給λ/4的相位差之層)、接著劑層、第2相位差層(正C層)、及第2黏著劑層所構成之偏光板。所得到的偏光板之總厚度Tp為101μm，黏著劑層的厚度Ta為31μm。
[實施例2至6]
除了使用表1記載之物作為第1黏著劑及第2黏著劑以外，與實施例1相同地各別製造偏光板。將所得到的偏光板之總厚度Tp及黏著劑層的厚度Ta顯示在表1。
[實施例7至8]
除了使用表1記載之物作為第1黏著劑及第2黏著劑且使用積層體(2)作為相位差層以外，與實施例1相同地製造偏光板。
第3黏著劑層的厚度為5μm。將所得到的偏光板之總厚度Tp及黏著劑層的厚度Ta顯示在表1。
[比較例1]
除了使用表1記載之物作為第1黏著劑及第2黏著劑且使用積層體(2)作為相位差層以外，與實施例1相同地製造偏光板。
第3黏著劑層的厚度為5μm。亦即，偏光板的總厚度Tp’為118μm，黏著劑層的厚度Ta’為50μm。
[比較例2]
除了使用表1記載之黏著劑作為第1黏著劑及第2黏著劑以外，與實施例1相同地各別製造偏光板。將所得到的偏光板之總厚度Tp及黏著劑層的厚度Ta顯示在表1。
<在高溫、高濕的環境下之偏光板的評估>
將如上述製造的偏光板之第2黏著劑層的隔離膜剝下且貼合在無鹼玻璃板[Corning公司製的“Eagle-XG”]而作為評估試樣。將前述評估試樣在高壓釜中而在溫度50℃且壓力5MPa的條件下進行加壓處理20分鐘，隨後，在溫度23℃且相對濕度60%的環境下放置1天。隨後，在65℃、濕度90%的環境下放置。將評估試樣放入65℃、濕度90%的環境之後，在168小時後、及336小時後，目視確認試樣的外觀。
表1中，針對即便336小時經過時，在偏光板不產生皺紋之試樣係記載為「A」，在336小時的階段，偏光板能夠確認皺紋之試樣係記載為「B」，在168小時的階段偏光板能夠確認皺紋之試樣係記載為「C」。
表1中，Ta/Tp係表示偏光板不包含第3黏著劑層時之第1黏著劑層的厚度T1(μm)與第2黏著劑層的厚度T2(μm)之和亦即Ta(μm)除以偏光板的總厚度Tp(μm)而得到的值。
Ta’/Tp’係表示偏光板包含第3黏著劑層時之第1黏著劑層的厚度T1(μm)與第2黏著劑層的厚度T2(μm)與第3黏著劑層的厚度T3(μm)之和亦即Ta’(μm)除以偏光板的總厚度Tp’(μm)而得到的值。
Figure 107146965-A0202-12-0053-4
如表1顯示，實施例1至8的偏光板係即便在Ta/Tp(Ta’/Tp’)為0.40以下且65℃、濕度90%之高溫、高濕的環境下即便暴露168小時在偏光板亦未確認有皺紋。
如表1顯示，比較例1及比較例2係Ta/Tp(Ta’/Tp’)為大於0.40，在經過168小時的階段能夠確認在偏光板產生皺紋。
從以上的結果，能夠顯示本發明為有用的。
[產業上之可利用性]
因為本發明的偏光板係即便在高溫、高濕的環境下，偏光板亦不產生皺紋，所以能夠應用在有可能在高溫、高濕的環境下使用之畫像顯示裝置。

Claims (3)

  1. 一種偏光板，係依序包含偏光片、第1黏著劑層、相位差層、及第2黏著劑層；其中，將前述第1黏著劑層的厚度T1(μm)與前述第2黏著劑層的厚度T2(μm)之和亦即Ta(μm)除以前述偏光板的總厚度Tp(μm)而得到的值亦即Ta/Tp為0.40以下，且前述偏光片的厚度為15μm以下，前述相位差層的厚度為5μm以下，前述相位差層具有液晶化合物硬化而成之層，前述液晶化合物係具有聚合性基之棒狀液晶化合物、或具有聚合性基之圓盤狀液晶化合物。
  2. 一種偏光板，係依序包含偏光片、第1黏著劑層、第1相位差層、接著劑層、第2相位差層及第2黏著劑層；其中，將前述第1黏著劑層的厚度T1(μm)與前述第2黏著劑層的厚度T2(μm)之和亦即Ta(μm)除以前述偏光板的總厚度Tp(μm)而得到的值亦即Ta/Tp為0.40以下，且前述偏光片的厚度為15μm以下，前述相位差層的厚度為5μm以下，前述相位差層具有液晶化合物硬化而成之層，前述液晶化合物係具有聚合性基之棒狀液晶化合物、或具有聚合性基之圓盤狀液晶化合物。
  3. 一種偏光板，係依序包含偏光片、第1黏著劑層、第1相位差層、第3黏著劑層、第2相位差層、及第2黏著劑層；其中，將前述第1黏著劑層的厚度T1(μm)與前述第2黏著劑層的厚度 T2(μm)與前述第3黏著劑層的厚度T3(μm)之和亦即Ta’(μm)除以前述偏光板的總厚度Tp’(μm)而得到的值亦即Ta’/Tp’為0.40以下，且前述偏光片的厚度為15μm以下，前述第1相位差層及前述第2相位差層的厚度分別為10μm以下，前述第1相位差層及前述第2相位差層分別為具有液晶化合物硬化而成之層，前述液晶化合物係具有聚合性基之棒狀液晶化合物、或具有聚合性基之圓盤狀液晶化合物。
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