TWI795573B - 偏光板 - Google Patents

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TWI795573B
TWI795573B TW108120699A TW108120699A TWI795573B TW I795573 B TWI795573 B TW I795573B TW 108120699 A TW108120699 A TW 108120699A TW 108120699 A TW108120699 A TW 108120699A TW I795573 B TWI795573 B TW I795573B
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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明之課題係提供一種即便在濕熱環境下亦可保持較高的偏光度之偏光板。

本發明之解決手段係提供一種偏光板，其包含偏光片層、相位差層、及配置在偏光片層與相位差層之間之樹脂層，該相位差層係將液晶組成物的硬化物作為形成材料，依據ISO14577而測定之樹脂層的馬氏硬度為160N/mm2以上500N/mm2以下。

Description

偏光板
本發明係有關一種偏光板，亦有關一種有機電致發光顯示裝置。
先前，作為在液晶顯示裝置及有機電致發光顯示裝置(以下亦稱為有機EL顯示裝置)等顯示裝置之偏光的供給元件，而且作為偏光的檢測元件係廣泛地使用偏光板。已知偏光板係使用接著劑等將保護膜(保護層)貼合在偏光膜(偏光片層)的一面或兩面所構成者。
作為偏光膜，已知有碘等二色性色素配向在由聚乙烯醇系樹脂所形成的薄膜而成者。偏光膜中的碘係以碘錯合物之方式存在，碘錯合物本身之配向係取決於聚乙烯醇系樹脂的配向。已知該碘錯合物藉由吸收可見區域的光使得偏光膜顯示偏光特性(偏光度)。
影像顯示裝置係廣泛地使用具備偏光片層及相位差層之偏光板。(例如專利文獻1)。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2017-54093號公報
但是專利文獻1記載的偏光板係放置在濕熱環境下(例如溫度80℃、相對濕度90%的環境下)時，會有偏光度降低之情形。
本發明係鑒於此種情形而進行，其目的係提供一種即便在濕熱環境下亦可保持較高的偏光度之偏光板及有機EL顯示裝置。
本發明者等專心研討之結果，推定在濕熱環境下致使偏光度降低之原因，係相位差層中所含成分移行至偏光片層或與有助於偏光之碘錯合物、或用以保持碘錯合物之交聯點反應而碘錯合物消失。
針對所推定的原因，本發明者等發現使用以下的偏光板，即便在濕熱環境下亦可保持較高的偏光度，而完成了本發明。
本發明的一態樣係提供一種偏光板，其包含偏光片層、相位差層、及配置在偏光片層與相位差層之間之樹脂層，該相位差層係將液晶組成物的硬化物作為形成材料，依據ISO14577而測定之樹脂層的馬氏硬度為160N/mm2以上500N/mm2以下。
在本發明的一態樣，可設成相位差層為賦予1/4波長的相位差之層之構成。
本發明的一態樣係提供一種偏光板，其包含偏光片層、第1相位差層、配置在偏光片層與第1相位差層之間之樹脂層、及將偏光片層作為基準而配置在樹脂層側之第2相位差層，第1相位差層係將第1液晶組成物的硬化物作為形成材料，第2相位差層係將第2液晶組成物的硬化物作為形成材料，依據 ISO14577而測定之樹脂層的馬氏硬度為160N/mm2以上500N/mm2以下。
在本發明的一態樣，第1相位差層為將在面內之慢軸方向的折射率設為nx、將在面內之與慢軸方向正交之方向的折射率設為ny、將在厚度方向之折射率設為nz時，可設為滿足nz>nx≧ny的關係之層之構成。
在本發明的一態樣，第2相位差層可設為配置在樹脂層與第1相位差層之間並與樹脂層接觸之構成。
在本發明的一態樣，第2相位差層亦可設為配置在樹脂層與偏光片層之間並與樹脂層接觸之構成。
在本發明的一態樣，樹脂層可設為與第1相位差層接觸之構成。
在本發明的一態樣，第2相位差層可設為賦予1/4波長的相位差之層之構成。
本發明的一態樣係提供一種具備有機電致發光顯示元件、及配置在有機電致發光顯示元件的觀看側之上述偏光板之有機電致發光顯示裝置。
依照本發明的一態樣，可提供一種即便在濕熱環境下亦可保持較高的偏光度之偏光板及有機EL顯示裝置。
1、2、3、4、5‧‧‧偏光板
10‧‧‧顯示面板
11‧‧‧保護層
11a‧‧‧保護層的一面
12‧‧‧偏光片層
12a‧‧‧偏光片層的一面
12b‧‧‧偏光片層的另一面
13‧‧‧樹脂層
13a‧‧‧樹脂層的一面
13b‧‧‧樹脂層的另一面
14‧‧‧第1黏著劑層
15‧‧‧第2黏著劑層
16‧‧‧相位差層
16b‧‧‧相位差層的面
17‧‧‧第1相位差層
17b‧‧‧第1相位差層的另一面
18‧‧‧第2相位差層
19‧‧‧配向層
19b‧‧‧配向層的面
20‧‧‧第1配向層
21‧‧‧第2配向層
21b‧‧‧第2配向層的另一面
22‧‧‧接著層
23‧‧‧第3黏著劑層
24‧‧‧第4黏著劑層
25‧‧‧第5黏著劑層
100‧‧‧有機EL顯示裝置
130‧‧‧樹脂組成物
140‧‧‧第1黏著劑
150‧‧‧第2黏著劑
200‧‧‧有機EL元件
201‧‧‧基板
202‧‧‧陽極
203‧‧‧有機EL層
204‧‧‧陰極
205‧‧‧密封層
230‧‧‧第3黏著劑
250‧‧‧第5黏著劑
A、B、C、D、E、F、G、H、I‧‧‧積層體
第1圖係顯示第1實施形態的偏光板之層構成的一例之剖面示意圖。
第2圖係顯示第1實施形態的偏光板之製造方法的一例之示意圖。
第3圖係顯示第1實施形態有機EL顯示裝置的構成的一例之剖面示意圖。
第4圖係顯示有機EL元件的層構成的一例之意剖面圖。
第5圖係顯示第2實施形態的偏光板之層構成的一例之剖面示意圖。
第6圖係顯示第2實施形態的偏光板之製造方法的一例之示意圖。
第7圖係顯示第3實施形態的偏光板之層構成的一例之剖面示意圖。
第8圖係顯示第3實施形態的偏光板之製造方法的一例之示意圖。
第9圖係顯示第4實施形態的偏光板之層構成的一例之剖面示意圖。
第10圖係顯示第4實施形態的偏光板之製造方法的一例之示意圖。
第11圖係顯示第5實施形態的偏光板之層構成的一例之剖面示意圖。
第12圖係顯示第5實施形態的偏光板之製造方法的一例之示意圖。
<第1實施形態>
[偏光板]
以下，針對第1實施形態的偏光板，係依據第1圖進行說明。
又，在以下說明中使用的圖式係為了強調特徵部分之目的，會有權宜地將特徵的部分放大而顯示之情形，各構成要件的尺寸比率等不一定與實際者相同。又，基於同樣的目的，圖式中會有省略非特徵部分之情形。
第1圖係第1實施形態的偏光板之層構成的一例之剖面示意圖。如第1圖顯示，本實施形態的偏光板1係包含保護層11、偏光片層12、樹脂層13、第1黏著劑層14、第2黏著劑層15、相位差層16、及配向層19。如第1圖顯示，偏光板1係僅在偏光片層12的一面12a具備保護層11(保護膜)之層構成。偏光板之中，特別是只有偏光片層的一面具有保護膜之偏光板，因為偏光度容易 降低，所以本發明的效果顯著。
在本說明書，所謂「偏光片層」，係指使無偏光的光線入射時，具備使具有對吸收軸為正交的振動面之直線偏光透射的性質之光學層。
偏光片層12的另一面12b側係配置有相位差層16。
在偏光片層12與相位差層16之間，係配置有樹脂層13。樹脂層13係在一面13a與偏光片層12接觸。
第1黏著劑層14係配置在樹脂層13與相位差層16之間，且將樹脂層13與相位差層16黏著。
配向層19係將相位差層16作為基準而配置在樹脂層13之相反側，並與相位差層16的面16b接觸。
第2黏著劑層15係將配向層19作為基準而配置在相位差層16側之相反側，並與配向層19的面(另一面)19b接觸。將偏光板1應用在後述有機EL顯示裝置時，偏光板1係隔著第2黏著劑層15而黏著在顯示面板。
偏光片層12的一面12a側，係在將偏光板1應用在後述有機EL顯示裝置時成為觀看側的面。偏光片層12的一面12a側係配置有保護層11。保護層11與偏光片層12係隔著接著劑(圖示省略)而被接著。
偏光板1可為長條狀，亦可為藉由將長條狀偏光板切成預定長度而得到的單片體。長條狀偏光板係包含長條狀保護層、長條狀偏光片層及長條狀樹脂層。
以下，詳細地說明構成第1實施形態的偏光板1之各層。
(偏光片層)
作為偏光片層12，係可採用任意適當的偏光片層。例如形成偏光片層12之 樹脂膜可為單層的樹脂膜，亦可為二層以上的積層膜。偏光片層12亦可為使二色性色素配向在聚合性液晶化合物並使聚合性液晶化合物聚合而成之硬化膜。
作為由單層的樹脂膜所構成之偏光片層12的具體例，可列舉如：經對親水性高分子膜施行使用碘、二色性染料等二色性物質之染色處理、及延伸處理之薄膜、多烯系配向膜等。
作為親水性較高分子膜，可列舉如：聚乙烯醇(以下亦有簡稱為PVA之情形)系薄膜、部分縮甲醛化PVA系薄膜、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等。
作為多烯系配向膜，可列舉如：PVA的脫水處理物、聚氯乙烯的脫氯化氫處理物等。
作為偏光片層12，係由於具有優異的光學特性，故以使用藉由碘將PVA系薄膜染色且進行單軸延伸而得到的薄膜為佳。
偏光片層中的碘，係以碘錯合物之方式存在，碘錯合物本身之配向亦取決於PVA系樹脂的配向。已知藉由該碘錯合物吸收可見區域的光線而偏光片層顯示偏光特性(偏光度)。
PVA系樹脂的皂化度為85至100莫耳%左右，較佳是98莫耳%以上的PVA系樹脂亦可經改性，例如亦可使用經醛類改性的聚乙烯基甲縮醛、聚乙烯基縮醛等。PVA樹脂的聚合度為1000至10000左右，較佳為1500至5000左右。
偏光片層12的厚度係以2μm以上為佳，以3μm以上更佳，以5μm以上又更佳。而且，偏光片層12的厚度係以30μm以下為佳，以20μm以下更佳，以15μm以下又更佳。又，上述上限值及下限值可任意地組合。
偏光片層12的厚度變薄時，在高溫、高濕的環境下，偏光片層12端部的碘容易去除。因此，偏光片層12的厚度係以5μm以上為佳。又，偏光片層12的厚度較厚時，在冷熱交換試驗，偏光片層12容易產生裂紋。因此偏光片層的厚度係以15μm以下為佳。
在本說明書，「層的厚度」係指在偏光板之層的積層方向的尺寸。作為在本實施形態之「層」，可列舉例如：保護層、偏光片層、樹脂層、第1黏著劑層、相位差層、第2黏著劑層等。
層的厚度係可藉由使用例如白色干渉式非接觸膜厚計、或使用接觸式膜厚計測定層的任意點9點且算出其平均值而得到。
使用非接觸式膜厚計時，係不必接觸測定對象而可精確地測定。因此即便測定對象為積層體的一部分的層，亦可在不剝離各層而測定對象的膜厚。
(保護層)
作為保護層11，例如可使用由具有優異的透明性、機械強度、熱安定性、水分隔離性、各向同性、延伸性等之熱塑性樹脂所形成的薄膜。
作為此種熱塑性樹脂的具體例，可列舉如：三乙酸纖維素等纖維素樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、耐綸、芳香族聚醯胺等聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚乙烯、聚丙烯、乙烯/丙烯共聚物等聚烯烴樹脂、具有環系及降莰烯構造之環狀聚烯烴樹脂(亦稱為降莰烯系樹脂)、(甲基)丙烯酸樹脂、聚芳香酯(polyarylate)樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、以及該等混合物。
由熱塑性樹脂所形成的薄膜係為了提升與由PVA系樹脂及二色性物質所形成的偏光片層之密著性，可施行表面處理(例如電暈處理等)，亦可形 成底漆層(亦稱為底塗層)等薄層。
保護層11係在溫度40℃、相對濕度90%RH的條件下，透濕度係以1至1500g/m2．24hr為佳。透濕度係可依據JIS Z 0208：1976而測定。
保護層11的厚度係以3μm以上為佳，以5μm以上更佳，亦可為15μm以上。又，保護層11的厚度係以50μm以下為佳，以30μm以下更佳。又，上述上限值及下限值係可任意地組合。
(相位差層)
相位差層16係例如可為正A層、負A層、正C層或負C層。具體而言，相位差層16為A層時，係以賦予1/4波長的正面相位差之層、或賦予1/2波長的正面相位差之層為佳。
相位差層16為C層時，在波長550nm之厚度方向的相位差值Rth，係以-90nm至-10nm為佳。此種範圍的C層係具有優異的耐久性且亦可謀求薄型化。
在本說明書，所謂「賦予1/4波長的正面相位差之層」，係指使可見光區域的波長的直線偏光轉換成為圓偏光(或將圓偏光轉換成為直線偏光)之相位差層。「賦予1/4波長的正面相位差之層」係在波長550nm之正面相位差值可為110至160nm，且可為130nm至150nm。所謂「賦予1/2波長的正面相位差之層」係將可見光區域的波長的直線偏光的偏光方位轉換90°之相位差層。「賦予1/2波長的正面相位差之層」係在波長550nm之正面相位差值可為250nm至300nm，且可為260nm至280nm。
在本說明書，所謂「正C層」，係將在面內之慢軸方向的折射率設為nx，將在其面內之快軸方向的折射率設為ny，將在其厚度方向之折射率設為nz時，滿足nz>nx≧ny的關係之層。所謂nx與ny係實質上可相等。具體而言， nx與ny之差的大小為0.01以內時，nx與ny係可說是實質上相等。
在本說明書，所謂「負C層」，係將在面內之慢軸方向的折射率設為nx，將在其面內之快軸方向的折射率設為ny，將在其厚度方向之折射率設為nz時，滿足nz<ny≦nx的關係之層。nx與ny係實質上可相等。具體而言，nx與ny之差的大小為0.01以內時，nx與ny係可說是實質上相等。
具備偏光片層12及相位差層16之偏光板1，係以可作為圓偏光板的功能為佳。亦即，相位差層16以可賦予1/4波長的相位差之層為佳。
相位差層16係將液晶組成物的硬化物作為形成材料。液晶組成物係含有液晶化合物。
針對在本實施形態所使用的液晶化合物的種類，係沒有特別限定，但是從其形狀，可分類成為棒狀型(棒狀液晶化合物)、及圓盤狀型(圓盤狀液晶化合物、碟狀液晶化合物)。而且各自有低分子型及高分子型。又，所謂高分子，通常係指聚合度為100以上者。
在本實施形態，可使用任一種液晶化合物。而且，亦可使用2種以上的棒狀液晶化合物、2種以上的圓盤狀液晶化合物、或棒狀液晶化合物與圓盤狀液晶化合物的混合物。
又，棒狀液晶化合物及圓盤狀液晶化合物係可使用習知材料。
液晶化合物的硬化物係以使用具有聚合性基之棒狀液晶化合物、或具有聚合性基之圓盤狀液晶化合物所形成者更佳。藉此，可減小光學特性的溫度變化和濕度變化。
液晶化合物亦可併用2種以上。此時，係以至少1種在分子內具有2個以上的聚合性基為佳。亦即，液晶化合物的硬化物係以具有聚合性基之棒 狀液晶化合物或具有聚合性基之圓盤狀液晶化合物藉由聚合而形成的硬化物為佳。此時，成為硬化物之後即無須顯示液晶性。
棒狀液晶化合物或圓盤狀液晶化合物具有聚合性基時，其聚合性基的種類並無特別限制。作為聚合性基，例如以聚合性乙烯性不飽和基、環聚合性基等可加成聚合反應的官能基為佳。更具體而言，作為聚合性基，可列舉例如：(甲基)丙烯醯基、乙烯基、苯乙烯基、烯丙基等。其中以(甲基)丙烯醯基為佳。又，所謂(甲基)丙烯醯基，係包含甲基丙烯醯基及丙烯醯基的兩者之概念。
液晶組成物亦可含有上述液晶化合物以外的成分。
例如液晶組成物，亦可含有聚合起始劑。所使用的聚合起始劑係可按照聚合反應的形式，而選擇例如熱聚合起始劑和光聚合起始劑。
例如作為光聚合起始劑，可列舉如：α-羰基化合物、醯偶姻醚、α-烴取代芳香族醯偶姻化合物、多核醌化合物、三芳基咪唑二聚物與對胺基苯基酮的組合等。
相對於液晶組成物中的總固形分，聚合起始劑的使用量係以0.01至20質量%為佳，以0.5至5質量%更佳。
為了提高塗佈液晶組成物而成之膜的均勻性及膜的強度之目的，液晶組成物可含有聚合性單體。作為聚合性單體，可列舉如：自由基聚合性或陽離子聚合性的化合物。其中，以多官能性自由基聚合性單體為佳。
又，作為聚合性單體，係以可與上述具有聚合性基之液晶化合物(以下亦稱為聚合性液晶化合物)共聚合者為佳。
作為聚合性單體係可使用習知材料。
相對於液晶化合物的總質量，聚合性單體的使用量係以1至50質 量%為佳，以2至30質量%更佳。
為了提高塗佈液晶組成物而成之膜的均勻性及膜的強度之目的，液晶組成物可含有習知界面活性劑。作為界面活性劑，可列舉如：先前習知化合物。其中以氟系化合物為特佳。
液晶組成物可含有溶劑，宜使用有機溶劑。
作為有機溶劑，可列舉例如：N,N-二甲基甲醯胺等醯胺；二甲基亞碸等亞碸；吡啶等雜環化合物；苯、己烷等烴；氯仿、二氯甲烷等烷基鹵化物；乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯；丙酮、甲基乙基酮等酮；四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷等醚。其中，作為有機溶劑，係以烷基鹵化物、酮為佳。又，亦可併用2種以上的有機溶劑。
液晶組成物係除了上述成分以外，亦可含有密著改良劑、塑化劑、聚合物等。
液晶組成物的硬化物係可藉由將液晶組成物塗佈在後述配向層19上使其水平配向、垂直配向或傾斜配向後使其硬化而形成。
相位差層16的厚度係以0.1μm以上為佳。又，相位差層16的厚度係以10μm以下為佳，以5μm以下更佳。又，上述上限值及下限值係可任意地組合。
相位差層16的厚度在上述範圍內時，可兼具耐久性與薄度。
相位差層16的厚度係以可得到所需要的面內相位差值、及厚度方向的相位差值之方式而調整即可。
將具備如偏光片層12的偏光片層、及如相位差層16的相位差層之偏光板放置在濕熱環境下(例如溫度80℃、相對濕度90%的環境下)時，會有偏光度降低之情形。
作為濕熱環境下偏光板的偏光度降低之原因，本發明者等推定是碘錯合物的消失。作為碘錯合物之消失原因，認為是因為相位差層中所含成分移行至偏光片層並與有助於偏光之碘錯合物、或用以保持碘錯合物之交聯點反應之緣故。
針對所推定的原因，本發明者等假設藉由將相位差層中所含成分移行至偏光片層之情形加以抑制而可抑制偏光度的降低。重複研討之結果，本發明者等發現藉由在偏光片層與相位差層之間設置以下的樹脂層，即便在濕熱環境下亦可保持較高的偏光度，遂而完成本發明。
(樹脂層)
樹脂層13係以由含有(甲基)丙烯酸系樹脂、及多官能單體之樹脂組成物的反應生成物所構成者為佳。
((甲基)丙烯酸系樹脂)
在樹脂組成物所含有的(甲基)丙烯酸系樹脂，係以含有源自胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯或下述式(I)表示的(甲基)丙烯酸烷酯的構造單元(以下亦稱為構造單元(I))之聚合物(以下，亦稱為(甲基)丙烯酸酯聚合物)為佳。
在本說明書，所謂「(甲基)丙烯酸」，係指丙烯酸或甲基丙烯酸的任一種。(甲基)丙烯酸酯等的「(甲基)」亦為同樣的意思。
在本說明書，所謂「源自」係指因為原料單體進行聚合使化學構造變化且不產生其它的構造變化。
胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯可為脂肪族胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯，亦可為芳香族胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。胺甲酸酯丙烯酸酯係可使用例如(甲基)丙烯酸及/或(甲基)丙烯酸酯、多元醇、以及二異氰酸酯而調製。具體而言，係可藉由從(甲基)丙烯酸及/或(甲基)丙烯酸酯及多元醇調製至少1個殘留羥基之(甲基)丙烯酸羥酯，而且使其與二異氰酸酯反應之方法，而可製造胺甲酸酯丙烯酸酯。
作為在胺甲酸酯丙烯酸酯的製造所使用的(甲基)丙烯酸酯，可列舉例如：如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯及(甲基)丙烯酸丁酯的(甲基)丙烯酸烷酯；如(甲基)丙烯酸環己酯的(甲基)丙烯酸環烷酯。
在胺甲酸酯丙烯酸酯的製造所使用的多元醇，係在分子內具有至少2個羥基之化合物。具體例係可列舉如：乙二醇、三亞甲二醇、丙二醇、二乙二醇、二丙二醇、新戊二醇、1,3-丁二醇、1,4-丁二醇、1,6-己二醇、1,9-壬二醇、1,10-癸二醇、2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、羥基三甲基乙酸的新戊二醇酯、環己烷二甲醇、1,4-環己烷二醇、螺甘油(spiroglycol)、三環癸烷二甲醇、氫化雙酚A、環氧乙烷加成雙酚A、環氧丙烷加成雙酚A、三羥甲基乙烷、三-二羥甲基丙烷、甘油、3-甲基戊烷-1,3,5-三醇、新戊四醇、二新戊四醇、三新戊四醇、葡萄糖類等。
在胺甲酸酯丙烯酸酯的製造所使用的二異氰酸酯，係可為芳香族、脂肪族或脂環式的各種二異氰酸酯類。具體例係可列舉如：四亞甲基二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、2,4-甲苯二異氰酸酯、1,5-萘二異氰酸酯、二苯基-4,4’-二異氰酸酯、3,3’-二甲基二苯基-4,4’-二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、三甲基六亞甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷-4,4’-二異氰酸酯及該等二異氰酸酯之中具有芳香環之化合物的氫化物等。
胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的重量平均分子量(以下亦僅稱為Mw) 係以100至1000為佳。
Figure 108120699-A0202-12-0014-1
式(I)中，R10表示氫原子或甲基。R20表示碳數1至20的烷基。前述烷基可具有直鏈狀、分枝狀或環狀之任意構造。前述烷基的氫原子可經碳數1至10的烷氧基或碳數1至10的胺甲酸酯基取代。
作為式(I)表示之(甲基)丙烯酸酯，可列舉例如：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正及異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯等。
作為含烷氧基的丙烯酸烷酯的具體例，可列舉如：(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯等。
尤其是作為式(I)表示之(甲基)丙烯酸酯，係以含有(甲基)丙烯酸正丁酯或(甲基)丙烯酸2-乙基己酯為佳，以含有(甲基)丙烯酸正丁酯更佳。
(甲基)丙烯酸酯聚合物係可含有源自構造單元(I)以外的其它單體 之構造單元。源自其它單體之構造單元可為1種亦可為2種以上。作為(甲基)丙烯酸酯聚合物可含有的其它單體，可列舉如：具有極性官能基之單體、具有芳香族基之單體、丙烯醯胺系單體。
作為具有極性官能基之單體，可列舉如：具有極性官能基之(甲基)丙烯酸酯。作為極性官能基，可列舉如：羥基、羧基、取代胺基、未取代胺基等。作為極性官能基，亦可列舉如：環氧基等雜環基等。
相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物的總構造單元100質量份，源自(甲基)丙烯酸酯聚合物中之具有極性官能基的單體之構造單元的含量係以20質量份以下為佳，以0.1質量份以上20質量份以下更佳，以0.1質量份以上10質量份以下又更佳，以0.5質量份以上10質量份以下為特佳。
作為具有芳香族基之單體，可列舉如：分子內具有1個(甲基)丙烯醯基及1個以上的芳香環(例如苯環、萘環等)，具有苯基、苯氧基乙基或苄基之(甲基)丙烯酸酯，藉由含有該等構造單元，可抑制在高溫、高濕環境下所產生之偏光板的白點現象。
相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物的總構造單元100質量份，源自(甲基)丙烯酸酯聚合物中之具有芳香族基的單體之構造單元的含量係以50質量份以下為佳，以4質量份以上50質量份以下更佳，以4質量份以上25質量份以下又更佳。
作為丙烯醯胺系單體，可列舉如：N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺等。藉由含有該等構造單元，可抑制後述抗靜電劑等添加物的滲出。
而且，作為源自構造單元(I)以外的其它單體之構造單元，可含有源自苯乙烯系單體之構造單元、源自乙烯系單體之構造單元、及源自分子內具有複數個(甲基)丙烯醯基之單體的構造單元等。
(甲基)丙烯酸酯聚合物的重量平均分子量(Mw)係以50萬至250萬為佳。重量平均分子量為50萬以上時，可提升在高溫、高濕的環境下之樹脂層13的耐久性。重量平均分子量為250萬以下時，塗佈樹脂組成物時的操作性變為良好。以重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(以下亦簡稱為Mn)之比表示之分子量分布(Mw/Mn)例如為2至10。
在本說明書，所謂「重量平均分子量」及「數量平均分子量」，係指藉由凝膠滲透層析法(GPC)而測定的聚苯乙烯換算值。
從黏著性、及耐久性的並存之觀點而言，(甲基)丙烯酸系樹脂的玻璃轉移溫度之較佳為-60℃至-10℃。又，玻璃轉移溫度係可使用差示掃描熱量計(DSC)而測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂可含有2種以上的(甲基)丙烯酸酯聚合物。
(多官能單體)
在本說明書，所謂多官能單體，係指分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基氧基之多官能(甲基)丙烯酸酯單體。
作為3官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯單體，可列舉如：如甘油三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、雙三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、雙三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯及二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯之3官能以上的脂肪族多元醇的聚(甲基) 丙烯酸酯。此外，可列舉如：3官能以上的鹵素取代多元醇的聚(甲基)丙烯酸酯、甘油的環氧烷加成物的三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷的環氧烷加成物的三(甲基)丙烯酸酯、1,1,1-三[(甲基)丙烯醯氧基乙氧基乙氧基]丙烷、三(羥乙基)異三聚氰酸酯三(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯類等。
樹脂組成物係以含有習知自由基聚合起始劑為佳。
(其它成分)
樹脂組成物係可含有單獨或2種以上之紫外線吸收劑、抗靜電劑、溶劑、交聯觸媒、黏著賦予樹脂(膠黏劑(tackifier))、塑化劑等添加劑。又，在樹脂組成物調配紫外線硬化性化合物而形成樹脂層13之後，照射紫外線使其硬化而成為較硬的樹脂層亦為有用。
此種樹脂組成物的反應生成物係形成交聯構造。因此認為樹脂層13係可將相位差層16中所含成分移行至偏光片層12之情形加以抑制。又，認為交聯構造越緊密，相位差層16中所含成分停留在樹脂層13而不易移行至偏光片層12。
交聯構造的疏密程度，係可藉由依據ISO14577測定樹脂層13的馬氏硬度而間接地確認。在樹脂層13，交聯點增加時，因為聚合物分子的分子間距離變小，所以交聯構造變為緊密。又，因為聚合物分子間的結合力提高而不容易變形，所以樹脂層13的硬度變大。亦即在樹脂層13，可以說硬度越大交聯構造越緊密。
[0108]樹脂層13的馬氏硬度為160N/mm2以上500N/mm2以下，亦可為小於500N/mm2。樹脂層13的馬氏硬度為500N/mm2以下時，因為樹脂層13的聚合物分子鏈可能產生移動，所以樹脂層13的柔軟性充分地變高。咸認為 樹脂層13的柔軟性充分高時，樹脂層不容易因偏光片層的伸縮而斷裂。其結果，偏光板1的柔軟性充分地變高。另一方面，認為上述馬氏硬度為160N/mm2以上時，交聯構造變得充分緊密，而可將相位差層16中所含成分移行至偏光片層12者充分地抑制。其結果，即便在濕熱環境下(例如溫度80℃、相對濕度90%的環境下)，偏光板1的偏光度亦不容易降低。
上述馬氏硬度係以170N/mm2以上為佳，以190N/mm2以上更佳。又，上述馬氏硬度係以400N/mm2以下更佳，亦可為小於400N/mm2。又，上述上限值及下限值係可任意地組合。
在本實施形態，係以上述馬氏硬度成為160N/mm2以上500N/mm2以下的範圍之方式適當地調整所使用的(甲基)丙烯酸系樹脂、多官能單體等的調配比即可。例如可將多官能單體與(甲基)丙烯酸系樹脂的調配比設為15：85至85：15，亦可設為40：60至80：20。
通常具有此種馬氏硬度之樹脂層係較少被配置在積層體(偏光板)的內部。其原因是樹脂層固定在積層體內的狀態下，即便馬氏硬度為500N/mm2以下，樹脂層亦有因偏光片層的伸縮而斷裂之情形。
另一方面，在本實施形態，係將具有此種馬氏硬度的樹脂層13配置在偏光板1的內部。為了抑制因偏光片層12的伸縮所引起樹脂層13的斷裂，樹脂層13的斷裂荷重係以500g以上2000g以下為佳，亦可小於2000g。
樹脂層13的斷裂荷重係可如以下進行而測定。測定係可使用KATOTECH股份有限公司製的手持式壓縮試驗機(KES-G5)。使用在上述試驗機所具備之中央具有貫穿孔(直徑11mm)的夾具將試片(樹脂層)夾住，再將試片設置在上述試驗機。在此，所使用的試片之大小可為覆蓋上述貫穿孔之大小，試片 的厚度為樹脂層的厚度。其次，將壓頭壓入至試片。將因壓頭而試片斷裂或壓頭貫穿試片時的荷重定義為斷裂荷重(單位：g)。壓頭係使用前端為球狀且為
Figure 108120699-A0202-12-0019-20
1mm者。壓頭之壓入速度係設為0.33cm/秒。進行斷裂荷重的測定之環境溫度係設為23℃。使用手持式壓縮試驗機(KES-G5)時，靈敏度係設為10且電壓設為5mm/10V。
在本實施形態，係以上述斷裂荷重成為500g以上2000g以下的範圍之方式適當地調整形成樹脂層之(甲基)丙烯酸系樹脂、多官能單體等的調配比即可。例如可將多官能單體與(甲基)丙烯酸系樹脂的調配比設為15：85至85：15，亦可設為40：60至80：20。
以下，說明樹脂層13的馬氏硬度之測定方法。依據ISO14577而對樹脂層13實施壓入試驗以測定樹脂層13的馬氏硬度。具體而言，係如實施例的欄中記載，作為薄膜硬度計，係可使用Elionix股份有限公司製奈米壓痕試驗機(ENT-2100)。將由樹脂層13所形成的試料設置在上述試驗機，藉由使用Berkovich壓頭接觸上述試料且壓入即可測定馬氏硬度。將初期荷重設為0mN，將最大荷重設為0.5mN。
最大荷重保持、亦即保持最大荷重之時間係可設為1000m秒。進行馬氏硬度的測定之環境溫度係可設為23℃。
使樹脂層13的厚度成為預定值以上者亦佳。樹脂層13的厚度係以0.5μm以上為佳，可為1μm以上，可為3μm以上，亦可為8μm以上。樹脂層13的厚度的上限值係沒有特別限定。例如為了減小樹脂層13的硬化收縮程度，樹脂層13的厚度係可設為20μm以下，亦可設為15μm以下。
(第1黏著劑層)
在本說明書，所謂「黏著劑」，係柔軟的橡膠狀且藉由將其本身貼附在被黏著物而顯現接著性者。又，後述活性能量線硬化型黏著劑係可藉由照射能量線而調整接著力。
作為構成第1黏著劑層14之黏著劑，係沒有特別限制而可使用先前習知具有優異的光學透明性之黏著劑，例如可使用具有丙烯酸系、胺甲酸酯系、聚矽氧系、聚乙烯基醚系等基質聚合物之黏著劑。又，作為構成第1黏著劑層14之黏著劑，亦可為活性能量線硬化型黏著劑、熱硬化型黏著劑等。
所謂「活性能量線硬化型」，係指接受紫外線、電子束等能量線之照射而硬化之性質。活性能量線硬化型黏著劑即便在能量線照射前亦具有黏著性。因此活性能量線硬化型黏著劑係可藉由密著在被黏著物且照射能量線而硬化來調整密著力。
活性能量線硬化型黏著劑係含有丙烯酸系黏著劑及能量線聚合性化合物。活性能量線硬化型黏著劑係以調配有交聯劑為佳。又，按照必要活性能量線硬化型黏著劑亦可調配有光聚合起始劑、光增敏劑等。
該等黏著劑之中，係將具有優異的透明性、黏著力、再剝離性、耐候性、耐熱性等之丙烯酸系樹脂作為基質聚合物之黏著劑為佳。
第1黏著劑層14的厚度係以3μm以上為佳，以5μm以上更佳。又，第1黏著劑層14的厚度係以40μm以下為佳，以30μm以下更佳。又，上述上限值及下限值係可任意地組合。第1黏著劑層14的厚度為3μm以上時，可將樹脂層13與相位差層16充分地貼合。第1黏著劑層14的厚度為40μm以下時，相位差層16不容易產生偏移。
在製造本實施形態的偏光板1時，使用較強的壓力隔著第1黏著 劑層14將樹脂層13與相位差層16貼合時，相較於使用較弱的壓力貼合時，第1黏著劑層14的厚度係有變為較薄之情形。此係由於第1黏著劑層14具有伸縮性而產生，如將樹脂層13與相位差層16貼合後暫時放置，第1黏著劑層14的厚度係恢復如原來。因此使用較強的壓力隔著第1黏著劑層14將樹脂層13與相位差層16貼合時，例如藉由放置5分鐘之後，測定第1黏著劑層14的厚度即可得到一定的值。
(配向層)
配向層19係不限定為使液晶化合物的分子軸垂直配向之垂直配向層，亦可為使液晶化合物的分子軸水平配向之水平配向層，亦可使液晶化合物的分子軸傾斜配向之傾斜配向層。
作為配向層19，係以具有藉由液晶組成物的塗佈等而不溶解的溶劑耐性之材料為佳。又，作為配向層19，係以對用以除去溶劑和液晶化合物的配向之加熱處理具有耐熱性之材料為佳。
作為配向層19的材料，可列舉如：含有配向性聚合物之配向膜；及在光配向膜或表面形成凹凸圖案和複數條溝使其配向之溝配向膜。
配向層19的厚度係例如10nm以上10000nm以下的範圍，以10nm以上1000nm以下的範圍為佳，以10nm以上500nm以下更佳，以10nm以上200nm以下的範圍又更佳。
作為配向層19所使用的樹脂，係只要作為習知配向膜之材料中使用的樹脂，即無特別限定，可使用將先前習知單官能或多官能的(甲基)丙烯酸酯系單體在聚合起始劑下使其硬化而成之硬化物等。
具體而言，作為配向層19中使用的樹脂，就(甲基)丙烯酸酯系單 體而言，可例示例如：丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸環己酯、二乙二醇單2-乙基己基醚丙烯酸酯、二乙二醇單苯基醚丙烯酸酯、四乙二醇單苯基醚丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、丙烯酸月桂酯、甲基丙烯酸月桂酯、丙烯酸異莰酯、甲基丙烯酸異莰酯、丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸四氫糠酯、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸四氫糠酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸苄酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸、胺甲酸酯丙烯酸酯等。
又，作為配向層19所使用的樹脂，可為該等樹脂的1種，亦可為2種以上的混合物。
(第2黏著劑層)
作為構成第2黏著劑層15之黏著劑，並無特別限制而可使用先前習知之具有優異的光學透明性之黏著劑。
作為構成第2黏著劑層15之黏著劑，係可使用與作為構成上述第1黏著劑層14之黏著劑所例示的材料之同樣材料。第1黏著劑層14的厚度及第2黏著劑層15的厚度可相同亦可不同。
第2黏著劑層15的厚度係以3μm以上為佳，以5μm以上更佳。又，第2黏著劑層15的厚度係以40μm以下為佳，以30μm以下更佳。又，上述限值及下限值係可任意地組合。
第2黏著劑層15的厚度為3μm以上時，可將相位差層、與後述顯示面板充分地貼合。第2黏著劑層15的厚度為40μm以下時，隔著第2黏著劑層15而配置之相位差層16、與後述顯示面板不容易產生偏移。
製造後述有機EL顯示裝置時，在使用較強的壓力隔著第2黏著劑層15而將相位差層16與顯示面板貼合時，相較於使用較弱的壓力貼合時，第 2黏著劑層15的厚度有變薄之情形。此係由於第2黏著劑層15具有伸縮性而產生，將相位差層16與顯示面板貼合後並暫時放置時，第2黏著劑層15的厚度係恢復如原來。因此使用較強的壓力隔著第2黏著劑層15將相位差層16與顯示面板貼合時，例如藉由放置5分鐘之後，測定第2黏著劑層15的厚度而可得到一定的值。
(偏光板)
偏光板1的總厚度係以30μm以上為佳。又，偏光板1的總厚度係以500μm以下為佳，以300μm以下更佳，以100μm以下又更佳。又，上述上限值及下限值係可任意地組合。
偏光板的總厚度為500μm以下時，係有助於偏光板1的薄層化。偏光板1的總厚度為30μm以上時，偏光板1強度提升。
在本說明書，所謂「偏光板的總厚度」，係指偏光板的積層方向之尺寸。偏光板的總厚度，係例如可藉由使用測微計測定偏光板的任意5點且算出其平均值而得到。
又，「偏光板的總厚度」係最後被納入至影像顯示裝置之薄膜厚度的合計值。亦即，「偏光板的總厚度」係不包含最後不被納入至影像顯示裝置的薄膜之厚度。作為最後不被納入至影像顯示裝置的薄膜，可列舉如：剝離膜和表面保護膜。
偏光板1的總厚度亦可藉由各自測定保護層11、偏光片層12、樹脂層13、第1黏著劑層14、相位差層16、第2黏著劑層15、以及其它偏光板中所含且最後被納入至影像顯示裝置之全部的光學薄膜層、黏著劑層、接著劑層的厚度並將該等值相加而得。
保護層11、偏光片層12、樹脂層13、第1黏著劑層14、相位差層16、第2黏著劑層15、以及其它偏光板中所含有之全部的光學薄膜層、黏著劑層、接著劑層的厚度，係可使用本說明書記載的方法而測定。
在本說明書，偏光板的偏光度係可依據稱為「發光因數(又稱視感度)修正單體透射率(Ty)」及「發光因數修正偏光度(Py)」之2個參數而進行評價。Ty及Py係在各自以人的眼睛的靈敏度為最高的550nm附近的加權值成為最大之方式進行修正而成的可見區域(波長380至780nm)之透射率、及偏光度。因為波長小於380nm的光線通常是人的眼睛不可見的，所以在Ty及Py中不予考慮。
偏光板1的Ty係在應用偏光板1之有機EL顯示裝置等影像顯示裝置所求取的值。偏光板1的Ty係以40%以上47%以下為佳，以41%以上45%以下更佳。藉由成為上述範圍，Ty與Py的平衡變更良好。偏光板1的Ty為40%以上時，影像顯示裝置的亮度為充分地變高。偏光板1的Ty為47%以下時，Py充分地變高且對比變為良好。另一方面，偏光板1的Ty小於40%時，為了充分地提高影像顯示裝置的亮度，可將影像顯示裝置的投入電力增大。
偏光板1的Py係以99.9%以上為佳，以99.95%以上更佳，亦可為99.99%以上。
對偏光板1進行在溫度80℃、相對濕度90%的環境下放置24小時之濕熱試驗時，偏光板1的試驗前後之Py的差的絕對值(以下亦稱為△Py)為0%以上13%以下。又，偏光板1的試驗前後之Ty的差(以下亦稱為△Ty)為0%以上5%以下。△Py及△Ty為上述範圍內時，可說是即便偏光板1在濕熱環境下亦可保持較高的偏光度。
從耐濕熱性的觀點而言，偏光板1的△Py係以10%以下為佳，以8%以下更佳，以5%以下又更佳。
又，從耐濕熱性的觀點而言，偏光板1的△Ty係以4%以下為佳，以3%以下更佳。
在本說明書，偏光板1的Ty，係使用附積分球的分光光度計(日本分光股份有限公司製的「V7100」)而測定。在波長380nm至780nm的範圍求取MD透射率及TD透射率且依據式(1)而算出在各波長之單體透射率。
其次，依據JIS Z 8701的2度視野(C光源)進行發光因數修正而求取發光因數修正單體透射率。在此，所謂「MD透射率」，表示從格蘭-湯姆森(Glan-Thomson)稜鏡射出的偏光方向與偏光板試樣的透射軸成為平行時的透射率。又，所謂「TD透射率」，表示從格蘭-湯姆森稜鏡射出的偏光方向與偏光板試樣的透射軸成為正交時的透射率。
Figure 108120699-A0202-12-0025-2
在本說明書，偏光板1的Py係從上述MD透射率及TD透射率依據式(2)而算出在各波長之偏光度。而且，依據JIS Z 8701的2度視野(C光源)而進行發光因數修正並求取發光因數修正單體透射率。
Figure 108120699-A0202-12-0025-3
[偏光板的製造方法]
以下，針對第1實施形態的偏光板的製造方法並依據第2圖進行說明。
本實施形態的偏光板1係可將構成偏光板1之各層依序層積而製造，亦可將相鄰之各層預先層積並將其積層體彼此層積而製造。又，構成偏光板1之各層可使用習知方法而製造，亦可使用市售的材料。
第2圖係第1實施形態的偏光板的製造方法的一例之示意圖。如第2圖顯示，首先，準備包含偏光片層12之積層體A、包含相位差層16之積層體B、成為第1黏著劑層14之第1黏著劑140、及成為第2黏著劑層15之第2黏著劑150。
積層體A係依序層積保護層11、偏光片層12、及樹脂層13而成之積層體。
積層體B係將相位差層16、及配向層19層積而成之積層體。
積層體A及積層體B的製造方法並無特別限定。
其次，使積層體A的樹脂層13、與積層體B的相位差層16相向，將第1黏著劑140配置在積層體A與積層體B之間而得到複合積層體。
其次，從積層體A或積層體B的兩側將複合積層體加壓而將積層體A與積層體B貼合。藉此，可得到積層體A、第1黏著劑層14、及積層體B依序層積而成之複合積層體。
其次，在所得到的複合積層體的配向層19的另一面19b，層積第2黏著劑150。藉此，可得到偏光板1。
又，構成偏光板1之各層的層積順序並不限定於此。
因為本實施形態的偏光板1係具備上述樹脂層13，認為可將相位差層16中所含成分移行至偏光片層12之情形加以抑制。咸認為此係由於相位 差層16中所含成分停留在樹脂層13而不易移行至偏光片層12之主要原因。因而，本實施形態的偏光板1即便在濕熱環境下亦可保持較高的偏光度。
[有機EL顯示裝置]
以下，一邊參照第3圖同時說明具備第1實施形態的偏光板之有機EL顯示裝置。
第3圖係顯示第1實施形態的有機EL顯示裝置的構成的一例之剖面示意圖。如第3圖顯示，有機EL顯示裝置100係具備顯示面板10及偏光板1。
偏光板1係配置在顯示面板10的觀看側。偏光板1係藉由偏光板1所具有的第2黏著劑層15與顯示面板10接著。偏光板1所具有之保護層11的一面11a係成為有機EL顯示裝置100的觀看側之面。
顯示面板10係包含有機電致發光顯示元件(以下亦稱為有機EL元件)。亦即偏光板1係配置在有機EL元件的觀看側。
第4圖係顯示有機EL元件的層構成的一例之示意剖面圖。如第4圖顯示，有機EL元件200係具有基板201、陽極202、有機EL層203、陰極204、及將該等覆蓋之密封層205。又，有機EL元件200亦可按照必要例如在基板201上設置平坦化層(圖示省略)，亦可在陽極202與陰極204之間設置用以防止短路之絕緣層(圖示省略)。
構成有機EL元件之各層係可使用習知材料。
有機EL元件200係可在習知捲軸式製程連續地製造。而且有機EL元件200在捲軸式製程連續地與長條狀偏光板1層積而可連續地製造有機EL顯示裝置100。
使用如以上構成的有機EL顯示裝置100時，即便在濕熱環境下亦可保持較高的顯示品質。
<第2實施形態>
[偏光板]
以下，一邊參照第5圖同時說明第2實施形態的偏光板。第2實施形態的偏光板係與第1實施形態的偏光板部分共通。因而，在本實施形態針對與第1實施形態共同的構成要素賦予相同符號並省略詳細說明。
第5圖係顯示第2實施形態的偏光板的層構成的一例之剖面示意圖。如第5圖顯示，本實施形態的偏光板2係包含保護層11、偏光片層12、樹脂層13、第1黏著劑層14、第2黏著劑層15、第1相位差層17、第2相位差層18、第1配向層20、第2配向層21及接著層22。
本實施形態的偏光板2係具有作為相位差層之第1相位差層17及第2相位差層18。偏光片層12的另一面12b側係配置有第1相位差層17及第2相位差層18。在偏光片層12與第1相位差層17之間係配置有樹脂層13。第2相位差層18係將偏光片層12作為基準而配置在樹脂層13側。第2相位差層18係配置在樹脂層13與第1相位差層17之間。
第1相位差層17與第2相位差層18係隔著接著層22而接著。
第1相位差層17之與接著層22側為相反側的面(另一面)17b係與第2配向層21接觸。
第2相位差層18之與接著層22側為相反側的面(一面)18a係與第1配向層20接觸。第1配向層20與樹脂層13係隔著第1黏著劑層14而接著。第1黏著劑層14係設置在樹脂層13的另一面13b。
第2黏著劑層15係與第2配向層21之與第1相位差層17側為相反側的面(另一面)21b接觸。
以下，詳細地說明構成第2實施形態的偏光板2之各層。
(第1相位差層、第2相位差層)
第1相位差層17及第2相位差層18係各自獨立地例如可為賦予1/2波長的相位差之層、賦予1/4波長的相位差之層等正A層、負A層、正C層或負C層。第1相位差層17與第2相位差層可為相同材料，亦可為不同的材料。
在本說明書，所謂「賦予1/2波長的相位差之層」，係指將某特定波長的直線偏光的偏光方位轉換90°之相位差層。
作為本實施形態之一態樣，係以第1相位差層17及第2相位差層18的任一者為賦予1/4波長的相位差之層且另一者為賦予1/2波長的相位差之層者為佳。而且以第1相位差層17及第2相位差層18的任一者為賦予1/4波長的相位差之層且另一者為正C層者為佳。
因而，第1相位差層17及第2相位差層18的厚度、及構成該等相位差層之材料係以可得到所需要的面內相位差值、厚度方向的相位差值之方式調整即可。
第1相位差層17為賦予1/4波長的相位差之層，第2相位差層18為賦予1/2波長的相位差之層時，係以第1相位差層17的厚度例如為1μm以上10μm以下、第2相位差層18的厚度為例如1μm以上10μm以下者為佳。
第1相位差層17為正C層，第2相位差層18為賦予1/4波長的相位差之層時，第1相位差層17的厚度係例如1μm以上10μm以下，第2相位差層18的厚度係例如1μm以上10μm以下。
又，第1相位差層17的厚度及第2相位差層18的厚度係可藉由第1實施形態中說明之層的厚度的測定方法而得到。
第1相位差層17係將第1液晶組成物的硬化物作為形成材料。第2相位差層18係將第2液晶組成物的硬化物作為形成材料。第1液晶組成物及第2液晶組成物係可使用與在第1實施形態的相位差層16所例示的材料之同樣材料。第1液晶組成物及第2液晶組成物可相同亦可不同。
將具備如偏光片層12的偏光片層、及如第1相位差層17及第2相位差層18的相位差層之偏光板，在濕熱環境下(例如溫度80℃、相對濕度90%的環境下)放置時，會有偏光度降低之情形。
在本實施形態的偏光板2，亦認為藉由將樹脂層13設置在偏光片層12與第1相位差層17及第2相位差層18之間，即可將2個相位差層中所含成分移行至偏光片層12之情形加以抑制。其結果，本發明者等發現藉由將樹脂層13設置在偏光片層12與第1相位差層17及第2相位差層18之間，即便在濕熱環境下，亦可保持較高的偏光度，遂而完成了本發明。
(第1配向層、第2配向層)
第1配向層20及第2配向層21係可使用與第1實施形態的配向層19中例示的材料為同樣材料。第1配向層20及第2配向層21可相同亦可不同。
(接著層)
在本說明書，所謂「接著層」係指接著劑層或黏著劑層。作為黏著劑層，係可適當地使用上述材料。以下說明接著層22為接著劑層時。「接著劑」係設為塗佈在基材時，可以液狀而塗佈在基材，藉由固化而顯現接著性(亦即，至固化為止係不顯現接著性)者。
作為將第1相位差層17與第2相位差層18貼合之接著劑，可列舉例如：水系接著劑、或活性能量線硬化性接著劑。
作為水系接著劑，可列舉例如：使PVA系樹脂溶解、或分散於水而成之接著劑。
作為活性能量線硬化性接著劑，可列舉例如：含有藉由照射如紫外線、可見光、電子束、X射線的活性能量線而硬化的硬化性化合物之接著劑。
作為活性能量線硬化性接著劑，因為顯示良好的接著性，以含有陽離子聚合性硬化性化合物、及自由基聚合性硬化性化合物的任一者或兩者為佳。活性能量線硬化性接著劑係可進一步含有用以使上述硬化性化合物開始硬化反應之陽離子聚合起始劑、及自由基聚合起始劑的任一者或兩者。
陽離子聚合性之硬化性化合物及自由基聚合性之硬化性化合物係可使用習知材料。
活性能量線硬化性接著劑係可按照必要而含有陽離子聚合促進劑、離子捕捉劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、黏著賦予劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、塑化劑、消泡劑、抗靜電劑、調平劑、溶劑等添加劑。
接著層22的厚度係以0.01μm以上10μm以下為佳，以0.05μm以上5μm以下更佳。接著層22的厚度為0.01μm以上時，因為具有充分的強度，所以偏光板2不容易產生裂紋。接著層22的厚度為10μm以下時，第1相位差層17與第2相位差層18之間不容易產生浮起和剝落。又，亦不容易產生接著劑在硬化收縮時所引起之偏光板2的外觀不良。
[偏光板的製造方法]
以下，依據第6圖說明第2實施形態的偏光板之製造方法。
本實施形態的偏光板2可依序將構成偏光板2之各層進行層積而製造，亦可預先將相鄰之各層層積，而且藉由將其積層體彼此層積而製造。又，構成偏光板2之各層可依照習知方法而製造，亦可使用市售的材料。
第6圖係顯示第2實施形態的偏光板的製造方法的一例之示意圖。如第6圖顯示，首先，準備包含偏光片層12之積層體A、包含第1相位差層17與第2相位差層18之積層體C、成為第1黏著劑層14之第1黏著劑140、以及成為第2黏著劑層15之第2黏著劑150。
積層體A係與在第1實施形態的偏光板的製造方法所使用的積層體相同。
積層體C係依序將第1配向層20、第2相位差層18、接著層22、第1相位差層17及第2配向層21層積而成之積層體。積層體C係可藉由將第1配向層20與第2相位差層18的積層體、第1相位差層17與第2配向層21的積層體，使第1相位差層17與第2相位差層18相向的狀態下，使用接著層22貼合而得到。
其次，使積層體A的樹脂層13與積層體C的第1配向層20相向，並將第1黏著劑140配置在積層體A與積層體C之間而得到複合積層體。
其次，從積層體A或積層體C的兩側將複合積層體加壓而將積層體A與積層體C貼合。藉此，可得到依序將積層體A、第1黏著劑層14、及積層體C層積而成之複合積層體。
其次，將第2黏著劑150層積在所得到的複合積層體的第2配向層21的另一面21b。藉此可得到偏光板2。
又，構成偏光板2之各層的層積順序並不限於此。
因為本實施形態的偏光板2係具備上述樹脂層13，認為可將第1相位差層17及第2相位差層18中所含成分移行至偏光片層12之情形加以抑制。咸認為此係由於在第1相位差層17及第2相位差層18中所含成分停留在樹脂層13而成為不容易移行至偏光片層12之主要原因。因而，本實施形態的偏光板2即便在濕熱環境下亦可保持較高的偏光度。
<第3實施形態>
[偏光板]
以下，一邊參照第7圖同時說明第3實施形態的偏光板。第3實施形態的偏光板係與第2實施形態的偏光板部分共通。因而，在本實施形態針對與第2實施形態共同的構成要素賦予相同符號並省略詳細說明。
第7圖係顯示第3實施形態的偏光板的層構成的一例之剖面示意圖。如第7圖顯示，本實施形態的偏光板3係包含保護層11、偏光片層12、樹脂層13、第2黏著劑層15、第1相位差層17、第2相位差層18、第1配向層20、第2配向層21、接著層22及第3黏著劑層23。
與第2實施形態的偏光板2不同者係在樹脂層13的另一面13b直接形成有第1配向層20。又，偏光片層12與樹脂層13係隔著第3黏著劑層23而接著。
作為構成第3黏著劑層23之黏著劑，係可使用與作為構成第1實施形態的第1黏著劑層14之黏著劑中例示的材料為同樣材料。
第2黏著劑層15的厚度與第3黏著劑層23的厚度可相同亦可不同。
[偏光板的製造方法]
以下，依據第8圖而說明第3實施形態的偏光板的製造方法。
本實施形態的偏光板3可藉由依序將構成偏光板3之各層層積而製造，亦可預先將相鄰之各層層積，而且藉由將其積層體彼此層積而製造。又，構成偏光板3之各層可依照習知方法而製造，亦可使用市售的材料。
第8圖係顯示第3實施形態的偏光板的製造方法的一例之示意圖。如第8圖顯示，首先，準備包含偏光片層12之積層體D、包含樹脂層13與第1相位差層17與第2相位差層18之積層體E、成為第3黏著劑層23之第3黏著劑230、以及成為第2黏著劑層15之第2黏著劑150。
積層體D係將保護層11及偏光片層12層積而成之積層體。
積層體E係依序將樹脂層13、第1配向層20、第2相位差層18、接著層22、第1相位差層17及第2配向層21層積而成之積層體。
積層體E係可藉由將樹脂層13與第1配向層20與第2相位差層18的積層體、第1相位差層17與第2配向層21的積層體，在使第1相位差層17與第2相位差層18相向的狀態下，使用接著層22貼合而得到。
以下，說明樹脂層13與第1配向層20與第2相位差層18的積層體之製造方法。首先，形成樹脂層13。其次，在樹脂層13的表面直接形成第1配向層20。其次，在第1配向層20的表面形成第2相位差層18。如此進行而可得到樹脂層13與第1配向層20與第2相位差層18的積層體。
其次，使積層體D的偏光片層12、與積層體E的樹脂層13相向，並將第3黏著劑230配置在積層體D與積層體E之間而得到複合積層體。
其次，從積層體D或積層體E的兩側將複合積層體加壓而將積層體D與積層體E貼合。藉此可得到依序將積層體D、第3黏著劑層23及積層體 E層積而成之複合積層體。
其次，將第2黏著劑150層積在所得到的複合積層體的第2配向層21的另一面21b。藉此，可得到偏光板3。
又，構成偏光板3之各層的積層順序並不限於此。
因為本實施形態的偏光板3係具備上述樹脂層13，認為可將第1相位差層17及第2相位差層18中所含成分移行至偏光片層12之情形加以抑制。咸認為此係由於在第1相位差層17及第2相位差層18中所含成分停留在樹脂層13而成為不容易移行至偏光片層12之主要原因。因而，本實施形態的偏光板3即便在濕熱環境下亦可保持較高的偏光度。
<第4實施形態>
[偏光板]
以下，一邊參照第9圖同時說明第4實施形態的偏光板。第4實施形態的偏光板係與第3實施形態的偏光板部分共通。因而，在本實施形態針對與第3實施形態共同的構成要素賦予相同符號並省略詳細說明。
第9圖係顯示第4實施形態的偏光板的層構成的一例之剖面示意圖。如第9圖顯示，本實施形態的偏光板4係包含保護層11、偏光片層12、樹脂層13、第2黏著劑層15、第1相位差層17、第2相位差層18、第1配向層20、第2配向層21、接著層22、第4黏著劑層24及第5黏著劑層25。
與第3實施形態的偏光板3不同者係將樹脂層13配置在第1相位差層17與第2相位差層18之間。亦即，第1相位差層17係將樹脂層13作為基準而配置在與偏光片層12為相反側。另一方面，第2相位差層18係配置在樹脂層13與偏光片層12之間。
理由雖未明確，然已闡明相較於賦予1/4波長的相位差之層等，正C層在濕熱環境下使偏光度降低的作用顯然更大。因此如本實施形態，將樹脂層13作為基準，至少第1相位差層17係存在於偏光片層12側之相反側時，係以第1相位差層17為正C層且第2相位差層18為賦予1/4波長的相位差之層者為佳。此時，即便在濕熱環境下，亦容易得到保持較高的偏光度之本發明的效果。
作為構成第4黏著劑層24及第5黏著劑層25之黏著劑，係可使用作為與構成第1實施形態的第1黏著劑層14之黏著劑所例示的材料為同樣材料。
第4黏著劑層24的厚度與第5黏著劑層25的厚度可相同亦可不同。
[偏光板的製造方法]
以下，依據第10圖而說明第4實施形態的偏光板的製造方法。
本實施形態的偏光板4可藉由依序將構成偏光板4之各層層積而製造，亦可預先將相鄰之各層層積，而且藉由將其積層體彼此層積而製造。又，構成偏光板4之各層可依照習知方法而製造，亦可使用市售的材料。
第10圖係顯示第4實施形態的偏光板的製造方法的一例之示意圖。如第10圖顯示，首先，準備包含偏光片層12與樹脂層13與第2相位差層18之積層體F、包含第1相位差層17之積層體G、成為第5黏著劑層25之第5黏著劑250、以及成為第2黏著劑層15之第2黏著劑150。
積層體F係依序將保護層11、偏光片層12、第4黏著劑層24、第2相位差層18、第1配向層20及樹脂層13層積而成之積層體。
積層體G係將第1相位差層17及第2配向層21層積而成之積層體。
積層體F及積層體G的製造方法並無特別限定。
其次，使積層體F的樹脂層13與積層體G的第1相位差層17相向並將第5黏著劑250配置在積層體F與積層體G之間，而得到複合積層體。
其次，從積層體F或積層體G的兩側將複合積層體加壓而將積層體F與積層體G貼合。藉此，可得到依序將積層體F、第5黏著劑層25、積層體G層積而成之複合積層體。
其次，將第2黏著劑150層積在所得到的複合積層體的第2配向層21的另一面21b。藉此，可得到偏光板4。
又，構成偏光板4之各層的積層順序並不限於此。
因為本實施形態的偏光板3係具備上述樹脂層13，認為可將第1相位差層17及第2相位差層18中所含成分移行至偏光片層12之情形加以抑制。咸認為此係由於在第1相位差層17中所含成分停留在樹脂層13而成為不容易移行至偏光片層12之主要原因。因而，本實施形態的偏光板4即便在濕熱環境下亦可保持較高的偏光度。
<第5實施形態>
[偏光板]
以下，一邊參照第11圖同時說明第5實施形態的偏光板。第5實施形態的偏光板係與第4實施形態的偏光板部分共通。因而，在本實施形態針對與第4實施形態共同的構成要素賦予相同符號並省略詳細說明。
第11圖係顯示第5實施形態的偏光板的層構成的一例之剖面示 意圖。如第11圖顯示，本實施形態的偏光板5係包含保護層11、偏光片層12、樹脂層13、第2黏著劑層15、第1相位差層17、第2相位差層18、第1配向層20、第2配向層21、接著層22及第4黏著劑層24。
與第4實施形態的偏光板不同者係第1相位差層17與第2相位差層18係隔著樹脂層13而接觸。亦即，樹脂層13除了擔任抑制第1相位差層17中所含成分移行至偏光片層12之任務，並擔任將第1相位差層17與第2相位差層18接合之任務。
理由雖未明確，然已闡明相較於賦予1/4波長的相位差之層等，正C層在濕熱環境下使偏光度降低的作用顯然更大。因此如本實施形態，將樹脂層13作為基準，至少第1相位差層17係存在於偏光片層12側之相反側時，係以第1相位差層17為正C層且第2相位差層18為賦予1/4波長的相位差之層者為佳。此時，即便在濕熱環境下，亦容易得到保持較高的偏光度之本發明的效果。
[偏光板的製造方法]
以下，係依據第12圖而說明第5實施形態的偏光板的製造方法。
本實施形態的偏光板5可藉由依序將構成偏光板5之各層層積而製造，亦可預先將相鄰之各層層積，而且藉由將其積層體彼此層積而製造。又，構成偏光板5之各層可依照習知方法而製造，亦可使用市售的材料。
第12圖係顯示第5實施形態的偏光板的製造方法的一例之示意圖。如第12圖顯示，首先，準備包含偏光片層12及第2相位差層18之積層體H、包含成為樹脂層13的樹脂組成物130與第1相位差層17之積層體I、以及成為第2黏著劑層15之第2黏著劑150。
積層體H係依序將保護層11、偏光片層12、第4黏著劑層24、第1配向層20及第2相位差層18層積而成之積層體。
積層體I係依序將樹脂組成物130、第1相位差層17及第2配向層21層積而成之積層體。
積層體H及積層體I的製造方法並無特別限定。
其次，將積層體H的第2相位差層18、與積層體I的樹脂組成物130接著而得到複合積層體。藉此，可得到積層體H與積層體I層積而成之複合積層體。藉由使該複合積層體的樹脂組成物130硬化而將樹脂層13形成在第1相位差層17與第2相位差層18之間。
其次，將第2黏著劑150層積在所得到的複合積層體的第2配向層21的另一面21b。藉此，可得到偏光板5。
又，構成偏光板5之各層的積層順序並不限於此。
因為本實施形態的偏光板5係具備上述樹脂層13，認為可抑制將第1相位差層17中所含成分移行至偏光片層12之情形加以限制。咸認為此係由於在第1相位差層17中所含成分停留在樹脂層13而成為不容易移行至偏光片層12之主要原因。因而，本實施形態的偏光板5即便在濕熱環境下亦可保持較高的偏光度。
以上，一邊參照附加圖式同時說明了本發明之較佳實施形態例，然不言而喻，本發明並不受該等例所限定。上述例中顯示之各構成構件的各種形狀、組合等僅為例示，在不脫離本發明的主旨之範圍內可依據設計要求等而進行各種變更。
[實施例]
以下藉由實施例而說明本發明，但是本發明並不受該等實施例所限定。又，在本實施例，相較於賦予1/4波長的相位差之層，係使用在濕熱環境下之偏光度降低的作用較大的正C層作為相位差層。本實施例中之樹脂層的馬氏硬度、偏光板的Ty及Py係使用以下方法而求取。
[樹脂層的馬氏硬度]
依據ISO14577對樹脂層實施壓入試驗來測定樹脂層的馬氏硬度。具體而言，係使用Elionix股份有限公司製奈米壓痕試驗機(ENT-2100)作為薄膜硬度計。將由樹脂層所形成的試料設置在上述試驗機，藉由使Berkovich壓頭從上述試料的側面接觸並壓入來測定馬氏硬度。初期荷重係設為0mN，最大荷重係設為0.5mN。最大荷重保持係設為1000m秒。進行馬氏硬度測定之環境溫度為23℃。
[樹脂層的斷裂荷重]
樹脂層的斷裂荷重係如以下進行而測定。測定係使用KATOTECH股份有限公司製的手持式壓縮試驗機(KES-G5)。使用在上述試驗機所具備之在中央具有貫穿孔(直徑11mm)的夾具將試片(樹脂層)夾住，並將試片設置在上述試驗機。在此，所使用的試片之大小為可覆蓋上述貫穿孔之大小，試片的厚度為樹脂層的厚度。其次，將壓頭壓入至試片。將因壓頭而試片斷裂或壓頭貫穿試片時的荷重定義為斷裂荷重(單位：g)。壓頭係使用前端為球狀且為
Figure 108120699-A0202-12-0040-21
1mm者。壓頭之壓入速度係設為0.33cm/秒。進行斷裂荷重的測定之環境溫度係設為23℃。靈敏度設為10且電壓設為5mm/10V。
[偏光板的Ty、Py]
偏光板的Ty係使用附積分球的分光光度計(日本分光股份有限公司製的「V7100」)而測定。在波長380nm至780nm的範圍求取MD透射率及TD透射 率，並依據式(1)而算出在各波長之單體透射率。其次，依據JIS Z 8701的2度視野(C光源)進行發光因數修正，來求取發光因數修正單體透射率。
Figure 108120699-A0202-12-0041-4
偏光板的Py係從上述MD透射率及TD透射率依據式(2)而算出在各波長之偏光度。而且，依據JIS Z 8701的2度視野(C光源)進行發光因數修正且求取發光因數修正單體透射率。
Figure 108120699-A0202-12-0041-5
[實施例1至4、比較例1]
[偏光膜的製造]
將厚度20μm的PVA薄膜(平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上)藉由乾式延伸進行單軸延伸至約6倍，而且在保持拉緊狀態下浸漬在40℃的純水中40秒鐘。
其次，藉由將該薄膜浸漬在碘/碘化鉀/水的質量比為0.044/5.7/100之28℃的染色水溶液30秒鐘來進行染色處理。
其次，藉由將染色處理後的薄膜浸漬在碘化鉀/硼酸/水的質量比為11.0/6.2/100之70℃的硼酸水溶液120秒鐘來進行交聯處理。
接著，將交聯處理後的薄膜使用8℃的純水洗淨15秒鐘之後，在保持300N/m的張力之狀態下，在60℃乾燥50秒鐘，其次在75℃乾燥20秒鐘。 如此進行而得到碘吸附配向在PVA薄膜之厚度7μm的偏光膜。
[積層體(1)的製造]
作為保護膜，係準備環烯烴系樹脂膜(COP、日本ZEON股份有限公司製ZF-14 UV無吸收特性、厚度13μm)。將水系接著劑注入至所得到的偏光膜與環烯烴系樹脂膜之間並使用夾輥貼合。將所得到的積層體之張力一邊保持430N/m同時在60℃乾燥2分鐘，得到具備偏光片層及配置在偏光片層的一面的保護層之積層體(1)。積層體A的厚度為20μm。
又，上述水系接著劑係在水100質量份中添加羧基改性聚乙烯醇(KURARAY股份有限公司製；KURARAY POVAL(註冊商標)KL318)3質量份、及水溶性聚醯胺環氧樹脂(田岡化學工業股份有限公司製；Sumirez Resin(註冊商標)650；固形分濃度30%的水溶液)1.5質量份而調製。
[積層體(2)的製造]
作為透明基材係準備由厚度38μm的聚對苯二甲酸乙二酯膜所形成的基材。將垂直配向層用組成物以成為膜厚3μm之方式塗佈在透明基材的一面並以累計光量成為20mJ/cm2之方式照射紫外線而形成配向層。
又，上述垂直配向層用組成物係將丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸四氫糠酯、二新戊四醇三丙烯酸酯及雙(2-乙烯氧基乙基)醚以1：1：4：5的比例混合，相對於所得到的混合物的總質量，以4%的比率添加LUCIRIN(註冊商標)TPO作為聚合起始劑而調製。
在所形成的配向層上，將含有聚合性向列液晶化合物(Merck公司製、RMM28B)之液晶組成物藉由模塗佈而塗佈在配向層上。
液晶組成物的調製，作為溶劑，係使用將甲基乙基酮(MEK)、甲 基異丁酮(MIBK)及沸點為155℃之環己酮(CHN)，以質量比(MEK：MIBK：CHN)35：30：35的比例混合而成之混合溶劑。而且，將以液晶組成物每100g的固形分成為1至1.5g之方式調製而成之液晶組成物，以乾燥前的塗佈量成為4至5g之方式塗佈在配向層上。
將液晶組成物塗佈在配向層上之後，將所得到的塗佈層在將乾燥溫度設為75℃、將乾燥時間設為120秒鐘的條件下進行乾燥處理。隨後，藉由紫外線(UV)照射使液晶化合物聚合且硬化。如此進行而得到由相位差層、配向層及透明基材所構成的積層體(2)。該相位差層係滿足nz>nx=ny的關係且為正C層。相位差層與配向層的合計厚度為4μm。
[樹脂組成物的調製]
將二新戊四醇六丙烯酸酯(以下亦稱為DPHA)(ARONIX(註冊商標)M-403東亞合成股份有限公司製多官能丙烯酸酯)、丙烯酸酯樹脂(EBECRYL(註冊商標)4858 Daicel UCB股份有限公司製、脂肪族胺甲酸酯丙烯酸酯)合併一起為100質量份、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-N-嗎啉基丙烷-1-酮(IRGACURE(註冊商標)907；Ciba Specialty Chemicals公司製)3質量份、氟系調平劑(F-554 DIC股份有限公司製含氟基/親油性基寡聚物)0.25質量份溶解在異丙醇250質量份中調製成溶液，並調製含有丙烯酸樹脂之樹脂組成物。又，將DPHA及丙烯酸酯樹脂以表1所示的質量調配比調配。
[積層體(3)的製造]
將樹脂組成物使用桿塗佈器塗佈在積層體(2)的相位差層上。將所得到的塗膜在80℃乾燥1分鐘後，藉由使用高壓水銀燈(「UNICURE VB-15201BY-A」、USHIO電機股份有限公司製)照射紫外線(氮氣環境下、在波長365nm之累計光 量：400mJ/cm2)而形成樹脂層。如此進行而製造由透明基材、配向層、相位差層及樹脂層所構成的積層體(3)。
[積層體(4)的製造]
將積層體(1)的偏光片層進行電暈處理之後，將上述所製造的積層體(3)與積層體(1)隔著黏著劑(1)(LINTEC股份有限公司製感壓式黏著劑厚度15μm)貼合。貼合後，僅剝離透明基材而製造積層體(4)。
[偏光板的製造]
將積層體(4)的配向層進行電暈處理之後，將黏著劑(2)(LINTEC股份有限公司製感壓式黏著劑25μm)貼合而製造積層體(5)(偏光板)。積層體(5)係依序具備黏著劑(2)、配向層、相位差層、樹脂層、黏著劑(1)、偏光片層及保護層。
[評價用偏光板的製造]
使用黏著劑(2)將積層體(5)貼合在無鹼玻璃而作為試料。
[比較例2]
除了不形成樹脂層以外，與實施例1同樣地製造試料。
[濕熱耐久試驗]
將實施例1至4及比較例1以及比較例2的試料，在溫度80℃、相對濕度90%的環境下放置24小時而進行濕熱耐久試驗。求取試驗前後之偏光板的△Py及△Ty。
將樹脂層的厚度、馬氏硬度、斷裂荷重及濕熱耐久試驗結果呈示在表1。
[表1]
Figure 108120699-A0202-12-0045-22
如表1所示，相較於比較例1及2的偏光板的△Py及△Ty，應用本發明的一態樣之實施例1至4的偏光板的△Py及△Ty之任一者均較小。因此，認為因為本發明的一態樣之偏光板係具備依據ISO14577而測定的馬氏硬度為160N/mm2以上500N/mm2以下的樹脂層，所以可將相位差層中所含成分移行至偏光片層之情形加以抑制。咸認為此係由於在相位差層中所含成分停留在樹脂層而成為不容易移行至偏光片層之主要原因。因而，本發明的一態樣之偏光板即便在濕熱環境下亦可保持較高的偏光度。
因此，可確認本發明為有用。
1‧‧‧偏光板
11‧‧‧保護層
12‧‧‧偏光片層
12a‧‧‧偏光片層的一面
12b‧‧‧偏光片層的另一面
13‧‧‧樹脂層
13a‧‧‧樹脂層的一面
13b‧‧‧樹脂層的另一面
14‧‧‧第1黏著劑層
15‧‧‧第2黏著劑層
16‧‧‧相位差層
16b‧‧‧相位差層的面
19‧‧‧配向層
19b‧‧‧配向層的面

Claims (11)

  1. 一種偏光板，係包含偏光片層、相位差層、及配置在前述偏光片層與前述相位差層之間之樹脂層，前述相位差層係將液晶組成物的硬化物作為形成材料，前述樹脂層係由含有(甲基)丙烯酸系樹脂及分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基氧基之多官能(甲基)丙烯酸酯單體之樹脂組成物的反應生成物所構成，依據ISO14577而測定之前述樹脂層的馬氏硬度為160N/mm2以上500N/mm2以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中前述相位差層為賦予1/4波長的相位差之層。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板，其中前述樹脂層的斷裂荷重係500g以上2000g以下。
  4. 一種偏光板，係包含偏光片層、第1相位差層、配置在前述偏光片層與前述第1相位差層之間之樹脂層、及將前述偏光片層作為基準而配置在前述樹脂層側之第2相位差層，前述第1相位差層係將第1液晶組成物的硬化物作為形成材料，前述第2相位差層係將第2液晶組成物的硬化物作為形成材料，前述樹脂層係由含有(甲基)丙烯酸系樹脂及分子內具有3個以上的(甲基)丙烯醯基氧基之多官能(甲基)丙烯酸酯單體之樹脂組成物的反應生成物所構成，依據ISO14577而測定之樹脂層的馬氏硬度為160N/mm2以上500N/mm2以下。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之偏光板，其中前述第1相位差層為 將在面內之慢軸方向的折射率設為nx、將在面內之與前述慢軸方向正交之方向的折射率設為ny、將在厚度方向之折射率設為nz時，滿足nz>nx≧ny的關係之層。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之偏光板，其中前述第2相位差層係配置在前述樹脂層與前述第1相位差層之間並與前述樹脂層接觸。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之偏光板，其中前述第2相位差層係配置在前述樹脂層與前述偏光片層之間並與前述樹脂層接觸。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之偏光板，其中前述樹脂層係與前述第1相位差層接觸。
  9. 如申請專利範圍第4至8項中任一項所述之偏光板，其中前述第2相位差層為賦予1/4波長的相位差之層。
  10. 如申請專利範圍第4至8項中任一項所述之偏光板，其中前述樹脂層的斷裂荷重係500g以上2000g以下。
  11. 一種有機電致發光顯示裝置，係具備有機電致發光顯示元件、及配置在前述有機電致發光顯示元件的觀看側之如申請專利範圍第1至10項中任一項所述之偏光板。
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