TWI529498B - 微透鏡曝光裝置 - Google Patents

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Description

微透鏡曝光裝置
本發明係有關使用微透鏡陣列的曝光裝置。
以往，使用微透鏡陣列的曝光裝置係使用作雷射退火裝置，並且使用為用於光微影技術的曝光裝置。該雷射退火裝置對非晶矽膜照射雷射光，而利用雷射光的熱使非晶矽膜熔融凝固，藉以將非晶矽膜改質成多晶矽膜；該光微影技術係將光罩影像投影曝光在光阻膜，然後藉由顯影處理來形成光阻圖案(專利文獻1)。
圖6係顯示習知使用微透鏡陣列之投影曝光型曝光裝置的剖面圖。基板1上形成有光阻膜2，且該基板1係輸送到微透鏡曝光裝置的下方。於習知的微透鏡曝光裝置中，設有二維地配置多數之微透鏡3a而形成的微透鏡陣列3，且該微透鏡陣列3的上方配置有光罩4。又，微透鏡陣列3由透明石英基板所形成，且該微透鏡陣列3的底面加工有微透鏡3a。光罩4係於透明基板之底面接合有Cr膜5而構成，且該Cr膜5在與各微透鏡3a對正之位置形成有供雷射光通過的孔部5a。該光罩4之除孔部5a以外的部分由Cr膜5所覆蓋，而成為用來阻斷雷射光通過的遮光部分。又，該光罩4與微透鏡陣列3二者係利用固定構件6固定成具有一定的間隔。而且，微透鏡陣列3及光罩4可利用適當的驅動裝置而在光軸方向上移動，且可調整與基板1之間的距離。
如此所構成之習知的微透鏡曝光裝置中，當將曝光用雷射光照射到光罩4上時，通過光罩4之孔部5a的雷射光會入射到微透鏡陣列3的各微透鏡3a，而被各微透鏡3a收斂到基板1上的光阻膜2。又，該孔部5a形成有欲投影的圖案，在雷射光透射過孔部5a而照射到光阻膜2時，該圖案便投影到光阻膜2。
為使得通過該微透鏡3a的雷射光收斂到基板1之表面上的光阻膜2，必須使基板1與微透鏡陣列3之間的間隙G與微透鏡3a的焦點位置一致，而必須控制該間隙G。習知的投影曝光型曝光裝置係對於光罩4表面與基板1表面之間的距離進行測定，並將該距離設定於既定值，藉以控制該間隙G。然而，由於形成有微透鏡的石英基板之厚度因製造條件而異，故以往對於基板1與微透鏡3a之間的間隙G，實際上並未進行控制。因此，習知的曝光裝置係於將光罩4表面與基板1表面之間的距離設定在既定值後，試著進行曝光、顯影，再利用顯微鏡來觀察所得到的圖案，藉以檢查該基板1上的光阻膜2是否位在微透鏡3a的聚焦位置；且於基板1並不位在微透鏡3a之聚焦位置的情形，調整該光罩4及微透鏡陣列3的位置，並再度實施曝光、顯影及顯微鏡觀察以確認聚焦位置，而作嘗試錯誤，藉以進行對焦調整。於是，習知的曝光裝置在間隙G的控制上非常麻煩。
因此，專利文獻1提出以良好精度對準於焦點位置為目的之影像曝光裝置。於該影像曝光裝置，有別於影像曝光用微透鏡而另外設有焦點位置檢測用微透鏡，並使得來自光源的雷射光也透射過焦點位置檢測用微透鏡，而成像在光阻膜上的成像位置。並且，利用相機來拍攝該圖像，並在光軸方向上調整微透鏡陣列的位置以將攝影影像焦點對好。
【專利文獻1】日本特開2007-3829號公報
然而如圖6所示，上述習知技術中，在微透鏡陣列3之上方以與微透鏡陣列3隔開既定間隔之方式配置有光罩4的曝光裝置，並不調整微透鏡陣列3與基板1之間的間隔。亦即，於圖6所示之習知的曝光裝置中，無法適用上述專利文獻1之間隙G的調整方法。換言之，由於專利文獻1之曝光裝置並不存在有光罩4，而能夠直接檢測出微透鏡陣列之表面的位置，因此欲調整該微透鏡陣列與基板表面之間的間隙，並不困難。
本發明係有鑑於此問題點所設計，其目的為：針對微透鏡陣列與光罩隔開既定間隔而固定的曝光裝置，提供微透鏡曝光裝置，其可輕易地以高精度將微透鏡陣列與曝光用基板之間的間隙調整到微透鏡的聚焦位置。
依本發明之第1微透鏡曝光裝置包含：微透鏡陣列，一維或二維地配置有微透鏡；光罩，在與各微透鏡對應之位置設有雷射光的透射孔；及固定部，將該微透鏡陣列與該光罩以既定間隔加以固定；該第1微透鏡曝光裝置的特徵為：具有：檢查用微透鏡，設於該微透鏡陣列，且形成與該微透鏡相同的形狀；檢查用孔部，設在該光罩中之與該檢查用微透鏡對應的位置；檢查用光照射部，設於該光罩的上方，將焦點位置對準於該檢查用孔部的檢查用光，經由該檢查用孔部及該檢查用微透鏡而照射到曝光對象的基板；及顯微鏡，用來觀察該基板上之該檢查用光的影像；且將該微透鏡陣列及該光罩在光軸上的位置調整成使得該顯微鏡所觀察到的影像聚焦。
於此情形，也可在該檢查用孔部設置檢查用記號，利用該顯微鏡來觀察該基板的影像、及設在該檢查用孔部之該檢查用記號的影像，並將該微透鏡陣列及該光罩在光軸上的位置調整成使得雙方的影像聚焦。
依本發明之第2微透鏡曝光裝置包含：微透鏡陣列，一維或二維地配置有微透鏡；光罩，在與各微透鏡對應之位置設有雷射光的透射孔；及固定部，將該微透鏡陣列與該光罩以既定間隔加以固定；該第2微透鏡曝光裝置的特徵為：具有：檢查用微透鏡，設於該微透鏡陣列，且形成與該微透鏡相同的形狀；檢查用孔部，設在該光罩中之與該檢查用微透鏡對應的位置；檢查用光照射部，設於該光罩的上方，將焦點位置對準於該檢查用孔部的檢查用光，經由該檢查用孔部及該檢查用微透鏡而照射到曝光對象的基板；及光感測器，用來檢測出該基板所反射之該檢查用光的光量；且將該微透鏡陣列及該光罩在光軸上的位置調整成使得該光感測器所檢測到的光量成為最大。
依本發明之第3微透鏡曝光裝置包含：微透鏡陣列，一維或二維地配置有微透鏡；光罩，在與各微透鏡對應之位置設有雷射光的透射孔；及固定部，將該微透鏡陣列與該光罩以既定間隔加以固定；該第3微透鏡曝光裝置的特徵為：具有：檢查用微透鏡，設於該微透鏡陣列，且形成與該微透鏡相同的形狀；檢查用孔部，設在該光罩中之與該檢查用微透鏡對應的位置；檢查用光照射部，對於設在曝光對象的圖案，照射平行光的檢查用光，使得透射過該圖案的影像入射到該檢查用微透鏡；及顯微鏡，用來觀察該透射過圖案的影像；且將該微透鏡陣列及該光罩在光軸上的位置調整成使得該顯微鏡所觀察到的影像聚焦。
於此情形，也可在該檢查用孔部設置檢查用記號，利用該顯微鏡來觀察該透射過圖案的影像、及透射過設在該檢查用孔部之該檢查用記號的影像，並將該微透鏡陣列及該光罩在光軸上的位置調整成使得雙方的影像聚焦。
依本發明之第4微透鏡曝光裝置包含：微透鏡陣列，一維或二維地配置有微透鏡；光罩，在與各微透鏡對應之位置設有雷射光的透射孔；及固定部，將該微透鏡陣列與該光罩以既定間隔加以固定；該第4微透鏡曝光裝置的特徵為：具有：檢查用微透鏡，設於該微透鏡陣列，且形成與該微透鏡相同的形狀；檢查用孔部，設在該光罩中之與該檢查用微透鏡對應的位置；檢查用光照射部，對於設在曝光對象的圖案，照射平行光的檢查用光，使得透射過該圖案的影像入射到該檢查用微透鏡；及光感測器，用來檢測出透射過該圖案之該檢查用光的光量；且將該微透鏡陣列及該光罩在光軸上的位置調整成使得該光感測器所檢測到的光量成為最大。
依本發明，由於將聚焦在光罩所設有之檢查用孔部的檢查用光，經由檢查用微透鏡而照射到曝光基板，並將該微透鏡陣列與該基板的間隔調整成使得：顯微鏡所觀察到之檢查用光在基板上的影像聚焦，或者光感測器所檢測到之該檢查用光於該基板的反射光之光量成為最大，因此可極輕易且高精度地將該微透鏡的位置調整到聚焦位置。
(實施發明之最佳形態)
以下，參照附加圖式，具體說明本發明之實施形態。圖1係顯示依本發明之第1實施形態的微透鏡曝光裝置之示意圖。圖1中，與圖6相同的構成物係標註相同符號，而省略其詳細說明。本實施形態中，於微透鏡陣列3中的端部，在與微透鏡3a所構成之曝光區域脫離的位置設有檢查用微透鏡3b，而且在光罩4之Cr膜5中之與微透鏡3b對正的位置設有較孔部5a小的孔部5b。又，孔部5a形成有欲投影的圖案，在雷射光透射過孔部5a而照射到光阻膜2時，該圖案便投影到光阻膜2。另外，在光罩4之上方，相對於光罩4及微透鏡陣列3而固定設置有顯微鏡10。該顯微鏡10的焦點位置為光罩4之孔部5b的位置，於透射過微透鏡陣列3之微透鏡3a的雷射光成像在基板1上之光阻膜2時，透射過微透鏡3b的光也會成像在基板1上之光阻膜2。因此，藉由先在光阻膜2設置記號(未圖示)，而從顯微鏡10觀察該記號，若在顯微鏡10中所觀察到之記號的焦點對正，則光阻膜2在光軸上的位置便位於顯微鏡10之聚焦點的位置。又，本實施形態中，微透鏡陣列3及光罩4同樣可利用適當的驅動裝置而在光軸方向上移動，且可調整與基板1之間的距離。但是，由於顯微鏡10相對於微透鏡陣列3及光罩4而固定配置，因此來自顯微鏡10之光的焦點位置並不會從光罩4之Cr膜5的孔部5b之位置脫離。又，顯微鏡10為 落射式顯微鏡，且來自光源的光從接物透鏡出來，成為平行光，而照射到基板上(光阻膜2上)，來自基板(光阻膜)的反射光被微透鏡3b匯聚於檢查用孔部5b，然後以與出射光同軸之方式從接物透鏡入射，而觀察該入射光。來自該接物透鏡的入射光還可利用相機等加以拍攝。因此，本實施形態中，落射顯微鏡兼作為檢查用光的光源與影像觀察用顯微鏡。
如此構成之第1實施形態的微透鏡曝光裝置中，利用微透鏡陣列3之微透鏡3a來將基板1上的光阻膜2曝光。此時，平行光的落射照明光從顯微鏡10朝檢查用孔部5b出射，該落射照明光匯聚於Cr膜5的孔部5b，並通過該孔部5b而朝微透鏡陣列3照射，被微透鏡3b成像在光阻膜2。該反射光則被微透鏡3b成像在孔部5b的位置，並通過該孔部5b而入射到顯微鏡10。此時，於入射至顯微鏡10之來自光阻膜2的反射光已聚焦在光阻膜2上的情形，顯微鏡10所觀察到之圖像也會是聚焦的圖像。於是，透射過曝光區域之微透鏡3a的雷射光也將聚焦在光阻膜2上。
因此，於顯微鏡10所觀察到之光阻膜2的影像並非聚焦影像時，只要用適當的驅動裝置使微透鏡陣列3及光罩4與顯微鏡10一同在光軸方向上移動，並利用顯微鏡10觀察影像，來尋找出該影像會聚焦之光軸上的位置即可。藉此，可輕易且高精度地將曝光裝置的間隙G調整到既定之聚焦位置。
又，如圖4(a)、4(b)所示，也可在檢查用孔部5b設置檢查用記號22。於圖4(b)之剖面圖所示的曝光裝置中，在檢查用孔部5b內形成有檢查用記號22，並且在基板1之表面上的光阻膜2上設有基板圖案21。另外，落射照明光的平行光透射過孔部5b後，被微透鏡3b收斂而匯聚於基板圖案21。於此情形下，如圖4(a)所示，基板圖案21係設於微透鏡3b的視野區域20之中心的例如圓形之圖案，檢查用記號22則從視野區域20之中心往4個方向延伸成放射狀，而呈線段狀形成在微透鏡3b之視野區域20的外側。
再來，利用顯微鏡10同時觀察：基板1之光阻膜2上的圖案21的影像、與設在檢查用孔部5b之檢查用記號22的影像，並將微透鏡陣列3及光罩4在光軸上的位置調整成使得雙方的影像聚焦。藉此，可提高聚焦點的精度。圖1所示之實施形態中，在來自顯微鏡10之檢查用光可匯聚於孔部5b的位置，機械性地固定有顯微鏡10與光罩4。然而，圖4所示之變形例中，雖然最終會將顯微鏡10與光罩4二者固定，但是可先藉由對準檢查用記號22的焦點，而調整顯微鏡10與光罩4的位置關係後，才將二者固定，然後調整微透鏡陣列3及光罩4與基板1的間隔，俾於聚焦在基板上的基板圖案21。
又，如上所述，形成於基板1上之光阻膜2之面的記號(圖案21)為例如圓形的點狀記號，而形成於光罩4之檢查用孔部5b的記號(檢查用記號22)為延伸成放射狀之線段狀的記號，但該等圖案21及檢查用記號22並不限於上述形狀，係屬當然。但是，形成於檢查用孔部5b的檢查用記號22必須設在與微透鏡3b之視野區域20脫離的位置。當檢查用記號22位在微透鏡3b之視野區域內時，會對於從顯微鏡10朝微透鏡3b照射之平行光的落射照明光進行遮光，而使得照射至基板1之光阻膜2上的照明光之光量下降。
接著，說明本發明之第2實施形態。圖2係顯示本實施形態的剖面圖。本實施形態設有光感測器11，來取代第1實施形態的顯微鏡10。該光感測器11也相對於微透鏡陣列3及光罩4而固定設置，而且從光感測器11，有焦點位置對準於孔部5b的光朝向微透鏡3b照射。
再來，說明本實施形態的動作。來自光感測器11的光匯聚於孔部5b後，放大而入射到微透鏡3b，進一步被微透鏡3b收斂，而照射到基板1上的光阻膜2上。該光阻膜2所反射的光經由微透鏡3b及孔部5b，而被光感測器11檢測出其光量。此時，於該光已聚焦在光阻膜2上的情形，其反射光匯聚於孔部5b後，便入射到光感測器11。於是，該檢測光量大。相對於此，於入射至光阻膜2之光並未聚焦在光阻膜2上的情形，因為其反射光不匯聚於孔部5b，而形成擴散的狀態，故其一部分被孔部5b之周圍的Cr膜5遮光，而不會入射到光感測器11。於是此時，光感測器11的檢測光量下降。因此，於利用光感測器11對反射光之光量作測定的情形，該檢測光量最大時，係透射過微透鏡陣列3之微透鏡3a、3b的光聚焦於光阻膜2上的狀態。於是，只要將微透鏡陣列3及光罩4在光軸上的位置調整成使得光感測器11的檢測光量成為最大，即可輕易且高精度地將微透鏡陣列3與基板1之間的間隙G調整到既定值。
接下來，說明本發明之第3實施形態。圖3係顯示本實施形態的剖面圖。本實施形態使用透射式顯微鏡13，來取代第1實施形態的落射式顯微鏡10。又，基板12為透明基板，且在光阻膜2之應匯聚的位置形成有圖案14。另外，平行光從該透明基板12之下方朝圖案14照射。
圖案14具有圓形或紋路等之形狀，且從透明基板12之下方照射過來的平行光通過該圖案14，而由微透鏡3b將圖案14的圖像予以成像在孔部5b的位置。
再來，說明如此構成之微透鏡曝光裝置的動作。將平行光從透明基板12之下方朝圖案14照射時，透射過該圖案14的光被微透鏡3b收斂，而成像在孔部5b的位置，進一步經由透射式顯微鏡13的接物透鏡，入射到透射式顯微鏡13內。藉由對於入射至該透射式顯微鏡13之圖案14的圖像進行觀察，來辨別間隙G是否位於既定之焦點位置。亦即，於間隙G為微透鏡3b之焦點距離的情形，圖案14的圖像會被微透鏡3b聚焦在孔部5b的位置。如此一來，入射至透射式顯微鏡13之接物透鏡的圖案透射光，會被透射式顯微鏡13之接目透鏡觀察到形成聚焦，或者成像於相機的CCD(電荷耦合元件)。但是，若間隙G並非既定之焦點距離，則透射過圖案14的光不會由微透鏡3b聚焦在孔部5b，而被觀察出係不聚焦於透射式顯微鏡13的影像。如此藉由以透射式顯微鏡13觀察光阻膜2上的圖案14而調整間隙G，可將該間隙G調整成使得微透鏡3a之焦點位置位於光阻膜2上。
圖5(a)、5(b)與圖4相同，在透明基板12上之光阻膜2上設置基板圖案21，並且在檢查用孔部5b內設有檢查用記號23，係圖3之第3實施形態的變形例。但是，於本變形例的情形，即便是在微透鏡3b之視野區域20內也設置檢查用孔部5b內的檢查用記號23。基板圖案21係例如配置於微透鏡3b的視野區域20之中心的圓形圖案，檢查用記號23係例如以基板圖案21為中心而從往4個方向延伸成放射狀的線段狀圖案。
本變形例中，從透明基板12之下方側照射過來之平行光的透射照明光，被基板12上之光阻膜2上的基板圖案21遮光而入射到微透鏡3b，使圖案21的圖像被微透鏡3b收斂，而聚焦於檢查用孔部5b。然後，該圖案21的圖像經由接物透鏡入射到透射式顯微鏡13，並且由微距鏡頭觀察之，或者被相機拍攝下來。另一方面，位在微透鏡3b之視野區域內的檢查用記號23也受到透射照明光的照射，使檢查用記號23的圖像也入射到透射式顯微鏡13。
另外，本變形例中，同樣利用顯微鏡13同時觀察：基板12之光阻膜2上的圖案21的影像、與設在檢查用孔部5b之檢查用記號23的影像，並將微透鏡陣列3及光罩4在光軸上的位置調整成使得雙方的影像聚焦。藉此，可提高聚焦點的精度。又，於本變形例的情形，因為藉由從基板12之背面照射的透射照明，來判斷基板圖案21及檢查用記號23的圖像是否聚焦，於是檢查用記號23可形成在微透鏡3b的視野區域內。
又，圖3所示之實施形態中，也可不利用透射式顯微鏡13來觀察影像的聚焦點，而與圖2所示之實施形態相同，採用光感測器對檢測光量作測定，以判斷間隙G是否與微透鏡3a的焦點距離一致。可從透明基板12之下方照射平行光，使得透射過圖案14的光被微透鏡3b收斂，並將通過孔部5b的光引導至光感測器11(參照圖2)，而依照光感測器11是否可得到最大光量，來辨別間隙G是否位於既定之焦點位置。只要間隙G為既定之焦點距離，使來自微透鏡3a的雷射光聚焦於光阻膜2上，則從透明基板12之下方照射到圖案14而透射過圖案14的光便會由微透鏡3b匯聚於孔部5b，使其幾乎所有的光量通過小的孔部5b，而被光感測器11檢測到。但是，於間隙G從焦點位置偏離的情形，透射過圖案 14的光不會被微透鏡3b聚焦於孔部5b，而擴散到孔部5b周圍之Cr膜5的部分，使得通過小的孔部5b之光的光量下降。因此，於利用光感測器11對光量作測定，並使光罩4及微透鏡陣列3在光軸方向上移動，而使該檢測光量成為最大的狀態時，間隙G與微透鏡3a之焦點距離一致，而微透鏡3a所收斂的雷射光會聚焦於光阻膜2上。
上述各實施形態係有關將既定之圖案曝光在光阻膜的曝光裝置，但本發明也可適用於如下之退火裝置，其藉由以雷射光對非晶矽膜進行曝光而予以退火，來形成低溫多晶矽膜。
【產業上利用性】
本發明於使用微透鏡陣列的曝光裝置中，對於以高精度將微透鏡陣列與曝光用基板間之間隙調整到微透鏡聚焦位置的對焦調整，明顯有助於其便利化。
1‧‧‧基板
2‧‧‧光阻膜
3‧‧‧微透鏡陣列
3a、3b‧‧‧微透鏡
4‧‧‧光罩
5‧‧‧Cr膜
5a、5b‧‧‧孔部
6‧‧‧固定構件
10‧‧‧顯微鏡(落射式)
11‧‧‧光感測器
12‧‧‧透明基板
13‧‧‧透射式顯微鏡
14、21‧‧‧圖案
20‧‧‧視野區域
22、23‧‧‧檢查用記號
G‧‧‧間隙
圖1係顯示本發明之第1實施形態的微透鏡曝光裝置之剖面圖。
圖2係顯示本發明之第2實施形態的微透鏡曝光裝置之剖面圖。
圖3係顯示本發明之第3實施形態的微透鏡曝光裝置之剖面圖。
圖4(a)、4(b)係顯示第1實施形態的變形例。
圖5(a)、5(b)係顯示第3實施形態的變形例。
圖6係顯示習知微透鏡曝光裝置的剖面圖。
1．．．基板
2．．．光阻膜
3．．．微透鏡陣列
3a、3b．．．微透鏡
4．．．光罩
5．．．Cr膜
5a、5b．．．孔部
6．．．固定構件
10．．．顯微鏡(落射式)
G．．．間隙

Claims (6)

  1. 一種微透鏡曝光裝置，包含：微透鏡陣列，一維或二維地配置有微透鏡；光罩，在與各微透鏡對應之位置設有雷射光的透射孔；及固定部，將該微透鏡陣列與該光罩以互相隔離之既定間隔加以固定；其特徵在於：具有：檢查用微透鏡，設於該微透鏡陣列，且形成與該微透鏡相同的形狀；檢查用孔部，設在該光罩中之與該檢查用微透鏡對應的位置；檢查用光照射部，設於該光罩的上方，將焦點位置對準於該檢查用孔部的檢查用光，經由該檢查用孔部及該檢查用微透鏡而照射到曝光對象的基板；及顯微鏡，用來觀察該基板上之該檢查用光的影像；且將該微透鏡陣列及該光罩在光軸上的位置調整成使得該顯微鏡所觀察到的影像聚焦。
  2. 如申請專利範圍第1項之微透鏡曝光裝置，其中，在該檢查用孔部設有檢查用記號，利用該顯微鏡來觀察該基板的影像、及設在該檢查用孔部之該檢查用記號的影像，並將該微透鏡陣列及該光罩在光軸上的位置調整成使得雙方的影像聚焦。
  3. 一種微透鏡曝光裝置，包含：微透鏡陣列，一維或二維地配置有微透鏡；光罩，在與各微透鏡對應之位置設有雷射光的透射孔；及固定部，將該微透鏡陣列與該光罩以互相隔離之既定間隔加以固定；其特徵在於：具有：檢查用微透鏡，設於該微透鏡陣列，且形成與該微透鏡相同的形狀；檢查用孔部，設在該光罩中之與該檢查用微透鏡對應的位置；檢查用光照射部，設於該光罩的上方，將焦點位置對準於該 檢查用孔部的檢查用光，經由該檢查用孔部及該檢查用微透鏡而照射到曝光對象的基板；及光感測器，用來檢測出該基板所反射之該檢查用光的光量；且將該微透鏡陣列及該光罩在光軸上的位置調整成使得該光感測器所檢測到的光量成為最大。
  4. 一種微透鏡曝光裝置，包含：微透鏡陣列，一維或二維地配置有微透鏡；光罩，在與各微透鏡對應之位置設有雷射光的透射孔；及固定部，將該微透鏡陣列與該光罩以互相隔離之既定間隔加以固定；其特徵在於：具有：檢查用微透鏡，設於該微透鏡陣列，且形成與該微透鏡相同的形狀；檢查用孔部，設在該光罩中之與該檢查用微透鏡對應的位置；檢查用光照射部，對於設在曝光對象的圖案，照射平行光的檢查用光，使得透射過該圖案的影像入射到該檢查用微透鏡；及顯微鏡，用來觀察該透射過圖案的影像；且將該微透鏡陣列及該光罩在光軸上的位置調整成使得該顯微鏡所觀察到的影像聚焦。
  5. 如申請專利範圍第4項之微透鏡曝光裝置，其中，在該檢查用孔部設有檢查用記號，利用該顯微鏡來觀察該透射過圖案的影像、及透射過設在該檢查用孔部之該檢查用記號的影像，並將該微透鏡陣列及該光罩在光軸上的位置調整成使得雙方的影像聚焦。
  6. 一種微透鏡曝光裝置，包含：微透鏡陣列，一維或二維地配置有微透鏡；光罩，在與各微透鏡對應之位置設有雷射光的透射孔；及固定部，將該微透鏡陣列與該光罩以互相隔離之既定間隔加以固定；其特徵在於： 具有：檢查用微透鏡，設於該微透鏡陣列，且形成與該微透鏡相同的形狀；檢查用孔部，設在該光罩中之與該檢查用微透鏡對應的位置；檢查用光照射部，對於設在曝光對象的圖案，照射平行光的檢查用光，使得透射過該圖案的影像入射到該檢查用微透鏡；及光感測器，用來檢測出透射過該圖案之該檢查用光的光量；且將該微透鏡陣列及該光罩在光軸上的位置調整成使得該光感測器所檢測到的光量成為最大。
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