KR100808435B1 - 광학적 위치어긋남 검출장치 - Google Patents
광학적 위치어긋남 검출장치 Download PDFInfo
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- 제 1 마크 상에 제 2 마크가 형성되어 이루어진 측정 마크에서의 상기 제 1 마크와 상기 제 2 마크의 중첩위치어긋남을 광학적으로 검출하는 장치로서,상기 측정 마크를 조명하는 조명광학계,상기 측정 마크로부터의 반사광을 집광하여 상기 측정 마크의 이미지를 결상시키는 결상광학계,상기 결상광학계에 의해 결상된 상기 측정 마크의 이미지를 촬영하는 촬상장치,상기 촬상장치에 의해 얻은 화상신호를 처리하여 상기 제 1 마크와 상기 제 2 마크의 중첩위치어긋남을 측정하는 화상처리장치, 및상기 촬상장치로 상기 측정 마크의 이미지를 촬상하기 위한 시야영역을 조정하는 시야영역 조정기구를 구비하고,상기 시야영역 조정기구는, 상기 조명광학계에 설치된 시야조리개, 상기 시야조리개의 위치를 조정하는 시야조리개 위치조정기구 및 상기 촬상장치의 위치를 조정하는 촬상위치 조정기구로 이루어지고,상기 시야조리개와 상기 촬상장치에서의 촬상면이 광학적으로 공액인 위치에 배치되어 있으며, 상기 시야조리개 위치조정기구에 의한 상기 시야조리개의 위치조정에 따라 상기 촬상위치 조정기구에 의한 상기 촬상장치의 위치조정을 하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 광학적 위치어긋남 검출장치.
- 제 1 마크 상에 제 2 마크가 형성되어 이루어진 측정 마크에서의 상기 제 1 마크와 상기 제 2 마크의 중첩위치어긋남을 광학적으로 검출하는 장치로서,상기 측정 마크를 조명하는 조명광학계,상기 측정 마크로부터의 반사광을 집광하여 상기 측정 마크의 이미지를 결상시키는 결상광학계,상기 결상광학계에 의해 결상된 상기 측정 마크의 이미지를 촬영하는 촬상장치,상기 촬상장치에 의해 얻은 화상신호를 처리하여 상기 제 1 마크와 상기 제 2 마크의 중첩위치어긋남을 측정하는 화상처리장치, 및상기 촬상장치로 상기 측정 마크의 이미지를 촬상하기 위한 시야영역을 조정하는 시야영역 조정기구를 구비하고,상기 시야영역 조정기구는, 상기 촬상장치의 시야영역내에 L/S 마크 이미지를 결상시켰을 때의 상기 L/S 마크 이미지의 비대칭성의 포커스 특성 곡선에 따라 시야영역을 조정하는 것을 특징으로 하는 광학적 위치어긋남 검출장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 시야영역 조정기구는, 상기 촬상장치의 시야영역내에 L/S 마크 이미지를 결상시켰을 때의 상기 L/S 마크 이미지의 비대칭성의 포커스 특성 곡선이 시야 중심에 대하여 대칭으로 되는 특성을 갖도록 시야영역을 조정하는 것을 특징으로 하는 광학적 위치어긋남 검출장치.
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US20040227944A1 (en) * | 2003-02-28 | 2004-11-18 | Nikon Corporation | Mark position detection apparatus |
US7142314B2 (en) * | 2003-11-19 | 2006-11-28 | Wafertech, Llc | Wafer stage position calibration method and system |
US7218399B2 (en) * | 2004-01-21 | 2007-05-15 | Nikon Corporation | Method and apparatus for measuring optical overlay deviation |
JP2006126078A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Nikon Corp | マーク位置検出装置及び設計方法及び評価方法 |
JP2006123375A (ja) * | 2004-10-29 | 2006-05-18 | Pentel Corp | ボールペン |
JP4661333B2 (ja) * | 2005-05-09 | 2011-03-30 | 株式会社ニコン | 結像光学系の評価方法および位置検出装置 |
JP4944690B2 (ja) * | 2007-07-09 | 2012-06-06 | キヤノン株式会社 | 位置検出装置の調整方法、位置検出装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP5385652B2 (ja) * | 2009-03-24 | 2014-01-08 | キヤノン株式会社 | 位置検出装置、露光装置、位置検出方法、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2011022309A (ja) * | 2009-07-15 | 2011-02-03 | Nsk Ltd | 露光装置の制御方法 |
JP5840584B2 (ja) * | 2012-09-06 | 2016-01-06 | 株式会社東芝 | 露光装置、露光方法および半導体装置の製造方法 |
SG11201502436SA (en) * | 2012-09-28 | 2015-04-29 | Rudolph Technologies Inc | Inspection of substrates using calibration and imaging |
CN103424076B (zh) * | 2013-08-20 | 2016-01-20 | 国家电网公司 | 一种数码照片的比例标记尺及其标记方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4668077A (en) * | 1984-07-05 | 1987-05-26 | Nippon Kogaku K. K. | Projection optical apparatus |
KR960035165A (ko) * | 1995-03-23 | 1996-10-24 | 오노 시게오 | 얼라인먼트 방법 및 장치 |
US6023338A (en) * | 1996-07-12 | 2000-02-08 | Bareket; Noah | Overlay alignment measurement of wafers |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61183928A (ja) * | 1985-02-12 | 1986-08-16 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 投影光学装置 |
JP3050498B2 (ja) * | 1994-10-17 | 2000-06-12 | 日立電子エンジニアリング株式会社 | 位置ずれ量測定光学系の調整方法および位置ずれ量測定装置 |
US5754299A (en) | 1995-01-13 | 1998-05-19 | Nikon Corporation | Inspection apparatus and method for optical system, exposure apparatus provided with the inspection apparatus, and alignment apparatus and optical system thereof applicable to the exposure apparatus |
US5920398A (en) * | 1996-03-01 | 1999-07-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Surface position detecting method and scanning exposure method using the same |
US6081385A (en) * | 1997-07-09 | 2000-06-27 | Minolta Co., Ltd. | Optical system design and production method |
WO1999040613A1 (fr) * | 1998-02-09 | 1999-08-12 | Nikon Corporation | Procede de reglage d'un detecteur de position |
JP3994209B2 (ja) * | 1998-08-28 | 2007-10-17 | 株式会社ニコン | 光学系の検査装置および検査方法並びに該検査装置を備えた位置合わせ装置および投影露光装置 |
JP3513031B2 (ja) * | 1998-10-09 | 2004-03-31 | 株式会社東芝 | アライメント装置の調整方法、収差測定方法及び収差測定マーク |
JP4457461B2 (ja) * | 2000-02-29 | 2010-04-28 | 株式会社ニコン | 重ね合わせ測定装置および方法 |
-
2000
- 2000-07-10 JP JP2000208634A patent/JP4725822B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-07-05 US US09/897,904 patent/US6885450B2/en not_active Expired - Lifetime
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4668077A (en) * | 1984-07-05 | 1987-05-26 | Nippon Kogaku K. K. | Projection optical apparatus |
KR960035165A (ko) * | 1995-03-23 | 1996-10-24 | 오노 시게오 | 얼라인먼트 방법 및 장치 |
US6023338A (en) * | 1996-07-12 | 2000-02-08 | Bareket; Noah | Overlay alignment measurement of wafers |
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