JP3050498B2 - 位置ずれ量測定光学系の調整方法および位置ずれ量測定装置 - Google Patents
位置ずれ量測定光学系の調整方法および位置ずれ量測定装置Info
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- JP3050498B2 JP3050498B2 JP6277124A JP27712494A JP3050498B2 JP 3050498 B2 JP3050498 B2 JP 3050498B2 JP 6277124 A JP6277124 A JP 6277124A JP 27712494 A JP27712494 A JP 27712494A JP 3050498 B2 JP3050498 B2 JP 3050498B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、ウエハ上に形成され
た各種のパターンの相互間の位置ずれ量、いわゆるレジ
ストレーションを測定する位置ずれ量測定装置の測定光
学系の調整方法および位置ずれ量測定装置に関し、詳し
くは、ある半導体製造工程において、マスク等を介して
露光により形成されたレジストパターンとその１つ前の
工程ですでに形成されたいるエッチングされたパターン
との位置ずれ量を高精度に測定することができるような
位置ずれ量測定装置の測定光学系の調整方法に関する。
た各種のパターンの相互間の位置ずれ量、いわゆるレジ
ストレーションを測定する位置ずれ量測定装置の測定光
学系の調整方法および位置ずれ量測定装置に関し、詳し
くは、ある半導体製造工程において、マスク等を介して
露光により形成されたレジストパターンとその１つ前の
工程ですでに形成されたいるエッチングされたパターン
との位置ずれ量を高精度に測定することができるような
位置ずれ量測定装置の測定光学系の調整方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ＩＣの製造においては、表面が平
滑なサブストレートのウエハに対して、各種のパターン
が形成される。これらのパターンは相互間の位置が正確
に形成されることが必要であるので、既形成パターンと
次に形成するパターンとの間で、その相互間の位置ずれ
量、いわゆるレジストレーションが精密に測定されてい
る。１６Ｍから６４Ｍ、２５６ＭとＤＲＡＭの記憶容量
の飛躍的な増加に対応して、この位置ずれ量の測定検査
はますます重要となってきている。
滑なサブストレートのウエハに対して、各種のパターン
が形成される。これらのパターンは相互間の位置が正確
に形成されることが必要であるので、既形成パターンと
次に形成するパターンとの間で、その相互間の位置ずれ
量、いわゆるレジストレーションが精密に測定されてい
る。１６Ｍから６４Ｍ、２５６ＭとＤＲＡＭの記憶容量
の飛躍的な増加に対応して、この位置ずれ量の測定検査
はますます重要となってきている。
【０００３】高密度の記憶容量を持つＤＲＡＭを製造す
るには、露光装置の検出光学系の調整、そして、検出光
学系の中心とウエハ上の各チップの中心とが高精度に位
置決めされることが重要である。従来のこの位置決め
は、ウエハの面の中心と露光装置の光学系の対物レンズ
の中心、リレーレンズ、そして位置合わせマークを検出
するＣＣＤなどの検出器の中心をレーザ光によりこれら
が一致するように位置合わせしている。
るには、露光装置の検出光学系の調整、そして、検出光
学系の中心とウエハ上の各チップの中心とが高精度に位
置決めされることが重要である。従来のこの位置決め
は、ウエハの面の中心と露光装置の光学系の対物レンズ
の中心、リレーレンズ、そして位置合わせマークを検出
するＣＣＤなどの検出器の中心をレーザ光によりこれら
が一致するように位置合わせしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ＤＲＡＭの記
憶容量が１６Ｍ以上の密度になると、パターンとしての
線幅が０．７μｍ以下になるので、レジストレーション
での許容誤差が１５ｎｍ以下となり、従来の光学系の調
整だけでは、光学系の歪み誤差が影響して求められる精
度が達成できない問題がある。この発明の目的は、この
ような従来技術の問題点を解決するものであって、高精
度に位置ずれ量を測定することができる位置ずれ量測定
光学系の調整方法および位置ずれ量測定装置を提供する
ことにある。
憶容量が１６Ｍ以上の密度になると、パターンとしての
線幅が０．７μｍ以下になるので、レジストレーション
での許容誤差が１５ｎｍ以下となり、従来の光学系の調
整だけでは、光学系の歪み誤差が影響して求められる精
度が達成できない問題がある。この発明の目的は、この
ような従来技術の問題点を解決するものであって、高精
度に位置ずれ量を測定することができる位置ずれ量測定
光学系の調整方法および位置ずれ量測定装置を提供する
ことにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明の位置ずれ量測
定光学系の調整方法の特徴は、視野の中心にその中心が
位置付けられ位置ずれ量測定パターンからの光を受光し
て位置ずれ量を表す検出信号を発生する検出器を有し、
検出信号により位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定装
置における測定光学系の調整方法において、検出器の検
出中心を移動させる移動機構を備えていて、位置ずれ量
測定パターンのずれ量を測定して得たずれ量を第１のず
れ量とし、この位置ずれ量測定パターンを１８０°回転
させてそのずれ量を測定して得たずれ量を第２のずれ量
とし、第１のずれ量と第２のずれ量との差、例えば、こ
の差の１／２を第３のずれ量として得て、この第３のず
れ量に応じて移動機構により検出器の中心を第３のずれ
量に対応する視野分だけ移動させるものである。また、
この発明の位置ずれ量測定装置は、前記の移動機構を第
３のずれ量に応じて制御して検出器の中心を第３のずれ
量に対応する視野分だけ自動的に移動させるものであ
る。
定光学系の調整方法の特徴は、視野の中心にその中心が
位置付けられ位置ずれ量測定パターンからの光を受光し
て位置ずれ量を表す検出信号を発生する検出器を有し、
検出信号により位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定装
置における測定光学系の調整方法において、検出器の検
出中心を移動させる移動機構を備えていて、位置ずれ量
測定パターンのずれ量を測定して得たずれ量を第１のず
れ量とし、この位置ずれ量測定パターンを１８０°回転
させてそのずれ量を測定して得たずれ量を第２のずれ量
とし、第１のずれ量と第２のずれ量との差、例えば、こ
の差の１／２を第３のずれ量として得て、この第３のず
れ量に応じて移動機構により検出器の中心を第３のずれ
量に対応する視野分だけ移動させるものである。また、
この発明の位置ずれ量測定装置は、前記の移動機構を第
３のずれ量に応じて制御して検出器の中心を第３のずれ
量に対応する視野分だけ自動的に移動させるものであ
る。
【０００６】
【作用】このように、同じ位置ずれ量測定パターンを１
８０°回転させてずれ量を測定し、回転前のずれ量との
差、特に差の１／２を採ることにより、光学系の歪みに
影響されないで本来のずれ量に近い値を第３のずれ量と
して得ることができる。その原理については後述する。
そこで、検出器の検出中心を第３のずれ量に対応する視
野分だけ移動させることにより、検出器の検出中心を光
学系の本来の中心に一致させることができる。その結
果、光学系の歪みによる測定誤差がほとんどなくなり、
高精度なずれ量が測定できる。
８０°回転させてずれ量を測定し、回転前のずれ量との
差、特に差の１／２を採ることにより、光学系の歪みに
影響されないで本来のずれ量に近い値を第３のずれ量と
して得ることができる。その原理については後述する。
そこで、検出器の検出中心を第３のずれ量に対応する視
野分だけ移動させることにより、検出器の検出中心を光
学系の本来の中心に一致させることができる。その結
果、光学系の歪みによる測定誤差がほとんどなくなり、
高精度なずれ量が測定できる。
【０００７】
【実施例】図１は、この発明の位置ずれ量測定光学系の
調整方法を適用した一実施例のレジストレーション測定
装置の説明図であり、図２は、光学系中心と検出器の中
心の位置調整処理のフローチャート、図３は、レジスト
レーションパターンの歪み量とずれ量との関係について
の説明図、図４は、視野中心から測定点をずらせてずれ
量を測定する説明図、図５は、図４における測定結果の
一例の説明図、図６は、レジストレーションパターンに
ついての説明図、図７は、ウエハ上のチップおよびレジ
ストレーションパターンの配置と検出器の検出信号につ
いての説明図である。
調整方法を適用した一実施例のレジストレーション測定
装置の説明図であり、図２は、光学系中心と検出器の中
心の位置調整処理のフローチャート、図３は、レジスト
レーションパターンの歪み量とずれ量との関係について
の説明図、図４は、視野中心から測定点をずらせてずれ
量を測定する説明図、図５は、図４における測定結果の
一例の説明図、図６は、レジストレーションパターンに
ついての説明図、図７は、ウエハ上のチップおよびレジ
ストレーションパターンの配置と検出器の検出信号につ
いての説明図である。
【０００８】図６の(a) は、それぞれエッチングパター
ンの内側にレジストパターン３０があるレジストレーシ
ョンパターン（マークパターン）３０の例、(b) は、エ
ッチングパターンの上側にレジストパターンあるレジス
トレーションパターン３０の例、(c) は、レジストパタ
ーンの内側にエッチングパターンがあるレジストレーシ
ョンパターン３０の例である。それぞれ上側がその平面
図、下側がその断面図を示す。これらは、すでに前の工
程において形成されたパターンの一部であるエッチング
パターン３１とこれから形成するパターンに対するレジ
ストパターン３２からなり、相互に正方形の形状をして
いて、いずれか一方が内側に配置される。このような
(a) ，(b) ，(c) の各レジストレーションパターン３０
の１つが、図７(a) に示すように、ウエハ上のあるチッ
プ２４（任意のチップ）の中心に対して対称に４箇所に
レジストレーションパターン（マークパターン）３０
ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄとしてそれぞれ設けられて
いる。これら４つのレジストレーションパターンは、そ
れぞれのチップに対応してその周囲にそれぞれ設けられ
ている。図７(b) は、フォーカス状態でＣＣＤ検出器で
検出されるレジストレーションパターン３０a 、例え
ば、図６の(b) のもののＸ軸方向の検出信号（以下Ｘ軸
検出信号）である。Ｙ軸方向の検出信号も同様な波形に
なるが、図では省略してある。
ンの内側にレジストパターン３０があるレジストレーシ
ョンパターン（マークパターン）３０の例、(b) は、エ
ッチングパターンの上側にレジストパターンあるレジス
トレーションパターン３０の例、(c) は、レジストパタ
ーンの内側にエッチングパターンがあるレジストレーシ
ョンパターン３０の例である。それぞれ上側がその平面
図、下側がその断面図を示す。これらは、すでに前の工
程において形成されたパターンの一部であるエッチング
パターン３１とこれから形成するパターンに対するレジ
ストパターン３２からなり、相互に正方形の形状をして
いて、いずれか一方が内側に配置される。このような
(a) ，(b) ，(c) の各レジストレーションパターン３０
の１つが、図７(a) に示すように、ウエハ上のあるチッ
プ２４（任意のチップ）の中心に対して対称に４箇所に
レジストレーションパターン（マークパターン）３０
ａ，３０ｂ，３０ｃ，３０ｄとしてそれぞれ設けられて
いる。これら４つのレジストレーションパターンは、そ
れぞれのチップに対応してその周囲にそれぞれ設けられ
ている。図７(b) は、フォーカス状態でＣＣＤ検出器で
検出されるレジストレーションパターン３０a 、例え
ば、図６の(b) のもののＸ軸方向の検出信号（以下Ｘ軸
検出信号）である。Ｙ軸方向の検出信号も同様な波形に
なるが、図では省略してある。
【０００９】Ｘ軸検出信号のピーク位置ａ，ｄを検出
し、これらの中心ＸE とピーク位置ｂ，ｃを検出し、こ
れらの中心ＸR との差ΔＸがＸ方向のずれ量である。こ
のずれ量が許容範囲内であれば、レジストパターン３２
の位置が適合していて、このレジストパターン３２を一
部とするレジストをマスクにして次のパターンが形成さ
れる。以上は、Ｙ軸方向に対しても行われ、いすれか一
方の軸方向において、もし、ΔＸ，ΔＹのいずれかが許
容値の範囲外になっていれば、レジストを除去後、ウエ
ハとマスクとをずれ量分オフセットして再度位置合わせ
した上で再び同じレジストパターンを露光により形成す
ることになる。
し、これらの中心ＸE とピーク位置ｂ，ｃを検出し、こ
れらの中心ＸR との差ΔＸがＸ方向のずれ量である。こ
のずれ量が許容範囲内であれば、レジストパターン３２
の位置が適合していて、このレジストパターン３２を一
部とするレジストをマスクにして次のパターンが形成さ
れる。以上は、Ｙ軸方向に対しても行われ、いすれか一
方の軸方向において、もし、ΔＸ，ΔＹのいずれかが許
容値の範囲外になっていれば、レジストを除去後、ウエ
ハとマスクとをずれ量分オフセットして再度位置合わせ
した上で再び同じレジストパターンを露光により形成す
ることになる。
【００１０】ところで、このようなずれ量を検出するた
めに光学的な反射光を受光する検出器は、図１のＸ軸方
向のＣＣＤリニアセンサ１０とＹ軸方向のＣＣＤリニア
センサ１１である。一方、従来のようにレーザビームに
合わせて対物レンズ１の中心、リレーレンズ２ａ，３
ａ、そしてＣＣＤ１０，１１の検出器の中心を調整した
場合に、対物レンズ系１と、リレーレンズ２ａ，シリン
ドリカルレンズ２ｂ（Ｘ軸方向）、リレーレンズ３ａ，
シリンドリカルレンズ３ｂ（Ｙ軸方向）などの光学系で
決定される視野の中心と実際の光学系の中心とにずれが
ある。このずれは、レンズの外径精度や加工精度、取付
状態、光学系の調整状態によって発生する。もちろん、
この光学系による視野の中心と検出器であるＣＣＤリニ
アセンサ１０，１１の中心とはここでは現在調整済みで
一致しているものとする。
めに光学的な反射光を受光する検出器は、図１のＸ軸方
向のＣＣＤリニアセンサ１０とＹ軸方向のＣＣＤリニア
センサ１１である。一方、従来のようにレーザビームに
合わせて対物レンズ１の中心、リレーレンズ２ａ，３
ａ、そしてＣＣＤ１０，１１の検出器の中心を調整した
場合に、対物レンズ系１と、リレーレンズ２ａ，シリン
ドリカルレンズ２ｂ（Ｘ軸方向）、リレーレンズ３ａ，
シリンドリカルレンズ３ｂ（Ｙ軸方向）などの光学系で
決定される視野の中心と実際の光学系の中心とにずれが
ある。このずれは、レンズの外径精度や加工精度、取付
状態、光学系の調整状態によって発生する。もちろん、
この光学系による視野の中心と検出器であるＣＣＤリニ
アセンサ１０，１１の中心とはここでは現在調整済みで
一致しているものとする。
【００１１】４は、ハーフミラーであって、Ｘ方向とＹ
方向との検出系にウエハからの反射光を分離する。５
は、照明光学系であって、光源５０と、光量調整フィル
タ５１、光路光路の途中に設けられたファイバ５２と、
照明光を絞る絞り機構５３、視野絞り５４、そして、ハ
ーフミラー５５と、これら各要素に対応して設けられた
集光あるいは平行光を発生するレンズ系とからなる。な
お、６ａ，６ｂは、リレーレンズ２ａ，３ａの手前にそ
れぞれ設けられたＸ方向，Ｙ方向の視野設定可変スリッ
トであり、７は、ウエハチャック、８は、ウエハチャッ
ク７をＸＹＺ方向に移動させるＸＹＺ移動ステージ、９
は、ウエハチャック７にチャックされたウエハである。
方向との検出系にウエハからの反射光を分離する。５
は、照明光学系であって、光源５０と、光量調整フィル
タ５１、光路光路の途中に設けられたファイバ５２と、
照明光を絞る絞り機構５３、視野絞り５４、そして、ハ
ーフミラー５５と、これら各要素に対応して設けられた
集光あるいは平行光を発生するレンズ系とからなる。な
お、６ａ，６ｂは、リレーレンズ２ａ，３ａの手前にそ
れぞれ設けられたＸ方向，Ｙ方向の視野設定可変スリッ
トであり、７は、ウエハチャック、８は、ウエハチャッ
ク７をＸＹＺ方向に移動させるＸＹＺ移動ステージ、９
は、ウエハチャック７にチャックされたウエハである。
【００１２】図３に示すように、一般に、光学系の歪み
は、光学系中心から二次曲線で歪みが増加する。通常、
従来の調整だけでは、光学系中心（以下視野の中心と区
別をするためにこれを歪みの中心という）は、視野中心
Ｏs からずれている。この歪みの中心Ｏd と視野の中心
Ｏs とのずれ量が大きくなると、いくら精度の高い調整
を行っても高精度なレジストレーション測定を行うこと
はできない。歪みの中心Ｏd が視野の中心Ｏs らずれれ
ばずれるほど歪みの大きいところでレジストレーション
測定を行うことになるからである。一方、この歪みの中
心Ｏd をＣＣＤリニアセンサ１０，１１の検出系の中心
と一致させれば、従来の調整においても、検出系と光学
系との中心が一致して歪みが少なく、高精度の測定がで
きる。
は、光学系中心から二次曲線で歪みが増加する。通常、
従来の調整だけでは、光学系中心（以下視野の中心と区
別をするためにこれを歪みの中心という）は、視野中心
Ｏs からずれている。この歪みの中心Ｏd と視野の中心
Ｏs とのずれ量が大きくなると、いくら精度の高い調整
を行っても高精度なレジストレーション測定を行うこと
はできない。歪みの中心Ｏd が視野の中心Ｏs らずれれ
ばずれるほど歪みの大きいところでレジストレーション
測定を行うことになるからである。一方、この歪みの中
心Ｏd をＣＣＤリニアセンサ１０，１１の検出系の中心
と一致させれば、従来の調整においても、検出系と光学
系との中心が一致して歪みが少なく、高精度の測定がで
きる。
【００１３】そこで、図１においては、ＣＣＤリニアセ
ンサ１０，１１の位置を移動させるＸ方向，Ｙ方向のリ
ニア移動機構１２，１３が設けられている。制御装置２
０は、光学系の歪み中心Ｏd の位置を求めて、これら移
動機構１２，１３と移動機構等駆動回路１４とを制御し
てＣＣＤリニアセンサ１０，１１の中心を歪みの中心に
一致させる制御をする。Ａ／Ｄ変換回路（Ａ／Ｄ）１５
は、制御装置２０により制御されてＣＣＤリニアセンサ
１０，１１の検出信号をデジタル化して制御装置２０に
送出する。
ンサ１０，１１の位置を移動させるＸ方向，Ｙ方向のリ
ニア移動機構１２，１３が設けられている。制御装置２
０は、光学系の歪み中心Ｏd の位置を求めて、これら移
動機構１２，１３と移動機構等駆動回路１４とを制御し
てＣＣＤリニアセンサ１０，１１の中心を歪みの中心に
一致させる制御をする。Ａ／Ｄ変換回路（Ａ／Ｄ）１５
は、制御装置２０により制御されてＣＣＤリニアセンサ
１０，１１の検出信号をデジタル化して制御装置２０に
送出する。
【００１４】制御装置２０は、画像メモリ１６、デジタ
ルシグナルプロセッサ（ＤＳＰ）１７、フォーカスコン
トローラ１８、ＭＰＵ１９、そしてメモリ２１等で構成
され、バス２２を介してＭＰＵ１９とＤＳＰ１７、フォ
ーカスコントローラ１８、メモリ２１等が相互に接続さ
れている。Ａ／Ｄ１５は、ＣＣＤリニアセンサ１０，１
１からの検出信号を受け、所定のサンプリング周期でＡ
／Ｄ変換したデータを画像メモリ１６に送出する。画像
メモリ１６は、Ａ／Ｄ１５からのデータを順次記憶す
る。
ルシグナルプロセッサ（ＤＳＰ）１７、フォーカスコン
トローラ１８、ＭＰＵ１９、そしてメモリ２１等で構成
され、バス２２を介してＭＰＵ１９とＤＳＰ１７、フォ
ーカスコントローラ１８、メモリ２１等が相互に接続さ
れている。Ａ／Ｄ１５は、ＣＣＤリニアセンサ１０，１
１からの検出信号を受け、所定のサンプリング周期でＡ
／Ｄ変換したデータを画像メモリ１６に送出する。画像
メモリ１６は、Ａ／Ｄ１５からのデータを順次記憶す
る。
【００１５】ＤＳＰ１７は、ＭＰＵ１９に制御されて画
像メモリ１６のデジタルデータを受けてこれから図７
(b) に示す前記のずれ量ΔＸ（ΔＹ）を高速に算出し
て、算出結果をＭＰＵ１９に送出する。これは、ずれ量
算出専用のプロセッサである。フォーカスコントローラ
１８は、ＭＰＵ１９に制御されてＣＣＤリニアセンサ１
０，１１、Ａ／Ｄ１５、画像メモリ１６を制御し、画像
メモリ１６からのデータを受けてＸＹＺ移動ステージ８
をＺ方向に移動させて焦点合わせを行う。なお、この焦
点合わせ処理については、発明に直接関係していないの
で割愛する。メモリ２１には、マークのずれ量測定プロ
グラム２１ａ，歪み中心Ｏd とのずれ量算出プログラム
２１ｂ、視野中心ずれずれ量算出プログラム２１ｃ、そ
してＣＣＤ中心位置合わせプログラム２１ｄ等が設けら
れている。２３は、制御装置２０からの制御信号に応じ
てＸＹＺ移動ステージ８をＸ，Ｙ，Ｚの方向に移動させ
る駆動信号をＸＹＺ移動ステージ８に送出するステージ
駆動回路である。
像メモリ１６のデジタルデータを受けてこれから図７
(b) に示す前記のずれ量ΔＸ（ΔＹ）を高速に算出し
て、算出結果をＭＰＵ１９に送出する。これは、ずれ量
算出専用のプロセッサである。フォーカスコントローラ
１８は、ＭＰＵ１９に制御されてＣＣＤリニアセンサ１
０，１１、Ａ／Ｄ１５、画像メモリ１６を制御し、画像
メモリ１６からのデータを受けてＸＹＺ移動ステージ８
をＺ方向に移動させて焦点合わせを行う。なお、この焦
点合わせ処理については、発明に直接関係していないの
で割愛する。メモリ２１には、マークのずれ量測定プロ
グラム２１ａ，歪み中心Ｏd とのずれ量算出プログラム
２１ｂ、視野中心ずれずれ量算出プログラム２１ｃ、そ
してＣＣＤ中心位置合わせプログラム２１ｄ等が設けら
れている。２３は、制御装置２０からの制御信号に応じ
てＸＹＺ移動ステージ８をＸ，Ｙ，Ｚの方向に移動させ
る駆動信号をＸＹＺ移動ステージ８に送出するステージ
駆動回路である。
【００１６】以下、図２に従って歪み中心Ｏd と検出器
の中心との位置合わせ処理についてＸ軸方向を中心に説
明する。なお、Ｙ軸方向については同様であるので、特
に必要な場合を除いて説明を割愛する。まず、ＭＰＵ１
９がマークパターンのずれ量測定プログラム２１ａを実
行して、ウエハ９上のあるレジストレーションパターン
（マークパターンとして）、例えば、図３(a) に示すよ
うに、レジストレーションパターン３０ａの外側パター
ンの内側枠３３の中心に対物レンズ系１の視野中心Ｏs
を位置付けてＤＳＰ１７を起動し、レジストレーション
パターン３０ａのずれ量Δａを測定する（ステップ１０
０）。
の中心との位置合わせ処理についてＸ軸方向を中心に説
明する。なお、Ｙ軸方向については同様であるので、特
に必要な場合を除いて説明を割愛する。まず、ＭＰＵ１
９がマークパターンのずれ量測定プログラム２１ａを実
行して、ウエハ９上のあるレジストレーションパターン
（マークパターンとして）、例えば、図３(a) に示すよ
うに、レジストレーションパターン３０ａの外側パター
ンの内側枠３３の中心に対物レンズ系１の視野中心Ｏs
を位置付けてＤＳＰ１７を起動し、レジストレーション
パターン３０ａのずれ量Δａを測定する（ステップ１０
０）。
【００１７】次に、図３(b) に示すように、ウエハ９を
１８０°回転して、回転前のレジストレーションパター
ン３０ａに対してウエハ９上でその中心Ｏに対して回転
前のチップ２４と点対称の位置にある、点線で示す回転
後のチップ２４の周囲にあるレジストレーションパター
ン３０ａに対して同様に外側の内側枠３３の中心に対物
レンズ系１の視野中心Ｏs を位置付けてＤＳＰ１７を起
動し、レジストレーションパターン３０ａのずれ量Δｒ
を測定する（ステップ１０１）。そして、真のマークず
れ量δを、 δ＝（Δａ−Δｒ）／２ により算出する。すなわち、δx ＝（Δａx −Δｒx ）
／２，δy ＝（Δａy −Δｒy ）／２によりδx ，δy
を算出する（ステップ１０２）。ここで、レジストレー
ションパターン３０ａの視野中心Ｏs における光学系中
心からの歪み量をＤａとすると、１８０°回転したレジ
ストレーションパターン３０ａの視野中心Ｏs における
光学系の歪み量ＤｒもＤｒ≒Ｄａになる。
１８０°回転して、回転前のレジストレーションパター
ン３０ａに対してウエハ９上でその中心Ｏに対して回転
前のチップ２４と点対称の位置にある、点線で示す回転
後のチップ２４の周囲にあるレジストレーションパター
ン３０ａに対して同様に外側の内側枠３３の中心に対物
レンズ系１の視野中心Ｏs を位置付けてＤＳＰ１７を起
動し、レジストレーションパターン３０ａのずれ量Δｒ
を測定する（ステップ１０１）。そして、真のマークず
れ量δを、 δ＝（Δａ−Δｒ）／２ により算出する。すなわち、δx ＝（Δａx −Δｒx ）
／２，δy ＝（Δａy −Δｒy ）／２によりδx ，δy
を算出する（ステップ１０２）。ここで、レジストレー
ションパターン３０ａの視野中心Ｏs における光学系中
心からの歪み量をＤａとすると、１８０°回転したレジ
ストレーションパターン３０ａの視野中心Ｏs における
光学系の歪み量ＤｒもＤｒ≒Ｄａになる。
【００１８】図３(a) ，(b) の下側に示すグラフは、こ
の歪みの状態を説明するものであって、(a) は、回転前
である０°のときの視野における歪み中心Ｏd とずれ量
のベクトルＶとの関係を示していて、この場合にずれ量
Δに加わる歪み量Ｄは、ＯdとＯs との差であるＤａに
なる。一方、(b) は、１８０°回転後の視野における歪
み中心Ｏd とずれ量のベクトルＶとの関係を示してい
て、この場合にずれ量Δに加わる歪み量は、Ｏd とＯs
との差であるＤｒになる。０°と１８０°では、ベクト
ルＶの方向が逆転してその長さは、ほぼ等しい。歪み中
心Ｏd からの歪み量は、放射状に大きくなっていて、歪
み量Ｄａ，Ｄｒは、ずれ量Δａ，Δｒに対して相互に逆
方向に作用する。しかも、ずれ量Δａ，Δｒの方向も反
転している。そこで、歪みがずれ量に及ぼす長さは、い
ずれも同じ方向になる。すなわち、歪み量Ｄａに対して
歪みがその長さを縮める方向に作用するとすれば、歪み
量Ｄｒに対しては長さの方向が反転してそれを延ばす方
向に作用する。したがって、いずれも歪みによる長さの
作用は、減算方向あるいは加算方向の一方方向になる。
の歪みの状態を説明するものであって、(a) は、回転前
である０°のときの視野における歪み中心Ｏd とずれ量
のベクトルＶとの関係を示していて、この場合にずれ量
Δに加わる歪み量Ｄは、ＯdとＯs との差であるＤａに
なる。一方、(b) は、１８０°回転後の視野における歪
み中心Ｏd とずれ量のベクトルＶとの関係を示してい
て、この場合にずれ量Δに加わる歪み量は、Ｏd とＯs
との差であるＤｒになる。０°と１８０°では、ベクト
ルＶの方向が逆転してその長さは、ほぼ等しい。歪み中
心Ｏd からの歪み量は、放射状に大きくなっていて、歪
み量Ｄａ，Ｄｒは、ずれ量Δａ，Δｒに対して相互に逆
方向に作用する。しかも、ずれ量Δａ，Δｒの方向も反
転している。そこで、歪みがずれ量に及ぼす長さは、い
ずれも同じ方向になる。すなわち、歪み量Ｄａに対して
歪みがその長さを縮める方向に作用するとすれば、歪み
量Ｄｒに対しては長さの方向が反転してそれを延ばす方
向に作用する。したがって、いずれも歪みによる長さの
作用は、減算方向あるいは加算方向の一方方向になる。
【００１９】また、図３では、説明の都合上、二次曲線
の湾曲を大きく描いているが、歪みみ中心Ｏd から視野
中心Ｏs までの距離ｒは、通常、大きく離れていないの
で、視野中心Ｏs の前後の曲線をある傾きの直線として
扱えば、ベクトルＶに対して加わる歪み量ＤａとＤｒの
値はほぼ等しくなる。すなわち、ずれ量Δａ，Δｒにつ
いては、 Δａ＝Ｄａ＋δ Δｒ＝Ｄｒ−δ ただし、Ｄａ≒Ｄｒ その結果、 （Δａ−Δｒ）／２＝｛（Ｄａ＋δ）−（Ｄｒ−δ）｝
／２≒δ となる。なお、図３では、レジストレーションパターン
３０ａの位置が０°と１８０°において、内側のパター
ンの中心Ｏと視野中心Ｏs とが歪み中心Ｏd に対して同
じ右側にある場合の例を示しているが、これらが同じ左
側にあっても歪み量Ｄａ，Ｄｒは、ずれ量Δａ，Δｒに
対して相互に逆方向に作用する関係は変わらない。
の湾曲を大きく描いているが、歪みみ中心Ｏd から視野
中心Ｏs までの距離ｒは、通常、大きく離れていないの
で、視野中心Ｏs の前後の曲線をある傾きの直線として
扱えば、ベクトルＶに対して加わる歪み量ＤａとＤｒの
値はほぼ等しくなる。すなわち、ずれ量Δａ，Δｒにつ
いては、 Δａ＝Ｄａ＋δ Δｒ＝Ｄｒ−δ ただし、Ｄａ≒Ｄｒ その結果、 （Δａ−Δｒ）／２＝｛（Ｄａ＋δ）−（Ｄｒ−δ）｝
／２≒δ となる。なお、図３では、レジストレーションパターン
３０ａの位置が０°と１８０°において、内側のパター
ンの中心Ｏと視野中心Ｏs とが歪み中心Ｏd に対して同
じ右側にある場合の例を示しているが、これらが同じ左
側にあっても歪み量Ｄａ，Ｄｒは、ずれ量Δａ，Δｒに
対して相互に逆方向に作用する関係は変わらない。
【００２０】一方、歪み中心Ｏd と視野中心Ｏs とが近
傍していて、レジストレーションパターン３０ａの位置
が０°と１８０°において、内側のパターンの中心Ｏと
視野中心Ｏs とが歪み中心Ｏd に対して相互に反対側に
あるときには、歪み量Ｄａ，Ｄｒは、ずれ量Δａ，Δｒ
に対して相互に逆方向に作用する量がアンバランスにな
る。いずれか一方の歪み量が他方よりも大きくなるが、
このときの歪み量は、ずれ量Δａ，Δｒが所定の許容範
囲内の長さに対して測定される関係で、ずれ量Δａ，Δ
ｒに対する歪み量Ｄａ，Ｄｒが小さくなるので、前記の
場合に比べて真のずれ量δに与える影響は小さい。特別
な場合として歪み中心Ｏd と視野中心Ｏs とが接近して
いる場合には、歪み量Ｄａ，Ｄｒは、ずれ量Δａ，Δｒ
に対して相互に同じ方向に作用するが、このような場合
には、Δａ≒Δｒとなっているので、検出器の中心位置
補正をしなければよい。
傍していて、レジストレーションパターン３０ａの位置
が０°と１８０°において、内側のパターンの中心Ｏと
視野中心Ｏs とが歪み中心Ｏd に対して相互に反対側に
あるときには、歪み量Ｄａ，Ｄｒは、ずれ量Δａ，Δｒ
に対して相互に逆方向に作用する量がアンバランスにな
る。いずれか一方の歪み量が他方よりも大きくなるが、
このときの歪み量は、ずれ量Δａ，Δｒが所定の許容範
囲内の長さに対して測定される関係で、ずれ量Δａ，Δ
ｒに対する歪み量Ｄａ，Ｄｒが小さくなるので、前記の
場合に比べて真のずれ量δに与える影響は小さい。特別
な場合として歪み中心Ｏd と視野中心Ｏs とが接近して
いる場合には、歪み量Ｄａ，Ｄｒは、ずれ量Δａ，Δｒ
に対して相互に同じ方向に作用するが、このような場合
には、Δａ≒Δｒとなっているので、検出器の中心位置
補正をしなければよい。
【００２１】すなわち、Δａ≒Δｒ以外のとき、言い換
えれば、Δａ−Δｒ＞αか否かをδx ＞αx またはδy
＞αy かを判定をする（ステップ１０３）。いずれもが
小さい場合には、ＮＯ条件が成立して歪み中心Ｏd と視
野中心Ｏs とがずれていないものとして調整を行わな
い。いずれか一方の条件が成立したときには、ＹＥＳと
なり、δx ＝（Δａx −Δｒx ）／２，δy ＝（Δａy
−Δｒy ）／２により、求めたＸ軸方向の真のマークず
れ量δx とＹ軸方向の真のマークずれ量δy とをメモリ
２１の所定の領域に記憶する（ステップ１０４）。な
お、前記のα（＝αx ，αy ）は、実験値として求める
ことができる。次に、レジストレーションパターン３０
ａを１８０°回転して元の位置に戻して（ステップ１０
５）、ＭＰＵ９は、視野中心ずれずれ量算出プログラム
２１ｃを実行して、視野中心Ｏs を固定して、レジスト
レーションパターン３０ａをＸ軸上で移動させて、各位
置でずれ量Δａを測定する。Ｙ軸方向も同様にずれ量を
測定する（ステップ１０６）。
えれば、Δａ−Δｒ＞αか否かをδx ＞αx またはδy
＞αy かを判定をする（ステップ１０３）。いずれもが
小さい場合には、ＮＯ条件が成立して歪み中心Ｏd と視
野中心Ｏs とがずれていないものとして調整を行わな
い。いずれか一方の条件が成立したときには、ＹＥＳと
なり、δx ＝（Δａx −Δｒx ）／２，δy ＝（Δａy
−Δｒy ）／２により、求めたＸ軸方向の真のマークず
れ量δx とＹ軸方向の真のマークずれ量δy とをメモリ
２１の所定の領域に記憶する（ステップ１０４）。な
お、前記のα（＝αx ，αy ）は、実験値として求める
ことができる。次に、レジストレーションパターン３０
ａを１８０°回転して元の位置に戻して（ステップ１０
５）、ＭＰＵ９は、視野中心ずれずれ量算出プログラム
２１ｃを実行して、視野中心Ｏs を固定して、レジスト
レーションパターン３０ａをＸ軸上で移動させて、各位
置でずれ量Δａを測定する。Ｙ軸方向も同様にずれ量を
測定する（ステップ１０６）。
【００２２】図４は、このずれ量Δａの測定状態を説明
している。レジストレーションパターン３０ａを，
，，，の順で移動してそれぞれの位置において
ずれ量Δａを測定する。この間、視野中心Ｏs は、最初
にΔａを測定したの位置に固定されている。したがっ
て、での測定値は不要であるが、説明の都合上示して
ある。その結果、内側枠３３の中心が視野中心Ｏs から
ずれた量に応じたずれ量Δを測定することができる。そ
の結果の一例が図５である。前記の真のマークずれ量δ
x ＝−３９ｎｍとすれば、図４(b) のグラフにおいて、
その点は、固定した視野中心Ｏs に＋４．４μｍの位置
にあることが分かる。そこで、この位置をＣＣＤに対す
る移動制御量とし、Ｘo ＝＋４．４μｍをメモリ２１の
所定の領域に記憶する。Ｙ方向も同様にして移動制御量
Ｙo を算出してメモリ２１に記憶する。
している。レジストレーションパターン３０ａを，
，，，の順で移動してそれぞれの位置において
ずれ量Δａを測定する。この間、視野中心Ｏs は、最初
にΔａを測定したの位置に固定されている。したがっ
て、での測定値は不要であるが、説明の都合上示して
ある。その結果、内側枠３３の中心が視野中心Ｏs から
ずれた量に応じたずれ量Δを測定することができる。そ
の結果の一例が図５である。前記の真のマークずれ量δ
x ＝−３９ｎｍとすれば、図４(b) のグラフにおいて、
その点は、固定した視野中心Ｏs に＋４．４μｍの位置
にあることが分かる。そこで、この位置をＣＣＤに対す
る移動制御量とし、Ｘo ＝＋４．４μｍをメモリ２１の
所定の領域に記憶する。Ｙ方向も同様にして移動制御量
Ｙo を算出してメモリ２１に記憶する。
【００２３】ところで、図５において、ずれ量ΔａがＸ
軸方向の増加にともなって減少しているのは、視野内で
歪み中心Ｏd を境にして長さ測定方向に対して左右で歪
み量の方向が反転するので、測定量Δから歪み量Ｄ分が
引かれることになることによる。ここでは、歪み中心Ｏ
d における歪み量がどの程度であるが測定できないの
で、この歪み量が非常に小さいものとみなして、前記真
のマークずれ量δx と一致する位置を歪み中心Ｏd の位
置とする。そこで、ステップ１０７において、Δａx ＝
δx ，Δａy ＝δy 否かの判定をし、一致していないと
きには、軸方向にレジストレーションパターンを所定量
移動させてステップ１０６へと戻る。このように一致点
を検出するのは、理想的な場合として、歪みの中心で
は、歪み量がないと仮定すれば、この一致点で測定した
ずれ量は、真のずれ量に対応するからである。すなわ
ち、レジストレーションパターン３０ａを，，，
，の順位移動してそれぞれの位置においてずれ量Δ
ａｘ（＝ΔａのＸ軸での値）がδx ，ずれ量Δａｙ（＝
ΔａのＹ軸での値）がδy に一致した値あるいは最も近
い値のＸ座標の移動制御量Ｘo とＹ座標の移動制御量Ｙ
o を求める（ステップ１０６，１０７，１０８）。そし
て、Ｘo ，Ｙo をメモリ２１の所定の領域に記憶する
（ステップ１０９）。
軸方向の増加にともなって減少しているのは、視野内で
歪み中心Ｏd を境にして長さ測定方向に対して左右で歪
み量の方向が反転するので、測定量Δから歪み量Ｄ分が
引かれることになることによる。ここでは、歪み中心Ｏ
d における歪み量がどの程度であるが測定できないの
で、この歪み量が非常に小さいものとみなして、前記真
のマークずれ量δx と一致する位置を歪み中心Ｏd の位
置とする。そこで、ステップ１０７において、Δａx ＝
δx ，Δａy ＝δy 否かの判定をし、一致していないと
きには、軸方向にレジストレーションパターンを所定量
移動させてステップ１０６へと戻る。このように一致点
を検出するのは、理想的な場合として、歪みの中心で
は、歪み量がないと仮定すれば、この一致点で測定した
ずれ量は、真のずれ量に対応するからである。すなわ
ち、レジストレーションパターン３０ａを，，，
，の順位移動してそれぞれの位置においてずれ量Δ
ａｘ（＝ΔａのＸ軸での値）がδx ，ずれ量Δａｙ（＝
ΔａのＹ軸での値）がδy に一致した値あるいは最も近
い値のＸ座標の移動制御量Ｘo とＹ座標の移動制御量Ｙ
o を求める（ステップ１０６，１０７，１０８）。そし
て、Ｘo ，Ｙo をメモリ２１の所定の領域に記憶する
（ステップ１０９）。
【００２４】次に、ＭＰＵ９は、ＣＣＤ中心位置合わせ
プログラム２１ｄを実行して、メモリ２１から移動制御
量Ｘo ，Ｙo を読出してＣＣＤ１０の受光中心を視野に
おいて座標Ｘo ，Ｙo 分だけ移動させる制御信号を視野
と受光領域との倍率に応じて生成して移動機構等駆動回
路１４に送出し、これによりＸ方向のリニア移動機構１
２を制御して、ＣＣＤ１０の受光中心を視野においてＸ
o だけ移動させ、視野Ｙo 分だけ移動させる制御信号に
よりＹ方向のリニア移動機構１３を制御してＣＣＤ１１
の受光中心を視野においてＹo だけ移動させ、検出中心
を歪み中心Ｏdに一致させるか、その近傍に位置付ける
（ステップ１１０）。
プログラム２１ｄを実行して、メモリ２１から移動制御
量Ｘo ，Ｙo を読出してＣＣＤ１０の受光中心を視野に
おいて座標Ｘo ，Ｙo 分だけ移動させる制御信号を視野
と受光領域との倍率に応じて生成して移動機構等駆動回
路１４に送出し、これによりＸ方向のリニア移動機構１
２を制御して、ＣＣＤ１０の受光中心を視野においてＸ
o だけ移動させ、視野Ｙo 分だけ移動させる制御信号に
よりＹ方向のリニア移動機構１３を制御してＣＣＤ１１
の受光中心を視野においてＹo だけ移動させ、検出中心
を歪み中心Ｏdに一致させるか、その近傍に位置付ける
（ステップ１１０）。
【００２５】
【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明によるレ
ジストレーション測定測定方法および装置にあっては、
同じ位置ずれ量測定パターンを１８０°回転させてずれ
量を測定し、回転前のずれ量との差を採ることにより、
光学系の歪みに影響されないで本来のずれ量に近い値を
第３のずれ量として得て、検出器の検出中心を第３のず
れ量に対応する視野分だけ移動させることにより、検出
器の検出中心を光学系の本来の中心に一致させる。その
結果、光学系の歪みによる測定誤差がほとんどなくな
り、高精度なずれ量が測定できる。
ジストレーション測定測定方法および装置にあっては、
同じ位置ずれ量測定パターンを１８０°回転させてずれ
量を測定し、回転前のずれ量との差を採ることにより、
光学系の歪みに影響されないで本来のずれ量に近い値を
第３のずれ量として得て、検出器の検出中心を第３のず
れ量に対応する視野分だけ移動させることにより、検出
器の検出中心を光学系の本来の中心に一致させる。その
結果、光学系の歪みによる測定誤差がほとんどなくな
り、高精度なずれ量が測定できる。
【図１】図１は、この発明の位置ずれ量測定光学系の調
整方法を適用した一実施例のレジストレーション測定装
置の説明図である。
整方法を適用した一実施例のレジストレーション測定装
置の説明図である。
【図２】図２は、光学系中心と検出器の中心の位置調整
処理のフローチャートである。
処理のフローチャートである。
【図３】図３は、レジストレーションパターンの歪み量
とずれ量との関係についての説明図であって、(a) は、
回転前のレジストレーションパターンについての説明
図、(b) は、１８０°回転後のレジストレーションパタ
ーンについての説明図である。
とずれ量との関係についての説明図であって、(a) は、
回転前のレジストレーションパターンについての説明
図、(b) は、１８０°回転後のレジストレーションパタ
ーンについての説明図である。
【図４】図４は、視野中心から測定点をずらせてずれ量
を測定する説明図である。
を測定する説明図である。
【図５】図５は、図４における測定結果の一例の説明図
である。
である。
【図６】図６は、レジストレーションパターンについて
の説明図であって、(a) は、エッチングパターンの内側
にレジストパターンがある例、(b) は、エッチングパタ
ーンの上側にレジストパターンある例、(c) は、レジス
トパターンの内側にエッチングパターンがある例であ
る。
の説明図であって、(a) は、エッチングパターンの内側
にレジストパターンがある例、(b) は、エッチングパタ
ーンの上側にレジストパターンある例、(c) は、レジス
トパターンの内側にエッチングパターンがある例であ
る。
【図７】図７は、ウエハ上のチップおよびレジストレー
ションパターンの配置と検出器の検出信号についての説
明図であって、(a) は、ウエハ上のチップおよびレジス
トレーションパターンの配置を示し、(b) は、検出信号
を示す。
ションパターンの配置と検出器の検出信号についての説
明図であって、(a) は、ウエハ上のチップおよびレジス
トレーションパターンの配置を示し、(b) は、検出信号
を示す。
１…対物レンズ、２ａ，３ａ…リレーレンズ、４，５５
…ハーフミラー、５…照明光学系、６ａ，６ｂ…視野設
定可変スリット、７…ウエハチャック、８…ＸＹＺ移動
ステージ、９…ウエハ、１０，１１…ＣＣＤリニアセン
サ、１５…Ａ／Ｄ変換回路（Ａ／Ｄ）、１６…画像メモ
リ、１７…高速数値演算プロセッサ、１８…フォーカス
コントローラ、１９…ＭＰＵ、２０…制御装置、２１…
メモリ、２２…バス、３０…レジストレーションパター
ン、３１…エッチングパターン、３２…レジストパター
ン、３３…外側パターンの内側枠、５０…光源、５１…
光量調整フィルタ、５２…ファイバ、５３…絞り機構、
５４…視野絞り。
…ハーフミラー、５…照明光学系、６ａ，６ｂ…視野設
定可変スリット、７…ウエハチャック、８…ＸＹＺ移動
ステージ、９…ウエハ、１０，１１…ＣＣＤリニアセン
サ、１５…Ａ／Ｄ変換回路（Ａ／Ｄ）、１６…画像メモ
リ、１７…高速数値演算プロセッサ、１８…フォーカス
コントローラ、１９…ＭＰＵ、２０…制御装置、２１…
メモリ、２２…バス、３０…レジストレーションパター
ン、３１…エッチングパターン、３２…レジストパター
ン、３３…外側パターンの内側枠、５０…光源、５１…
光量調整フィルタ、５２…ファイバ、５３…絞り機構、
５４…視野絞り。
Claims (3)
- 【請求項１】視野の中心にその中心が位置付けられ位置
ずれ量測定パターンからの光を受光して位置ずれ量を表
す検出信号を発生する検出器を有し、前記検出信号によ
り位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定装置における測
定光学系の調整方法において、 前記検出器の検出中心を移動させる移動機構を備え、 前記位置ずれ量測定パターンのずれ量を測定して得たず
れ量を第１のずれ量とし、この位置ずれ量測定パターン
を１８０°回転させてそのずれ量を測定して得たずれ量
を第２のずれ量とし、 前記第１のずれ量と前記第２のずれ量との差を第３のず
れ量として得て、この第３のずれ量に応じて前記移動機
構により前記検出器の中心を前記第３のずれ量に対応す
る視野分だけ移動させる位置ずれ量測定光学系の調整方
法。 - 【請求項２】前記第３のずれ量は、前記第１のずれ量と
前記第２のずれ量との差の１／２である請求項１記載の
位置ずれ量測定光学系の調整方法。 - 【請求項３】視野の中心にその中心が位置付けられ位置
ずれ量測定パターンからの光を受光して位置ずれ量を表
す検出信号を発生する検出器を有し、前記検出信号によ
り位置ずれ量を測定する位置ずれ量測定装置において、 前記検出器の検出中心を移動させる移動機構と、 前記位置ずれ量測定パターンのずれ量を第１のずれ量と
して測定し、この位置ずれ量測定パターンを１８０°回
転させてそのずれ量を第２のずれ量として測定するずれ
量測定手段と、 前記第１のずれ量と前記第２のずれ量との差の１／２を
第３のずれ量として算出する手段と、 前記第３のずれ量に応じて前記移動機構を制御して前記
検出器の中心を前記第３のずれ量に対応する視野分だけ
移動させる移動手段とを備える位置ずれ量測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6277124A JP3050498B2 (ja) | 1994-10-17 | 1994-10-17 | 位置ずれ量測定光学系の調整方法および位置ずれ量測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6277124A JP3050498B2 (ja) | 1994-10-17 | 1994-10-17 | 位置ずれ量測定光学系の調整方法および位置ずれ量測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08115874A JPH08115874A (ja) | 1996-05-07 |
| JP3050498B2 true JP3050498B2 (ja) | 2000-06-12 |
Family
ID=17579132
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6277124A Expired - Fee Related JP3050498B2 (ja) | 1994-10-17 | 1994-10-17 | 位置ずれ量測定光学系の調整方法および位置ずれ量測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3050498B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4725822B2 (ja) * | 2000-07-10 | 2011-07-13 | 株式会社ニコン | 光学的位置ずれ検出装置 |
| JP2003209041A (ja) * | 2002-01-15 | 2003-07-25 | Seiko Epson Corp | パターンの位置合わせ精度測定方法、パターンの形成方法、電気光学装置の製造方法、半導体装置の製造方法 |
| US7388663B2 (en) * | 2004-10-28 | 2008-06-17 | Asml Netherlands B.V. | Optical position assessment apparatus and method |
-
1994
- 1994-10-17 JP JP6277124A patent/JP3050498B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08115874A (ja) | 1996-05-07 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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