JP2002164266A - 光学的位置ずれ測定装置の調整装置および方法 - Google Patents

光学的位置ずれ測定装置の調整装置および方法

Info

Publication number
JP2002164266A
JP2002164266A JP2000356350A JP2000356350A JP2002164266A JP 2002164266 A JP2002164266 A JP 2002164266A JP 2000356350 A JP2000356350 A JP 2000356350A JP 2000356350 A JP2000356350 A JP 2000356350A JP 2002164266 A JP2002164266 A JP 2002164266A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adjustment
optical system
mark
imaging
image
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000356350A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4613357B2 (ja
Inventor
Tatsuo Fukui
達雄 福井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP2000356350A priority Critical patent/JP4613357B2/ja
Priority to KR1020010072189A priority patent/KR20020040569A/ko
Priority to CNB011349735A priority patent/CN1230873C/zh
Priority to TW090128880A priority patent/TW502108B/zh
Priority to US09/990,260 priority patent/US20020060793A1/en
Publication of JP2002164266A publication Critical patent/JP2002164266A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4613357B2 publication Critical patent/JP4613357B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70605Workpiece metrology
    • G03F7/70616Monitoring the printed patterns
    • G03F7/70633Overlay, i.e. relative alignment between patterns printed by separate exposures in different layers, or in the same layer in multiple exposures or stitching
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/28Systems for automatic generation of focusing signals

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 重ね合わせ位置ずれ測定装置の光学系の調整
作業を簡単に行う。 【解決手段】 測定マーク52を照明する照明光学系1
0と、測定マークからの反射光を集光して測定マークの
像を結像させる結像光学系20と、結像光学系により結
像された測定マークの像を撮影するCCDカメラ30
と、得られた画像信号から測定マークの位置ずれを測定
する画像処理装置35と、オートフォーカス調整を行う
オートフォーカス装置40とから光学的位置ずれ測定装
置が構成される。この装置において、オートフォーカス
調整、結像光学系20の結像開口絞り23の調整、第2
対物レンズ21の調整、照明光学系10の照明開口絞り
12の調整をこの順序で行って測定誤差調整を行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハのフ
ォトリソグラフィ製造工程等において、半導体ウエハ等
の被検基板上に形成される測定マーク(重ね合わせマー
ク)における下地マークに対するレジストマークの位置
ずれ(重ね合わせ位置ずれ)を光学的に測定するためな
どに用いられる光学的位置ずれ測定装置に関し、更に詳
しくは、この光学的位置ずれ測定装置の調整を行う装置
および方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体チップの製造工程の一つであるフ
ォトリソグラフィ製造工程においては、ウエハ上に何段
階かに分けられてレジストパターンが形成される。すな
わち、各段階毎に、既に形成されているパターン(これ
を下地パターンと称する)の上に所定のレジストパター
ンが重ね合わせて形成される。このとき、下地パターン
に対して重ねて形成されるレジストパターンの位置がず
れたのでは所望の性能が得られないため、正確な重ね合
わせ位置決めが要求される。このようなことから、レジ
ストパターンの各形成段階毎に下地パターンに対するレ
ジストパターンの重ね合わせ位置ずれを測定することが
要求され、この重ね合わせ位置ずれ測定のための装置は
従来から知られている(例えば、特開2000−772
95号公報参照)。
【0003】この重ね合わせ位置ずれ測定は、レジスト
パターン形成時に基板上に形成した下地マークの上にレ
ジストマークを形成して測定マークを形成しておき、光
学的位置ずれ測定装置(重ね合わせ位置ずれ測定装置)
を用いて、測定マークに照明光を照射するとともにその
反射光から測定マークの像をCCDカメラ等で撮像し、
撮像した像を画像処理して下地マークに対するレジスト
マークの重ね合わせ位置ずれ量を測定するようになって
いる。
【0004】ところで、このように光学的に重ね合わせ
位置ずれ測定を行う場合、測定光学系(すなわち、測定
マークに照明光を照射する照明光学系および測定マーク
からの反射光を集光結像させる集光光学系)に光学的な
収差が発生することが避けられず、このような収差、特
に光軸に対して非回転対称な収差が測定視野領域内に存
在すると、重ね合わせ位置ずれ測定値の測定誤差TIS
(Tool Induced Shift)が生ずる。
【0005】このような測定誤差TISが存在したまま
重ね合わせ位置ずれ測定を行ったのでは正確な位置ずれ
測定ができないという問題がある。このため、光学的位
置ずれ測定装置を用いて位置ずれ測定を行う前に、この
装置の測定光学系に用いられている照明開口絞り、結像
開口絞り、対物レンズなどの位置調整を行って、測定誤
差TISを出なくするようにすることが従来から提案さ
れている(例えば、特開2000−77295号公報参
照)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、照明開
口絞り、結像開口絞り、対物レンズなどの調整要素は、
いずれか一つのみで測定誤差TISを除去することは難
しく、これら複数の調整要素を適宜組み合わせて調整し
て測定誤差TISを除去する必要がある。しかもこれら
複数の調整要素は互いに影響を及ぼしあって測定誤差T
ISを微妙に変化させるため、これら複数の調整要素の
調整を適切に組み合わせるのが非常に難しいという問題
がある。
【0007】さらに、重ね合わせ位置ずれ測定装置の測
定光学系にはオートフォーカス光学系が組み込まれるこ
とが多く、上記複数の調整要素の調整による測定誤差T
ISの除去調整と同時に、オートフォーカス光学系の調
整も必要であり、これらの調整作業が一層複雑化すると
いう問題がある。
【0008】本発明はこのような問題に鑑みたもので、
重ね合わせ位置ずれ測定装置の光学系の調整作業を簡単
に行えるようにすることを目的とする。本発明はまた、
重ね合わせ位置ずれ測定装置の光学系の調整作業を自動
的に行えるようにすることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】このような目的達成のた
め、本発明は、測定マークを照明する照明光学系と、こ
の測定マークからの反射光を集光して測定マークの像を
結像させる結像光学系と、この結像光学系により結像さ
れた測定マークの像を撮影する撮像装置と、この撮像装
置により得られた画像信号を処理して測定マークの位置
ずれを測定する画像処理装置とを有して構成される光学
的位置ずれ測定装置において、照明光学系および結像光
学系を構成する複数の光学要素の位置調整を可能とな
し、これら複数の光学要素の位置調整を所定の順序で行
って測定誤差調整を行うように調整装置が構成される。
【0010】なお、この測定誤差調整は、測定マークに
代えて複数の平行な線状マークからなるL/Sマークを
用いて得られるQZ曲線に基づいて行われる。このQZ
曲線は、L/Sマークを照明光学系により照明し、その
反射光を結像光学系により集光して結像されたL/Sマ
ークの像を撮像装置により撮影し、得られた画像信号を
画像処理装置により処理してL/Sマークの非対象性を
示すQ値を求め、L/Sマークを光軸方向(Z方向)に
移動させて得られる。
【0011】本発明において位置調整が行われる複数の
光学要素としては、照明光学系を構成する照明開口絞り
と、結像光学系を構成する対物レンズおよび結像開口絞
りがある。この調整装置を用いて調整を行うときには、
最初に結像開口絞りの位置調整を行い、次に対物レンズ
の位置調整を行い、最後に照明開口絞りの位置調整を行
う。このとき、結像開口絞りの位置調整によりQZ曲線
の凸形状を平坦化する調整を行い、対物レンズの位置調
整によりQZ曲線の傾きを変化させる調整を行い、照明
開口絞りの位置調整によりQZ曲線をQ値方向に平行シ
フト移動させる調整を行う。なお、これら位置調整は自
動化しても良い。
【0012】本発明に係る調整装置はさらに、結像光学
系から分岐して、結像光学系により結像された像を前記
撮像装置により撮影するときのオートフォーカス調整を
行うオートフォーカス装置が設けられることもある。こ
の場合、最初にオートフォーカス装置によるオートフォ
ーカス調整を行い、二番目に結像開口絞りの位置調整を
行い、三番目に対物レンズの位置調整を行い、最後に照
明開口絞りの位置調整を行う。これらの調整を自動化し
ても良い。
【0013】なお、照明開口絞りの位置調整を最後に行
った後、Q値が所定範囲内に収まらないときには、オー
トフォーカス調整、結像開口絞りの位置調整、対物レン
ズの位置調整および照明開口絞りの位置調整をこの順序
で再度繰り返して行い、Q値を所定範囲に収める調整を
行う。
【0014】また、照明開口絞りの位置調整を最後に行
った後、この調整によりオートフォーカス調整が狂うお
それがあり、この場合にはオートフォーカス装置による
オートフォーカス調整を再度行うのが好ましい。
【0015】一方、本発明に係る調整方法は、測定マー
クを照明する照明光学系と、測定マークからの反射光を
集光して測定マークの像を結像させる結像光学系と、結
像光学系により結像された測定マークの像を撮影する撮
像装置と、撮像装置により得られた画像信号を処理して
測定マークの位置ずれを測定する画像処理装置とを有し
て構成される光学的位置ずれ測定装置において、照明光
学系および結像光学系を構成する複数の光学要素の位置
調整を所定の順序で行って測定誤差調整を行うように構
成される。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
ましい実施形態について説明する。図1に本発明に係る
光学的位置ずれ測定装置の一例を示している。なお、説
明の容易化のため、図1において紙面に垂直な方向をX
軸方向、左右に延びる方向をY方向、上下に延びる方向
をZ方向とする。
【0017】図1に示す測定装置は、ウエハ51の上に
形成された測定マーク52におけるレジストマークの重
ね合わせ位置ずれを測定するものであり、測定に際して
ウエハ51は、回転および水平移動(X−Y方向移動)
可能で、且つ上下移動(Z方向移動)可能に構成された
ステージ50の上に載置される。このようなステージの
移動制御のためステージ制御部55が設けられている。
測定マーク52は、ウエハ51の下地パターンの上に所
定のレジストパターンをフォトリソグラフィー工程によ
り形成させるときに、例えば図3に示すように、ウエハ
51の端部に形成された矩形状の下地マーク53の上に
矩形状のレジストマーク54を形成して作られており、
本発明に係る光学的位置ずれ測定装置により、下地マー
ク53に対するレジストマーク54の重ね合わせ位置ず
れを測定する。
【0018】この光学的位置ずれ測定装置は、測定マー
ク52に照明光を照射するための照明光学系10と、測
定マークからの反射光を集光して測定マークの像を結像
させる結像光学系20と、このように結像された測定マ
ークの像を撮影する撮像装置30と、撮像装置により得
られた画像信号を処理する画像処理装置35と、撮像装
置30による撮像における焦点合わせ制御(合焦制御)
を行うオートフォーカス装置40とを備える。
【0019】まず、照明光学系10は、照明光源11、
照明開口絞り12およびコンデンサーレンズ13を備
え、照明光源11から射出される照明光束は照明開口絞
り12により特定の光束系に絞られてコンデンサーレン
ズ13に入力されて集光される。コンデンサーレンズ1
3によって集光された照明光は視野絞り14を均一に照
明する。視野絞り14は、図1においてハッチングを施
して示すように、長方形状の絞り開口S1を有する。な
お、絞り開口S1を図1内に拡大して示しているが、図
示のようにX軸およびZ軸に対して斜めに45度傾いて
設けられている。この照明光学系10において、後述す
る測定誤差調整のため、照明開口絞り12の位置調整
(X−Z方向の位置)を行う機構(図示せず)が設けら
れている。
【0020】視野絞り14の視野開口S1を透過して射
出される照明光は照明リレーレンズ15に入射し、この
照明リレーレンズ15によってコリメートされて平行光
束となった状態で第1ビームスプリッタ16に入射す
る。第1ビームスプリッタ16において反射された照明
光は下方に出射され、第1対物レンズ17によって集光
されてウエハ51上の測定マーク52を垂直に照射す
る。ここで、視野絞り14と測定マーク52とは照明光
学系10において共役な位置に配設されており、ウエハ
51の測定マーク52に対して、視野開口S1の形状に
対応する長方形状の領域が照明光により照射される。
【0021】このようにして測定マーク52を含むウエ
ハ51の表面に照明光が照射されて出てくる反射光が、
結像光学系20を介して撮像装置30に導かれる。具体
的には、この反射光は第1対物レンズ17によってコリ
メートされて平行光束となり、第1ビームスプリッタ1
6を通過して、第1ビームスプリッタ16の上方に配設
された第2対物レンズ21によって一次結像面28に測
定マーク52の像を形成する。さらに、第1結像リレー
レンズ22を透過し、結像開口絞り23により特定の光
束径に絞られ、第2結像リレーレンズ24によって二次
結像面29に測定マーク52の像を形成する。この結像
光学系20において、後述する測定誤差調整のため、第
2対物レンズ21および結像開口絞り23の位置調整
(X−Y方向の位置)を行う機構(図示せず)がそれぞ
れ設けられている。
【0022】この二次結像面29と撮像面31とが一致
するようにCCDカメラ(撮像装置)30が配設されて
おり、測定マーク52の像がCCDカメラ30により撮
像される。そして、CCDカメラ30により得られた画
像信号が画像処理装置35に送られて後述するように信
号処理される。この構成から分かるように、測定マーク
52と撮像面31とは共役な位置関係にある。
【0023】結像光学系20の一次結像面28の後側に
第2ビームスプリッタ25が配設されており、この第2
ビームスプリッタ25により分岐された反射光を受ける
位置にオートフォーカス装置40が設けられている。こ
のオートフォーカス装置40において、第2ビームスプ
リッタ25から分岐された光束はAF第1リレーレンズ
41に入射してコリメートされて平行光束となり、平行
平面ガラス板42を透過し、瞳分割ミラー43に照明開
口絞り12の像を結像する。平行平面ガラス板42は紙
面に垂直な軸42aを中心としてチルト調整可能であ
り、光屈折を利用して平行光束を図1の紙面における上
下に平行移動させる調整を行う。これにより、後述する
ように、瞳分割ミラー43に対する照明開口絞り12の
像の中心を瞳分割ミラー43の中心に位置あわせする調
整が可能である。
【0024】なお、第2ビームスプリッタ25からの分
岐光の射出光軸方向は、図1においては照明光学系10
の光軸と平行になるように示しているが、実際には、照
明光学系10に対してX−Y平面上で45度傾いた方向
になるように第2ビームスプリッタ25が配設されてい
る。すなわち、Z視(平面視)において、照明光学系1
0の光軸と分岐光の光軸とは45度の角度をなす。この
ため、スリットS1における矢印Aで示す方向(これを
計測方向と称する)が図1における第2ビームスプリッ
タ25から瞳分割ミラー43に至る経路において上下方
向となり、矢印Bで示す方向(これを非計測方向と称す
る)が図1における紙面に垂直な方向となる。
【0025】このようにして瞳分割ミラー43に入射し
た平行光束は計測方向に二分割されて二つの光束L1,
L2に分かれてAF第2リレーレンズ44に入射する。そ
して、AF第2リレーレンズ44により集光された後、
図1における紙面に直角な断面において凸レンズ形状を
示すシリンドリカルレンズ45により非計測方向に収束
される。シリンドリカルレンズ45は紙面内における横
方向には屈折力を持たないため、上記二つの光束L1,
L2は計測方向(紙面内方向)においてAF第2リレー
レンズ44により集光されてラインセンサからなるAF
センサ46上にそれぞれ光源像を結像する。
【0026】このようにしてAFセンサ46上に二つの
光源像が結像するのであるが、図2に、結像位置がAF
センサ46より前側にずれた状態(図2(A))、AF
センサ46上に合焦した状態(図2(B))、AFセン
サ46より後側にずれた状態(図2(C))を示してい
る。図2(B)に示すように二つの光源像が合焦した状
態で、ウエハ51の像がCCDカメラ30に合焦するよ
うに予め位置設定がなされており、合焦位置からずれる
とAFセンサ46上における二つの光源像の中心位置P
1,P2間の距離が狭くなったり、広くなったりする。
【0027】例えば、ウエハ51の像がCCDカメラ3
0に合焦した状態からウエハ51を載置したステージ5
0を下方に移動させると、図2(A)に示すように結像
位置がAFセンサ46より前側にずれ、二つの光源像の
中心位置間の距離が近づく。一方、ウエハ51の像がC
CDカメラ30に合焦した状態からウエハ51を載置し
たステージ50を上方に移動させると、図2(C)に示
すように結像位置がAFセンサ46より後側にずれ、二
つの光源像の中心位置間の距離が離れる。
【0028】AFセンサ46の検出信号はAF信号処理
部47に送られ、ここでAFセンサ46上に結像された
二つの光源像の中心位置間の距離が算出される。そし
て、この中心間距離を、予め測定記憶されている合焦状
態における中心間距離と比較し、両距離の差を計算して
焦点位置情報としてステージ制御部55に出力する。す
なわち、ウエハ51の像がCCDカメラ30に合焦した
状態でのAFセンサ46上における二つの光源像の中心
位置間の距離が予め測定記憶されており、これと実際に
検出された中心間距離との差が合焦状態との差であり、
この差を焦点位置情報としてステージ制御部55に出力
する。そして、ステージ制御部55においては、上記差
を無くすようにステージ50を上下させ、ウエハ51が
上下移動されその像をCCDカメラ30に合焦させる調
整、すなわち、オートフォーカス調整が行われる。
【0029】なお、このようにしてオートフォーカス調
整に用いられる二つの光源像は、図1に示すように、視
野絞り14に形成された非計測方向(B方向)に長いス
リットS1からの光束から作られる。このとき、非計測
方向に広がった光束L1,L2はシリンドリカルレンズ
45により集束されてAFセンサ46上に集められるよ
うになっている。これによりウエハ51の表面からの反
射ムラを平均化することができ、AFセンサ46による
検出精度が向上する。
【0030】次に、以上のような構成の光学的位置ずれ
測定装置による位置ずれ測定について説明する。この位
置ずれ測定のために、ウエハ51に測定マーク52が設
けられている。この測定マーク52は、図3に示すよう
に、ウエハ51の表面に形成された矩形状の凹部からな
る下地マーク53と、フォトリソグラフィー製造工程に
おいてレジストパターンの形成と同時に下地マーク53
の上に形成されるレジストマーク54とから構成され
る。フォトリソグラフィー製造工程において、レジスト
マーク54は下地マーク53の中央に位置して形成され
るように設定されており、下地マーク53に対するレジ
ストマーク54の位置ずれ量が下地パターンに対するレ
ジストパターンの重ね合わせ位置ずれ量に対応する。こ
のため、図3に示すように、下地マーク53の中心線C
1とレジストマーク54の中心線C2との間隔Rを重ね
合わせ位置ずれ量として上記の構成の光学的位置ずれ測
定装置により測定される。なお、図3に示す重ね合わせ
位置ずれ量RはY軸方向(横方向)の位置ずれ量である
が、これと直角方向すなわちX軸方向(縦方向)の位置
ずれ量も同様に測定される。
【0031】このようにして測定マーク52における重
ね合わせ位置ずれ量Rの測定を行うときに、測定光学系
(すなわち、照明光学系10および結像光学系20)に
収差、特に、非回転対称な収差が存在すると、この重ね
合わせ位置ずれ量Rの測定値に測定誤差TISが含まれ
るという問題がある。この測定誤差TISについて、簡
単に説明する。この測定は、図4(A)および(B)に
示すように、測定マーク52を0度と180度との二方
向について行う。すなわち、まず、図4(A)に示すよ
うに、仮想的に示した位置マーク53aが左に位置する
状態で下地マーク53に対するレジストマーク54の重
ね合わせ位置ずれ量Rを測定し、次に図4(B)に示
すように、測定マーク52を180度回転させて、仮想
位置マーク53aが右に位置する状態で重ね合わせ位置
ずれ量R180を測定し、次式(1)により測定誤差T
ISを計算する。
【0032】
【数1】 TIS = ( R0 + R180 )/2 ・・・(1)
【0033】式(1)から分かるように、下地マーク5
3に対してレジストマーク54の重ね合わせ位置ずれが
あっても、式(1)により演算される測定誤差TISは
理論的には零になるべきものである。しかしながら、測
定光学系に光学的な収差、特に非回転対称な収差がある
ばあい、測定マーク52を上記のように180度回転さ
せても、この収差は回転される訳ではないため、式
(1)の計算結果から収差の影響のみに対応する値が測
定誤差TISとして求められる。
【0034】このような光学的収差により発生する測定
誤差TISを含んだままで、上述した光学的位置ずれ測
定装置により重ね合わせ位置ずれ量Rを測定したので
は、正確な重ね合わせ位置ずれ量Rを測定することがで
きない。このため、本発明に係る光学的位置ずれ測定装
置においては、上記測定誤差TISの影響をできる限り
抑えるような調整を行うようにしている。さらに、オー
トフォーカス装置40における瞳分割ミラー43に対す
る中心位置合わせ調整も必要であり、これらの調整につ
いて以下に説明する。
【0035】まず最初にオートフォーカス装置40の調
整が行われる。前述したように瞳分割ミラー43により
二つの光束L1,L2に分割されるときに、両光束L
1,L2の光量が等しくないとオートフォーカス調整が
不正確となるおそれがある。このため、両光束L1,L
2の光量が等しくなるように、すなわち、瞳分割ミラー
43に結像された照明開口絞り12の像の中心が瞳分割
ミラー43の中心と一致させることが求められる。
【0036】ここで、AFセンサ46に視野絞り14の
スリットS1の像が結像した状態を図5(A)に示して
おり、この図のように、二つの像IM(L1)およびIM(L
2)が結像される。これによりAFセンサ46はこれら二
つの像を検出し、図5(B)に示すようなプロファイル
信号を出力する。瞳分割ミラー43による分割がずれて
両光束L1,L2の光量に差があると、図5(B)に示
すように、プロファイル信号強度i(L1)およびi(L2)に
差Δiが発生する。このままでは、二つの像の中心位置
間の距離Dの測定が不正確になるおそれがある。このた
め、このように信号強度差Δiが検出されたときには、
この差を無くすように、平行平面ガラス板42のチルト
調整が行われ、瞳分割ミラー43に入射する光束の中心
光軸位置を図1における上下方向に平行移動させる調
整、すなわち瞳分割ミラー43の中心に一致させる調整
を行う。このようにして光束L1,L2の光量が等しく
なるようにすれば、オートフォーカス装置40の調整が
完了する。
【0037】次に、測定誤差TISの影響に対する調整
を行う。この調整は、照明開口絞り12、結像開口絞り
23および第2対物レンズ21の位置調整により行われ
る。この調整は、図6に示すような形状のL/Sマーク
60を有したウエハを、図1に示す装置におけるウエハ
51に代えてステージ50の上に載置し、照明光学系1
1によりL/Sマーク60を照明してCCDカメラ30
により撮像されたL/Sマーク像を画像処理することに
より行われる。このL/Sマーク60は、図6(A)お
よび(B)に示すように、線幅3μm、段差0.085
μm(照射光λの1/8相当)で、ピッチ6μmの平行
に延びる複数の線状マーク61〜67からなるマークで
ある。
【0038】CCDカメラ30により撮像されたL/S
マーク像を画像処理装置35により処理して画像信号強
度を求めると、そのプロファイルは図6(C)に示すよ
うになる。ここで、各線状マーク61〜67の段差位置
において信号強度が低下するが、各線状マーク毎におけ
る左右両側の段差位置での信号強度差ΔIを求め、これ
を全線状マーク61〜67について平均することによ
り、L/Sマーク像の非対象性を示すQ値(Q=1/7
×Σ(ΔI/I)×100(%))を求める。次に、ス
テージ50を上下方向(Z方向)に移動させてL/Sマ
ーク60をZ方向に移動させ、各高さ位置(Z方向位
置)毎にQ値を求めてQ値のフォーカス特性を求める
と、例えば図7に示すようなQZ曲線が得られる。
【0039】図7には、二種類のQZ曲線、すなわち、
QZ曲線(1)およびQZ曲線(2)を示しており、Q
Z曲線(1)の場合には非回転対称な収差が大きく、Q
Z曲線(2)の場合には非回転対称な収差が小さい。こ
のため、QZ曲線(2)となるような調整を行えば良い
と考えられる。
【0040】このような調整(これをQZ調整と称す
る)について以下に簡単に説明する。この調整は、上述
のように照明開口絞り12、結像開口絞り23および第
2対物レンズ21の位置調整により行われるが、各位置
調整毎のQZ曲線の変化特性を図8に示している。ま
ず、照明開口絞り12の位置調整を行えば、図8(A)
に矢印Aで示すように、QZ曲線を上下に平行シフト移
動させる調整となる。この図に示すように、各QZ曲線
の最大Q値、すなわち、Z軸まで平行移動させるに必要
なシフト量をシフト量αと称する。結像開口絞り23の
位置調整を行えば、図8(B)に矢印Bで示すように、
QZ曲線の凸形状を平坦化する調整となる。この図に示
すように、各QZ曲線の最大突出量を突出量βと称す
る。第2対物レンズ21の位置調整を行えば、図8
(C)に矢印Cで示すように、QZ曲線の傾斜角度を変
化させる調整となる。この図に示すように、各QZ曲線
の最大最小値の差を傾き量γと称する。
【0041】本発明では、このような調整に伴うQZ曲
線の変化特性を勘案して、最も調整が適切且つ簡単とな
るような調整方法を行う。ここで一般的に言って、図1
に示す構成の光学的位置ずれ測定装置を設計値通りに機
械的に組み立てて配置しただけの状態では、QZ特性は
大きく崩れた状態であり、例えば、図9においてQZ
(1)で示す線のような特性である。これを図7において
示すQZ曲線(2)のような状態にするために、以下に
示す順序で調整を行う。
【0042】まず、調整感度が敏感な結像開口絞り23
を調整する。この調整は、図8(B)に示したように凸
形状を平坦化する調整であり、図9において矢印Bで示
すように、QZ(2)で示す曲線からQZ(3)で示す曲線と
する調整を行う。この調整は、これら各QZ曲線の両端
を結ぶ第1基準線BL(1)に対する突出量βを所定範囲
内(例えば、±0.5%以内)とするように行われる。
【0043】次に、第2対物レンズ21の位置調整を行
う。この調整は図8(C)に示したようにQZ曲線の傾
斜を変化させる調整であり、図9において矢印Cで示す
ように、平坦化された曲線QZ(3)の傾斜をQZ(4)で示
すように水平に変化させる調整を行う。ここで、この調
整の前に結像開口絞り23の位置調整によりQZ曲線を
平坦化(直線化)しているため、この傾斜調整を的確に
行うことが可能である。この調整は、曲線QZ(4)の中
心位置を通る水平ラインである第2基準線BL(2)に対
する傾き量γを所定範囲内(例えば、±1.0%以内)
とするように行われる。
【0044】上記二つの調整により、QZ(4)で示すよ
うにZ軸に平行な直線に近い状態となり、これとZ軸と
の間隔が照明開口絞り12の位置ずれ量を示している。
そこで、照明開口絞り12の位置調整を行い、図9にお
いて矢印Aで示すように、水平直線状となった曲線QZ
(4)をQZ(5)からQZ(6)と平行シフト移動させる調整
を行う。この調整は、曲線QZ(6)のシフト量αを所定
範囲内(例えば、±0.5%以内)とするように行われ
る。その結果、QZ(6)で示される非回転対称な収差の
小さな特性が得られる。
【0045】なお、照明開口絞り12の調整感度は、他
の二つの調整感度(結像開口絞り23および第2対物レ
ンズ21の調整感度)より鈍く、照明開口絞り12の位
置が多少ずれていてもその判断指標となる平行シフト量
の変化量は小さい。このため、これら他の二つの調整を
行った後でないと照明開口絞り12の調整量を正確に判
断することが難しい。このような理由から照明開口絞り
12の調整を最後に行うようにしている。
【0046】上記の調整において、照明光学系10はオ
ートフォーカス装置40の光路を兼用しているため、上
記照明開口絞り12の調整によりオートフォーカス装置
40の調整が影響を受ける。このため、上記調整が行わ
れた後、オートフォーカス装置40の調整(平行平面ガ
ラス板42のチルト調整)が再度行われる。
【0047】以上まとめると、オートフォーカス装置4
0の調整と、QZ調整とは以下の手順で行われる。
【0048】
【表1】(1) オートフォーカス装置40における平行
平面ガラス板42のチルト調整 (2) 結像開口絞り23の調整 (3) 第2対物レンズ21の調整 (4) 照明開口絞り12の調整 (5) 平行平面ガラス板42のチルト調整
【0049】一度の上記(1)〜(4)の調整ではQZ
曲線で示される特性におけるQ値がある定量的な規格内
に入らないときには、規格内に入るまで上記(1)〜
(4)の調整を繰り返す。
【0050】以上説明した調整を自動化して行うように
しても良く、この例を図10および図11のフローチャ
ートを参照して説明する。なお、これら両図において、
丸囲み符号A同士が繋がって一つのフローチャートを構
成する。
【0051】まず最初にオートフォーカス調整が行われ
る(ステップS1)。但し、これは文字通り元来自動的
に行われるものである。次に、結像開口絞り23の調整
を行う(ステップS2およびS3)。この調整はQZ曲
線を求めながら図9において矢印Bで示すように、QZ
(2)で示す曲線からQZ(3)で示す曲線とする調整を行
う。この調整は、これら各QZ曲線の両端を結ぶ第1基
準線BL(1)に対する突出量βを±1%以内とするまで
行われる。
【0052】次に、第2対物レンズ21の位置調整を行
う(ステップS4およびS5)。この調整はQZ曲線を
求めながら図9において矢印Cで示すように、平坦化さ
れた曲線QZ(3)の傾斜をQZ(4)で示すように水平に変
化させる調整を行う。この調整は、第2基準線BL(2)
に対する傾き量γを2%以内とするまで行われる。
【0053】そして、照明開口絞り12の位置調整を行
う(ステップS6およびS7)。この調整はQZ曲線を
求めながら図9において矢印Aで示すように、水平直線
状となった曲線QZ(4)をQZ(5)からQZ(6)と平行シ
フト移動させる調整を行う。この調整は、シフト量αを
1%以内とするまで行われる。
【0054】以上により、一次調整が完了するが、照明
開口絞り12の調整によりオートフォーカス調整がずれ
る可能性があり、ステップS8においてオートフォーカ
ス調整を再度行う。以上の調整を行った時点で、突出量
βが±0.5%以内で、傾き量γが1%以内で、シフト
量αが0.5%以内となっているか否か、すなわち、突
出量β、傾き量γおよびシフト量αが所定の範囲内に納
まっているか否かを判断する(ステップS9)。このよ
うに所定の範囲内に納まっていればこれ以上の調整は不
要であるので自動調整完了する。
【0055】一方、所定の範囲内に納まっていない場合
には、ステップS10以下の二次調整を行う。この調整
は、ステップS10およびS11における結像開口絞り
23の調整から開始し、ここでQZ曲線の突出量βを±
0.5%以内とする。次に、ステップS12およびステ
ップS13に進んで第2対物レンズ21の位置調整を行
い、ここでQZ曲線の傾き量γを1%以内とする。さら
に、ステップS14およびS15に進んで照明開口絞り
12の位置調整を行い、ここでQZ曲線のシフト量αを
0.5%以内とする。
【0056】この後、オートフォーカス調整を再度行い
(ステップS16)、ステップS17において、突出量
βが±0.5%以内で、傾き量γが1%以内で、シフト
量αが0.5%以内となっているか否か、すなわち、突
出量β、傾き量γおよびシフト量αが所定の範囲内に納
まっているか否かを判断する。このように所定範囲内に
納まっていない場合には、ステップS10に戻り上記二
次調整を再度行う。所定範囲内に納まったことが確認さ
れれば、この自動調整が完了する。
【0057】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
測定マークを照明する照明光学系と、この測定マークか
らの反射光を集光して測定マークの像を結像させる結像
光学系と、この結像光学系により結像された測定マーク
の像を撮影する撮像装置と、この撮像装置により得られ
た画像信号を処理して測定マークの位置ずれを測定する
画像処理装置とを有して構成される光学的位置ずれ測定
装置において、照明光学系および結像光学系を構成する
複数の光学要素の位置調整を可能となし、これら複数の
光学要素の位置調整を所定の順序で行って測定誤差調整
を行うように調整装置および調整方法が構成される。
【0058】このような本発明によれば、照明開口絞
り、結像開口絞り、対物レンズなどの調整要素の調整を
所定の順序に従って行えば、オートフォーカス光学系の
調整も含めて簡単に且つ正確に調整を行う、測定誤差T
ISを除去することができる。また、このように所定の
順序に従って行う調整であり、これを自動化することが
簡単である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明により調整される光学的位置ずれ測定装
置の構成を示す説明図である。
【図2】オートフォーカス装置における結像状態を示す
説明図である。
【図3】光学的位置ずれ検出に用いられる測定マークを
示す平面図および断面図である。
【図4】上記測定マークを0度および180度回転した
位置で示す平面図である。
【図5】オートフォーカス装置におけるAFセンサへの
結像状態を示す説明図である。
【図6】L/Sマークを示す平面図および断面図と、L
/Sマーク像の画像信号強度プロファイルを示すグラフ
である。
【図7】L/Sマーク像全体についてのQZ曲線を示す
グラフである。
【図8】照明開口絞り、結像開口絞りおよび第2対物レ
ンズ21の調整により変化するQZ曲線の特性を示すグ
ラフである。
【図9】結像開口絞り調整、第2対物レンズ調整、照明
開口絞り調整をこの順で行った場合でのQZ曲線の変化
を示すグラフである。
【図10】オートフォーカス調整、結像開口絞り調整、
第2対物レンズ調整、照明開口絞り調整を自動的に行う
手順を示すフローチャートである。
【図11】オートフォーカス調整、結像開口絞り調整、
第2対物レンズ調整、照明開口絞り調整を自動的に行う
手順を示すフローチャートである。
【符号の説明】
10 照明光学系 12 照明開口絞り 14 視野絞り 20 結像光学系 16 第1ビームスプリッタ 22 第2対物レンズ 23 結像開口絞り 25 第2ビームスプリッタ 30 CCDカメラ 35 画像処理装置 40 オートフォーカス装置 42 平行平面ガラス板 43 瞳分割ミラー 45 シリンドリカルレンズ 46 AFセンサ 50 ステージ 51 ウエハ 54 レジストマーク 60 L/Sマーク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 7/11 M Fターム(参考) 2F065 AA07 BB28 CC19 DD10 FF04 JJ03 JJ26 LL00 LL04 LL08 LL30 LL46 NN03 2H051 AA10 BA03 BA20 CB02 CB06 CB07 CB11 CB14 CB20 CC04 DA11 5F046 BA03 DA13 DA14 DB05 DC12 EA03 EA09 FA10 FB12

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 測定マークを照明する照明光学系と、前
    記測定マークからの反射光を集光して前記測定マークの
    像を結像させる結像光学系と、前記結像光学系により結
    像された前記測定マークの像を撮影する撮像装置と、前
    記撮像装置により得られた画像信号を処理して前記測定
    マークの位置ずれを測定する画像処理装置とを有して構
    成される光学的位置ずれ測定装置において、 前記照明光学系および前記結像光学系を構成する複数の
    光学要素の位置調整が可能に構成され、前記複数の光学
    要素の位置調整を所定の順序で行って測定誤差調整を行
    うように構成されていることを特徴とする光学的位置ず
    れ測定装置の調整装置。
  2. 【請求項2】 前記測定誤差調整が、前記測定マークに
    代えて複数の平行な線状マークからなるL/Sマークを
    用いて得られるQZ曲線に基づいて行われることを特徴
    とする請求項1に記載の調整装置。
  3. 【請求項3】 前記L/Sマークを前記照明光学系によ
    り照明し、その反射光を前記結像光学系により集光して
    結像された前記L/Sマークの像を前記撮像装置により
    撮影し、得られた画像信号を前記画像処理装置により処
    理して前記L/Sマークの非対象性を示すQ値を求め、 前記L/Sマークを光軸方向(Z方向)に移動させて得
    られる前記Q値から前記QZ曲線を求めることを特徴と
    する請求項2に記載の調整装置。
  4. 【請求項4】 前記複数の光学要素が、前記照明光学系
    を構成する照明開口絞りと、前記結像光学系を構成する
    対物レンズおよび結像開口絞りからなることを特徴とす
    る請求項1〜3のいずれかに記載の調整装置。
  5. 【請求項5】 最初に前記結像開口絞りの位置調整を行
    い、次に前記対物レンズの位置調整を行い、最後に前記
    照明開口絞りの位置調整を行うように前記所定の順序が
    設定されていることを特徴とする請求項4に記載の調整
    装置。
  6. 【請求項6】 前記結像開口絞りの位置調整により前記
    QZ曲線の凸形状を平坦化する調整を行い、前記対物レ
    ンズの位置調整により前記QZ曲線の傾きを変化させる
    調整を行い、前記照明開口絞りの位置調整により前記Q
    Z曲線をQ値方向に平行シフト移動させる調整を行うこ
    とを特徴とする請求項4もしくは5に記載の調整装置。
  7. 【請求項7】 前記位置調整を自動的に行うことを特徴
    とする請求項5もしくは6に記載の調整装置。
  8. 【請求項8】 前記結像光学系から分岐して、前記結像
    光学系により結像された像を前記撮像装置により撮影す
    るときのオートフォーカス調整を行うオートフォーカス
    装置が設けられていることを特徴とする請求項1〜3の
    いずれかに記載の調整装置。
  9. 【請求項9】 前記複数の光学要素が、前記照明光学系
    を構成する照明開口絞りと、前記結像光学系を構成する
    対物レンズおよび結像開口絞りからなり、 最初に、前記オートフォーカス装置によるオートフォー
    カス調整を行い、二番目に前記結像開口絞りの位置調整
    を行い、三番目に前記対物レンズの位置調整を行い、最
    後に前記照明開口絞りの位置調整を行うように前記所定
    の順序が設定されていることを特徴とする請求項8に記
    載の調整装置。
  10. 【請求項10】 前記照明開口絞りの位置調整を最後に
    行った後、前記Q値が所定範囲内に収まらないときに
    は、前記オートフォーカス調整、前記結像開口絞りの位
    置調整、前記対物レンズの位置調整および前記照明開口
    絞りの位置調整を前記所定の順序で再度繰り返して行う
    ことを特徴とする請求項9に記載の調整装置。
  11. 【請求項11】 前記照明開口絞りの位置調整を最後に
    行った後、前記オートフォーカス装置によるオートフォ
    ーカス調整を再度行うことを特徴とする請求項9もしく
    は10に記載の調整装置。
  12. 【請求項12】 前記オートフォーカス調整および前記
    位置調整を自動的に行うことを特徴とする請求項9〜1
    1のいずれかに記載の調整装置。
  13. 【請求項13】 測定マークを照明する照明光学系と、
    前記測定マークからの反射光を集光して前記測定マーク
    の像を結像させる結像光学系と、前記結像光学系により
    結像された前記測定マークの像を撮影する撮像装置と、
    前記撮像装置により得られた画像信号を処理して前記測
    定マークの位置ずれを測定する画像処理装置とを有して
    構成される光学的位置ずれ測定装置において、 前記照明光学系および前記結像光学系を構成する複数の
    光学要素の位置調整を所定の順序で行って測定誤差調整
    を行うことを特徴とする光学的位置ずれ測定装置の調整
    方法。
  14. 【請求項14】 前記測定誤差調整が、前記測定マーク
    に代えて複数の平行な線状マークからなるL/Sマーク
    を用いて得られるQZ曲線に基づいて行われることを特
    徴とする請求項13に記載の調整方法。
  15. 【請求項15】 前記L/Sマークを前記照明光学系に
    より照明し、その反射光を前記結像光学系により集光し
    て結像された前記L/Sマークの像を前記撮像装置によ
    り撮影し、得られた画像信号を前記画像処理装置により
    処理して前記L/Sマークの非対象性を示すQ値を求
    め、 前記L/Sマークを光軸方向(Z方向)に移動させて得
    られる前記Q値から前記QZ曲線を求めることを特徴と
    する請求項14に記載の調整方法。
  16. 【請求項16】 前記複数の光学要素が、前記照明光学
    系を構成する照明開口絞りと、前記結像光学系を構成す
    る対物レンズおよび結像開口絞りからなり、 最初に前記結像開口絞りの位置調整を行い、次に前記対
    物レンズの位置調整を行い、最後に前記照明開口絞りの
    位置調整を行うことを特徴とする請求項13〜15のい
    ずれかに記載の調整方法。
  17. 【請求項17】 前記結像光学系から分岐して、前記結
    像光学系により結像された像を前記撮像装置により撮影
    するときのオートフォーカス調整を行うオートフォーカ
    ス装置が設けられており、 最初に、前記オートフォーカス装置によるオートフォー
    カス調整を行い、二番目に前記結像開口絞りの位置調整
    を行い、三番目に前記対物レンズの位置調整を行い、最
    後に前記照明開口絞りの位置調整を行うことを特徴とす
    る請求項16に記載の調整方法。
JP2000356350A 2000-11-22 2000-11-22 光学的位置ずれ測定装置の調整装置および方法 Expired - Fee Related JP4613357B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000356350A JP4613357B2 (ja) 2000-11-22 2000-11-22 光学的位置ずれ測定装置の調整装置および方法
KR1020010072189A KR20020040569A (ko) 2000-11-22 2001-11-20 광학적 위치어긋남 측정장치의 조정장치 및 방법
CNB011349735A CN1230873C (zh) 2000-11-22 2001-11-20 位置偏移光学测定装置的调整装置和调整方法
TW090128880A TW502108B (en) 2000-11-22 2001-11-22 Apparatus and method of adjusting an optical device for detection of position deviation
US09/990,260 US20020060793A1 (en) 2000-11-22 2001-11-23 Optical positional displacement measuring apparatus and adjustment method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000356350A JP4613357B2 (ja) 2000-11-22 2000-11-22 光学的位置ずれ測定装置の調整装置および方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002164266A true JP2002164266A (ja) 2002-06-07
JP4613357B2 JP4613357B2 (ja) 2011-01-19

Family

ID=18828614

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000356350A Expired - Fee Related JP4613357B2 (ja) 2000-11-22 2000-11-22 光学的位置ずれ測定装置の調整装置および方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20020060793A1 (ja)
JP (1) JP4613357B2 (ja)
KR (1) KR20020040569A (ja)
CN (1) CN1230873C (ja)
TW (1) TW502108B (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006046430A1 (ja) * 2004-10-29 2006-05-04 Nikon Corporation 焦点検出装置
WO2006057451A1 (ja) * 2004-11-29 2006-06-01 Nikon Corporation オートフォーカス装置および光学測定評価方法
JP2006154258A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Nikon Corp オートフォーカス装置
JP2007171761A (ja) * 2005-12-26 2007-07-05 Nikon Corp 焦点検出装置およびオートフォーカス装置
US7456967B2 (en) 2003-02-28 2008-11-25 Nikon Corporation Mark position detection apparatus
JP2009016761A (ja) * 2007-07-09 2009-01-22 Canon Inc 位置検出装置の調整方法、露光装置及びデバイス製造方法
US7580121B2 (en) 2004-10-29 2009-08-25 Nikon Corporation Focal point detection apparatus
JP2012227551A (ja) * 2012-08-03 2012-11-15 Nikon Corp マーク検出方法及び装置、位置制御方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法

Families Citing this family (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3882588B2 (ja) * 2001-11-12 2007-02-21 株式会社ニコン マーク位置検出装置
US6975399B2 (en) * 1998-08-28 2005-12-13 Nikon Corporation mark position detecting apparatus
DE60336074D1 (de) * 2002-10-11 2011-03-31 Univ Connecticut Mischungen von amorphen und semikristallinen polymeren mit formgedächtniseigenscchaften
US6955074B2 (en) * 2003-12-29 2005-10-18 Asml Netherlands, B.V. Lithographic apparatus, method of calibration, calibration plate, device manufacturing method, and device manufactured thereby
US7218399B2 (en) * 2004-01-21 2007-05-15 Nikon Corporation Method and apparatus for measuring optical overlay deviation
JP3880589B2 (ja) * 2004-03-31 2007-02-14 キヤノン株式会社 位置計測装置、露光装置及びデバイス製造方法
US7528954B2 (en) * 2004-05-28 2009-05-05 Nikon Corporation Method of adjusting optical imaging system, positional deviation detecting mark, method of detecting positional deviation, method of detecting position, position detecting device and mark identifying device
US7433039B1 (en) * 2004-06-22 2008-10-07 Kla-Tencor Technologies Corporation Apparatus and methods for reducing tool-induced shift during overlay metrology
JP4444984B2 (ja) * 2007-04-18 2010-03-31 アドバンスド・マスク・インスペクション・テクノロジー株式会社 レチクル欠陥検査装置およびこれを用いた検査方法
JPWO2010113756A1 (ja) * 2009-03-30 2012-10-11 シャープ株式会社 二次元測定機および二次元測定方法
WO2012011406A1 (ja) * 2010-07-23 2012-01-26 コニカミノルタオプト株式会社 絞り位置測定方法、絞り位置測定装置、絞り位置決め方法及び絞り位置決め装置
TWI467155B (zh) 2011-12-14 2015-01-01 Ind Tech Res Inst 調整針孔位置與大小之光學裝置及其方法
CN102589428B (zh) * 2012-01-17 2014-01-29 浙江大学 基于非对称入射的样品轴向位置跟踪校正的方法和装置
SG11201502436SA (en) * 2012-09-28 2015-04-29 Rudolph Technologies Inc Inspection of substrates using calibration and imaging
WO2015200315A1 (en) * 2014-06-24 2015-12-30 Kla-Tencor Corporation Rotated boundaries of stops and targets
CN105988293B (zh) * 2015-01-27 2018-09-21 志圣工业股份有限公司 检测底片误差的方法及其系统
US9881194B1 (en) * 2016-09-19 2018-01-30 Hand Held Products, Inc. Dot peen mark image acquisition
US11178392B2 (en) * 2018-09-12 2021-11-16 Apple Inc. Integrated optical emitters and applications thereof
CN114518693B (zh) * 2020-11-19 2024-05-17 中国科学院微电子研究所 套刻误差补偿方法及光刻曝光方法
TWI765567B (zh) * 2021-02-08 2022-05-21 上銀科技股份有限公司 量測進給系統的位置誤差的方法
DE102022108474B4 (de) 2022-04-07 2024-03-07 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Verfahren und Messkamera zur Messung eines Oberflächenprofils eines Objekts

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10223517A (ja) * 1997-01-31 1998-08-21 Nikon Corp 合焦装置、それを備えた観察装置及びその観察装置を備えた露光装置
WO1999040613A1 (fr) * 1998-02-09 1999-08-12 Nikon Corporation Procede de reglage d'un detecteur de position
JP2000077295A (ja) * 1998-08-28 2000-03-14 Nikon Corp 光学系の検査装置および検査方法並びに該検査装置を備えた位置合わせ装置および投影露光装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3379200B2 (ja) * 1994-03-25 2003-02-17 株式会社ニコン 位置検出装置
US5783833A (en) * 1994-12-12 1998-07-21 Nikon Corporation Method and apparatus for alignment with a substrate, using coma imparting optics
US5754299A (en) * 1995-01-13 1998-05-19 Nikon Corporation Inspection apparatus and method for optical system, exposure apparatus provided with the inspection apparatus, and alignment apparatus and optical system thereof applicable to the exposure apparatus
TW341719B (en) * 1996-03-01 1998-10-01 Canon Kk Surface position detecting method and scanning exposure method using the same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10223517A (ja) * 1997-01-31 1998-08-21 Nikon Corp 合焦装置、それを備えた観察装置及びその観察装置を備えた露光装置
WO1999040613A1 (fr) * 1998-02-09 1999-08-12 Nikon Corporation Procede de reglage d'un detecteur de position
JP2000077295A (ja) * 1998-08-28 2000-03-14 Nikon Corp 光学系の検査装置および検査方法並びに該検査装置を備えた位置合わせ装置および投影露光装置

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7456967B2 (en) 2003-02-28 2008-11-25 Nikon Corporation Mark position detection apparatus
WO2006046430A1 (ja) * 2004-10-29 2006-05-04 Nikon Corporation 焦点検出装置
JP2006126540A (ja) * 2004-10-29 2006-05-18 Nikon Corp 焦点検出装置
US7580121B2 (en) 2004-10-29 2009-08-25 Nikon Corporation Focal point detection apparatus
JP4604651B2 (ja) * 2004-10-29 2011-01-05 株式会社ニコン 焦点検出装置
WO2006057451A1 (ja) * 2004-11-29 2006-06-01 Nikon Corporation オートフォーカス装置および光学測定評価方法
JP2006154258A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Nikon Corp オートフォーカス装置
JP4573163B2 (ja) * 2004-11-29 2010-11-04 株式会社ニコン オートフォーカス装置およびオートフォーカス調整方法
JP2007171761A (ja) * 2005-12-26 2007-07-05 Nikon Corp 焦点検出装置およびオートフォーカス装置
JP2009016761A (ja) * 2007-07-09 2009-01-22 Canon Inc 位置検出装置の調整方法、露光装置及びデバイス製造方法
JP2012227551A (ja) * 2012-08-03 2012-11-15 Nikon Corp マーク検出方法及び装置、位置制御方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW502108B (en) 2002-09-11
JP4613357B2 (ja) 2011-01-19
KR20020040569A (ko) 2002-05-30
US20020060793A1 (en) 2002-05-23
CN1230873C (zh) 2005-12-07
CN1354395A (zh) 2002-06-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4613357B2 (ja) 光学的位置ずれ測定装置の調整装置および方法
JP2890882B2 (ja) 位置付け方法、半導体デバイスの製造方法及びそれを用いた投影露光装置
JP5944850B2 (ja) 欠陥検査方法及びこれを用いた装置
JP2002280426A (ja) プローブ方法及びプローブ装置
JP2897330B2 (ja) マーク検出装置及び露光装置
KR102524462B1 (ko) 오버레이 측정장치
JP4725822B2 (ja) 光学的位置ずれ検出装置
JP2000077295A (ja) 光学系の検査装置および検査方法並びに該検査装置を備えた位置合わせ装置および投影露光装置
JP2006184777A (ja) 焦点検出装置
JPH10239037A (ja) 観察装置
JP4078953B2 (ja) マーク位置検出装置ならびにその調整用基板および調整方法
US6539326B1 (en) Position detecting system for projection exposure apparatus
JPH08213306A (ja) 位置検出装置及び該装置を備えた投影露光装置
JP2012190945A (ja) 露光装置およびデバイス製造方法
JPH0949781A (ja) 光学系の検査装置および該検査装置を備えた投影露光装置
WO2006046430A1 (ja) 焦点検出装置
JPH0762604B2 (ja) アライメント装置
JPH07142346A (ja) 投影露光装置
JPH0943862A (ja) 投影露光装置
JPH07321030A (ja) アライメント装置
JPH09260269A (ja) 投影露光方法及びそれを用いたデバイスの製造方法
KR100414575B1 (ko) 투영노광장치
JP2004264127A (ja) マーク位置検出装置
JPH1116822A (ja) 露光方法及び露光装置
JP2000306816A (ja) 投影露光装置、フォーカス検出装置およびデバイス製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070906

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100407

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100416

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100614

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100917

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100930

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131029

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131029

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees