TWI485008B - Ink jet coating apparatus and method - Google Patents

Description

噴墨塗布裝置及方法

本發明係關於藉由噴墨塗布之撓性材料的製造所使用的滾筒對滾筒方式(roll to roll)的噴墨塗布裝置，特別是關於，於設置有非矽系的半導體材料(例如CIGS薄膜)之太陽電池薄膜形成電極或絕緣膜等所使用的噴墨塗布裝置及方法。

以往作為印刷裝置，所被習知者為具備：將印刷媒體一面進行縐摺伸展與寬度方向的對位，一面予以導入之導入部；及鄰接設置於此導入部，面對印刷媒體配置，以皮帶搬運印刷媒體之搬運部；及面對印刷媒體配置，具有複數顏色份的複數列的線狀印刷頭的印刷部；及配置於此印刷部的印刷媒體的搬運方向的下游側，將印刷後的印刷媒體予以乾燥之乾燥部的印刷裝置(例如，參照專利文獻1)。

於此種印刷裝置中，藉由複數個滾筒將薄片狀的印刷媒體(例如，滾筒狀或被收容於箱中的布綢)進行縐摺伸展，來進行對於搬運方向中央的對中心或布紋矯正(兩端(布綢的兩端)的捲曲校平。

在此情形，雖是藉由複數個滾筒對布綢施加張力，對布綢的兩端的捲曲進行校平，但張力的方向，從構造上而言，於布綢的長度方向大，對於正交於布綢的長度方向之方向的兩側邊部的捲曲的張力變小。

進而，此捲曲校平，係於對此布綢進行印刷的場所還前位置的搬入部進行，且通過此搬入部至印刷部的區間，及於印刷部的區間，為接近布綢的兩側邊部的捲曲之校平用的張力一時被開放的狀態。

[先行技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1)特開平9-239968號公報

以滾筒對滾筒方式被捲出所搬運的薄膜之中，於其表面，有被蒸鍍有半導體材料的部位及沒有被蒸鍍該材料的部位，因此，薄膜的寬度方向之兩側邊部成為圓(捲曲)狀態。為了塗布材料的塗布，將如此從滾筒被捲出的薄膜以吸附台予以吸附保持時，如此於其兩側邊部一有捲曲時，薄膜不易平坦地被吸附於吸附台，有產生縐摺或鬆弛的問題。如此一產生縐摺或鬆弛時，塗布用的噴墨等的噴嘴前端面會與薄膜接觸，有噴嘴面損傷之虞。

本發明的目的在於提供：消除此種問題，於薄膜的兩側邊部的捲曲被校平的狀態下，可以進行對於此薄膜的塗布材的塗布，能提高對於薄膜的塗布品質之噴墨塗布裝置及方法。

為了達成上述目的，本發明為一種噴墨塗布裝置，係由：將滾筒狀的薄膜捲出予以搬運之上游側的導引滾筒、及吸附保持被捲出的薄膜之吸附台、及對被吸附保持於吸附台之薄膜上塗布液狀的塗布材之塗布頭、及搬運塗布有塗布材之該薄膜並予以捲取為滾筒狀之下游側的導引滾筒所形成，其特徵為：具備：對於在薄膜的塗布對象區域之兩側邊部所產生之捲曲分別進行矯正之一對的捲曲矯正棒，捲曲矯正棒，係以將薄膜之被載置於吸附台的吸附面的塗布對象區域的兩側邊部按壓於吸附台的吸附面之方式而下降，並以在按壓於該薄膜之狀態下朝吸附台的側邊側擴展的方式予以移動，利用捲曲矯正棒對於在薄膜的塗布對象區域的兩側邊部所產生的捲曲進行矯正，使塗布對象區域全體成為平坦狀而均勻地予以吸附保持於吸附台的吸附面。

另外，其特徵為：關於垂直於薄膜的搬運方向之方向，吸附台的吸附面被區分為中心部區域及中心區域的兩側之周邊區域，具備控制中心部區域的真空吸附孔的動作、及周邊區域的真空吸附孔的動作之控制部，藉由控制部的控制，於薄膜的塗布對象區域對吸附台的載置之同時，使中心區域的真空吸附孔動作，將面對塗布對象區域之中心區域的區域予以真空吸附保持，伴隨藉由捲曲矯正棒之被載置於吸附台的薄膜之塗布對象區域的兩側邊部的捲曲矯正，使周邊區域的真空吸附孔動作，將面對塗布對象區域之該周邊區域的區域予以真空吸附保持。

進而，其特徵為具備有：檢測被真空吸附於吸附台的 薄膜之從吸附台的吸附面之浮起的手段。

進而，其特徵為具備有：調整升降氣壓缸的空氣壓力之手段，該升降氣壓缸為驅動：調節將藉由捲曲矯正棒把薄膜的塗布對象區域的兩側邊部朝吸附台的兩側邊部側推開的力量用之捲曲矯正棒的升降動作。

為了達成上述目的，本發明為一種噴墨塗布方法，係將以上游側的導引滾筒被捲成滾筒狀的薄膜捲出予以搬運，被捲出的薄膜的塗布對象區域被搭載於吸附台的吸附面，藉由塗布頭，對薄膜的塗布對象區域塗布液狀的塗布材，被塗布有塗布材的薄膜被下游側的導引滾筒搬運並被捲取為滾筒狀，其特徵為：用於對於在薄膜的該塗布對象區域之兩側邊部所產生之捲曲分別進行矯正之一對的捲曲矯正棒，係以將被搭載於吸附台的吸附面之薄膜的塗布對象區域的兩側邊按壓於吸附面的方式而下降，並在按壓於薄膜之狀態下朝吸附台的側邊側擴展，使該薄膜的塗布對象區域之兩側邊吸附保持於吸附面。

如依據本發明，將塗布對象薄膜固定定位於吸附台時，以捲曲矯正棒將此薄膜的兩側邊部按壓於此吸附台予以吸附的關係，產生於此薄膜的兩側邊部的捲曲被矯正，成為平坦地被吸附固定於吸附台，於此種狀態下，進行對於此薄膜之塗布材的塗布，因此薄膜的塗布品質獲得提升。

以下，利用圖面說明本發明的實施型態。

另外，以下說明的實施型態，作為一例，係於被施以非矽系的半導體材料(例如CIGS薄膜)的太陽電池薄膜上，藉由噴墨方式的塗布頭來塗布電極材或絕緣材，來進行電極或絕緣膜等之膜形成者。另外，CIGS薄膜係由：Cu(銅)、In(銦)、Ga(鎵)、Se(硒)所形成的半導體材料之薄膜，「CIGS」係將此等素材的第一個英文字予以排列者，此CIGS薄膜的膜厚，可以薄至數10μm~100μm之程度。

第1圖係表示依據本發明之噴墨塗布裝置及方法的第1實施型態的概略構造斜視圖。1為太陽電池薄膜(以下，單稱為薄膜)，2為捲出側薄膜滾筒，3為捲取側薄膜滾筒，4、5為導引滾筒，6、7為升降導引滾筒、8、9為吸附棒，10為吸附台，11為捲出側軸電動機，12為捲取側軸電動機，13、14為捲曲矯正棒，15為塗布頭，16為捲出部，17為塗布頭，18為捲取部。

同圖中，於X軸方向，空間被區分為捲出部16與塗布部17及捲取部19，於捲出部16，在X軸方向依序排列設置有：藉由捲出側軸電動機11被旋轉驅動的捲出側薄膜滾筒2或上游側導引滾筒4、升降導引滾筒6、吸附棒8，於捲取部18，在X軸方向依序排列設置有：下游側的吸附棒9或升降導引滾筒7、導引滾筒5、捲取側薄膜滾筒3。另外，於塗布部17，設置吸附台10或塗布頭15、捲曲矯正棒13、14。

於捲出部16中，在塗布部17成為電極材或絕緣材的塗布對象之薄膜1呈滾筒狀地被捲繞於捲出側薄膜滾筒2。另外，此薄膜1從此捲出側薄膜滾筒2被捲出，通過塗布部17，於捲取部18被捲取於捲取側薄膜滾筒3。於此種狀態下，薄膜1的長度方向為X軸方向，其寬度方向為Y軸方向，垂直於由X軸與Y軸所形成的面之方向為Z軸方向。

於塗布部17中，捲出側軸電動機11藉由吸附台10被真空吸附，位置被固定，另外，配置有複數個以未圖示出的龍門(gantry：門型機架)構造所支撐的噴墨式塗布頭，藉此，液狀的電極材或絕緣材等(以下，將此等彙整稱為「塗布材」)被塗布於薄膜1的CIGS薄膜上，形成電極或絕緣膜。於此CIGS薄膜設置有溝狀的凹陷部，塗布材被塗布於此凹陷部，形成電極或絕緣膜。

另外，塗布頭15可以個別進行XY軸平面內的移動動作及Z軸方向(高度方向)的移動動作，於個別的塗布頭15的下面，面向薄膜1之噴嘴孔設置有250個之程度，藉由壓電驅動，擠出塗布材之液滴，射出於薄膜1上。如此，藉由塗布頭15的噴嘴在XY軸平面內移動，個別地射出塗布材，能在薄膜1的塗布面以所有的圖案精細地塗布塗布材。

如此，利用塗布部17結束了薄膜1的特定的塗布對象區域的塗布材的塗布時，薄膜1從捲出側薄膜滾筒2被捲出，另外，藉由此薄膜1被捲取於捲取側薄膜滾筒3，以此薄膜1的下一個塗布對象區域能被配置於可利用塗布部17進行塗布材的塗布的位置之方式，薄膜1從捲出側薄膜滾筒2側被搬運至捲取側薄膜滾筒3側，此時，於捲出部16中，從藉由捲出側軸電動機11被旋轉驅動的捲出側薄膜滾筒2被捲出的薄膜1，藉由導引滾筒4與升降導引滾筒6被支撐，此時，升降導引滾筒6上升至比吸附台10的吸附面還高的位置，另外，於捲取部18中，薄膜1被升降導引滾筒7與導引滾筒5所支撐，且被捲取側薄膜滾筒3所捲取。升降導引滾筒7上升至比吸附台10的吸附面還高的位置。藉此，薄膜1不與吸附棒8、9或吸附台10接觸，在X軸方向移動。

如此，薄膜1從捲出部16側被移動至捲取部18側時，藉由升降導引滾筒6、7，薄膜1成為被舉起，薄膜1不與升降導引滾筒7接觸地被搬運，能夠防止薄膜1的背面產生刮傷。

如此，薄膜1藉由升降導引滾筒6、7，在不與吸附棒8、9或吸附台10接觸的狀態下被搬運，薄膜1之下一個塗布對象區域一到達塗布部17時，薄膜1的搬運結束。此塗布對象區域之在塗布部17的X軸方向的定位完成(此定位，首先為監視捲取側薄膜滾筒3的捲取量，粗略進行位置調整。接著，雖未圖示出，於薄膜1的各塗布對象區域設置標記，以未圖示出的相機攝影之，控制捲出側軸電動機11與捲取側軸電動機12，精密地調整薄膜1的X軸方向的位置，使得此標記位於該攝影區域的特定位置)，此位置調整一結束，對捲取側軸電動機12施以煞車，成為將薄膜1的捲取部18側固定的狀態。然後，與此同時，使捲出側軸電動機11成為於與薄膜1的捲出的旋轉方向相反旋轉方向產生扭矩的狀態。

藉此，即使是薄膜1的搬運結束，此薄膜1成為被保持在其長度方向(即其被搬運的X軸方向)被施加張力的狀態，薄膜1不會產生鬆弛。

於此種狀態下，在塗布部17中，升降導引滾筒6、7如上述般，為上升的狀態，吸附棒8、9也一同上升，與薄膜1的背面抵接，吸附保持此薄膜1。之後，升降導引滾筒6、7下降至比吸附台10的吸附面還下方，接著，吸附棒8、9在吸附保持薄膜1之狀況下下降，使薄膜1的背面抵接吸附台10的吸附面。藉此，薄膜1被吸附保持於吸附台10，藉由塗布頭15，對新的塗布對象區域塗布塗布材。

薄膜1即使在抵接吸附台10時，薄膜1係在其長度方向施加有張力的狀態，其之吸附台10的前後的部分為藉由吸附棒8、9所保持。此處，捲出部16之導引滾筒4或升降導引滾筒6的側面的長度方向或吸附棒8的吸附面，為平行於Y軸方向，即薄膜1的寬度方向，且成為薄膜1的寬度全體被按壓於此等導引滾筒4或升降導引滾筒6、吸附棒8，於捲取部18側，同樣地，薄膜1的寬度全體成為被按壓於吸附棒9、升降導引滾筒7、導引滾筒5，薄膜1的寬度全體成為平行於水平，即Y軸，薄膜1於其長度方向被施加有張力，藉由吸附棒8、9被保持，在間隔很長的吸附棒8、9間，張力方向和捲曲方向的角度之不同產生，薄膜1的左右兩側邊部，如第2圖所示般，產生向下方傾斜的彎曲部19。

藉由將被施加有張力的狀態下之薄膜1予以吸附保持的吸附棒8、9予以下降，一使此薄膜抵接於吸附台10時，此薄膜1成為於其兩側邊部產生捲曲19的情況下抵接於吸附台10，即使以吸附台10吸附此狀態下的薄膜1，不一定可以獲得良好的吸附狀態。

於塗布部17被設置於吸附台10的Y軸方向兩側的捲曲矯正棒13、14，係為了矯正薄膜1的兩側邊部所產生的捲曲19而設置者。

第3圖係概略地表示第1圖中之塗布部17的捲取側薄膜滾筒13、14及其驅動機構的一具體例的斜視圖，10a為吸附台10的一方的側邊部，20a、20b為升降氣壓缸，21a、21b為氣壓缸軸，22a、22b為寬度挪動氣壓缸，23a、23b為氣壓缸軸，於對應第1圖的部分，賦予相同符號，省略重複說明。

同圖中，捲曲矯正棒14係於長度方向平行於X軸方向，被配置於吸附台10的一方的側邊部10a側。於此捲曲矯正棒14的一方的端部側設置有升降氣壓缸20a、於另一方的端部側設置有升降氣壓缸20b，藉由此等升降氣壓缸20a、20b的驅動而上下動的氣壓缸軸21a、21b，捲曲矯正棒14的兩端部被支撐。對此等升降氣壓缸20a、20b供給空氣壓，藉由升降氣壓缸20a、20b之空氣壓的加、減，氣壓缸軸21a、21b同時地伸縮(上下動)，捲曲矯正棒14一面保持沿著X軸之平行一面上下動。

另外，設置有：於升降氣壓缸20a連結有氣壓缸軸23a之寬度挪動氣壓缸22a、及於升降氣壓缸20b連結有氣壓缸軸23b之寬度挪動氣壓缸22b，雖未圖示出，但於此等寬度挪動氣壓缸22a、22b也設置加減調整其之空氣壓用的空氣壓調整器。藉由加減寬度挪動氣壓缸22a、22b之空氣壓，氣壓缸軸23a、23b同時伸縮，升降氣壓缸20a、20b朝Y軸方向進退移動。

第4圖係表示藉由第3圖所示之捲曲矯正棒14的薄膜1之捲曲矯正動作的一具體例之流程圖。以下，參照第3圖說明此具體例。

同圖中，捲曲矯正棒14在不使用時，如圖示般，位於幾乎面對吸附台10的一方的側邊部10a的位置，將此位置稱為退避位置，將位於此位置時的狀態稱為退避狀態。

薄膜1之下一個塗布對象區域一到達塗布部17時，設置於吸附台10的吸附面之吸附孔被設定為可以真空吸附的狀態，對於薄膜1之此塗布對象區域的塗布材之塗布用的動作開始(步驟S100)，如上述般，薄膜1在張力被施加於其的狀態下，一被真空吸附於吸附台10時(步驟S110)，在使捲曲矯正棒14動作，矯正薄膜1的側邊部的捲曲19的情形，藉由驅動升降氣壓缸20a、20b與寬度挪動氣壓缸22a、22b，如實線箭頭方向A所示般，使捲曲矯正棒14從退避狀態朝X軸方向上升至比吸附台10上的薄膜1還上方的第1定位置，之後，朝薄膜1的方向(沿著Y軸)，水平移動至超過薄膜1之吸附台10的側邊部10a側的捲曲部19(第2圖)的第2定位置，一到達該第2定位置時(步驟S120)，進而使下降至將薄膜1按壓於吸附台10的第3定位置(步驟S130)。然後，在將薄膜1按壓於吸附台10的狀態下，使捲曲矯正棒14朝退避位置的方向退回至吸附台10的側邊部10a的附近，且使薄膜1的上述的捲曲部19全體往外側擴展，移動至按壓於吸附台10的吸附面的第4定位置(步驟S140)。藉此，薄膜1的吸附台10的側邊部10a側的部分，也全體變成平坦被按壓及真空吸附於此吸附台10。

如此，捲曲之矯正結束時，如虛線箭頭方向B所示般，使捲曲矯正棒14從第4定位置上升至第5定位置，由此第5定位置水平移動至退避位置側，一到達退避位置的正上方之第6定位置時，由該處下降至退避位置成為退避狀態(步驟S150)。藉此，此塗布對象區域之捲曲矯正動作結束(步驟S160)。

另外，此處雖省略說明，關於捲曲矯正棒13也相同，針對其之驅動機構，於對應捲曲矯正棒14的驅動機構之部分，以同一符號附加右單引號(’)表示。但是，捲曲矯正棒13係矯正和薄膜1之捲曲矯正棒14矯正捲曲的側邊部相反側的捲曲者，此捲曲矯正棒13之沿著Y軸的移動方向，如箭頭方向A’、B’所示般，成為相反方向。

第5圖係表示捲曲矯正動作的流向圖。

第5(a)圖係表示藉由第4圖的步驟S120之捲曲矯正棒13、14的狀態，於此狀態下，此等捲曲矯正棒13、14是從退避位置沿著第3圖的實線箭頭方向A’、A移動至第2定位置。

第5(b)圖係表示藉由第4圖的步驟S130之捲曲矯正棒13、14的狀態，在此狀態下，此等捲曲矯正棒13、14係從第2定位置沿著第3圖的實線箭頭方向A’、A下降，到達將薄膜1按壓於吸附台10的第3定位置。

第5(c)圖係表示藉由第4圖的步驟S140之捲曲矯正棒13、14的狀態，在此狀態下，此等捲曲矯正棒13、14係從第3定位置沿著第3圖的實線箭頭方向A’、A朝退避位置的方向移動，矯正薄膜1的捲曲，到達第4定位置。

第5(d)圖係表示第4圖之步驟150中之捲曲矯正棒13、14的第1狀態，於此狀態下，此等捲曲矯正棒13、14從第4定位置沿著第3圖之虛線箭頭方向B’、B上升，來到從薄膜1分離之第5定位置。此時，薄膜1的捲曲被矯正，其全面均勻地抵接吸附台10，穩定地被真空吸附。

第5(e)圖係表示接續第5(d)圖所示狀態之第4圖的步驟S150中之捲曲矯正棒13、14的第2狀態，在此狀態下，此等捲曲矯正棒13、14從第5定位置沿著第3圖之虛線箭頭方向B’、B水平移動至退避位置側，到達此退避位置的正上方之第6定位置。

第5(f)圖係表示接續第5(e)圖所示狀態之第4圖的步驟S150中之捲曲矯正棒13、14的第3狀態，在此狀態下，此等捲曲矯正棒13、14從第6定位置沿著第3圖之虛線箭頭方向B’、B下降至退避位置，到達退避位置。

如此，在薄膜1被吸附於吸附台10之狀態下，藉由塗布頭15，於薄膜1的塗布對象區域進行塗布材的塗布。塗布動作一結束時，升降導引滾筒6、7上升，薄膜1從吸附台10舉起。然後，驅動捲出側薄膜滾筒2及捲取側薄膜滾筒3，以薄膜1之下一個塗布對象區域位於塗布部17之方式，再開始薄膜1的搬運。

於以上的動作中，第5(b)、(c)圖所示之狀態的捲曲矯正棒13、14將薄膜1按壓於吸附台10的力量，或將薄膜1擴展的力量，係藉由控制移動捲曲矯正棒13、14之升降氣壓缸20a、20b的設定壓力來進行控制。另外，從第5(b)圖至第5(c)圖之擴展薄膜的捲曲矯正棒13、14的速度，係藉由寬度挪動氣壓缸22a、22b之速度控制閥門的空氣流量控制手段，可以設定為所期望的速度。

如上述般，於此第1實施型態中，可以消除利用塗布部17對薄膜1上塗布塗布材時之薄膜1的鬆弛，同時可以去除為了消除此鬆弛，對薄膜1附加張力所產生之此薄膜1的側邊部的捲曲，薄膜1穩定且高精度地被吸附於吸附台10，可以高精度地在薄膜1塗布塗布材。

第6圖係表示依據本發明之噴墨塗布裝置及方法之第2實施型態中之吸附台的斜視圖。24為吸附面，25為中心區域吸附部，26a、26b為周邊區域吸附部，27為吸附孔，28為中心區域吸附孔，29為周邊區域吸附孔，於對應第1圖的部分，賦予相同符號，省略重複之說明。

此第2實施型態也和先前的第1實施型態相同，雖成為第1圖所示的構造，但於吸附台10的吸附方法(即吸附的控制)為不同。

即於第6圖中，於吸附台10的吸附面24均勻地設置有複數個真空吸附薄膜1之吸附孔27，於此第2實施型態中，將吸附面10a於其寬度方向(垂直於薄膜1的搬運方向的方向(Y軸方向))區分為中心部的中心區域吸附部25，及此中心區域吸附部25的兩側的周邊區域吸附部26a、26b之3個區域，在未圖示出的控制部的控制下，可以獨立地、時間錯開地進行中心區域吸附部25之吸附孔27，即中心區域吸附孔28，及周邊區域吸附部26a、26b之吸附孔27，即周邊區域吸附孔29的控制。

於此第2實施型態中，捲曲矯正棒13、14的動作，雖也和第5圖所示之第1實施型態的動作相同，但控制部一檢測到薄膜1的塗布對象區域已到達塗布部17(第1圖)時，即開始吸附台10的吸附面24的中心區域吸附部25之中心區域吸附孔28的動作，至少在第5(a)圖所示狀態下，中心區域吸附孔28成為動作狀態。對此，於周邊區域吸附部26a、26b中，捲曲矯正棒13、14從第5(b)圖所示狀態成為第5(d)圖所示狀態，薄膜1的捲曲部19被矯正，同時，控制部，藉由檢測到此捲曲矯正動作之結束，使進行周邊區域吸附孔29之吸附動作之開始的控制。另外，薄膜1之塗布對象區域的塗布材之塗布動作一結束時，控制部檢測到此，使中心區域吸附孔28與周邊區域吸附孔29的吸附動作結束。

第7圖係表示此第2實施型態之吸附台10的薄膜1的吸附動作之流程圖。利用第1圖、第5圖、第6圖來說明此。

第1圖中，薄膜1從捲出側薄膜滾筒2被捲出搬運時，於第6圖所示構造的吸附台10中，全部的吸附孔27處於非動作狀態。薄膜1的下一個塗布對象區域一到達塗布部17時，於第6圖中，此吸附台10之中心區域吸附部25的中心區域吸附孔28開始動作，於此狀態下，如上述般，藉由吸附棒8、9下降，薄膜1(第1圖)抵接吸附台10的吸附面24。此時，吸附台10之中心區域吸附部25的中心區域吸附孔28進行吸附動作中，薄膜1之抵接此中心區域吸附部25的部分，藉由中心區域吸附孔28被真空吸附保持。對此，吸附台10的周邊區域吸附部26a、26b的周邊區域吸附孔29不動作，薄膜1之面對周邊區域吸附部26的部分不被吸附保持(第7圖之步驟S210)。

然後，與先前的第1實施型態相同，捲曲矯正棒13、14動作，成為第5(a)圖所示的第2定位置的狀態(第7圖之步驟S220)，接著，下降至第5(b)圖所示之第3定位置，成為將薄膜1按壓於吸附台10的狀態(第7圖的步驟S230)，接著，從第3定位置移動至第4定位置，將第5(c)圖所示之薄膜1的側邊部推開至吸附台的側邊部側，進行此側邊部的捲曲矯正(第7圖之步驟S240)。

如此，捲曲矯正棒13、14位於第4位置，在薄膜1的側邊部的捲曲被矯正的狀態下，吸附台10的吸附面24之周邊區域吸附部26a、26b的周邊區域吸附孔29開始動作，藉由此等周邊區域吸附孔29，捲曲被矯正的薄膜1的側邊部被吸附台10的周邊區域吸附部26a、26b真空吸附保持(第7圖的步驟S245)。如此，薄膜1的塗布對象區域全體變成平坦被真空吸附保持於吸附台10。

之後，捲曲矯正棒13、14與先前的第1實施型態相同，從第5(c)所示的狀態經過第5(d)、(e)圖所示狀態，成為處於第5(f)圖所示的退避位置的狀態(第7圖的步驟S250)，薄膜1的捲曲矯正動作結束(第7圖的步驟S260)。

如此，在薄膜1被吸附於吸附台10的狀態下，藉由塗布頭15(第1圖)，於薄膜1的塗布對象區域進行塗布材的塗布，一結束塗布動作時，升降導引滾筒6、7上升，薄膜1從吸附台10被舉起，藉由捲出側薄膜滾筒2及捲取側薄膜滾筒3被驅動，以薄膜1之下一個塗布對象區域位於塗布部17的位置之方式，薄膜1的搬運被再度開始。

如此，於此第2實施型態中，可以利用塗布部17對薄膜1進行捲曲矯正並予以真空吸附保持，可以獲得和先前的第1實施型態同樣的效果。

第8圖係表示依據本發明之噴墨塗布裝置及方法的第3實施型態的重要部位的概略斜視圖。30為薄膜浮起檢測裝置之薄膜有無檢測感測器，31為薄膜浮起檢測裝置的檢測孔，32a為薄膜浮起檢測裝置的光束發光裝置，32b為薄膜浮起檢測裝置的檢測感測器，33為光束，於對應第1圖的部分，賦予相同符號，省略重複之說明。

此第3實施型態係於先前的第1、第2實施型態具備檢測捲曲矯正動作是否已結束之裝置者。以下，將此種裝置稱為薄膜浮起檢測裝置。

第8圖中，於吸附台10的側邊部設置從其上面(吸附面)貫穿至下面(背面)的檢測孔31，面對此檢測孔31，於吸附台10的背面側設置有光學反射式之薄膜有無檢測感測器30，藉由此等檢測孔31與薄膜有無檢測感測器30來形成薄膜浮起檢測裝置。

此檢測孔31係被設置於薄膜1被載置於吸附台10時，此薄膜1所產生的捲曲部19(第2圖)的位置，且薄膜有無檢測感測器30通過此檢測孔31照射光，通過檢測孔31接受從被載置於吸附台10之薄膜1的背面的反射光，因應至該反射面的距離來檢測反射光的受光量，如第5(a)圖所示般，於薄膜1的側邊部有捲曲部19，薄膜1的側邊部從吸附台10浮起時，如第5(c)圖所示般，捲曲矯正被進行，薄膜1的側邊部變平坦與吸附台10的吸附面接觸時，照射光從薄膜有無檢測感測器30反射之至薄膜1的背面的距離不同。

由此，薄膜有無檢測感測器30一結束上述之薄膜1的捲曲矯正的動作時，通過檢測孔31照射光，通過檢測孔31接受從被載置於吸附台10之薄膜1的背面的反射光，未圖示出的處理部依據該受光結果，測定至此薄膜1的背面的距離，處理此測定結果，判定薄膜1的背面是否從吸附台10浮起，是否以平坦狀態抵接吸附台10，一獲得薄膜1的背面從吸附台10浮起之判定結果時，作為薄膜1的捲曲矯正未被進行，對裝置的作業員通知此結果，同時，使裝置停止並停止塗布作業。

於此第3實施型態中，進而於吸附台10的一方的側邊部的外側設置光束發光裝置32a，於另一方的側邊部的外側設置檢測感測器32b。然後從光束發光裝置32a來的光束33由檢測感測器32b受光。此等光束發光裝置32a與檢測感測器32b雖構成薄膜浮起檢測裝置，但在此情形，光束發光裝置32a與檢測感測器32b的配置位置，係設定為：於來自光束發光裝置32a的光束33在吸附台10的上方橫過此吸附台10，且薄膜1全體為平坦狀態被真空吸附於吸附台10時，成為能以檢測感測器32b檢測從光束發光裝置32a來的光束33，在捲曲部19(第2圖)產生，薄膜1從吸附台的吸附面24(第6圖)浮起時，從光束發光裝置32a來的光束33被薄膜1遮住，無法以檢測感測器32b受光。

藉此，於未圖示出的處理部中，薄膜1的上述捲曲矯正動作結束後，以檢測感測器32b能獲得光束33的受光結果的情形，判定為薄膜1全體成為平坦的狀態被真空吸附保持於吸附台10。然後，使此薄膜1的塗布材的塗布動作開始，在無法以檢測感測器32b獲得光束33的受光結果的情形，判定為無法完成薄膜1的捲曲矯正。然後，對此裝置的作業員通知該意思，使裝置的動作停止來停止塗布作業。

如上述般，於此第3實施型態中，在進行了薄膜1的捲曲矯正後，藉由薄膜浮起檢測裝置，可以確認是否已經確實進行了捲曲矯正，可以防止在捲曲矯正未充分的狀態下被進行塗布材的塗布。

另外，於以上說明中，雖設為使用藉由薄膜有無檢測感測器30與檢測孔31之薄膜浮起檢測裝置、及由光束發光裝置32a與檢測感測器32b所形成的薄膜浮起檢測裝置，但也可以只使用此等薄膜浮起檢測裝置之任何一方。另外，也可以複數個使用相同的薄膜浮起檢測裝置。此種薄膜浮起檢測裝置可以因應薄膜1的捲曲狀態而分開使用。

總之，藉由採用薄膜1的捲曲被矯正成為平坦狀態後，開始可以移往下一個塗布工程之步驟，可靠性得以格外地提高。假如無法完成捲曲矯正，暫時停止製造工程的情形，藉由警報機等對作業員通知有錯誤一事。在此情形，雖然生產時間上產生浪費，但可以防止薄膜1在浮起狀態開始塗布動作，於產生縐折狀態下降低製造物的良率之不良於未然。

第9圖係表示依據本發明之噴墨塗布裝置及方法之第4實施型態的捲曲矯正裝置的一具體例的概略斜視圖。34、35為空氣壓力調整器，對於對應第3圖之部分，賦予相同符號，省略重複之說明。

同圖中，透過空氣壓力調整器34對升降氣壓缸20a、20b供給空氣壓。同樣地，也透過空氣壓力調整器35對使設置於吸附台10的相反側之捲曲矯正棒13於上下方向移動的升降氣壓缸(此處，只表示升降氣壓缸20a)供給空氣壓。

此等空氣壓力調整器34、35，一般為被稱為電調壓器，係將未圖示出的控制裝置的控制訊號轉換為空氣壓力，將此空氣壓輸出至升降氣壓缸20a、20b或升降氣壓缸20a’。

因此，控制裝置藉由使供給至空氣壓力調整器34、35之控制訊號改變，可以使對於升降氣壓缸20a、20b或升降氣壓缸20a’之空氣壓改變。然後，被供給至升降氣壓缸20a、20b或升降氣壓缸20a’之空氣壓一改變，捲曲矯正棒14、13的上下動作之驅動壓力隨之改變，捲曲矯正棒14、13將薄膜1按壓於吸附台10的按壓力跟著改變。

因此，藉由以控制裝置來控制空氣壓力調整器34、35，可以調整捲曲矯正棒14、13將薄膜1按壓於吸附台10的按壓力，可以將薄膜1的捲曲良好地矯正，使薄膜1的塗布對象區域全體高精度地成為平坦狀態，被真空吸附保持於吸附台10。

1．．．薄膜

2．．．捲出側滾筒

3．．．捲取側滾筒

4、5．．．導引滾筒

6、7．．．升降導引滾筒

8、9．．．吸附棒

10．．．吸附台

10a．．．側邊部

10b．．．吸附面

11．．．捲出側軸電動機

12．．．捲取側軸電動機

13、14．．．捲曲矯正棒

15．．．塗布頭

16．．．捲出部

17．．．塗布部

18．．．捲取部

19．．．捲曲

20a、20b．．．升降氣壓缸

21a、21b．．．氣壓缸軸

22a、22b．．．寬度挪動氣壓缸

23a、23b．．．氣壓缸軸

24．．．吸附面

25．．．中心區域吸附部

26．．．周邊區域吸附部

27．．．吸附孔

28．．．中心區域吸附孔

29．．．周邊區域吸附孔

30．．．薄膜有無檢測感測器

31．．．檢測孔

32a．．．光束發光裝置

32b．．．檢測感測器

33．．．光束

34、35．．．空氣壓力調整器

第1圖係表示依據本發明之噴墨塗布裝置及方法的第1實施型態的概略構造斜視圖。

第2圖係表示在第1圖中的塗布部所產生的薄膜的側邊部的捲曲狀態圖。

第3圖係表示第1圖所示之第1實施型態的薄膜的捲曲矯正機構的一具體例的概略斜視圖。

第4圖係表示依據第3圖所示之捲曲矯正棒之薄膜的捲曲矯正動作的一具體例的流程圖。

第5圖係表示第4圖所示的捲曲矯正動作的流向圖。

第6圖係表示依據本發明之噴墨塗布裝置及方法的第2實施型態中之吸附台的一具體例之斜視圖。

第7圖係表示具備有第6圖所示之吸附台的第2實施型態之薄膜的捲曲矯正動作的一具體例之流程圖。

第8圖係表示依據本發明之噴墨塗布裝置及方法的第3實施型態之重要部位的概略斜視圖。

第9圖係表示依據本發明之噴墨塗布裝置及方法之第4實施型態的捲曲矯正裝置的一具體例的概略斜視圖。

1．．．薄膜

2．．．捲出側滾筒

3．．．捲取側滾筒

4、5．．．導引滾筒

6、7．．．升降導引滾筒

8、9．．．吸附棒

10．．．吸附台

11．．．捲出側軸電動機

12．．．捲取側軸電動機

13、14．．．捲曲矯正棒

15．．．塗布頭

16．．．捲出部

17．．．塗布部

18．．．捲取部

Claims (5)

1. 一種噴墨塗布裝置，係由：將滾筒狀的薄膜捲出予以搬運之上游側的導引滾筒、及吸附保持被捲出的該薄膜之吸附台、及對被吸附保持於該吸附台之該薄膜上塗布液狀的塗布材之塗布頭、及搬運塗布有塗布材之該薄膜並予以捲取為滾筒狀之下游側的導引滾筒所形成，其特徵為：具備：對於在該薄膜的該塗布對象區域之兩側邊部所產生之捲曲分別進行矯正之一對的捲曲矯正棒，該捲曲矯正棒，係以將該薄膜之被載置於該吸附台的吸附面的塗布對象區域的兩側邊部按壓於該吸附台的吸附面之方式而下降，並以在按壓於該薄膜之狀態下朝該吸附台的側邊側擴展的方式予以移動，利用該捲曲矯正棒對於在該薄膜的該塗布對象區域的兩側邊部所產生的捲曲進行矯正，使該塗布對象區域全體成為平坦狀而均勻地予以吸附保持於該吸附台的該吸附面。
2. 如申請專利範圍第1項所記載之噴墨塗布裝置，其中，關於垂直於前述薄膜的搬運方向之方向，前述吸附台的前述吸附面被區分為中心區域及該中心區域的兩側之周邊區域，具備控制該中心區域的真空吸附孔的動作、及該周邊區域的真空吸附孔的動作之控制部，藉由該控制部的控制，前述薄膜的前述塗布對象區域對前述吸附台的載置之 同時，使該中心區域的真空吸附孔動作，將面對前述塗布對象區域之該中心區域的區域予以真空吸附保持，伴隨藉由前述捲曲矯正棒之被載置於前述吸附台的前述薄膜之前述塗布對象區域的兩側邊部的捲曲矯正，使該周邊區域的真空吸附孔動作，將面對前述塗布對象區域之該周邊區域的區域予以真空吸附保持。
3. 如申請專利範圍第1或2項所記載之噴墨塗布裝置，其中具備有：檢測被真空吸附於前述吸附台的前述薄膜之從前述吸附台的吸附面之浮起的手段。
4. 如申請專利範圍第1、2或3項所記載之噴墨塗布裝置，其中具備有調整升降氣壓缸的空氣壓力之手段，該升降氣壓缸為驅動：調節將藉由前述捲曲矯正棒把前述薄膜的前述塗布對象區域的兩側邊部朝前述吸附台的兩側邊部側推開的力量用之前述捲曲矯正棒的升降動作。
5. 一種噴墨塗布方法，係將以上游側的導引滾筒被捲成滾筒狀的薄膜捲出予以搬運，被捲出的該薄膜的塗布對象區域被搭載於吸附台的吸附面，藉由塗布頭，對該薄膜的該塗布對象區域塗布液狀的塗布材，被塗布有塗布材的該薄膜被下游側的導引滾筒搬運並被捲取為滾筒狀的噴墨塗布方法，其特徵為：用於對於在該薄膜的該塗布對象區域之兩側邊部所產生之捲曲分別進行矯正之一對的捲曲矯正棒，係以將被搭載於該吸附台的吸附面之該薄膜的該塗布對象區域的兩側邊按壓於該吸附面的方式而下降，並在按壓於該薄膜之狀 態下朝該吸附台的側邊側擴展，使該薄膜的該塗布對象區域之兩側邊吸附保持於該吸附面。