TWI481931B - A light reflecting plate, a light reflecting plate manufacturing method, and a light reflecting means - Google Patents

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Description

光反射板、光反射板之製造方法及光反射裝置 技術領域
本發明係有關於光反射板、光反射板之製造方法、及使用光反射板之光反射裝置。更詳而言之，本發明係有關於光反射特性優異之光反射板、光反射板之製造方法、及光反射裝置。前述光反射裝置係於導光部內壁設有光反射板，且藉光反射板將太陽光導入屋內以照明之導光鏡組(mirror duct)、具有光源之光反射板的照明器具、具有外部入射光之光反射板的液晶顯示裝置、具有光反射板之液晶顯示裝置的邊緣發光型背光源、或具有前述邊緣發光型背光源的液晶顯示裝置等。
背景技術
以往，光反射裝置之光反射板係使用藉真空蒸鍍使鋁(Al)膜成膜於玻璃基板者(參照專利文獻1)、或隔著基層藉真空蒸鍍或真空濺鍍等使鋁(Al)或銀(Ag)之膜成膜於不鏽鋼基板或經陽極氧化之鋁基板上者(參照專利文獻2、3)。
專利文獻1：特開2001-235798號公報
專利文獻2：特表2001-528835號公報
專利文獻3：特表2002-530803號公報
發明揭示
又，前述光反射裝置藉有效利用光而可達到省能源化，故正期待其廣泛普及。
然而，前述習知文獻中記載之光反射板中有以下問題。
首先，若為玻璃基板，有加工性或強度之問題。
於是，本申請案發明人檢討出使用具高強度之金屬板作為基板的方法。
本申請案發明人首先想出，藉由蒸鍍法於鍍鋅鋼板上蒸鍍作為反射層之銀的方法。然而，加熱銀以蒸鍍時，因被覆鋼板之鋅的熔點溫度較銀低，其加熱溫度會影響作為被成膜體之基板側，使基板側之鋅等先熔解。因此，會有於基板表面產生大的凹凸、或變質等問題。另外，若於蒸鍍時需加熱基板的情況下，前述問題會變得更為嚴重。
於是，使用電鍍法取代蒸鍍，並於經施行鍍鋅或鍍鋅合金之鋼板上形成銀膜。然而，銀膜與於經施行鍍鋅或鍍鋅合金之鋼板之密著性不佳，而產生銀膜剝落。
本發明係有鑑於如此習知例之問題點、及使用經施行鍍鋅或鍍鋅合金之鋼板時之問題點所創作者，本發明之目的係提供對基板之反射層的密著性強固、加工性或強度優異，且使用廉價材料之光反射板；光反射板之製造方法；及使用該光反射板所製造之導光鏡組、照明器具與液晶顯示裝置等光反射裝置。
為解決前述課題，第1發明係一種光反射板，包含有：由金屬板構成之基板；由形成於前述基板上之有機樹脂或 無機材料構成之黏合層；由形成於前述黏合層上之銀或以銀為主成分之銀合金的鍍層構成之反射層；及形成於前述反射層上之保護層。
另外，光反射板包含加工前之材料、及加工成特定尺寸者兩者。
第2發明係與第1發明之光反射板相關，且前述金屬板係表面處理鋼板、不鏽鋼板、鋁板或鋁合金板。
第3發明係與第2發明之光反射板相關，且前述表面處理鋼板之鋼板係以鐵為主成分，含有小於11%之鉻者。
第4發明係與第1至第3發明之任1光反射板相關，且構成前述反射層之銀或以銀為主成分之銀合金的結晶尺寸係200nm以下。
第5發明係與第1至4發明之任1光反射板相關，且前述有機樹脂係作為塗布用之有機樹脂材料的胺甲酸乙酯(urethane)樹脂、丙烯酸樹脂、丙烯酸胺甲酸乙酯(acrylic urethane)樹脂、聚酯樹脂、氟樹脂、環氧樹脂、聚碳酸酯樹脂、氯乙烯樹脂、醋酸乙烯樹脂、ABS樹脂(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚合成樹脂)、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚苯乙烯樹脂、酚醛樹脂、尿素樹脂、三聚氰胺樹脂或縮醛樹脂；且前述有機樹脂係作為薄膜用之有機樹脂材料的聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴樹脂、聚乙烯醇樹脂、醋酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、氟樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、聚酯樹脂、胺甲酸乙酯樹脂或丙烯酸樹脂。
第6發明係與第1至4發明之任1光反射板相關，且前述無機材料係氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、或氧化鉿之單體、或含有該等2種以上之混合物。
第7發明係與第1至第6發明之任1光反射板相關，且前述保護層係由有機樹脂、氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦或氧化鉿中任1種、或含有該等2種以上之混合物構成。
第8發明係與第1發明之任1發明之光反射板相關，且前述保護層係由有機樹脂膜與無機膜2層構成，且該無機膜係由氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦或氧化鉿中任1種、或含有該等2種以上之混合物構成。
第9發明係一種光反射板之製造方法，包含有以下步驟：於由金屬板構成之金屬板上，形成由有機樹脂或無機材料構成之黏合層；於該黏合層上，藉由無電電鍍法，形成由銀或以銀為主成分之銀合金中任一者構成之反射層；及於該反射層上形成保護層。
第10發明係與第9發明之光反射板之製造方法相關，且前述金屬板係表面處理鋼板、不鏽鋼板、鋁板或鋁合金板。
第11發明係與第10發明之光反射板之製造方法相關，且前述表面處理鋼板之鋼板係以鐵為主成分，含有小於11%之鉻者。
第12發明係與第9至第11發明之任1光反射板之製造方法相關，且於形成由前述銀或以銀為主成分之銀合金中任一者構成之反射層時，將前述銀或以銀為主成分之銀合金的結晶尺寸調整成200nm以下。
第13發明係與第9至第11發明之任1光反射板之製造方法相關，且前述反射層係藉使用含銀水溶液與還原劑水溶液之前述無電電鍍法所形成，前述還原劑水溶液之pH係8~12，且溶液溫度係20℃以上、30℃以下。
第14發明係與第9至第13發明之任1光反射板之製造方法相關，且前述有機樹脂係作為塗布用之有機樹脂材料的胺甲酸乙酯樹脂、丙烯酸樹脂、丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂、聚酯樹脂、氟樹脂、環氧樹脂、聚碳酸酯樹脂、氯乙烯樹脂、醋酸乙烯樹脂、ABS樹脂(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚合成樹脂)、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚苯乙烯樹脂、酚醛樹脂、尿素樹脂、三聚氰胺樹脂或縮醛樹脂；且前述有機樹脂係作為薄膜用之有機樹脂材料的聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴樹脂、聚乙烯醇樹脂、醋酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、氟樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、聚酯樹脂、胺甲酸乙酯樹脂或丙烯酸樹脂。
第15發明係與第9至第13發明之任1光反射板之製造方法相關，且前述無機材料係氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、或氧化鉿之單體、或含有該等2種以上之混合物。
第16發明係與第9至第15發明之任1光反射板之製造方法相關，且前述保護層係有機樹脂、氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦或氧化鉿中任1種、或含有該等2種以上之混合物。
第17發明係與第9至第15發明之任1光反射板之製造方 法相關，且前述保護層係由有機樹脂膜與無機膜2層構成，且該無機膜係由氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦或氧化鉿中任1種、或含有該等2種以上之混合物構成。
第18發明係一種光反射裝置，係具有第1至第8之任1光反射板者。
第19發明係一種光反射裝置，係具有以第9至第17發明之任1光反射板之製造方法製造的光反射板者。
第20發明係與第18至第19發明之光反射裝置相關，且前述光反射裝置係於導光部內壁設有前述光反射板之導光鏡組、具有光源之前述光反射板的照明器具、具有外部入射光之前述光反射板的液晶顯示裝置、具有前述光反射板之液晶顯示裝置的邊緣發光型背光源、具有前述邊緣發光型背光源的液晶顯示裝置、數位相機之閃光用反射板、或冷凍展示櫃中任一者。
本發明之光反射板於由金屬板構成之基板、及由銀或以銀為主成分之銀合金鍍層構成的反射層之間，具有由有機樹脂構成之黏合層。
因此，可於由金屬板構成之基板上以良好之密著性形成由鍍層構成之反射層。
又，若使用作為基板之經施行鍍鋅或鍍鋅合金的鋼板，則較不鏽鋼板、鋁板或鋁合金板等廉價。又，相較於玻璃基板，加工性及強度優異。
又，若反射層基層之黏合層係藉由使用有機樹脂或無 機材料之塗布法而形成時，因黏合層之表面容易變得平坦，故黏合層上之反射層(銀膜)會變得平坦，反射率增高。
當反射層基層之黏合層、及保護層均為由無機材料構成之膜時，除了耐熱性之外，亦可防止夾持於該等間之反射層(銀膜)中之銀原子的遷移，故可期待信賴性提升。
又，具有反射光之功能的反射膜係由銀或以銀為主成分之銀合金構成，並以電鍍法形成，故與真空成膜製程相異，不需高額之製造設備，可廉價地製造。
圖式簡單說明
[第1圖]係本發明第1實施形態之光反射板的截面圖。
[第2圖]係本發明第3實施形態中，使用該光反射板之導光鏡組的立體圖。
[第3圖](a)係本發明第2實施形態中，使用該光反射板之液晶顯示裝置的邊緣發光型背光源之立體圖，(b)係(a)之I-I線截面圖。
實施發明之最佳形態
接著，參照圖式依據以下項目說明本發明之實施形態。
(說明項目)
(本發明第1實施形態之光反射板)
(i)光反射板之構造
(ii)光反射板之製造方法
(iii)光反射板之性能比較
(本發明第2實施形態之光反射板)
(本發明第3實施形態之光反射裝置)
(i)導光鏡組
(ii)邊緣發光型背光源及液晶顯示裝置
(iii)其他照明器具
(本發明第1實施形態之光反射板)
(i)光反射板之構造
第1圖係顯示本發明第1實施形態之光反射板構造的截面圖。
如第1圖所示，該光反射板101於基板1之表面，由下開始依序積層有黏合層2、反射層3、保護層4。
基板1係以表面處理鋼板、不鏽鋼板、鋁板或鋁合金所構成。
為使作為表面處理鋼板之原板使用之鋼板，為較鋁板或不鏽鋼板廉價之材料，故使用以鐵為主成分，並含有小於11%之鉻者。
施行鍍鋅等電鍍使該鋼板防鏽。另外，不鏽鋼板係以鐵為主成分，並含有11%以上之鉻者，不會生鏽，故與本發明含有小於11%之鉻的鋼板相異，可不需被覆鍍鋅等直接使用。
作為表面處理鋼板之鍍鋅鋼板，依據電鍍方法有數種種類。例如，熔融鍍鋅鋼板、熔融鍍鋅合金鋼板、合金化熔融鍍鋅鋼板、電鍍鋅鋼板、電鍍鋅合金鋼板等。
電鍍之材料係使用鋅或鋅合金。鋅合金可使用於鋅(Zn)中含有5或55質量%之鋁(Al)者、於鋅(Zn)中含有鈷(Co)、鉬 (Mo)者等。其他之鋅合金可使用於鋅(Zn)中含有鎳(Ni)或鐵(Fe)者、或含有鋁(Al)與鎂(Mg)者。
鍍鋅鋼板可直接作為基板使用，此外，為防止鋅等電鍍剝落或變質，亦可施行化學轉化處理。化學轉化處理可使用例如：鉻酸處理、磷酸鹽處理、矽酸鋰處理、矽烷耦合處理、或鋯處理等。
表面處理鋼板宜為經施行具有犧牲防蝕硬化之廉價鍍鋅或鍍鋅合金者，其他，亦可使用經施行鎳、鉻、銅、錫等電鍍或以該等為主成分之鍍合金的表面處理鋼板。
不鏽鋼板係使用以鐵為主成分，並含有11%以上之鉻者。不鏽鋼板因不易生鏽，故適合直接作為基板使用。例如：JIS G 4304或JIS G 4305記載之不鏽鋼板係適用。
由鋁板或鋁合金板構成之基板，可使用JIS H 4000所記載之鋁板、鋁合金板。
黏合層2係由有機樹脂膜所構成。有機樹脂膜係使用塗布有有機樹脂材料之膜或呈薄膜狀之膜。
塗布用之有機樹脂材料宜使用例如：胺甲酸乙酯樹脂、丙烯酸樹脂、丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂、聚酯樹脂、氟樹脂、環氧樹脂、聚碳酸酯樹脂、氯乙烯樹脂、醋酸乙烯樹脂、ABS樹脂(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚合成樹脂)、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚苯乙烯樹脂、酚醛樹脂、尿素樹脂、三聚氰胺樹脂或縮醛樹脂等。
薄膜用之有機樹脂材料宜使用例如：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴樹脂、聚乙烯醇樹脂、醋酸樹脂、聚苯乙烯樹脂、 氟樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、聚酯樹脂、胺甲酸乙酯樹脂或丙烯酸樹脂等。
為適用於有機樹脂膜或有機樹脂薄膜，前述樹脂可使用單體，亦可使用由前述樹脂材料中選出2種以上之混合物。
使用塗布用之有機樹脂材料的有機樹脂膜，可藉由以下方法於基板1上製作，前述方法係，將樹脂溶液滴於基板上後藉輥子調整塗膜厚度之滾軸塗布法、將基板浸漬於樹脂溶液中之浸漬法、使樹脂流動於水平移動之基板表面的簾幕流動法、將樹脂溶液吹附於基板之噴霧法、將樹脂溶液塗布於基板上，並乾燥之溶膠凝膠法、或其他之塗布法。又，有機樹脂薄膜可透過接著劑等貼附於基板1，以製作於基板1上。
此時，不僅可於基板1上將有機樹脂材料製作成單層，亦可積層2層以上製作，以作為有機樹脂膜或有機樹脂薄膜。
於使用有機樹脂膜或有機樹脂薄膜時，黏合層2之厚度全體以1~20μm之範圍為佳。其理由係，小於1μm時表面會不平滑，故與設於其上之銀膜的密著性不佳，又，當大於20μm時成本會增加之緣故。
除了前述以外，黏合層2亦可由無機材料構成之膜所構成。無機材料可使用：氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦、或氧化鉿之單體、或含有該等2種以上之混合物。
將該等氧化物成膜於基板1之表面的方法，可舉將包含有前述無機材料之水分散溶膠水溶液浸漬處理、或電解處理(陰極處理或陽極處理)之方法為例。
若由無機材料構成膜時，黏合層2之厚度以0.1~5μm之範圍為佳。其理由係，小於0.1μm時，表面不平滑故與設於其上之銀膜的密著性不佳，當大於5μm時，氧化物會過厚而容易產生凝集破壞，且成本增加之緣故。
又，亦可於黏合層2之表面施行電暈放電處理或輝光放電處理。藉此，可更加提升與積層於其上之銀層的密著性。
黏合層2之表面粗糙度Ra(JIS B0601)以小於0.1μm為佳。其理由係，當為0.1μm以上時，表面之平坦化會不充分，故不易以噴鍍法於黏合層2之表面均勻地析出銀膜之緣故。
反射層3係以由銀、或以銀為主成分之銀合金構成之膜所構成。銀合金以於銀中添加錫、銦、鋅、鎳、銅或鈀者為佳。添加之金屬的添加量以3質量%以下為佳。其理由係，當大於3質量%時，光反射率會急遽下降之緣故。
反射層3之厚度以於50~350nm之範圍為佳。特別地，以厚度70~150nm之範圍為佳，相對於可見光，可得高光反射率。將厚度設於50~350nm之範圍的理由，係厚度小於50nm時，厚度薄則光反射率低，為350nm以上時光反射率未甚有改變，而成本增加之緣故。
又，調整銀或以銀為主成分之銀合金的結晶尺寸，以提升光反射率係為重要。當銀或以銀為主成分之銀合金的 結晶尺寸越小，光反射率會顯示越高的傾向。為得到實用上較佳之光反射率，銀或以銀為主成分之銀合金的結晶尺寸以200nm以下為佳，以100nm以下較佳，以50nm以下更為理想。
前述反射層3之銀等可藉由例如，利用銀鏡反應後之無電電鍍法、噴鍍法形成。
保護層4宜為由有機樹脂或無機材料、或該等之混合物構成之單層膜。又，可為使用有機樹脂之膜作為下層，使用無機材料之膜作為下層的2層。或者，相反地，可為使用無機材料之膜作為下層，使用有機樹脂之膜作為上層的2層。
保護層4之有機樹脂可使用丙烯酸樹脂、丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂、聚酯樹脂或胺甲酸乙酯樹脂，其中，以不易因光產生劣化及變質之丙烯酸樹脂為佳。又，無機材料宜為氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦或氧化鉿、或含有該等2種以上之混合物。以膜之形態或混合物之形態將無機材料包含於保護層4中，藉此，可提升耐劃痕性，且於加工時保護層4不易有劃痕。
保護層4，特別可於最表層添加紫外線吸收劑及/或抗菌劑。紫外線吸收劑可使用眾所周知者，例如：水楊酸系、二苯基酮系、苯并三唑系、或氰丙烯酸系。紫外線吸收劑之含有率，相對於無機材料或有機樹脂之固體含量100重量份，可含有0.5~2.5重量份。
抗菌劑可使用例如：日本扁柏油、甲殼素、桉樹精華 (ecualyptus extract)、吡啶硫酮鋅(zinc pyrithione)、四級胺鹽、涕必靈、有機矽四級胺鹽、盤尼西林、頭孢菌素(cephem)、氨基糖苷、四環素、新喹諾酮(new quinolone)、巨環內酯、或銀、銅、鋅等金屬鹽等眾所周知者。相對於無機材料或有機樹脂之固體含量100重量份，可含有抗菌劑0.5~15重量份。
保護層4之厚度，包含單層及多層之情形，全體以5~30μm之範圍為佳。其理由係，厚度小於5μm時，於含有硫化氫之環境氣體中銀膜3會變色，光反射率下降。反之，當大於30μm時，不僅成本提高，亦導致光反射率下降。
藉由該保護層4，有保護層4下之反射層3不易因周圍環境而劣化、變質的效果。藉此，可防止光反射率下降。
(ii)光反射板之製造方法
接著，說明前述光反射板101之製造方法。
基板1宜使用表面處理鋼板、不鏽鋼板、鋁板或鋁合金板。表面處理鋼板宜經施行具有犧牲防蝕硬化之廉價鍍鋅或鍍鋅合金者，其他，亦可使用經施行鎳、鉻、銅、錫等電鍍或以該等為主成分之鍍合金的表面處理鋼板。不鏽鋼板係使用以鐵為主成份，且含有11%以上之鉻者。不鏽鋼板因不易生鏽，故可直接作為基板使用。例如，JIS G 4304或JIS G 4305記載之不鏽鋼板。由鋁板或鋁金板構成之基板，可使用JIS H 4000中記載之鋁板、鋁合金板。
首先，說明使用由鍍鋅鋼板構成之基板1的例。鍍鋅或鍍鋅合金之方法，可使用熔融鍍鋅法、熔融鍍鋅合金法、 電鍍鋅法、或電鍍鋅合金法中任一者。
熔融鍍鋅法、或熔融鍍鋅合金法係將鋼板浸漬於經熔融之鋅中、或經熔融之鋅合金中，以被覆鋅或鋅合金之方法。又，電鍍鋅法、或電鍍鋅合金法係將鋼板浸漬於熔解有鋅等之電鍍液中、或熔解有鋅合金等之電鍍液中，於鋼板與鋅陽極(或不溶性陽極)之間施加電壓，以被覆鋅或鋅合金之方法。
其次，於準備完成之基板1上形成黏合層2。由有機樹脂構成之黏合層2的成膜方法，可使用滾軸塗布法、浸漬法、簾幕流動法、噴霧法、溶膠凝膠法之任一者。
滾軸塗布法係將有機樹脂溶液滴於基板上後藉輥子調整塗膜厚度之方法。浸漬法係將基板浸漬於有機樹脂溶液之方法。簾幕流動法係將有機樹脂溶液流動於水平移動之基板表面之方法。噴霧法係將有機樹脂溶液吹附於基板之方法。溶膠凝膠法係將有機樹脂溶液塗布於基板上，並乾燥之方法。
又，除了有機樹脂以外，可於前述準備完成之基板1上形成由無機材料構成之黏合層2。由無機材料構成之黏合層2之成膜方法，可使用以包含有無機材料之水分散溶膠水溶液來浸漬處理之方法、或電解處理(陰極處理、或陽極處理)之方法的任一者。
接著，以鹼性溶液洗淨黏合層2之表面，以將黏合層2之表面脫脂。然後，使用離子交換水或蒸餾水，水洗前述基板1，並乾燥。另外，亦可依據黏合層2之表面狀態，不 施行以鹼性溶液進行之洗淨。
接著，進行用以形成銀膜之前處理。
前處理係於黏合層2上形成錫後，再將該錫取代為銀之始動核(initiating nucleus)的處理。
前處理中，首先，於黏合層2之表面塗布包含有具有鹽酸之氯化錫、氯化亞錫及氯化鐵的水溶液(前處理活性劑)，以將作為觸媒之錫形成於黏合層2之表面。形成於黏合層2上之錫會成為用以析出銀之始動核，使銀容易析出。含有氯化錫之水溶液以調整至pH2以下為佳。
其次，使用離子交換水、或蒸餾水洗淨析出錫後之黏合層2的表面，並去除包含有殘留於黏合層2表面之氯化亞錫等的水溶液。
之後，於黏合層2之表面塗布硝酸銀水溶液。藉此，以析出於黏合層2上之銀取代先前形成之錫，形成銀之始動核。
接著，於進行此前處理後，進行藉使用銀鏡反應之噴鍍法，將作為反射層3之銀膜成膜於黏合層2上的步驟。
噴鍍法係於經施行前處理之黏合層2表面，同時射出氨性硝酸銀水溶液(4[Ag(NH3)2]NO3)、及包含有還原劑(硫酸：hydrazinium sulfate)之水溶液。還原劑水溶液係使用將還原劑溶解於水中者、或於稀釋之還原劑中加入氫氧化鈉而鹼性化者。藉此，於黏合層2之表面以銀之始動核為基準析出銀，形成銀膜。
此時，為得高之反射率，使銀膜之結晶尺寸為200nm 以下係為重要。因此，需調節還原劑水溶液之pH，與氨性硝酸銀水溶液及還原劑水溶液之溫度。藉由調整氫氧化鈉之量，還原劑水溶液之pH係8~12，較佳者是9~11。另外，因進行氨性硝酸銀水溶液之pH管理的話，可更容易控制銀之析出，故氨性硝酸銀水溶液之pH係10~13，較佳者是11~12。又，氨性硝酸銀水溶液及還原劑水溶液之溫度係25℃±5℃。另外，因於該溫度範圍中幾乎未見銀之成膜速度的變化，故亦有最宜以調整pH來控制結晶尺寸之效果。
又，銀之結晶尺寸，可藉由改變氨性硝酸銀水溶液(4[Ag(NH3)2]NO3)、及還原劑(包含硫酸)水溶液之濃度比來控制。藉使硝酸銀之濃度較還原水溶液中之硫酸濃度小，銀之結晶尺寸會變小。換言之，相對於硫酸之濃度，硫酸銀之濃度越低，銀之結晶尺寸會越小，結果，反射率會變高。例如，當硫酸之濃度為8g/L時，硝酸銀之濃度以硫酸濃度之0.2~1比例為佳。
另外，當還原劑水溶液之pH大於前述範圍時，成膜速度會過快，而於銀膜產生鏽污，使光反射率下降。反之，當還原劑水溶液之pH小於前述範圍時，成膜速度會過慢，而無法確保充分之膜厚，此時，仍無未能得到高光反射率。又，當還原劑水溶液之溫度低時，銀鏡反應變弱，而不易析出銀，相反地，當溫度過高，銀之析出速度過快，而於銀膜產生鏽污。
接著，使用離子交換水或蒸餾水洗淨基板1，並去除殘存於反射層3表面之氨性硝酸銀水溶液與還原劑水溶液。然 後，使用硫代硫酸鈉水溶液，進行中和處理。藉該中和處理，可更加地去除殘留於反射層3表面之包含於電鍍液之氯(Cl)。
接著，使用離子交換水或蒸餾水洗淨基板1後，以鼓風機吹散附Rd反射層3表面之水滴。之後，進行乾燥基板1之乾燥步驟。乾燥條件係例如，以70℃之溫度進行20分鐘。
然後，於反射層3上成膜有機樹脂或無機材料之保護膜4。保護膜4可藉與黏合層2相同之成膜方法成膜。
如前述，依據該實施形態之光反射板之製造方法，使用噴鍍法作為銀膜之形成方法，故金屬板不會熔融，且因黏合層2銀膜不會剝落。藉此，即使使用金屬板仍不會脫膜，可得高反射特性之光反射板。
另外，前述光反射板之製造方法中，雖使用以噴鍍法之無電電鍍法作為銀膜的形成方法，但仍可使用以浸漬電鍍法之無電電鍍法。若為以浸漬電鍍法之無電電鍍法時，結晶尺寸之控制，可藉由包含氨性硝酸銀水溶液及還原劑水溶液之電鍍液中的還原劑水溶液之pH、及電鍍液之溫度，與前述相同地進行。
又，使用有機樹脂薄膜作為黏合層2時，藉接著劑將形成於有機樹脂薄膜上之反射層3與保護層4者貼附於金屬板。或者，於由金屬板構成之基板1塗布接著劑，再將有機樹脂薄膜貼附於該接著劑之表面。之後，亦可於有機樹脂薄膜上形成反射層3與保護層4。
(iii)光反射板之性能比較
接著，說明將本發明實施例之光反射板的性能與比較例之光反射板的性能相比較後之調查結果。
(光反射板之製作條件)
以下，說明本發明實施例之光反射板及比較例之光反射板的製作條件。實施例1~9係由有機樹脂構成黏合層之情形，實施例10~18係顯示由無機材料構成黏合層之情形。
將該等統整於表1、表2中。
(實施例1)
於板厚0.5mm之電鍍鋅鋼板(雙面電鍍，單面之鍍Zn量：20g/m2)表面塗布丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚約為1μm。接著，藉銀鏡反應披覆厚度約70nm之銀膜。然後，於銀膜表面塗布丙烯酸樹脂、並乾燥。乾燥後之膜厚約為6μm。並且，塗布含有氧化矽溶膠之水溶液，並乾燥。乾燥後之氧化矽膜厚度係0.05μm。
(實施例2)
於板厚0.5mm之電鍍鋅鋼板(雙面電鍍，單面之鍍Zn量：20g/m2)表面，施行皮膜厚度1000mg/m2之磷酸鋅處理，再於磷酸鋅處理皮膜上，以熱壓接合法積層厚度15μm之聚酯樹脂薄膜。接著，於其上藉銀鏡反應披覆厚度約150nm之銀膜。然後，將基板浸漬於含有氧化鋁溶膠之水溶液中，於銀膜表面披覆厚度0.03μm之氧化鋁膜。並且，於氧化鋁膜表面塗布丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係6μm。
(實施例3)
準備板厚0.5mm之熔融鋅-55質量%鍍鋁合金鋼板。另外，該鋼板係稱作鍍鋁鋅(galvalume)鋼板。於其表面塗布聚碳酸酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係5μm。接著，藉銀鏡反應披覆厚度100nm之銀膜。然後，於銀膜表面塗布丙烯酸樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係25μm。
(實施例4)
於板厚0.5mm之電鍍鋅鋼板(雙面電鍍，單面之鍍Zn量：20g/m2)表面塗布ABS樹脂(丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚合成樹脂)，並乾燥。乾燥後之膜厚係5μm。接著，藉銀鏡反應披覆厚度83nm之銀膜。然後，於銀膜表面塗布含有氧化鋁3質量%之丙烯酸樹脂，並乾燥。乾燥後之厚度係10μm。
(實施例5)
準備板厚0.5mm之電鍍鋅-鈷-鉬複合電鍍鋼板(雙面電鍍，單面之鍍Zn量：20g/m2)。於其表面施行鉻酸處理(雙面處理，每單面附著40mg/m2之Cr)。再於其上塗布丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係10μm。接著，藉銀鏡反應披覆厚度130nm之銀膜。然後，於銀膜表面塗布丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係6μm。
(實施例6)
準備板厚0.5mm之電鍍鋅鋼板(雙面電鍍，單面之鍍Zn量：20g/m2)。於其表面施行鉻酸處理(雙面處理，每單面附著10mg/m2之Cr)。再於其上塗布丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係15μm。接著，藉銀鏡反應披覆厚 度70nm之銀膜。然後，將基板浸漬於包含氧化鋁溶膠之水溶液，以基板為陰極，不鏽鋼板為陽極進行陰極處理，並乾燥。乾燥後，於基板上之銀膜表面析出之氧化鋁膜的膜厚係0.1μm。並且，於氧化鋁膜表面塗布聚酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係6μm。
(實施例7)
準備板厚0.5mm之由不鏽鋼板(SUS304)構成之基板，於其表面塗布聚醯亞胺樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係3μm。接著，藉銀鏡反應披覆厚度150nm之銀膜。然後，將基板浸漬於含有氧化鋯溶膠之水溶液，以基板為陰極，不鏽鋼板為陽極進行陰極處理，並乾燥。乾燥後，於基板上之銀膜表面析出之氧化鋯膜的膜厚係0.05μm。並且，於氧化鋯膜表面塗布丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係8μm。
(實施例8)
準備板厚0.5mm之Al板(JIS H 4000，合金號：1050)，於其表面塗布胺甲酸乙酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係12μm。接著，藉銀鏡反應披覆厚度120nm之銀膜。然後，於銀膜表面塗布含有3質量%之氧化矽的丙烯酸樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係15μm。並且，於含有3質量%之氧化矽的丙烯酸樹脂表面塗布丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係3μm。
(實施例9)
準備板厚0.5mm之Al板(JIS H 4000，合金號：5052)， 於其表面塗布丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係15μm。接著，藉銀鏡反應披覆厚度75nm之銀膜。然後，以熱壓接合法於銀膜表面積層厚度15μm之聚酯樹脂薄膜。並且，於聚酯樹脂薄膜表面塗布含有2質量%之氧化矽的丙烯酸樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係3μm。
(實施例10)
於板厚0.5mm之電鍍鋅鋼板(雙面電鍍，單面之鍍Zn量：20g/m2)表面塗布含有氧化鋁溶膠之水溶液，並乾燥。乾燥後之氧化鋁膜厚係0.1μm。接著，藉銀鏡反應成膜厚度100nm之銀膜。然後，於銀膜表面塗布丙烯酸樹脂，並乾燥。乾燥後之厚度係6μm。再於其上塗布含有氧化矽溶膠之水溶液，並乾燥。乾燥後之氧化矽厚度係0.05μm。
(實施例11)
準備板厚0.5mm之電鍍鋅鋼板(雙面電鍍，單面之鍍Zn量：20g/m2)。接著，施行皮膜厚度700mg/m2之磷酸鋅處理，再將鍍鋅鋼板浸漬於含有氧化矽溶膠之水溶液，以該鍍鋅鋼板為陰極，不鏽鋼板為陽極，於磷酸鋅處理皮膜上以含有氧化矽溶膠之水溶液進行電解處理，並乾燥。藉此，於鍍鋅鋼板表面成膜膜厚0.2μm之氧化矽膜。接著，於氧化矽膜上，藉銀鏡反應成膜厚度120nm之銀膜。然後，將基板浸漬於含有氧化鋁溶膠之水溶液中，於銀膜上成膜厚度0.03μm之氧化鋁膜。並且，於氧化鋁膜上塗布丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係6μm。
(實施例12)
於板厚0.5mm之熔融鋅-55質量%鍍鋁合金鋼板表面塗布含有氧化鉿溶膠之水溶液，並乾燥。乾燥後之氧化鉿厚度係1μm。接著，藉銀鏡反應成膜厚度150nm之銀膜。然後，於銀膜表面塗布丙烯酸樹脂，並乾燥。乾燥後之厚度係25μm。
(實施例13)
準備板厚0.5mm之電鍍鋅鋼板(雙面電鍍，單面之鍍Zn量：20g/m2)。將鍍鋅鋼板浸漬於含有氧化鈦溶膠之水溶液，以鍍鋅鋼板為陰極，不鏽鋼板為陽極，進行陰極處理，並乾燥。乾燥後，堆積於基板上之銀膜表面的氧化鈦膜厚係0.5μm之氧化矽膜。接著，藉銀鏡反應披覆厚度50nm之銀膜。然後，於銀膜表面塗布含有3質量%之氧化鋁的丙烯酸樹脂，並乾燥。乾燥後之厚度係10μm。
(實施例14)
準備板厚0.5mm之電鍍鋅-鈷-鉬複合電鍍鋼板(雙面電鍍，單面之鍍Zn量：20g/m2)。於其表面施行鉻酸處理(雙面處理，每單面附著40mg/m2之Cr)。再於其上塗布含有氧化鋯之水溶液，並乾燥。乾燥後之氧化鋯膜之厚度係2μm。接著，藉銀鏡反應披覆厚度250nm之銀膜。然後，於銀膜表面塗布丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係6μm。並且，將經前述處理之電鍍鋅鋼板浸漬於含有氧化矽溶膠之水溶液中，並乾燥。藉此，成膜乾燥後之厚度係0.1μm之氧化矽膜。
(實施例15)
準備板厚0.5mm之電鍍鋅鋼板(雙面電鍍，單面之鍍Zn量：20g/m2)。於其表面施行鉻酸處理(雙面處理，每單面附著10mg/m2之Cr)。然後，將基板浸漬於含有氧化矽溶膠與氧化鋁溶膠之水溶液，以基板為陰極，不鏽鋼板為陽極進行陰極處理，並乾燥。乾燥後，堆積於基板上之由氧化矽與氧化鋁之混合物構成之膜的膜厚係3μm。接著，藉銀鏡反應成膜厚度70nm之銀膜。然後，將基板浸漬於含有氧化鋁溶膠之水溶液，以基板為陰極，不鏽鋼板為陽極進行陰極處理，並乾燥。乾燥後，堆積於基板上之銀膜表面的氧化鋁膜膜厚係0.1μm。並且，於氧化鋁膜表面塗布聚酯樹脂，並乾燥。乾燥後之厚度係6μm。
(實施例16)
準備板厚0.5mm之由不鏽鋼板(SUS304)構成之基板，於其表面塗布氧化矽，並乾燥。換言之，將基板浸漬於含有氧化矽溶膠之水溶液，以基板為陰極，不鏽鋼板為陽極進行陰極處理，乾燥後之膜厚係0.2μm。接著，藉銀鏡反應披覆厚度150nm之銀膜。然後，將基板浸漬於包含氧化矽溶膠之水溶液，以基板為陰極，不鏽鋼板為陽極進行陰極處理，並乾燥。乾燥後，於基板上之銀膜表面析出之氧化矽膜的膜厚係0.05μm。並且，於氧化矽膜表面塗布丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係8μm。
(實施例17)
準備板厚0.5mm之Al板(JIS H 4000，合金號：1050)，於其表面塗布氧化鋁，並乾燥。換言之，將基板浸漬於含 有氧化鋁溶膠之水溶液，以基板為陰極，不鏽鋼板為陽極進行陰極處理，乾燥後之膜厚係0.3μm。接著，藉銀鏡反應披覆厚度120nm之銀膜。然後，於銀膜表面塗布含有3質量%之氧化矽的丙烯酸樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係15μm。並且，於含有3質量%之氧化矽的丙烯酸樹脂表面塗布丙烯酸胺甲酸乙酯樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係3μm。
(實施例18)
準備板厚0.5mm之Al板(JIS H 4000，合金號：5052)，於其表面塗布氧化鋁與氧化矽之混合物，並乾燥。換言之，將基板浸漬於含有氧化鋁溶膠與氧化矽溶膠之水溶液，以基板為陰極，不鏽鋼板為陽極進行陰極處理，乾燥後之膜厚係0.1μm。接著，藉銀鏡反應披覆厚度75nm之銀膜。然後，以熱壓接合法於銀膜表面積層厚度15μm之聚酯樹脂薄膜。並且，於聚酯樹脂薄膜表面塗布含有2質量%之氧化矽的丙烯酸樹脂，並乾燥。乾燥後之膜厚係3μm。
(比較例1)
於板厚0.5mm之電鍍鋅鋼板(雙面電鍍，單面之鍍Zn量：20g/m2)表面藉銀鏡反應披覆厚度70nm之銀膜。然後，於銀膜表面塗布丙烯酸樹脂，並乾燥。乾燥後之厚度係40μm。並且，於其上塗布含有氧化矽溶膠之水溶液，並乾燥。乾燥後之氧化矽厚度係0.05μm。
(特性評價)
以如下述之評價方法及條件，對經前述製作之實施例的光反射板及比較例的光反射板，進行特性評價。於表3顯 示該評價結果。
(光反射率之評價方法及條件)
使用Minolta製CM-3500d(光源：D65，口徑：8mm)作為測定裝置，依據JIS Z8722，測定波長550nm之光反射率。另外，進行以硫酸鋇標準白色板之反射率為基準的校正。
以符號○表示光反射率為90%以上，以×表示小於90%。90%以上為實用，即為合格範圍。
(氣體試驗之方法及條件)
將樣本放置於含有H2S1.5ppm與NO23ppm之大氣中(溫度：30℃，溼度：70%RH)24小時，測定正反射率之下降率。正反射率係於波長550nm測定，將(初期之光正反射率-經過24小時後之光正反射率)×100/初期之光正反射率，定義為正反射率之下降率。
測定結果，以符號×表示下降率為10%以上，以符號○表示小於10%。下降率小於10%為實用，即為合格。
(密著性試驗之方法及條件)
藉將黏著貼布貼附於光反射板後撕下的方式進行試驗。以符號×表示產生脫膜者，以符號○表示未產生脫膜者。
(評價結果)
依據表3，實施例1~18中，因均設有黏合層，故未產生脫膜。又，保護層4之厚度係5~30μm，故正反射率之隨時間的劣化少，係為良好。
另一方面，比較例1中，因未設置黏合層，故鍍鋅鋼板與銀膜之界面產生脫膜。又，正反射率之下降率大。
如前述，於本發明實施形態之光反射板101中，由金屬板構成之基板1，與由銀或以銀為主成分之銀合金的鍍層構成之反射層3之間，隔著由有機樹脂或無機材料構成之黏合層2。
因此，可於由金屬板構成之基板1上，密著性良好地形成由鍍層構成之反射層3。
因使用由金屬板構成之基板1，相較於玻璃基板，加工性及強度優異。若使用在鋼板經施行鍍鋅或鍍鋅合金之基板1時，較不鏽鋼板、鋁板或鋁合金板廉價。
又，若以使用有機樹脂或無機材料之塗布法形成反射層3基層之黏合層2，則容易平坦地形成黏合層2之表面，故黏合層2上之反射層3變得平坦，得到正反射率高之光反射板。
又，具有反射光功能之反射層3係由銀或以銀為主成分之銀合金構成，且以電鍍法形成，故與蒸空成膜製程相異，不需高額之製造設備，可廉價地製造。
(本發明第2實施形態之光反射板)
接著，說明本發明第2實施形態之光反射板。
前述第1實施形態之光反射板101中，反射光有偏黃的傾向。其可視為相當於藍色之波長的光被銀膜等吸收。因此，本實施形態係於保護層4添加藍色系之顏料的構造。
其第1態樣，若保護層4係由有機樹脂或無機材料之單體、或者該等之混合物構成之單層，則使該保護層4含有藍色系之顏料。
第2態樣，若保護層4係使用有機樹脂之膜作為下層，使用無機材料之膜作為上層之2層，則使上層或下層之至少任一層含有藍色系之顏料。
第3態樣，與第2態樣相反，若保護層4係使用無機材料之膜作為下層，使用有機樹脂之膜作為上層之2層，則使上層或下層之至少任一層含有藍色系之顏料。
藍色系之顏料，可適當地使用例如：鈷藍、鈷紫、群青、紺青、酞花青藍(phthalocyanine blue)、陰丹士林藍(indanthrene blue)、天藍(cerulean blue)或普魯士藍(prussian blue)等。並且，加入保護層之藍色系顏料的添加量以0.05~0.5質量%之範圍為佳。若保護層係2層，則添加藍色系顏料至保護層2層之合計添加量為0.05~0.5質量%之範圍。當小於0.05質量%時，相對於藍色系色之反射並無效果。另一方面，當大於0.5質量%時，會過度反射藍色系之光，反而吸收藍色補色之黃色，成為與白色光顯著地相異者。
如此，藉於保護層4中含有藍色系之顏料，可藉保護層4中之藍色系顏料反射藍色系之光，再利用由銀膜或銀合金膜構成之反射層3補償藍色系之光吸收，則全體並未有特定之色偏，可得太陽光或光源色原本反射光。
成膜該實施形態之保護層4的方法，可使用成膜第1實施形態之保護層的方法。
(本發明第3實施形態之光反射裝置)
(i)導光鏡組
第2圖係顯示本發明第3實施形態之導光鏡組102構造的立體圖。
第2圖係顯示於家中設置導光鏡組102之狀態。如第2圖所示，該導光鏡組102具有採光部5、放光部6、導光部7。於導光部7之分隔板8的內壁形成經第1實施形態說明之光反射板101，使由採光部5入射之光以導光部7反射傳送。該導光鏡組102係將光反射板101加工後而製成。
如第2圖所示，該導光鏡組102設置成採光部5露出屋外以接收太陽光，放光部6則露出屋內。
依據前述之導光鏡組102，因使用經第1實施形態說明之光反射板101來製作，故不會脫膜，可廉價地提供信賴性高、光反射率高之導光鏡組。
又，藉由使用經2實施形態說明之光反射板，導光鏡組之照明光可不偏向特定之顏色，而顯示太陽光原本之顏色。
(ii)邊緣發光型背光源及液晶顯示裝置
第3(a)圖係顯示本發明第3實施形態之液晶顯示裝置的邊緣發光型背光源103之構造的立體圖。第3(b)圖係沿第3(a)圖之I-I線的截面圖。
如第3(a)圖所示，該背光源103設於液晶面板14下方。並且，該背光源103包含有：具有與液晶螢幕之顯示面積相對應之面積，且裡面分散設有亂反射部或擴散反射部(未圖示)之導光板9；設於導光板9裡面及側面之反射板10a、10b；設於導光板9之單側端部的光源11；將來自光源11之光反射至導光板9之反射板12；及將由導光板9表面射出之 反射傳送光線擴散之擴散片材13。
設於導光板9裡面及側面之反射板10a、10b係將前述光反射板101加工而作成者。又，反射板12亦為將光反射板101加工而作成者。
該背光源103中，由光源11射出之光於導光板9中邊全反射邊反射傳送，而遍及導光板9全體，然後，藉由分散設於導光板9裡面之亂反射部或擴散反射部產生更銳角的反射光，該反射光會以小於全反射之入射角的入射角設入導光板9表面，且該光會由導光板9表面朝外部射出。之後射出之光會通過擴散片材13，藉此產生擴散光，該擴散光則作為液晶面板14之背光源使用。
導光板9裡面之反射板10a將由導光板9裡面漏出之光反射回導光板9，反射板10b將由導光板9側面漏出之光反射回導光板9。
依據前述之邊緣發光型背光源103，因使用經第1實施形態說明之光反射板101，故不會脫膜，可廉價地提供信賴性高、光反射率高之邊緣發光型背光源。
又，藉由使用經第2實施形態說明之光反射板，邊緣發光型背光源可射出光源之光的原本之光。
另外，具有前述邊緣發光型背光源之液晶顯示裝置亦包含於本發明範圍。依據該液晶顯示裝置，所顯示之影像會顯示出自然色。
又，具有設於液晶面板下，將外部入射光反射至液晶之本發明光反射板的液晶顯示裝置亦包含於本發明範圍 中。依據該反射型液晶顯示裝置，所顯示之影像會顯示出自然色。
(iii)其他照明器具
可將第1實施形態之光反射板作為照明器具之光反射板，例如，由螢光燈或水銀燈射出之光的反射板使用。
於該照明器具中，使用經第1實施形態說明之光反射板101，故光反射板101不會脫膜，可廉價地提供信賴性高、光反射率高之導光鏡組。
此外，藉由使用經第2實施形態說明之光反射板，照明器具之照明光會顯示光源之光的原本色。
其他，具有第1及第2實施形態之光反射板的背面投射型影像顯示裝置、掃描器、影印機等光學機器亦包含於本發明範圍中。
產業上利用之可能性
本發明光反射板因不會脫膜，信賴性高、光反射率高、廉價，宜作為導光鏡組、照明用器具、邊緣發光型背光源、液晶顯示裝置、數位相機之閃光用反射板、冷凍展示櫃或其他光學機器之光反射板使用。前述照明用器具宜用於使用螢光燈或水銀燈作為光源者、或下向光等。
表1係顯示本發明實施例及比較例之製作條件。
表2係顯示本發明實施例及比較例之其他製作條件。
表3係顯示本發明實施例及比較例之特性評價結果。
1‧‧‧基板
2‧‧‧黏合層
3‧‧‧反射層
4‧‧‧保護層
5‧‧‧採光部
6‧‧‧放光部
7‧‧‧導光部
8‧‧‧分隔壁
9‧‧‧導光板
10a,10b,12‧‧‧反射板
11‧‧‧光源
13‧‧‧擴散片材
14‧‧‧液晶面板
101‧‧‧光反射板
102‧‧‧導光鏡組
103‧‧‧背光源
[第1圖]係本發明第1實施形態之光反射板的截面圖。
[第2圖]係本發明第3實施形態中，使用該光反射板之導光鏡組的立體圖。
[第3圖](a)係本發明第2實施形態中，使用該光反射板 之液晶顯示裝置的邊緣發光型背光源之立體圖，(b)係(a)之I-I線截面圖。
1‧‧‧基板
2‧‧‧黏合層
3‧‧‧反射層
4‧‧‧保護層
101‧‧‧光反射板

Claims (5)

  1. 一種光反射板，包含有：基板，係由金屬板構成者；黏合層，係由形成於前述基板上之表面粗糙度(Ra)為小於0.1μm之有機樹脂構成者；反射層，係由形成於前述黏合層上之銀或以銀為主成分之銀合金的鍍層構成者；及保護層，係由形成於前述反射層上之有機樹脂膜與無機膜2層所構成者，且該無機膜係由氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦或氧化鉿中任1種、或含有該等2種以上之混合物所構成；前述金屬板係表面處理鋼板、不鏽鋼板、鋁板或鋁合金板；且構成前述反射層之銀或以銀為主成分之銀合金的結晶尺寸係200nm以下。
  2. 一種光反射板之製造方法，包含有以下步驟：於由金屬板構成之基板上，形成由表面粗糙度(Ra)為小於0.1μm之有機樹脂所構成之黏合層；於該黏合層上，藉由使用噴鍍法之無電電鍍法，形成由銀或以銀為主成分之銀合金中任一者構成之反射層；及於該反射層上，形成由有機樹脂膜與無機膜2層所構成之保護層，且該無機膜係由氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦或氧化鉿中任1種、或含有該等2種以上之混 合物所構成；前述金屬板係表面處理鋼板、不鏽鋼板、鋁板或鋁合金板；於形成由前述銀或以銀為主成分之銀合金中任一者構成之反射層時，將前述銀或以銀為主成分之銀合金的結晶尺寸調整成200nm以下。
  3. 一種光反射板之製造方法，包含有以下步驟：形成光反射板之步驟，該光反射板包含有：基板，係由金屬板構成者；黏合層，係由形成於該基板上之表面粗糙度(Ra)為小於0.1μm之有機樹脂構成者；反射層，係由形成於該黏合層上之銀或以銀為主成分之銀合金的鍍層構成者；及保護層，係由形成於該反射層上之有機樹脂膜與無機膜2層所構成者，且該無機膜係由氧化矽、氧化鋁、氧化鋯、氧化鈦或氧化鉿中任1種、或含有該等2種以上之混合物所構成；及加工前述光反射板後，並形成如下反射板中的至少任一者之步驟，該反射板係設於液晶顯示裝置之背光用導光板之裡面及側面的反射板，及將來自光源之光朝前述導光板反射之反射板中的至少任一者。
  4. 如申請專利範圍第2項之光反射板之製造方法，其中形成反射層之步驟包含以下步驟：塗布包含具有鹽酸之氯化錫、氯化亞錫及氯化鐵並調整成pH為2以下之水溶液來形成錫；在已形成該錫之黏合層的表面上，於25℃±5℃下， 塗布pH為10~13之硝酸銀水溶液與經還原溶解之pH為8~12之還原劑水溶液，以形成反射層；除去殘存於該反射層表面上之該硝酸銀水溶液與該還原劑水溶液；進行中和處理；及使該基板乾燥。
  5. 如申請專利範圍第3項之光反射板之製造方法，其中形成反射層之步驟包含以下步驟：塗布包含具有鹽酸之氯化錫、氯化亞錫及氯化鐵並調整成pH為2以下之水溶液來形成錫；在已形成該錫之黏合層的表面上，於25℃±5℃下，塗布pH為10~13之硝酸銀水溶液與經還原溶解之pH為8~12之還原劑水溶液，以形成反射層；除去殘存於該反射層表面上之該硝酸銀水溶液與該還原劑水溶液；進行中和處理；及使該基板乾燥。
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