JPWO2008149717A1 - 光反射板、その製造方法及び光反射装置 - Google Patents

Abstract

基板への反射層の密着性が強固で、加工性に優れた材料を用いた光反射板を提供する。金属板からなる基板（１）と、基板（１）上に形成された有機樹脂あるいは無機材料からなるバインダ層（２）と、バインダ層（２）の上に形成された銀又は銀を主成分とした銀合金のめっき層からなる反射層（３）と、反射層（３）の上に形成された保護層（４）とを有することを特徴とする。

Description

本発明は、光反射板、その製造方法、及び光反射板を用いた光反射装置に関し、より詳しくは、光反射特性に優れた光反射板、その製造方法、及び光反射板を導光部の内壁に設け、太陽光を光反射板により屋内に導いて照明する光ダクト、光源の光反射板を備えた照明器具、外部入射光の光反射板を備えた液晶表示装置、光反射板を備えた液晶表示装置のエッジライト型バックライト、又はそのエッジライト型バックライトを備えた液晶表示装置などの光反射装置に関する。

従来、光反射装置の光反射板として、ガラス基板にアルミニウム（Al）膜が真空蒸着により成膜されたもの（特許文献１参照）や、ステンレス基板や陽極酸化したアルミニウム基板の上に下地層を介してアルミニウム（Al）や銀（Ag）の膜が真空蒸着や真空スパッタ等により成膜されたもの（特許文献２、３参照）が用いられている。
特開２００１−２３５７９８号公報 特表２００１−５２８８３５号公報 特表２００２−５３０８０３号公報

ところで、上記の光反射装置は光の有効利用によって省エネルギ化が可能であるため、広く普及させることが望まれている。

しかしながら、上記公知文献に記載された光反射板では以下の問題がある。

まず、ガラス基板の場合、加工性や強度の問題がある。

そこで、本願発明者は、基板として、高い強度をもつ金属板を用いることを検討した。

本願発明者は、まず、亜鉛めっき鋼板上に、蒸着法により、反射層である銀を蒸着することを考えた。しかしながら、蒸着のために銀を加熱すると、鋼板を被覆する亜鉛は銀より溶融温度が低いため、その加熱温度が被成膜体である基板側に影響し、基板側の亜鉛等が先に溶融する。このため、基板表面に大きな凹凸が生じたり或いは変質したりする問題がある。なお、蒸着時に基板加熱が必要とされる場合には、さらに問題が大きくなる。

そこで、蒸着の代わりにめっき法を用いて、銀膜を亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施した鋼板上に形成した。しかし、銀膜と、亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施した鋼板との密着性が悪く、銀膜の剥がれが生じた。

本発明は、かかる従来例の問題点、及び亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施した鋼板を用いた場合の問題点に鑑みて創作されたものであり、基板への反射層の密着性が強固で、加工性や強度に優れ、かつ安価な材料を用いた光反射板、及びその製造方法、及びその光反射板を用いて製造した光ダクト、照明器具並びに液晶表示装置などの光反射装置を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、第１の発明は光反射板に係り、金属板からなる基板と、前記基板上に形成された有機樹脂或いは無機材料からなるバインダ層と、前記バインダ層の上に形成された銀又は銀を主成分とした銀合金のめっき層からなる反射層と、前記反射層の上に形成された保護層とを有することを特徴とする。

なお、光反射板とは、加工前の材料、及び特定の寸法に加工したものの両方を含む。

第２の発明は、第１の発明の光反射板に係り、前記金属板が、表面処理鋼板、ステンレス板、アルミニウム板或いはアルミニウム合金板であることを特徴とし、
第３の発明は、第２の発明の光反射板に係り、前記表面処理鋼板は、鋼板が鉄を主成分とし、クロムを１１％未満含有するものであることを特徴とし、
第４の発明は、第１乃至第３の発明のいずれか１の光反射板に係り、前記反射層を構成する銀又は銀を主成分とした銀合金の結晶サイズが２００ｎｍ以下であることを特徴とし、
第５の発明は、第１乃至４の発明のいずれか１の光反射板に係わり、前記有機樹脂が、塗布用の有機樹脂材料としては、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合合成樹脂）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂或いはアセタール樹脂であり、フィルム用の有機樹脂材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、アセテート樹脂、ポリスチレン樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂あるいはアクリル樹脂であることを特徴とし、
第６の発明は、第１乃至４の発明のいずれか１の光反射板に係わり、前記無機材料が、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン、若しくは酸化ハフニウムの単体、或いはこれらを２種以上含んだ混合物であることを特徴とし、
第７の発明は、第１乃至第６の発明のいずれか１の光反射板に係り、前記保護層は、有機樹脂、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン或いは酸化ハフニウムのいずれか１種、又はこれらを２種以上含んだ混合物からなることを特徴とし、
第８の発明は、第１乃至第６の発明のいずれか１の発明の光反射板に係り、前記保護層は、有機樹脂膜と、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン或いは酸化ハフニウムのいずれか１種、又はこれらを２種以上含んだ混合物からなる無機膜との２層で構成されていることを特徴とする。

第９の発明は、光反射板の製造方法に係り、金属板からなる基板上に、有機樹脂或いは無機材料からなるバインダ層を形成する工程と、該バインダ層上に、無電解めっき法によって、銀又は銀を主成分とした銀合金のうち何れか一からなる反射層を形成する工程と、該反射層上に保護層を形成する工程とを有することを特徴とし、
第１０の発明は、第９の発明の光反射板の製造方法に係り、前記金属板が、表面処理鋼板、ステンレス板、アルミニウム板或いはアルミニウム合金板からなることを特徴とし、
第１１の発明は、第１０の発明の光反射板の製造方法に係り、前記表面処理鋼板は、鋼板が鉄を主成分とし、クロムを１１％未満含有するものであることを特徴とし、
第１２の発明は、第９乃至第１１の発明のいずれか１の光反射板の製造方法に係り、銀又は銀を主成分とした銀合金のうち何れか一からなる反射層の形成において、前記銀又は銀を主成分とした銀合金の結晶サイズが２００ｎｍ以下になるように調整することを特徴とし、
第１３の発明は、第９乃至第１１の発明のいずれか１の光反射板の製造方法に係り、前記反射層は、銀含有水溶液と還元剤水溶液とを用いた前記無電解めっき法により形成され、前記還元剤水溶液のｐＨが８〜１２であり、かつ液温が２０℃以上、３０℃以下であることを特徴とし、
第１４の発明は、第９乃至第１３の発明のいずれか１の光反射板の製造方法に係り、前記有機樹脂は、塗布用の有機樹脂材料としては、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合合成樹脂）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂或いはアセタール樹脂であり、フィルム用の有機樹脂材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、アセテート樹脂、ポリスチレン樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂あるいはアクリル樹脂であることを特徴とし、
第１５の発明は、第９乃至第１３の発明のいずれか１の光反射板の製造方法に係り、前記無機材料は、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン、若しくは酸化ハフニウムの単体、或いはこれらを２種以上含んだ混合物であることを特徴とし、
第１６の発明は、第９乃至第１５の発明のいずれか１の光反射板の製造方法に係り、前記保護層は、有機樹脂、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン或いは酸化ハフニウムのいずれか１種、又はこれらを２種以上含んだ混合物からなることを特徴とし、
第１７の発明は、第９乃至第１５の発明のいずれか１の光反射板の製造方法に係り、前記保護層は、有機樹脂膜と、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン或いは酸化ハフニウムのいずれか１種、又はこれらを２種以上含んだ混合物からなる無機膜との２層で構成されていることを特徴とし、
第１８の発明は、光反射装置に係り、第１乃至第８のいずれか１の光反射板を備えたことを特徴とし、
第１９の発明は、光反射装置に係り、第９乃至第１７の発明のいずれか１の光反射板の製造方法で製造した光反射板を備えたことを特徴とし、
第２０の発明は、第１８又は第１９の発明の光反射装置に係り、前記光反射板を導光部の内壁に設けた光ダクト、光源の前記光反射板を備えた照明器具、外部入射光の前記光反射板を備えた液晶表示装置、前記光反射板を備えた液晶表示装置のエッジライト型バックライト、前記エッジライト型バックライトを備えた液晶表示装置、デジタルカメラのフラッシュ用反射板、又は冷凍ショーケースのうちいずれか一であることを特徴とする。

本発明の光反射板は、金属板からなる基板と、銀又は銀を主成分とした銀合金のめっき層からなる反射層との間に有機樹脂からなるバインダ層を介在させている。

したがって、金属板からなる基板上にめっき層からなる反射層を密着性良く形成することができる。

また、基板として亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施した鋼板を用いた場合、ステンレス板、アルミニウム板或いはアルミニウム合金板などに比べ安価となる。また、ガラス基板と比べて、加工性、及び強度的に優れている。

また、反射層の下地のバインダ層が有機樹脂或いは無機材料を用いた塗布法により形成される場合、バインダ層の表面を平坦にしやすいため、バインダ層上の反射層（銀膜）が平坦となり、正反射率が高くなる。

反射層の下地のバインダ層、及び保護膜がともに無機材料からなる膜の場合、耐熱性に優れるとともに、また、それらの間に挟まれた反射層（銀膜）中の銀原子のマイグレーションを防止することができるので、信頼性の向上を図ることができる。

また、光を反射する役割をなす反射膜は銀又は銀を主成分とした銀合金からなり、めっき法で形成するので、真空成膜プロセスと異なり、高額な製造設備を必要とせず、安価に製造できる。

本発明の第１の実施の形態に係る光反射板の断面図である。 本発明の第３の実施の形態に係る、当該光反射板を用いた光ダクトの斜視図である。 （ａ）は、本発明の第２の実施の形態に係る、当該光反射板を用いた液晶表示装置のエッジライト型バックライトの斜視図、（ｂ）は（ａ）のＩ−Ｉ線断面図である。 本発明の実施例及び比較例の作製条件を示す図である。 本発明の実施例及び比較例のその他の作製条件を示す図である。 本発明の実施例及び比較例の特性評価結果を示す図である。

符号の説明

１ 基板
２ バインダ層
３ 反射層
４ 保護層
５ 採光部
６ 放光部
７ 導光部
８ 仕切り壁
９ 導光板
１０ａ、１０ｂ、１２ 反射板
１１ 光源
１３ 拡散シート
１４ 液晶パネル
１０１ 光反射板
１０２ 光ダクト
１０３ 液晶表示装置のエッジライト型バックライト

次に、図面を参照して本発明の実施の形態について、以下の項目に従って説明する。
（説明項目）
（本発明の第１の実施の形態の光反射板）
（ｉ）光反射板の構造
（ｉｉ）光反射板の製造方法
（ｉｉｉ）光反射板の性能比較
（本発明の第２の実施の形態の光反射板）
（本発明の第３の実施の形態に係る光反射装置）
（ｉ）光ダクト
（ｉｉ）エッジライト型バックライト及び液晶表示装置
（ｉｉｉ）照明器具その他
（本発明の第１の実施の形態の光反射板）
（ｉ）光反射板の構造
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る光反射板の構造について示す断面図である。

図１に示すように、その光反射板１０１は、基板１の表面に、下から順に、バインダ層２と、反射層３と、保護層４とが積層されてなる。

基板１は、表面処理鋼板、ステンレス板、アルミニウム板或いはアルミニウム合金板で構成される。

表面処理鋼板の原板として使う鋼板は、アルミニウム板やステンレス板と比べて安価な材料であるため、鉄を主成分とし、クロムを１１％未満含有するものが用いられる。

その鋼板には錆止めのために亜鉛等のめっきが施されている。なお、ステンレス板は、鉄を主成分とし、クロムを１１％以上含有するものであり、錆びないので、本願発明のクロムを１１％未満含む鋼板の場合と異なり、亜鉛めっきなどで被覆されず地のまま用いられる。

表面処理鋼板としては、めっき方法により亜鉛めっき鋼板には幾つかの種類がある。例えば、溶融亜鉛めっき鋼板、溶融亜鉛合金めっき鋼板、合金化溶融亜鉛めっき鋼板、電気亜鉛めっき鋼板、電気亜鉛合金めっき鋼板などである。

めっきの材料は、亜鉛や亜鉛合金が用いられる。亜鉛合金として、亜鉛(Ｚｎ)に５或いは５５質量％のアルミニウム(Ａｌ)を含有するもの、亜鉛(Ｚｎ)にコバルト(Ｃｏ), モリブデン(Ｍｏ)を含有するものなどが用いられる。その他の亜鉛合金として、亜鉛（Ｚｎ）にニッケル（Ｎｉ）或いは鉄（Ｆｅ）を含有するもの、或いはアルミニウム(Ａｌ)とマグネシウム（Ｍｇ）を含有するものが用いられる。

亜鉛めっき鋼板は基板としてそのまま用いてもよいが、さらに、亜鉛等のめっきの剥がれや変質を防止するため化成処理を施してもよい。化成処理として、例えば、クロメート処理、リン酸塩処理、リチウム−シリケート処理、シランカップリング処理あるいは、ジルコニウム処理などを適用できる。

表面処理鋼板として、犠牲防食硬化を有する安価な亜鉛或いは亜鉛合金めっきを施したものが望ましいが、その他、ニッケル、クロム、銅、錫などのめっき或いはこれらを主成分とした合金めっきを施した表面処理鋼板が適用できる。

ステンレス板としては、鉄を主成分とし、クロムを１１％以上含有するものを用いる。ステンレス板は錆びにくいのでそのまま基板として適用できる。例えば、ＪＩＳ Ｇ ４３０４あるいはＪＩＳ Ｇ ４３０５記載のステンレス板が適用できる。

アルミニウム板或いはアルミニウム合金板からなる基板は、ＪＩＳ Ｈ ４０００に記載されたアルミニウム板、アルミニウム合金板を用いることができる。

バインダ層２は、有機樹脂膜により構成されている。有機樹脂膜は、有機樹脂材料を塗布した膜やフィルム状にした膜が用いられる。

塗布用の有機樹脂材料では、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合合成樹脂）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、アセタール樹脂などが好適である。

また、フィルム用の有機樹脂材料では、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、アセテート樹脂、ポリスチレン樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂あるいはアクリル樹脂などが好適である。

有機樹脂膜や有機樹脂フィルムに適用するため、上記樹脂を単体で用いてもよいし、上記樹脂材料のうち２種以上から選ばれた混合物を用いてもよい。

塗布用の有機樹脂材料を用いた有機樹脂膜は、基板上に樹脂溶液を垂らしてロールにより塗膜厚さを調整するロールコート法、基板を樹脂溶液に浸漬する浸漬法、水平に走行する基板の表面に樹脂溶液を流すカーテンフロー法、樹脂溶液を基板に吹き付けるスプレー法、樹脂溶液を基板に塗布し、乾燥するゾルゲル法、又はその他の塗布法により基板１上に作製することができる。また、有機樹脂フィルムは接着剤等介することにより基板１に貼り付けることで基板１上に作製することができる。

この場合、有機樹脂膜や有機樹脂フィルムは、基板１上に有機樹脂材料を単層で作製するだけでなく、２層以上積層して作製しても良い。

バインダ層２の厚さは、有機樹脂膜や有機樹脂フィルムを用いた場合、全体として１〜２０μｍの範囲が好ましい。その理由は、１μｍ未満では表面が平滑化しないのでその上に設ける銀膜との密着性が悪く、また、２０μｍを超えるとコスト高になるためである。

上記以外に、バインダ層２は、無機材料からなる膜により構成することができる。無機材料として、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン、若しくは酸化ハフニウムの単体、或いはこれらを２種以上含んだ混合物を用いることができる。

これらの酸化物を基板１の表面に成膜する方法として、例えば、上記無機材料を含んだ水分散ゾル水溶液を浸漬処理あるいは電解処理（陰極処理または陽極処理）する方法がある。

無機材料からなる膜の場合、バインダ層２の厚さは、０．１〜５μｍの範囲が好ましい。その理由は、０．１μｍ未満では、表面が平滑化しないのでその上に設ける銀膜との密着性が悪く、５μｍを超えると、酸化物が厚くなりすぎて凝集破壊を起こしやすく、また、コスト高になるためである。

また、バインダ層２の表面に、コロナ放電処理あるいはグロー放電処理を施しても良い。それによって、その上に積層される銀層との密着性がさらに向上する。

バインダ層２の表面粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１）は、０．１μｍ未満が望ましい。その理由は、０．１μｍ以上になると、表面の平坦化が不十分のため、スプレーめっき法でバインダ層２の表面に銀膜を均一に析出させにくくなるためである。

反射層３は、銀、又は銀を主成分とする銀合金からなる膜で構成される。銀合金は、銀に、錫、インジウム、亜鉛、ニッケル、銅あるいはパラジウムを添加したものが好適である。添加する金属の添加量としては３質量％以下が好ましい。その理由は、３質量％を越えると、光反射率が急激に低下するためである。

反射層３の厚さは、５０〜３５０ｎｍの範囲が好ましい。特に、厚さ７０〜１５０ｎｍの範囲が好ましく、可視光に対して高い光反射率を得ることができる。厚さを５０〜３５０ｎｍの範囲とした理由は、厚さ５０ｎｍ未満では、厚さが薄くて光反射率が低く、３５０ｎｍ以上では光反射率があまり変らず、コスト高になるためである。

また、光反射率の向上のため銀又は銀を主成分とする銀合金の結晶サイズの調整が重要である。光反射率は銀又は銀を主成分とする銀合金の結晶サイズが小さいほど高くなる傾向を示す。実用上好ましい光反射率を得るためには、銀又は銀を主成分とする銀合金の結晶サイズは２００ｎｍ以下が好適であり、１００ｎｍ以下がより望ましく、５０ｎｍ以下がさらに望ましい。

上記した反射層３の銀等は、例えば銀鏡反応を利用した無電解めっき法、例えばスプレーめっき法により形成することができる。

保護層４は、有機樹脂若しくは無機材料、或いはそれらの混合物からなる単層の膜が好適である。または、下層として有機樹脂の膜を用い、上層として無機材料の膜を用いた２層とすることができる。或いは、これと逆に、下層として無機材料の膜を用い、上層として有機樹脂の膜を用いた２層とすることができる。

保護層４の有機樹脂は、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリエステル樹脂あるいはウレタン樹脂が用いられるが、そのうち、特に、光により劣化及び変質が生じにくいアクリル樹脂が望ましい。また、無機材料は、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ハフニウム、あるいはこれらを２種以上含む混合物が好適である。保護層４中に無機材料を膜の形で或いは混合物の形で含ませることにより、耐疵付性を向上させ、加工時に保護層５に疵を入りにくくすることができる。

保護層４には、特に最表層には紫外線吸収剤及び／あるいは抗菌剤を添加することができる。紫外線吸収剤としては、公知のものが適用でき、例えばサリチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系或いは、シアノアクリレート系が適用できる。紫外線吸収剤の含有率としては、無機材料あるいは有機樹脂の固形分１００重量部に対して、０．５〜２．５重量部含むことができる。

抗菌剤としては、ヒノキチオール、キトサン、ユーカリエキス、ジンクピリチオン、第四級アンモニウム塩、チアベンダゾール、有機シリコン四級アンモニウム塩、ペニシリン、セフェム、アミノグリコシド、テトラサイクリン、ニューキノロン、マクロライドあるいは、銀、銅、亜鉛等の金属塩など公知のものが適用できる。抗菌剤は無機材料あるいは有機樹脂の固形分１００重量部に対して、０．５〜１５重量部含むことができる。

保護層４の厚さは、単層の場合及び多層の場合を含めて、全体として５〜３０μｍの範囲が望ましい。その理由は、厚さ５μｍ未満では、硫化水素を含んだ雰囲気中で銀膜３が変色し、光の反射率が低下する。逆に、３０μｍを超えると、コスト高になるだけでなく、光反射率の低下を招く。

この保護層４により、保護層４下の反射層３が周囲の環境によって劣化したり、変質したりしにくくするという効果がある。これにより、光反射率の低下を防止することができる。

（ｉｉ）光反射板の製造方法
次に、上記光反射板１０１の製造方法について説明する。

基板１として、表面処理鋼板、ステンレス板、アルミニウム板或いはアルミニウム合金板が適用できる。表面処理鋼板として、犠牲防食硬化を有する安価な亜鉛或いは亜鉛合金めっきを施したものが望ましいが、その他、ニッケル、クロム、銅、錫などのめっき或いはこれらを主成分とした合金めっきを施した表面処理鋼板が適用できる。ステンレス板としては、鉄を主成分とし、クロムを１１％以上含有するものを用いる。ステンレス板は錆びにくいのでそのまま基板として適用できる。例えば、ＪＩＳ Ｇ ４３０４あるいはＪＩＳ Ｇ ４３０５記載のステンレス板が適用できる。アルミニウム板或いはアルミニウム合金板からなる基板は、ＪＩＳ Ｈ ４０００に記載されたアルミニウム板、アルミニウム合金板を用いることができる。

まず、亜鉛めっき鋼板からなる基板１を使う例について、説明する。亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきの方法として、溶融亜鉛めっき法、溶融亜鉛合金めっき法、電気亜鉛めっき法、又は電気亜鉛合金めっき法のうちいずれか一つを用いることができる。

溶融亜鉛めっき法、又は溶融亜鉛合金めっき法は、溶融した亜鉛中、又は溶融した亜鉛合金中に鋼板を浸漬して亜鉛又は亜鉛合金を被覆する方法である。また、電気亜鉛めっき法、又は電気亜鉛合金めっき法は、亜鉛などを溶解しためっき液中、又は亜鉛合金などを溶解しためっき液中に鋼板を浸漬し、鋼板と亜鉛アノード（又は不溶性アノード）との間に電圧を印加して亜鉛又は亜鉛合金を被覆する方法である。

次いで、用意した基板１上にバインダ層２を形成する。有機樹脂からなるバインダ層２の成膜方法として、ロールコート法、浸漬法、カーテンフロー法、スプレー法、ゾルゲル法のいずれか一つを用いることができる。

ロールコート法は基板上に有機樹脂溶液を垂らしてロールにより塗布膜厚さを調整する方法である。浸漬法は基板を有機樹脂溶液に浸漬する方法である。カーテンフロー法は水平に走行する基板の表面に有機樹脂溶液を流す方法である。スプレー法は樹脂溶液を基板に吹き付ける方法である。ゾルゲル法は、有機樹脂溶液を基板に塗布し、乾燥する方法である。

また、有機樹脂以外に、上記用意した基板１上に無機材料からなるバインダ層２を形成することができる。無機材料からなるバインダ層２の成膜方法として、無機材料を含んだ水分散ゾル水溶液で浸漬処理する方法、或いは電解処理（陰極処理、若しくは陽極処理）する方法のいずれか一を用いる。

次に、バインダ層２表面の脱脂のため、バインダ層２の表面をアルカリ溶液で洗浄する。続いて、イオン交換水または蒸留水を用いて、上記基板１を水洗し、乾燥する。なお、バインダ層２の表面状態によっては、アルカリ溶液による洗浄をしなくてもよい。

次に、銀膜を形成するための前処理を行う。

前処理は、バインダ層２上に錫を形成した後、さらに、その錫を銀の始動核に置換する処理である。

前処理では、まず、バインダ層２の表面に、塩酸を含有する塩化第二錫、塩化第一錫及び塩化第二鉄を含んだ水溶液（前処理活性剤）を塗布して、触媒としての錫をバインダ層２の表面に形成する。バインダ層２上に形成された錫は銀を析出させるための始動核となり、銀を析出しやすくする。塩化第二錫などを含んだ水溶液はｐＨ２以下に調整するのが好ましい。

次いで、イオン交換水、或いは蒸留水を用いて錫が析出したバインダ層２の表面を洗浄し、バインダ層２表面に残る塩化第二錫などを含んだ水溶液を除去する。

その後、バインダ層２の表面に硝酸銀水溶液を塗布する。これにより、バインダ層２上に析出した銀によって前に形成した錫が置換され、銀の始動核が形成される。

次に、このように前処理を行った後、銀鏡反応を用いたスプレーめっき法により、バインダ層２上に反射層３である銀膜を成膜する工程を行う。

スプレーめっき法では、前処理が施されたバインダ層２表面に、アンモニア性硝酸銀水溶液（4[Ag(NH₃)₂]NO₃）と、還元剤（硫酸ヒドラジニウム）を含む水溶液とを同時に射出する。還元剤水溶液として、還元剤を水に溶解し、或いは希釈したものに水酸化ナトリウムを加えてアルカリ性にしたものを用いる。これにより、バインダ層２表面に銀の始動核を基にして銀が析出し、銀膜が形成される。

このとき、高い反射率を得るため銀膜の結晶サイズを２００ｎｍ以下にすることが重要である。そのため、還元剤水溶液のｐＨとアンモニア性硝酸銀水溶液及び還元剤水溶液の温度とを調節する。還元剤水溶液のｐＨは、水酸化ナトリウムの量を調整して、８〜１２に、より好ましくは、９〜１１にする。なお、アンモニア性硝酸銀水溶液もｐＨ管理を行うと銀の析出を制御しやすくなるため、ｐＨ１０〜１３に、さらに好ましくは、ｐＨ１１〜１２にする。また、アンモニア性硝酸銀水溶液及び還元剤水溶液の温度を２５℃±５℃とする。なお、この温度範囲では銀の成膜速度には変化がほとんど見られないため、ｐＨ調整による結晶サイズの制御に最適であるという効果もある。

また、銀の結晶サイズは、アンモニア性硝酸銀水溶液（4[Ag(NH₃)₂]NO₃）と、還元剤（硫酸ヒドラジニウムを含む）水溶液の濃度比を変化させることにより制御できる。硝酸銀の濃度を還元水溶液中の硫酸ヒドラジニウムの濃度より小さくすることにより、銀の結晶サイズが小さくなる。すなわち、硫酸ヒドラジニウムの濃度に対して、硫酸銀の濃度が低いほど銀の結晶サイズが小さくなり、その結果、反射率が高くなる。例えば、硫酸ヒドラジニウムの濃度を８ｇ／Ｌとした場合、硝酸銀の濃度は硫酸ヒドラジニウムの濃度の０．２〜１の割合が望ましい。

なお、還元剤水溶液のｐＨが上記範囲より大きいと成膜速度が速くなりすぎるため、銀膜に曇りが生じて光反射率が低下してしまう。逆に、還元剤水溶液のｐＨが上記範囲より小さいと成膜速度が遅くなりすぎるため、十分な膜厚を確保できず、この場合にも、高い光反射率を得ることができない。また、還元剤水溶液の温度が低いと銀鏡反応が弱いため銀が析出しにくく、反対に、温度が高いと銀の析出速度が速すぎるため銀膜に曇りを生じる。

次いで、イオン交換水または蒸留水を用いて基板１を洗浄し、反射層３の表面に残存しているアンモニア性硝酸銀水溶液と還元剤水溶液を除去する。続いて、チオ硫酸ナトリウム水溶液を用いて、中和処理をする。この中和処理により、さらに、反射層３表面に残る、めっき液に含まれていた塩素(Ｃｌ)を除去する。

次に、イオン交換水または蒸留水を用いて基板１を洗浄した後、エアブローにて反射層３表面に付着している水滴を吹き飛ばす。その後、基板１を乾燥させる乾燥工程を行う。乾燥条件は、例えば７０℃の温度で２０分とする。

次いで、反射層３の上に有機樹脂や無機材料の保護膜４を成膜する。保護膜４はバインダ層２の成膜方法と同様な方法により成膜することができる。

以上のように、この実施形態に係る光反射板の製造方法によれば、銀膜の形成方法としてスプレーめっき法を用いているため、金属板が溶融しないし、バインダ層２によって銀膜が剥がれることもない。これにより、金属板を用いても膜剥がれがなく、高反射特性の光反射板を得ることができる。

なお、上記した光反射板の製造方法では、銀膜の形成方法としてスプレーめっき法による無電解めっき法を用いているが、浸漬めっき法による無電解めっき法を用いることができる。浸漬めっき法による無電解めっき法の場合、結晶サイズの制御は、アンモニア性硝酸銀水溶液と還元剤水溶液を含むめっき液中の還元剤水溶液のｐＨ、及びめっき液の温度によって上記と同様に行うことができる。

また、バインダ層２として有機樹脂フィルムを用いる場合、有機樹脂フィルム上に反射層３と保護層４とを形成したものを金属板に接着剤により貼り付ける。あるいは、金属板からなる基板１に、接着剤を塗布し、その接着剤の表面に有機樹脂フィルムを貼り付ける。その後、有機樹脂フィルム上に、反射層３と保護層４とを形成してもよい。

（iii）光反射板の性能比較
次に、本発明の実施例の光反射板の性能を、比較例の光反射板の性能と比較して調査した結果について説明する。

（光反射板の作製条件）
以下に、本発明の実施例に係る光反射板及び比較例に係る光反射板の作製条件について説明する。実施例１〜９については、バインダー層が有機樹脂からなる場合であり、実施例１０〜１８については、バインダー層が無機材料からなる場合を示す。
それらは図４、図５の表にまとめて記載されている。

（実施例１）
板厚０．５ｍｍの電気亜鉛めっき鋼板（両面めっき、片面のＺｎめっき量：２０ｇ／ｍ²）の表面にアクリルウレタン樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚を約１μｍとした。引き続き、銀鏡反応により銀膜を約７０ｎｍの厚さで被覆した。次いで、銀膜の表面にアクリル樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚を約６μｍとした。さらに、シリカゾルを含んだ水溶液を塗布し、乾燥した。乾燥後のシリカ膜の厚さを０．０５μｍとした。

（実施例２）
板厚０．５ｍｍの電気亜鉛めっき鋼板（両面めっき、片面のＺｎめっき量：２０ｇ／ｍ²）表面に、皮膜厚さが１０００ｍｇ／ｍ²のリン酸亜鉛処理を施し、リン酸亜鉛処理皮膜の上に、厚さ１５μｍのポリエステル樹脂フィルムを熱圧着法で積層した。引き続き、その上に銀鏡反応により銀膜を１５０ｎｍの厚さで被覆した。次いで、アルミナゾルを含んだ水溶液に基板を浸漬し、銀膜の表面にアルミナ膜を０．０３μｍの厚さで被覆した。さらに、アルミナ膜の表面にアクリルウレタン樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚を６μｍとした。

（実施例３）
板厚０．５ｍｍの溶融亜鉛−５５質量％アルミニウム合金めっき鋼板を用意した。なお、この鋼板はガルバリウム鋼板と称される。その表面にポリカーボネート樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚を５μｍとした。引き続き、銀鏡反応により銀膜を１００ｎｍの厚さで被覆した。次いで、銀膜の表面にアクリル樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚を２５μｍとした。

（実施例４）
板厚０．５ｍｍの電気亜鉛めっき鋼板（両面めっき、片面のＺｎめっき量：２０ｇ／ｍ²）の表面にＡＢＳ樹脂（アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合合成樹脂）を塗布し、乾燥した。乾燥後の厚さを５μｍとした。引き続き、銀鏡反応により銀膜を８３ｎｍの厚さで被覆した。次いで、銀膜の表面に、アルミナを３質量％含有したアクリル樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の厚さを１０μｍとした。

（実施例５）
板厚０．５ｍｍの電気亜鉛−コバルト−モリブデン複合めっき鋼板（両面めっき、片面のＺｎめっき量：２０ｇ／ｍ²）を用意した。その表面にクロメート処理（両面処理、片面あたりＣｒとして４０ｍｇ／ｍ²付着）を施した。さらに、その上にアクリルウレタン樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は１０μｍである。引き続き、銀鏡反応により銀膜を１３０ｎｍの厚さで被覆した。次いで、銀膜の表面にアクリルウレタン樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は６μｍであった。

（実施例６）
板厚０．５ｍｍの電気亜鉛めっき鋼板（両面めっき、片面のＺｎめっき量：２０ｇ／ｍ²）を用意した。その表面にクロメート処理（両面処理、片面あたりＣｒとして１０ｍｇ／ｍ²付着）を施した。その上に、アクリルウレタン樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は１５μｍであった。引き続き、銀鏡反応により銀膜を７０ｎｍの厚さで被覆した。次いで、アルミナゾルを含む水溶液に基板を浸漬し、基板をカソードとし、ステンレス鋼板をアノードとして陰極処理し、乾燥した。乾燥後、基板上の銀膜の表面に析出したアルミナ膜の膜厚は０．１μｍであった。さらに、アルミナ膜の表面にポリエステル樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は６μｍであった。

（実施例７）
板厚０．５ｍｍのステンレス板（ＳＵＳ３０４）からなる基板を用意し、その表面に、ポリイミド樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は３μｍであった。引き続き、銀鏡反応により銀膜を１５０ｎｍの厚さで被覆した。次いで、酸化ジルコニウムゾルを含む水溶液に基板を浸漬し、基板をカソードとし、ステンレス板をアノードとして陰極処理し、乾燥した。乾燥後、基板上の銀膜の表面に析出した酸化ジルコニウム膜の膜厚は０．０５μｍであった。さらに、酸化ジルコニウム膜の表面にアクリルウレタン樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は８μｍであった。

（実施例８）
板厚０．５ｍｍのＡｌ板（ＪＩＳ Ｈ ４０００、合金番号：１０５０）を用意し、その表面にウレタン樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は１２μｍであった。引き続き、銀鏡反応により銀膜を１２０ｎｍの厚さで被覆した。次いで、銀膜の表面に３質量％のシリカを含んだアクリル樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は１５μｍであった。さらに、３質量％のシリカを含んだアクリル樹脂表面にアクリルウレタン樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は３μｍであった。

（実施例９）
板厚０．５ｍｍのＡｌ合金板（ＪＩＳ Ｈ ４０００、合金番号：５０５２）を用意し、その表面に、アクリルウレタン樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は１５μｍであった。引き続き、銀鏡反応により銀膜を７５ｎｍの厚さで被覆した。次いで、銀膜の表面に厚み１５μｍのポリエステル樹脂フィルムを熱圧着法によりラミネートした。さらに、ポリエステル樹脂フィルム表面に、２質量％のシリカを含んだアクリル樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は３μｍであった。

（実施例１０）
板厚０．５ｍｍの電気亜鉛めっき鋼板（両面めっき、片面のＺｎめっき量：２０ｇ／ｍ²）の表面にアルミナゾルを含んだ水溶液を塗布し、乾燥した。乾燥後のアルミナ膜の厚さは０．１μｍであった。引き続き、銀鏡反応により銀膜を１００ｎｍの厚さで成膜した。次いで、銀膜の表面にアクリル樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の厚さは６μｍであった。その上に、さらに、シリカゾルを含んだ水溶液を塗布し、乾燥した。乾燥後のシリカの厚さは０．０５μｍであった。

（実施例１１）
板厚０．５ｍｍの電気亜鉛めっき鋼板（両面めっき、片面のＺｎめっき量：２０ｇ／ｍ²）を用意する。次いで、皮膜厚さが７００ｍｇ／ｍ²のリン酸亜鉛処理を施し、シリカゾルを含んだ水溶液に亜鉛めっき鋼板を浸漬し、その亜鉛めっき鋼板を陰極とし、ステンレス鋼板を陽極として、リン酸亜鉛処理皮膜の上にシリカゾルを含んだ水溶液で電解処理を行い、乾燥した。これにより、亜鉛めっき鋼板の表面に膜厚が０．２μｍであるシリカ膜が成膜される。引き続き、シリカ膜の上に、銀鏡反応により銀膜を１２０ｎｍの厚さで成膜した。次いで、アルミナゾルを含んだ水溶液に基板を浸漬して、銀膜の上にアルミナ膜を０．０３μｍの厚さで成膜した。さらに、アルミナ膜の上にアクリルウレタン樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の厚さは６μｍであった。

（実施例１２）
板厚０．５ｍｍの溶融亜鉛−５５質量％アルミニウム合金めっき鋼板の表面に酸化ハフニウムゾルを含んだ水溶液を塗布し、乾燥した。乾燥後の酸化ハフニウムの厚さは１μｍであった。引き続き、銀鏡反応により銀膜を１５０ｎｍの厚さで成膜した。次いで、銀膜の表面にアクリル樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の厚さは２５μｍであった。

（実施例１３）
板厚０．５ｍｍの電気亜鉛めっき鋼板（両面めっき、片面のＺｎめっき量：２０ｇ／ｍ²）を用意した。酸化チタンゾルを含んだ水溶液に亜鉛めっき鋼板を浸漬し、亜鉛めっき鋼板をカソードとし、ステンレス鋼板をアノードとして陰極処理し、乾燥した。乾燥後、基板上の銀膜の表面に堆積された酸化チタンの膜厚は０．５μｍであった。引き続き、銀鏡反応により銀膜を５０ｎｍの厚さで被覆した。次いで、銀膜の表面に３質量％のアルミナを含んだアクリル樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の厚さは１０μｍであった。

（実施例１４）
板厚０．５ｍｍの電気亜鉛−コバルト−モリブデン複合めっき鋼板（両面めっき、片面のＺｎめっき量：２０ｇ／ｍ²）を用意した。その表面にクロメート処理（両面処理、片面あたりＣｒとして４０ｍｇ／ｍ²付着）を施した。さらに、その上に酸化ジルコニウムゾルを含んだ水溶液を塗布し、乾燥した。乾燥後の酸化ジルコニウム膜の厚さは２μｍであった。引き続き、銀鏡反応により銀膜を２５０ｎｍの厚さで被覆した。次いで、銀膜の表面にアクリルウレタン樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の厚さは６μｍであった。さらに、上記処理した電気亜鉛めっき鋼板を、シリカゾルを含んだ水溶液中に浸漬し、乾燥した。これにより、乾燥後の厚さが０．１μｍのシリカ膜が成膜された。

（実施例１５）
板厚０．５ｍｍの電気亜鉛めっき鋼板（両面めっき、片面のＺｎめっき量：２０ｇ／ｍ²）を用意した。その表面にクロメート処理（両面処理、片面あたりＣｒとして１０ｍｇ／ｍ²付着）を施した。次いで、シリカゾルとアルミナゾルを含んだ水溶液に基板を浸漬し、基板をカソードとし、ステンレス鋼板をアノードとして陰極処理し、乾燥した。乾燥後、基板上に堆積されたシリカとアルミナの混合物からなる膜の膜厚は３μｍであった。引き続き、銀鏡反応により銀膜を７０ｎｍの厚さで成膜した。次いで、アルミナゾルを含んだ水溶液に基板を浸漬し、基板をカソードとし、ステンレス鋼板をアノードとして陰極処理し、乾燥した。乾燥後、基板上の銀膜表面に堆積されたアルミナ膜の膜厚は０．１μｍであった。さらに、アルミナ膜の表面にポリエステル樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の厚さは６μｍであった。

（実施例１６）
板厚０．５ｍｍのステンレス板（ＳＵＳ３０４）からなる基板を用意し、その表面に、シリカを塗布し、乾燥した。すなわち、シリカゾルを含む水溶液に基板を浸漬し、基板をカソードとし、ステンレス板をアノードとして陰極処理し、乾燥後の膜厚は０．２μｍであった。引き続き、銀鏡反応により銀膜を１５０ｎｍの厚さで被覆した。次いで、シリカゾルを含む水溶液に基板を浸漬し、基板をカソードとし、ステンレス板をアノードとして陰極処理し、乾燥した。乾燥後、基板上の銀膜の表面に析出したシリカ膜の膜厚は０．０５μｍであった。さらに、シリカ膜の表面にアクリルウレタン樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は８μｍであった。

（実施例１７）
板厚０．５ｍｍのＡｌ板（ＪＩＳ Ｈ ４０００、合金番号：１０５０）を用意し、その表面にアルミナを塗布し、乾燥した。すなわち、アルミナゾルを含む水溶液に基板を浸漬し、基板をカソードとし、ステンレス板をアノードとして陰極処理し、乾燥後の膜厚は０．３μｍであった。引き続き、銀鏡反応により銀膜を１２０ｎｍの厚さで被覆した。次いで、銀膜の表面に３質量％のシリカを含んだアクリル樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は１５μｍであった。さらに、３質量％のシリカを含んだアクリル樹脂表面にアクリルウレタン樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は３μｍであった。

（実施例１８）
板厚０．５ｍｍのＡｌ合金板（ＪＩＳ Ｈ ４０００、合金番号：５０５２）を用意し、その表面に、アルミナとシリカの混合物を塗布し、乾燥した。すなわち、アルミナゾルとシリカゾルを含む水溶液に基板を浸漬し、基板をカソードとし、ステンレス板をアノードとして陰極処理し、乾燥後の膜厚は０．１μｍであった。引き続き、銀鏡反応により銀膜を７５ｎｍの厚さで被覆した。次いで、銀膜の表面に厚み１５μｍのポリエステル樹脂フィルムを熱圧着法によりラミネートした。さらに、ポリエステル樹脂フィルム表面に、２質量％のシリカを含んだアクリル樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の膜厚は３μｍであった。

（比較例１）
板厚０．５ｍｍの電気亜鉛めっき鋼板（両面めっき、片面のＺｎめっき量：２０ｇ／ｍ²）の表面に、銀鏡反応により銀膜を７０ｎｍの厚さで被覆した。次いで、銀膜の表面にアクリル樹脂を塗布し、乾燥した。乾燥後の厚さは４０μｍであった。その上に、さらに、シリカゾルを含んだ水溶液を塗布し、乾燥した。乾燥後のシリカの厚さは０．０５μｍであった。

（特性評価）
上記のように作製した実施例に係る光反射板及び比較例に係る光反射板について下記に示すような評価方法及び条件で特性評価を行った。その評価結果を図６の表に示す。

（光反射率の評価方法及び条件）
測定装置としてミノルタ製ＣＭ−３５００ｄ（光源：Ｄ６５、口径：８ｍｍ）を用いて、ＪＩＳ Ｚ８７２２に準じて、波長５５０ｎｍにおける光反射率を測定した。なお、硫酸バリウム標準白色板による反射率を基準とする校正を行った。

光反射率が９０％以上を○印で示し、９０％未満を×印で示した。９０％以上が実用的であり、合格範囲とした。

（ガス試験の方法及び条件）
H₂Sを１．５ｐｐｍとNO₂を３ｐｐｍ含んだ大気中（温度：３０℃、湿度：７０％ＲＨ）に、サンプルを２４時間放置し、正反射率の低下率を測定した。正反射率は波長５５０ｎｍで測定し、（初期の光正反射率−２４時間経過後の光正反射率）×１００／初期の光正反射率を正反射率の低下率と定義した。

測定結果は、低下率１０％以上を×印で示し、１０％未満を○印で示した。低下率１０％未満が実用的であり、合格とした。

（密着性試験の方法及び条件）
光反射板に粘着テープを貼り付けて引き剥がすことにより試験を行った。膜剥がれが起こったものを×印で示し、起こらなかったものを○印で示した。

（評価結果）
図６の表によれば、実施例１〜１８では、いずれもバインダ層を設けているため、膜剥がれは生じなかった。また、保護層４の厚さが５〜３０μｍなので、正反射率の経時的な劣化が少なくて、良好である。

一方、比較例１では、バインダ層を設けていないため、亜鉛めっき鋼板と銀膜との界面より膜剥がれが生じた。また、正反射率の低下率が大きかった。

以上のように、本発明の実施の形態に係る光反射板１０１においては、金属板からなる基板１と、銀又は銀を主成分とした銀合金のめっき層からなる反射層３との間に有機樹脂あるいは無機材料からなるバインダ層２を介在させている。

したがって、金属板からなる基板１上にめっき層からなる反射層３を密着性良く形成することができる。

金属板からなる基板１を用いているため、ガラス基板と比べて、加工性、及び強度的に優れている。鋼板に亜鉛めっき又は亜鉛合金めっきを施した基板１を用いた場合、ステンレス板、アルミニウム板或いはアルミニウム合金板に比べ安価である。

また、反射層３の下地のバインダ層２が有機樹脂あるいは無機材料を用いた塗布法により形成される場合、バインダ層２の表面を平坦にしやすいため、バインダ層２上の反射層３が平坦となり、正反射率の高い光反射板が得られる。

また、光を反射する役割をなす反射層３は銀または銀を主成分とした銀合金からなり、めっき法で形成するので、真空成膜プロセスと異なり、高額な製造設備を必要とせず、安価に製造できる。
（本発明の第２の実施の形態に係る光反射板）
次に、本発明の第２の実施の形態に係る光反射板について説明する。

上記第１の実施の形態の光反射板１０１では、反射光が黄色っぽくなる傾向がある。これは、銀膜等により青色に相当する波長に光が吸収されてしまうためであると考えられる。そこで、この実施の形態では、保護層４に青色系の顔料を添加する構成とした。

その態様としては、第１に、保護層４が、有機樹脂若しくは無機材料の単体、或いはそれらの混合物からなる単層である場合、その保護層４に青色系の顔料を含有させることである。

第２に、保護層４が、下層として有機樹脂の膜を用い、上層として無機材料の膜を用いた２層である場合、上層又は下層のうち少なくともいずれか一層に青色系の顔料を含有させることである。

第３に、第２の場合とは逆に、保護層４が、下層として無機材料の膜を用い、上層として有機樹脂の膜を用いた２層である場合、上層又は下層のうち少なくともいずれか一層に青色系の顔料を含有させることである。

青色系の顔料として、コバルト青、コバルト紫、群青、紺青、フタロシアニンブルー、インダンスレンブルー、セルリアンブルーあるいはプロシア青を好適に用いることができる。そして、保護層への青色系の顔料の添加量は、０．０５〜０．５質量％の範囲が好ましい。保護層が２層の場合、保護層の２層での合計添加量が０．０５〜０．５質量％の範囲となるように青色系の顔料を添加する。０．０５質量未満では、青色系の色の反射に対して、効果がない。一方、０．５質量％を越えると、青色系の色を反射しすぎて、逆に青色の補色である黄色が吸収されてしまい、白色光とは著しく異なるものとなる。

このように、保護層４に青色系の顔料を含有することにより、保護層４中の青色系顔料によって青色系の光が反射されて、銀膜又は銀合金膜からなる反射層３による青色系の光の吸収が補償され、全体として特定の色に偏らずに太陽光や光源光の色そのままの反射光が得られる。

この実施の形態の保護層４を成膜する方法として、第１の実施の形態の保護層を成膜する方法を用いることができる。
（本発明の第３の実施の形態に係る光反射装置）
（ｉ）光ダクト
図２は、本発明の第３の実施の形態に係る光ダクト１０２の構成を示す斜視図である。

図２では、光ダクト１０２が家に設置されている状態を示す。その光ダクト１０２は、図２に示すように、採光部５と、放光部６と、導光部７とを備えている。採光部５から入射した光が導光部７で反射伝送されるように、導光部７の仕切り壁８の内壁に第１の実施の形態で説明した光反射板１０１が形成されている。その光ダクト１０２は、光反射板１０１を加工して作製されている。

その光ダクト１０２では、図２に示すように、採光部５が太陽光を受光するように屋外に露出し、放光部６が屋内に露出するように設置される。

以上のような光ダクト１０２によれば、第１の実施の形態で説明した光反射板１０１を用いて作製されているため、膜剥がれがないため信頼性が高く、光反射率が高い光ダクトを安価に提供することができる。

また、第２の実施の形態で説明した光反射板を用いることで、光ダクトの照明光は特定の色に偏らずに太陽光の色そのままの色を示すようになる。

（ｉｉ）エッジライト型バックライト及び液晶表示装置
図３（ａ）は、本発明の第３の実施の形態に係る液晶表示装置のエッジライト型バックライト１０３の構成を示す斜視図である。同図（ｂ）は、図３（ａ）のＩ−Ｉ線に沿う断面図である。

そのバックライト１０３は、図３（ａ）に示すように、液晶パネル１４の下に設けられている。そして、液晶モニタの表示面積に対応する面積を有し、裏面に乱反射部又は拡散反射部（不図示）が分散して設けられた導光板９と、導光板９の裏面及び側面に設けられた反射板１０ａ、１０ｂと、導光板９の片側端部に設けられた光源１１と、光源１１からの光を導光板９の方に反射させる反射板１２と、導光板９の表面から出射する反射伝送光線を拡散させる拡散シート１３とを備えている。

導光板９の裏面及び側面に設けられた反射板１０ａ、１０ｂが、上記光反射板１０１を加工して作製されたものである。また、反射板１２も光反射板１０１を加工して作製する。

そのバックライト１０３では、光源１１から出射された光は導光板９中を全反射しながら反射伝送され、導光板９全体に行き渡るようになっている。そして、導光板９裏面に分散して設けられた乱反射部又は拡散反射部によってより鋭角の反射光が生じ、その反射光が全反射する入射角よりも小さい入射角で導光板９表面に入射することになる。この光が導光板９表面から外部に出射する。そして、出射した光が拡散シート１３を通過することにより拡散光が生成され、その拡散光が液晶パネル１４のバックライトとして用いられる。

導光板９裏面の反射板１０ａは導光板９の裏面から漏れた光を導光板９に戻し、反射板１０ｂは導光板９の側面から漏れた光を導光板９に戻す。

以上のようなエッジライト型バックライト１０３によれば、第１の実施の形態で説明した光反射板１０１を用いているため、膜剥がれがないため信頼性が高く、光反射率が高いエッジライト型バックライトを安価に提供することができる。

また、第２の実施の形態で説明した光反射板を用いることで、エッジライト型バックライトは、光源の光の色そのままの光を出射することができる。

なお、上記エッジライト型バックライトを備えた液晶表示装置も本発明の範囲に含まれる。その液晶表示装置によれば、表示される画像は自然な色を示すようになる。

また、液晶パネルの下に設けられて、外部入射光を反射して液晶の方に放射するこの発明の光反射板を備えた液晶表示装置も本発明の範囲に含まれる。その反射型の液晶表示装置によれば、表示される画像は自然な色を示すようになる。

（ｉｉｉ）照明器具その他
第１の実施形態の光反射板を、照明器具の光反射板、例えば蛍光灯や水銀灯から出射される光の反射板として用いることができる。

この照明器具においては、第１の実施の形態で説明した光反射板１０１を用いているため、光反射板１０１の膜剥がれがなくて信頼性が高く、光反射率が高い照明器具を安価に提供することができる。

さらに、第２の実施の形態で説明した光反射板を用いることで、照明器具は照明光が光源の光の色そのままを示すようになる。

その他、第１及び第２の実施の形態の光反射板を備えた、背面投射型映像表示装置、スキャナ、コピー機などの光学機器も本発明の範囲に含まれる。

本発明の光反射板は、膜剥がれがないため信頼性が高くて、光反射率が高く、かつ安価であるため、光ダクト、照明用器具、エッジライト型バックライト、液晶表示装置、デジタルカメラのフラッシュ用反射板、冷凍ショーケース又はその他の光学機器の光反射板として利用するのに最適である。上記照明用器具としては、光源として蛍光灯や水銀灯を使ったもの、或いはダウンライトなどに適用できる。

Claims (20)

1. 金属板からなる基板と、
   前記基板上に形成された有機樹脂或いは無機材料からなるバインダ層と、
   前記バインダ層の上に形成された銀又は銀を主成分とした銀合金のめっき層からなる反射層と、
   前記反射層の上に形成された保護層と
   を有することを特徴とする光反射板。
2. 前記金属板は、表面処理鋼板、ステンレス板、アルミニウム板或いはアルミニウム合金板であることを特徴とする請求項１記載の光反射板。
3. 前記表面処理鋼板は、鋼板が鉄を主成分とし、クロムを１１％未満含有するものであることを特徴とする請求項２記載の光反射板。
4. 前記反射層を構成する銀又は銀を主成分とした銀合金の結晶サイズが２００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光反射板。
5. 前記有機樹脂は、塗布用の有機樹脂材料としては、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合合成樹脂）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂或いはアセタール樹脂であり、フィルム用の有機樹脂材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、アセテート樹脂、ポリスチレン樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂あるいはアクリル樹脂であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光反射板。
6. 前記無機材料は、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン、若しくは酸化ハフニウムの単体、或いはこれらを２種以上含んだ混合物であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光反射板。
7. 前記保護層は、有機樹脂、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン或いは酸化ハフニウムのいずれか１種、又はこれらを２種以上含んだ混合物からなることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光反射板。
8. 前記保護層は、有機樹脂膜と、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン或いは酸化ハフニウムのいずれか１種、又はこれらを２種以上含んだ混合物からなる無機膜との２層で構成されていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光反射板。
9. 金属板からなる基板上に、有機樹脂或いは無機材料からなるバインダ層を形成する工程と、
   該バインダ層上に、無電解めっき法によって、銀又は銀を主成分とした銀合金のうち何れか一からなる反射層を形成する工程と、
   該反射層上に保護層を形成する工程と
   を有することを特徴とする光反射板の製造方法。
10. 前記金属板は、表面処理鋼板、ステンレス板、アルミニウム板或いはアルミニウム合金板であることを特徴とする請求項９記載の光反射板の製造方法。
11. 前記表面処理鋼板は、鋼板が鉄を主成分とし、クロムを１１％未満含有するものであることを特徴とする請求項８記載の光反射板の製造方法。
12. 前記銀又は銀を主成分とした銀合金のうち何れか一からなる反射層の形成において、前記銀又は銀を主成分とした銀合金の結晶サイズが２００ｎｍ以下になるように調整することを特徴とする請求項９乃至１１のいずれか１項に記載の光反射板の製造方法。
13. 前記反射層は、銀含有水溶液と還元剤水溶液とを用いた前記無電解めっき法により形成され、前記還元剤水溶液のｐＨが８〜１２であり、かつ液温が２０℃以上、３０℃以下であることを特徴とする請求項９乃至１２のいずれか１項に記載の光反射板の製造方法。
14. 前記有機樹脂は、塗布用の有機樹脂材料としては、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、アクリルウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合合成樹脂）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂或いはアセタール樹脂であり、フィルム用の有機樹脂材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、アセテート樹脂、ポリスチレン樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂あるいはアクリル樹脂であることを特徴とする請求項９乃至１３のいずれか１項に記載の光反射板の製造方法。
15. 前記無機材料は、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン、若しくは酸化ハフニウムの単体、或いはこれらを２種以上含んだ混合物であることを特徴とする請求項９乃至１３のいずれか１項に記載の光反射板の製造方法。
16. 前記保護層は、有機樹脂、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン或いは酸化ハフニウムのいずれか１種、又はこれらを２種以上含んだ混合物からなることを特徴とする請求項９乃至１５のいずれか１項に記載の光反射板の製造方法。
17. 前記保護層は、有機樹脂膜と、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化チタン或いは酸化ハフニウムのいずれか１種、又はこれらを２種以上含んだ混合物からなる無機膜との２層で構成されていることを特徴とする請求項９乃至１５のいずれか１項に記載の光反射板の製造方法。
18. 請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光反射板を備えたことを特徴とする光反射装置。
19. 請求項９乃至１７のいずれか１項に記載の光反射板の製造方法で製造した光反射板を備えたことを特徴とする光反射装置。
20. 前記光反射装置は、前記光反射板を導光部の内壁に設けた光ダクト、光源の前記光反射板を備えた照明器具、外部入射光の前記光反射板を備えた液晶表示装置、前記光反射板を備えた液晶表示装置のエッジライト型バックライト、前記エッジライト型バックライトを備えた液晶表示装置、デジタルカメラのフラッシュ用反射板、又は冷凍ショーケースのうちいずれか一であることを特徴とする請求項１８又は１９に記載の光反射装置。

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