TWI477770B - 平板檢查方法 - Google Patents

平板檢查方法 Download PDF

Info

Publication number
TWI477770B
TWI477770B TW101133704A TW101133704A TWI477770B TW I477770 B TWI477770 B TW I477770B TW 101133704 A TW101133704 A TW 101133704A TW 101133704 A TW101133704 A TW 101133704A TW I477770 B TWI477770 B TW I477770B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
camera
image
measured
images
flat plate
Prior art date
Application number
TW101133704A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201315995A (zh
Inventor
Jai Ho Son
Hyun Min Lee
Min Gu Kang
Sang Yoon Lee
Ssang Gun Lim
Original Assignee
Intekplus Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Intekplus Co Ltd filed Critical Intekplus Co Ltd
Publication of TW201315995A publication Critical patent/TW201315995A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI477770B publication Critical patent/TWI477770B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T7/00—Image analysis
    • G06T7/0002—Inspection of images, e.g. flaw detection
    • G06T7/0004—Industrial image inspection
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N7/00—Television systems
    • H04N7/18—Closed-circuit television [CCTV] systems, i.e. systems in which the video signal is not broadcast
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N2021/9513—Liquid crystal panels
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1306—Details
    • G02F1/1309—Repairing; Testing
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06T—IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
    • G06T2207/00—Indexing scheme for image analysis or image enhancement
    • G06T2207/30—Subject of image; Context of image processing
    • G06T2207/30108—Industrial image inspection
    • G06T2207/30121—CRT, LCD or plasma display

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Quality & Reliability (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

平板檢查方法
本發明係有關於一種平板檢查方法，此尤指一種檢查各畫素電路圖案之方法者。
按，LCD(Liquid Crystal Display)面板係平板之一，其特徵在於具有低電壓驅動、低耗電、呈現全彩、輕薄短小等，並廣泛應用於手錶、計算機、PC用螢幕、筆記型電腦乃至TV、航空器用螢幕、個人終端機、手機等各類產品。
LCD面板，其係由形成彩色濾光片、薄膜電晶體(Thin Film Transistor)之兩張玻璃基版，與裝填於玻璃基版間之液晶所構成；該薄膜電晶體，係一半導體膜形成於玻璃機板上之電路，供調解液晶，並用以控制構成畫面之最少單位畫素者；該彩色濾光片，則係一將具有紅(R)、綠(G)、藍(B)三個色彩之畫素黏膜於玻璃基版上，藉以達到呈現影像之功能者。
此LCD面板經製造後，便需隨即進行一系列品質檢查，其中最為重要之檢查項目之一，莫過於檢查其形成於各素畫之電路圖案，舉凡測定薄膜電晶體之電極線與訊號線之線寬，或圖案間隔等之尺寸，藉以檢查其不良與否者；其中，線寬測定尤其重要，此乃因其會影響玻璃基版之接著強度與電阻值等，進而取決各畫素之性能所致。
按先前技術，線寬測定其構成如下：
首先，攝影裝置(如攝像機)移往LCD面板之測定位置，藉以拍攝畫素之電路圖案；經拍攝之影像，供輸往測定控制 部；而測定控制部則對輸入之影像進行處理，藉以測定畫素電路圖案之線寬。
另一方面，LCD面板，其係藉由紅、綠、藍三個色彩之畫素相互融合，藉以呈現彩色。然而，畫素由於其波長範圍隨著畫素而不同，故而有即便以其中一種色彩之畫素為基準，進而取得清晰之影像，但其取自其他色彩畫素之影像清晰度明顯不佳之缺點。再者，若玻璃基版上有細微曲折，便會造成取自每一測定位置之影像品質不一之問題。
因此，進一步在攝像機加設自動對焦模組，藉以將畫素以個別色彩並自動對影像進行對焦，乃目前所採用之另一種攝像方法。然而，自動對焦模組之重複性(Repeatability)具有極限，因而有難以對所有畫素取得清晰影像之缺點。再者，隨著LCD面板呈高解析度化之趨勢，促使各化素之電路圖案，亦隨之呈微細化，以致僅採用自動對焦模組，實難以正確測定線寬且受限制。另一方面，關於線寬測定裝置，專利公報第10-0521016號(2003.07.28公開)中已揭示專利文獻。
有鑑於此，本發明之目的係在於提供一種面板檢查方法，其係能夠提升判別被測定物不良與否之精確度者。
為達上述本發明之目的，本發明之平板檢查方法，係包含有：使平板與攝像機其中至少一個作水平移動，藉以使攝像機 定位於平板測定位置之步驟；在測定位置對平板之被測定物作攝像機焦點自動對焦之步驟；在攝像機完成對焦之狀態下，使攝像機以現在位置為中心，在設定區間內作上下移動，藉以對被測定物取得複數個影像之步驟；在所取得之複數個影像中，篩選出清晰度最高之影像後，對篩選之影像進行處理，藉以判別被測定物不良與否之步驟。
按本發明，對被測定物進行自動對焦後，使攝像機在設定區間內作上下移動，藉以取得數個影像，接著，在所取得之影像中，萃取並使用具有最佳解析度之影像，因此相較於使用僅在完成自動對焦狀態下所拍攝之影像，更能提升判決被測定物不良與否之精確度。
以下藉由圖示及實施例詳細說明本發明。
第1圖，係適用本發明之平板檢查方法之檢查裝置之一較佳實施例之結構圖；第2圖，係第1圖中在測定位置藉由攝像機取得影像方法示意圖。
請參見第1圖及第2圖，本發明之一較佳實施例之平板檢查方法，其構成如下：
首先，使平板(10)與攝像機(20)其中至少一個作上下移動，藉以使該攝像機(20)定位於該平板(10)之測定位置；在此，該平板(10)係可為LCD面板等者；該攝像機(20) 則係可為CCD(Charge-Coupled Device)攝影機等者。
為使該攝像機(20)定位於該平板(10)之測定位置，其一例，可使該攝像機(20)對該平板(10)作水平移動。假設水平面為XY平面，雖然該攝像機(20)於圖示並未出現，但可藉由X軸驅動器及Y軸驅動器使其移往X軸及/或Y軸方向，進而使其定位於擬在該平板(10)進行測定之位置。另一例，進一步可使該平板(10)藉由XY定位滑台對該攝像機(20)作水平移動，亦可使該攝像機(20)與該平板(10)兩者作水平移動。
使該攝像機(20)定位於該平板(10)之測定位置後，該攝像機(20)便在測定位置對該平板(10)之被測定物作自動對焦。在此，自動對焦方式可採用TTL(Trough The Lens)自動對焦方式，其係利用透過鏡片射入之光者。
舉例而言，透過自動對焦模組(30)鏡片系統射入之光，其係藉由CCD等之影像感知器(21)轉換為電氣訊號，進而輸往控制部(40)；而該控制部(40)則負責將輸入之電氣訊號製成影像。該控制部(40)，其係自影像資訊利用對比檢測方式(contrast detection method)、相位差檢測方式(phase difference detection method)等檢測被測定物之焦點是否正確者。當該控制部(40)認為被測物定之焦點有錯誤時，便會調整鏡片系統之焦距，藉以執行對焦。
接著，在該攝像機(20)之焦點完成對焦之狀態下，使該攝像機(20)以現在位置為中心，在設定區間內作上下移動，藉以對被測定物取得數個影像。請參見第2圖，使該攝像機 (20)於Z1位置在Z2位置與Z3位置間之區間內作上下移動，藉以對被測定物取得數個影像。在此，Z1位置，其係屬於該攝像機(20)之焦點完成對焦狀態下之現在位置者；Z2位置與Z3位置，則係分別屬於該攝像機(20)為取得數個影像之最大上升位置及最大下降位置者。
使該攝像機(20)上升至Z2位置後，可藉由使其自Z2位置逐漸下降至Z3位置方式取得數個影像，抑或者使該攝像機(20)下降至Z3位置後，可藉由使其自Z3位置逐漸上升至Z3位置方式取得數個影像。假設將開攝像機(20)作上下移動之軸定義為Z軸，該攝像機(20)則可藉由Z軸驅動器(50)作上下移動。該攝像機(20)，其係可採用可高速攝像之高速攝像機，以供縮短檢查時間。該攝像機(20)，其係可將輸入之光藉由CCD等之影像感知器(21)轉換為電氣訊號，進而輸往該控制部(40)，並於該控制部(40)將電氣訊號製成影像者。
為取得數個影像所需之取像區間距離，係可設定成大於該自動對焦膜組(30)之重複性。並且，在上述區間內，該攝像機(20)係藉由上下移動拍攝數個訊框；此時，拍攝間距，係可設定成小於該自動對焦模組(30)之重複性。舉例而言，假設重複性為0.025~0.03μm，其取像區間距離可設定為0.1μm，而於上述區間所拍攝之訊框數，則因設定為500訊框左右，為此拍攝間距可為0.002μm。
接著，在所得之數個影像中，篩選出清晰度最高之被測定物之影像後，對篩選之影像進行處理，藉以判別被測定物之不 良與否。而此過程可在該控制部(40)執行。
在使該攝像機(20)於設定區間內作上下移動時所取得之數個影像中，可包含被測定物之清晰度最高之影像。如此，在清晰度最高之影像中，能夠正確判定被測定物之形態，進而更正確判別出被測定物之不良與否。
也就是說，即便對被測定物進行自動對焦，此乃因該自動對焦模組(30)本身之組裝公差，或該平板(10)之基版彎曲等原因，致使自動對焦可能產生錯誤。並且，在此狀態下，若使用所拍攝之影像判別被測定物之不良與否，可能影響精確度。然而，按本發明，其係對被測定物進行自動對焦，藉此取得數個影像，接著在所取得之影像中，萃取並使用清晰度最佳之影像，因此儘管自動對焦產生錯誤，也能夠更精確地判別被測定物之不良與否。
此外，調降自動對焦模組(30)之重複性，可能會受到限制。不過，隨著該平板(10)之高解析度化，被測定物之線寬尺寸經畫素電路圖案之微細化，以致小於該自動對焦模組(30)之重複性時，線寬測定便有可能產生錯誤。然而，按本發明，其係因如前所述之說明，能夠更精確地測定出微細電路圖案之線寬。按本發明創作人之實驗，當該自動對焦模組(30)之重複性為0.025~0.03μm時，適用本發明，便能夠降低至0.011~0.015μm，其為重複性之一半水準，並能夠以標準偏差之3倍範圍內，也就是以3σ為極限獲得控管。
另一方面，為取得數個影像，可使該攝像機(20)藉由驅動器(actuator)作上下移動。也就是說，使該攝像機(20) 作上下移動之Z軸驅動器(50)，其係可由壓電驅動器構成者。壓電驅動器，係指藉由逆壓電效應，利用壓電元素之膨脹力與收縮力，致使產生位移之驅動器(actuator)。由於壓電元素可做微小移位之高精密控制，並且具有回應快速之特性，因而能夠經由高速且精密控制該攝像機(20)之上下移動，進而取得數個影像。
並且，被測定物可為形成於該平板(10)之畫素之電路圖案者。此情形，判別被測定物不良與否之步驟，可包含自篩選之影像測定電路圖案之線寬尺寸及/或圖案間距後，再以基準值作比對，藉以判別電路圖案不良與否之過程。舉例而言，當該平板(10)為TFT LCD面板時，其畫素之電路圖案可為薄膜電晶體之電極線或訊號線等，此時可對此電極線與訊號線之線寬或圖案間距之尺寸進行測定，藉以檢查不良與否。
惟，上述所揭露之圖式、說明，僅為本發明之實施例而已，凡精于此項技藝者當可依據上述之說明作其他種種之改良，而這些改變仍屬於本發明之發明精神及以下所界定之專利範圍中。
10‧‧‧平板
20‧‧‧攝像機
21‧‧‧影像感知器
30‧‧‧自動對焦模組
40‧‧‧控制部
50‧‧‧Z軸驅動器
第1圖係適用本發明平板之檢查方法之檢查裝置之一較佳實施例之結構圖。
第2圖係第1圖中在測定位置藉由攝像機取得影像方法示意圖。
10‧‧‧平板
20‧‧‧攝像機
21‧‧‧影像感知器
30‧‧‧自動對焦模組
40‧‧‧控制部
50‧‧‧Z軸驅動器

Claims (3)

  1. 一種平板檢查方法，其係包含有：使平板與攝像機其中至少一個作水平移動，藉以使攝像機定位於平板測定位置之步驟；在測定位置對平板之被測定物藉由一自動聚焦模組作攝像機焦點自動對焦之步驟；在攝像機完成對焦之狀態下，使攝像機以現在位置為中心，在設定區間內作上下移動，藉以對被測定物取得複數個影像之步驟；在所取得之複數個影像中，篩選出清晰度最高之影像後，對篩選之影像進行處理，藉以判別被測定物不良與否之步驟；其中取得數個影像所需之取像區間距離被設定成大於該自動對焦模組之重複性，且拍攝間距係被設定成小於該自動對焦模組之重複性。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之平板檢查方法，其中該取得數個影像之步驟，包含使該攝像機藉由壓電驅動器作上下移動之過程。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之平板檢查方法，其中該被測定物，其係形成於該平板之畫素之電路圖案者；判別該被測定物之不良與否之步驟，其係包含自篩選之影像測定電路圖案之線寬尺寸及/或圖案間距後，再以基準值作比對，藉以判別電路圖案不良與否之過程。
TW101133704A 2011-09-15 2012-09-14 平板檢查方法 TWI477770B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110093102A KR101306289B1 (ko) 2011-09-15 2011-09-15 평판 패널 검사방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201315995A TW201315995A (zh) 2013-04-16
TWI477770B true TWI477770B (zh) 2015-03-21

Family

ID=47883887

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW101133704A TWI477770B (zh) 2011-09-15 2012-09-14 平板檢查方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9412159B2 (zh)
KR (1) KR101306289B1 (zh)
CN (1) CN103858001B (zh)
TW (1) TWI477770B (zh)
WO (1) WO2013039340A2 (zh)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9790465B2 (en) 2013-04-30 2017-10-17 Corning Incorporated Spheroid cell culture well article and methods thereof
CN104345481B (zh) * 2013-07-30 2017-11-10 北京京东方光电科技有限公司 一种液晶屏的质量检测方法、装置及设备
US9652842B2 (en) 2013-07-30 2017-05-16 Boe Technology Group Co., Ltd. Method, apparatus and equipment of inspecting quality of LCD
KR102460969B1 (ko) 2014-10-29 2022-10-31 코닝 인코포레이티드 세포 배양 인서트
CN104677314A (zh) * 2015-03-02 2015-06-03 合肥京东方光电科技有限公司 检测显示面板表面平坦度的装置及方法
KR102640848B1 (ko) * 2016-03-03 2024-02-28 삼성전자주식회사 시료 검사 방법, 시료 검사 시스템, 및 이들을 이용한 반도체 소자의 검사 방법
US20200080838A1 (en) * 2017-01-20 2020-03-12 Intekplus Co.,Ltd. Apparatus and method for measuring three-dimensional shape
CN111051494B (zh) 2017-07-14 2024-03-29 康宁股份有限公司 用于手动或自动培养基交换的3d细胞培养容器
US11857970B2 (en) 2017-07-14 2024-01-02 Corning Incorporated Cell culture vessel
JP7195302B2 (ja) 2017-07-14 2022-12-23 コーニング インコーポレイテッド ３ｄ培養のための細胞培養容器及び３ｄ細胞の培養方法
JP6965693B2 (ja) * 2017-10-30 2021-11-10 オムロン株式会社 画像処理装置、画像処理方法、および画像処理プログラム
JP2019219357A (ja) * 2018-06-22 2019-12-26 名古屋電機工業株式会社 撮影装置、撮影方法および撮影プログラム
PL3649226T3 (pl) 2018-07-13 2022-05-16 Corning Incorporated Płytki mikrodołkowe z boczną ścianką zawierającą powierzchnię dostarczającą płynną pożywkę
PL3649229T3 (pl) 2018-07-13 2021-12-06 Corning Incorporated Naczynia do hodowli komórkowych ze stabilizującymi urządzeniami
EP3649227A1 (en) 2018-07-13 2020-05-13 Corning Incorporated Fluidic devices including microplates with interconnected wells
CN110161729B (zh) * 2019-05-17 2021-08-03 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板测试方法及系统
CN111199536B (zh) * 2019-12-13 2023-11-14 深圳市瑞沃德生命科技有限公司 一种聚焦评价方法及其装置
CN111504221A (zh) * 2020-05-15 2020-08-07 苏州精濑光电有限公司 一种网板图像追焦装置及其方法
WO2022031644A1 (en) * 2020-08-04 2022-02-10 Corning Incorporated Methods and apparatus for inspecting a material

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200933134A (en) * 2007-12-05 2009-08-01 Nihon Micronics Kk Inspection method and inspection apparatus of display panel
TW201000885A (en) * 2008-03-04 2010-01-01 Kyodo Design & Planning Corp Electronic component inspection method and device used therein
TW201033606A (en) * 2009-02-06 2010-09-16 Hoya Corp Pattern inspection method, pattern inspection device, photomask manufacturing method, and pattern transfer method

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3701353B2 (ja) * 1995-09-29 2005-09-28 大日本印刷株式会社 画像取得装置
DE19817824A1 (de) * 1998-04-21 1999-10-28 Focke & Co Vorrichtung zum Prüfen von Einheiten aus mehreren Einzelgegenständen, Materiallagen oder dergleichen
JP4008168B2 (ja) 1999-11-26 2007-11-14 アンリツ株式会社 プリント基板検査装置
US6571196B2 (en) * 1999-11-29 2003-05-27 Hitachi Kokusai Electric Inc. Size inspection/measurement method and size inspection/measurement apparatus
US6927847B2 (en) * 2001-09-13 2005-08-09 Hitachi High-Technologies Corporation Method and apparatus for inspecting pattern defects
CN1220032C (zh) * 2002-01-21 2005-09-21 株式会社日立国际电气 线宽测定方法和线宽测定装置
US7538815B1 (en) * 2002-01-23 2009-05-26 Marena Systems Corporation Autofocus system and method using focus measure gradient
JP3721147B2 (ja) * 2002-07-29 2005-11-30 株式会社東芝 パターン検査装置
KR100724475B1 (ko) * 2002-11-13 2007-06-04 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정 표시패널의 실 디스펜서 및 이를 이용한 실 패턴의단선 검출방법
TWI236562B (en) * 2002-11-21 2005-07-21 Hitachi Int Electric Inc A method of detecting a pattern and an apparatus thereof
JP3872007B2 (ja) * 2002-12-16 2007-01-24 シーケーディ株式会社 計測装置及び検査装置
KR100955486B1 (ko) 2004-01-30 2010-04-30 삼성전자주식회사 디스플레이 패널의 검사장치 및 검사방법
US7084970B2 (en) * 2004-05-14 2006-08-01 Photon Dynamics, Inc. Inspection of TFT LCD panels using on-demand automated optical inspection sub-system
JP2005337957A (ja) * 2004-05-28 2005-12-08 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板検査装置
US7636466B2 (en) * 2006-01-11 2009-12-22 Orbotech Ltd System and method for inspecting workpieces having microscopic features
JP5090041B2 (ja) * 2006-04-03 2012-12-05 ルネサスエレクトロニクス株式会社 フォーカス調整方法、その方法を用いた装置、およびその方法に用いられるウェハ
JP4102842B1 (ja) * 2006-12-04 2008-06-18 東京エレクトロン株式会社 欠陥検出装置、欠陥検出方法、情報処理装置、情報処理方法及びそのプログラム
JP2011082506A (ja) * 2009-09-09 2011-04-21 Juki Corp 部品検査装置及び部品実装装置
JP5254270B2 (ja) * 2010-04-09 2013-08-07 株式会社ニューフレアテクノロジー 検査方法および検査装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200933134A (en) * 2007-12-05 2009-08-01 Nihon Micronics Kk Inspection method and inspection apparatus of display panel
TW201000885A (en) * 2008-03-04 2010-01-01 Kyodo Design & Planning Corp Electronic component inspection method and device used therein
TW201033606A (en) * 2009-02-06 2010-09-16 Hoya Corp Pattern inspection method, pattern inspection device, photomask manufacturing method, and pattern transfer method

Also Published As

Publication number Publication date
US20140226004A1 (en) 2014-08-14
CN103858001A (zh) 2014-06-11
TW201315995A (zh) 2013-04-16
CN103858001B (zh) 2017-05-10
WO2013039340A2 (ko) 2013-03-21
WO2013039340A3 (ko) 2013-05-10
US9412159B2 (en) 2016-08-09
KR20130029682A (ko) 2013-03-25
KR101306289B1 (ko) 2013-09-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI477770B (zh) 平板檢查方法
JP5038191B2 (ja) 電子部品検査方法およびそれに用いられる装置
US8817166B2 (en) Imaging device and imaging apparatus
TWI627492B (zh) 焦點調節方法及其作業裝置
US20050232620A1 (en) Automatic focusing method for digital camera
JP2006242821A (ja) 光学パネルの撮像方法、光学パネルの検査方法、光学パネルの撮像装置、光学パネルの検査装置
TWI512276B (zh) 量測發光二極體模組之光軸的方法
CN103312980A (zh) 成像设备及其图像传感器
WO2013077282A1 (ja) 液晶表示パネルの検査方法
CN103247548A (zh) 一种晶圆缺陷检测装置及方法
JP2008180602A (ja) 検査装置、検査方法、検査プログラムおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体
CN111366593A (zh) 一种测量玻璃基板缺陷分层的装置和方法
TWM477571U (zh) 一種用以擷取一物件影像的擷取裝置以及影像檢測裝置
JP2010008188A (ja) 表示パネルの検査装置、検査方法及びこれを用いた表示パネルの製造方法
US11125992B2 (en) Chromatic aberration adjusting method and apparatus of detection device
JP2010078645A (ja) 合焦点方式、基板エッジの座標測定方法及び測定用マークの距離測定方法
JP6294904B2 (ja) ギラツキ評価装置およびギラツキ評価方法
JP2004184411A (ja) 位置認識方法
JP2003066307A (ja) 電子撮像装置の組立・検査方法及びこれに用いる電子撮像装置の組立・検査装置
KR102329643B1 (ko) 모바일카메라용 오토포커싱 또는 손떨림 방지장치의 특성을 검사하기 위한 장치 및 이의 동작방법
CN113945363B (zh) 检测摄像头模组传感器位移性能的方法
JP2007292683A (ja) 試料測定装置および試料測定装置の試料台調節方法
CN112629822B (zh) 偏光片内污检验方法
JP2012233782A (ja) 形状認識方法、形状認識装置及び実装基板生産装置
TWI432712B (zh) 應用影像技術之鏡頭校準系統及其校準方法