TWI476088B - 表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法 - Google Patents

表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法 Download PDF

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Description

表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法
本申請案是基於並主張於2011年5月26號向日本智慧財產局提出申請之日本專利申請案第2011-118087號以及於2011年5月26號向日本智慧財產局提出申請之日本專利申請案第2011-118088號的優先權，該專利申請案所揭露之內容係完整結合於本說明書中。
本發明是有關於一種表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法。
近年來，已知在表面具有可見光波長以下之週期的微細凹凸結構的物品表現出抗反射效果、蓮花效應(lotus effect)等。特別是排列有略圓錐形狀之凸部的被稱為蛾眼結構(Moth-eye-structure)之凹凸結構，由於折射率自空氣之折射率連續地增大至物品之材料之折射率，從而成為有效之抗反射機構。
作為於物品之表面形成微細凹凸結構之方法，於表面具有微細凹凸結構的模具與基材之間夾持液狀之活性能量線硬化性樹脂組成物，對其照射活性能量線而使其硬化，於基材之表面形成轉印有微細凹凸結構之硬化樹脂層的方法受到關注。
而且，作為該模具，自可簡便地製造之方面考慮，於鋁基材之表面具有具多個細孔之陽極氧化氧化鋁的模具受到關注(專利文獻1)。
然而，於該模具中，由於下述之理由(i)~理由(iii)，模具與活性能量線硬化性樹脂組成物之接觸界面大幅增加，因此存在難以將模具自硬化樹脂層脫模的問題。
(i)陽極氧化氧化鋁中之細孔之平均間隔為100nm~400nm左右，而且細孔最接近之部分的細孔間距離為數nm至數十nm。亦即，結構非常微細。
(ii)如專利文獻1所記載那樣，於反覆進行陽極氧化與蝕刻而形成細孔之情形時，細孔之壁面之平滑性變低，且細孔之壁面存在某種程度變粗之情形。
(iii)於欲獲得充分之抗反射效果等功能之情形時，必須使細孔之縱橫比(aspect ratio)較大。
作為使模具與硬化樹脂層之脫模性提高之方法，存在有如下之方法：藉由與模具之表面反應的脫模劑(模具脫模劑)對模具之形成有微細凹凸結構之側的表面進行處理(專利文獻2)。
然而，於該方法中存在下述之問題(iv)~問題(viii)。
(iv)於反覆轉印模具之微細凹凸結構之情形時，模具脫模劑自模具表面脫落，脫模性逐漸降低。若脫模性降低，則物品之生產性降低，而且所轉印之微細凹凸結構之一部分破損，轉印精度亦降低。
(v)自模具表面脫落之模具脫模劑轉移至物品之表面，因此存在如下之現象：物品表面被污染，隨著自轉印初期起轉印次數之增加而造成物品之表面特性產生較大變化之現象明顯化。另外，於模具脫模劑脫落之狀況中，所 轉印之微細凹凸結構之凸部的高度亦緩緩地變化，因此不僅僅物品之表面物性變化，光學特性亦變化。因此，於製造開始後，表面特性與光學特性變化之期間所獲得的表面具有微細凹凸結構的物品並不能作為產品而出貨，直至物品之表面特性與光學特性穩定化之前所消耗之原料或材料被浪費。
(vi)於專利文獻2中所記載之使用含氟矽烷化合物及氟系溶劑而對模具進行脫模處理之情形時，含氟矽烷化合物及氟系溶劑價格昂貴，因此隨著模具之大面積化，脫模處理所需之成本成為問題。特別是可預見於模具為輥形狀，藉由處理液而浸漬大型輥之整體之情形時，該問題變顯著。
(vii)含氟矽烷化合物於吸濕之情形時由於矽醇基彼此之間之反應而產生凝聚物，因此於模具表面之穩定的均一處理方面存在課題。因此，於脫模處理時存在如下之情形：若產生脫模處理液之液池，則於該部分殘存含氟矽烷化合物之凝聚物，成為模具之缺陷。
(viii)於藉由氟系溶劑而沖洗模具表面所形成之含氟矽烷化合物之單分子膜上所殘存之不要的殘渣等情形時，步驟數與成本進一步增加。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2005-156695號公報
[專利文獻2]日本專利特開2007-326367號公報
本發明提供一種於將活性能量線硬化性樹脂組成物(active energy ray-curable resin composition)夾持於模具與基材之間的狀態下而使其硬化，於基材之表面形成轉印有模具之微細凹凸結構的硬化樹脂層時，即使反覆轉印模具之微細凹凸結構，亦可維持模具與硬化樹脂層之脫模性以及所轉印之微細凹凸結構之形狀或表面特性，可穩定地生產性良好地製造表面具有微細凹凸結構的物品的方法。
本發明之第一形態是以下之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法。
[1]一種表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其包含下述步驟(I)及步驟(II)：(I)藉由包含模具脫模劑(mold-release processing solution)之脫模處理溶液，對表面具有包含陽極氧化氧化鋁之微細凹凸結構的模具表面進行包覆的步驟，所述模具脫模劑包含1種以上磷酸酯化合物(phosphoric acid ester)，每1g所述模具脫模劑的藉由50mL水進行萃取時的水溶液之pH為3.0以上；(II)於步驟(I)之後，將包含聚合性化合物(polymerizable compound)、聚合起始劑與內部脫模劑(internal mold release agent)之活性能量線硬化性樹脂組成物夾持於所述模具與基材之間，對其照射活性能量線而使其硬化，於所述基材之表面形成轉印有所述微細凹凸結構之硬化樹脂層，獲得表面具有微細凹凸結構的物品的步 驟。
[2]如[1]所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中所述模具脫模劑是(聚)氧化烯烷基磷酸酯((poly)oxyalkylene alkyl phosphate)化合物。
[3]如[1]或[2]所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中所述脫模處理溶液是所述模具脫模劑之0.01質量%~2.0質量%之水溶液。
[4]如[1]至[3]中任一項所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中所述活性能量線硬化性樹脂組成物包含(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物作為所述內部脫模劑。
[5]如[1]至[4]中任一項所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中藉由50mL之水對1g所述內部脫模劑進行萃取時的水溶液之pH為3.0以上。
[6]如[1]至[5]中任一項所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中所述模具脫模劑與所述內部脫模劑相同。
[7]如[1]至[6]中任一項所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中所述模具脫模劑與所述內部脫模劑之SP值之差為2.0以下。
本發明之第二形態是以下之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法。
[1]一種表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其包含下述步驟(I')及步驟(II')： (I')藉由(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物對表面具有包含陽極氧化氧化鋁之微細凹凸結構的模具表面進行包覆的步驟；(II')於步驟(I')之後，將包含聚合性化合物、聚合起始劑與內部脫模劑之活性能量線硬化性樹脂組成物夾持於所述模具與基材之間，對其照射活性能量線而使其硬化，於所述基材之表面形成轉印有所述微細凹凸結構之硬化樹脂層，獲得表面具有微細凹凸結構的物品的步驟。
[2]如[1]所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中所述活性能量線硬化性樹脂組成物包含(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物作為所述內部脫模劑。
[3]如[1]或[2]所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中所述步驟(I')包含下述步驟(I'-1)及步驟(I'-2)：(I'-1)將(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物溶於溶劑中而調製脫模處理溶液之步驟；(I'-2)於模具之表面塗佈脫模處理溶液，使其乾燥之步驟。
本發明之第三形態是以下之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法。
[1]一種表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其包含下述步驟(I")~步驟(II")：(I")藉由模具脫模劑對表面具有包含陽極氧化氧化鋁之微細凹凸結構的模具表面進行處理的步驟； (II")於步驟(I")之後，將包含聚合性化合物、聚合起始劑、及與所述模具脫模劑相同之內部脫模劑之活性能量線硬化性樹脂組成物夾持於所述模具與基材之間，對其照射活性能量線而使其硬化，於所述基材之表面形成轉印有所述微細凹凸結構之硬化樹脂層，獲得表面具有微細凹凸結構的物品的步驟。
[2]如[1]所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中，所述模具脫模劑及所述內部脫模劑以(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物為主成分。
[3]如[1]或[2]所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中，所述步驟(I")包含下述步驟(I"-1)~步驟(I"-2)：(I"-1)將模具脫模劑溶於溶劑中而調製脫模處理溶液之步驟；(I"-2)於模具之表面塗佈脫模處理溶液而使其乾燥之步驟。
藉由本發明之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，於將活性能量線硬化性樹脂組成物夾持於模具與基材之間的狀態下而使其硬化，於基材之表面形成轉印有模具之微細凹凸結構的硬化樹脂層時，即使反覆轉印模具之微細凹凸結構，亦可維持模具與硬化樹脂層之脫模性以及所轉印之微細凹凸結構之形狀或表面特性，可穩定地生產性良好地製造表面具有微細凹凸結構的物品。
於本說明書中，微細凹凸結構是表示凸部或凹部之平均間隔(週期)為可見光波長以下、亦即400nm以下之結構。而且，活性能量線表示可見光線、紫外線、電子束、電漿、熱射線(紅外線等)等。而且，(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物是表示具有1個氧化烯基之氧化烯烷基磷酸酯化合物或具有2個以上氧化烯基之聚氧化烯烷基磷酸酯化合物。而且，(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
<物品的製造方法>
本發明之第一形態的表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法是包含下述步驟(I)及步驟(II)的方法。
(I)藉由包含模具脫模劑之脫模處理溶液對表面具有包含陽極氧化氧化鋁之微細凹凸結構的模具表面進行包覆的步驟，所述模具脫模劑包含1種以上磷酸酯化合物，每1g所述模具脫模劑的藉由50mL水進行萃取時的水溶液之pH為3.0以上。
(II)於步驟(I)之後，將包含聚合性化合物、聚合起始劑與內部脫模劑之活性能量線硬化性樹脂組成物夾持於所述模具與基材之間，對其照射活性能量線而使其硬化，於所述基材之表面形成轉印有所述微細凹凸結構之硬化樹脂層，獲得表面具有微細凹凸結構的物品的步驟。
本發明之第二形態的表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法是包含下述步驟(I')及步驟(II')之方法。
(I')藉由(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物對表面具有包含陽極氧化氧化鋁之微細凹凸結構的模具表面進行包覆的步驟； (II')於步驟(I')之後，將包含聚合性化合物、聚合起始劑與內部脫模劑之活性能量線硬化性樹脂組成物夾持於所述模具與基材之間，對其照射活性能量線而使其硬化，於所述基材之表面形成轉印有所述微細凹凸結構之硬化樹脂層，獲得表面具有微細凹凸結構的物品的步驟。
本發明之第三形態的表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法是包含下述步驟(I")及步驟(II")的方法。
(I")藉由模具脫模劑對表面具有包含陽極氧化氧化鋁之微細凹凸結構的模具表面進行處理的步驟；(II")於步驟(I")之後，將包含聚合性化合物、聚合起始劑、及與所述模具脫模劑相同之內部脫模劑之活性能量線硬化性樹脂組成物夾持於所述模具與基材之間，對其照射活性能量線而使其硬化，於所述基材之表面形成轉印有所述微細凹凸結構之硬化樹脂層，獲得表面具有微細凹凸結構的物品的步驟。
[步驟(I)、步驟(I')及步驟(I")]
本發明之第一形態的步驟(I)是藉由作為模具脫模劑之(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物對模具之形成有微細凹凸結構之側的表面進行包覆。
本發明之第二形態的步驟(I')是藉由(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物對模具之形成有微細凹凸結構之側的表面進 行包覆。
本發明之第三形態的步驟(I")與步驟(I)相同。
自藉由模具脫模劑而均一、且充分薄地包覆模具之方面考慮，較佳的是步驟(I)、步驟(I')及步驟(I")包含下述步驟(I-1)及步驟(I-2)。
(I-1)將(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物溶於溶劑中而調製脫模處理溶液之步驟。
(I-2)於模具之表面塗佈脫模處理溶液，使其乾燥之步驟。
作為本發明中所使用之包含1種以上磷酸酯化合物之模具脫模劑，於藉由50mL之水而對1g模具脫模劑進行萃取時的水溶液之pH為3.0以上。若pH為3.0以上，則可良好地維持模具之微細凹凸形狀。pH特佳的是3.5以上。而且，模具脫模劑之pH較佳的是7.0以下，更佳的是6.0以下，特佳的是5.0以下。亦即，模具脫模劑之pH較佳的是3.0~7.0，更佳的是3.5~6.0，特佳的是3.5~5.0。
(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物包含極少量之磷酸作為雜質。若該磷酸濃度過大，則存在如下之可能性：於模具與模具脫模劑接觸之狀態下進行放置之情形時，模具溶解而造成微細凹凸形狀變化或消失。於模具脫模劑溶解模具之情形時，自模具之脫模處理直至轉印微細凹凸形狀之間的模具之保管條件或期限受到限制，因此欠佳。
因此，進行了銳意研究，結果可知：若包含(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物之模具脫模劑的pH為3.0以上，則即 使保持模具脫模劑與模具接觸之狀態，亦可充分地抑制模具之溶解。pH為3.0以上之情形時的模具脫模劑之磷酸濃度為10ppm以下。
亦即，模具脫模劑之磷酸濃度較佳的是70ppm以下，更佳的是10ppm以下，亦可為0ppm。
(模具)
模具例如可藉由包含下述步驟(a)~步驟(f)之方法而製作。
(a)將鋁基材於電解液中、恆定電壓下進行陽極氧化而於鋁基材之表面形成氧化皮膜的步驟。
(b)將氧化皮膜之一部分或全部除去，於鋁基材之表面形成陽極氧化之細孔產生點的步驟。
(c)將鋁基材於電解液中再次進行陽極氧化，形成於細孔產生點具有細孔之氧化皮膜的步驟。
(d)使細孔之直徑擴大的步驟。
(e)於步驟(d)之後，於電解液中再次進行陽極氧化的步驟。
(f)反覆進行步驟(d)與步驟(e)，獲得於鋁之表面形成有具有多個細孔之陽極氧化氧化鋁之模具的步驟。
步驟(a)：如圖1(a)、圖1(b)所示，對鋁基材10進行陽極氧化，則形成具有細孔12之氧化皮膜14。
鋁基材之形狀可列舉輥狀、圓筒狀、平板狀、薄板狀等。
而且，為了使鋁基材之表面狀態平滑，較佳的是藉由機械研磨、拋光布研磨、化學研磨、電解研磨處理(蝕刻處理)等進行研磨。而且，由於鋁基材可能附著有加工為預定形狀時所使用之油，因此較佳的是於陽極氧化之前預先進行脫脂處理。
鋁之純度較佳的是99%以上，更佳的是99.5%以上，特佳的是99.8%以上。若鋁之純度低，則存在如下之現象：於進行陽極氧化時，由於雜質之偏析(segregation)而形成可散射可見光之大小的凹凸結構，或者藉由陽極氧化而所得之細孔的規則性降低。
電解液可列舉硫酸、草酸(oxalic acid)、磷酸等。
於使用草酸作為電解液之情形時：草酸之濃度較佳的是0.7M以下。若草酸之濃度超過0.7M，則存在電流值變得過高而導致氧化皮膜之表面變粗之現象。
於化成電壓(formation voltage)為30V~60V時，可獲得具有週期為100nm之規則性高的細孔的陽極氧化氧化鋁。無論化成電壓較該範圍更高還是更低，均存在規則性降低之傾向。
電解液之溫度較佳的是60℃以下，更佳的是45℃以下。若電解液之溫度超過60℃，則存在如下之現象：產生所謂之「風化」之現象，細孔被破壞，或表面溶解而導致細孔之規則性變亂。
於使用硫酸作為電解液之情形時： 硫酸之濃度較佳的是0.7M以下。若硫酸之濃度超過0.7M，則存在如下之現象：電流值變得過高而變得無法維持恆定電壓。
於化成電壓為25V~30V時，可獲得具有週期為63nm之規則性高的細孔的陽極氧化氧化鋁。無論化成電壓較該範圍更高還是更低，均存在規則性降低之傾向。
電解液之溫度較佳的是30℃以下，更佳的是20℃以下。若電解液之溫度超過30℃，則存在如下之現象：產生所謂之「風化」之現象，細孔被破壞，或表面溶解而導致細孔之規則性變亂。
步驟(b)：如圖1(b)、圖1(c)所示，將氧化皮膜14之一部分或全部暫時除去，將其作為陽極氧化之細孔產生點16，藉此可提高細孔之規則性。於氧化皮膜14未被完全除去而殘存一部分之狀態下，若氧化皮膜14中殘存著已充分地提高規則性之部分，則亦可實現除去氧化皮膜之目的。
將氧化皮膜除去之方法可列舉：使其溶解於溶液中而將其除去的方法，其中該溶液並不溶解鋁而是選擇性地溶解氧化皮膜。此種溶液例如可列舉鉻酸/磷酸混合液等。
步驟(c)：如圖1(c)、圖1(d)所示，對除去了氧化皮膜之鋁基材10再次進行陽極氧化，則形成具有圓柱狀細孔12之氧化皮膜14。
陽極氧化於與步驟(a)同樣之條件下進行即可。陽極 氧化之時間越長則越可以獲得深的細孔。然而，若為不失去步驟(b)之效果的範圍，則可適宜調整步驟(c)中之陽極氧化之電壓、電解液之種類、溫度等。
步驟(d)：如圖1(d)、圖1(e)所示，進行使細孔12之直徑擴大之處理(以下記為細孔徑擴大處理)。細孔徑擴大處理是浸漬於溶解氧化皮膜之溶液中，使藉由陽極氧化而所得之細孔之直徑擴大的處理。此種溶液例如可列舉5質量%左右之磷酸水溶液等。
細孔徑擴大處理之時間越長，則細孔徑變得越大。
步驟(e)：如圖1(e)、圖1(f)所示，再次進行陽極氧化，則進一步形成自圓柱狀細孔12之底部向下延伸的直徑小的圓柱狀細孔12。
陽極氧化於與步驟(a)同樣之條件下進行即可。陽極氧化之時間越長則越可以獲得深的細孔。
步驟(f)：如圖1(f)、圖1(g)所示，反覆進行步驟(d)之細孔徑擴大處理、與步驟(e)之陽極氧化，則形成具有細孔12(所述細孔12具有直徑自開口部向深度方向連續性減少的形狀)的氧化皮膜14，從而獲得於鋁基材10之表面形成有陽極氧化氧化鋁(鋁之多孔質氧化皮膜(alumite，防蝕鋁))的模具18。較佳的是最後以步驟(d)結束。
反覆次數較佳的是合計為3次以上，更佳的是5次以 上。若反覆次數為2次以下，則細孔之直徑非連續性地減少，因此使用具有此種細孔之陽極氧化氧化鋁而形成的蛾眼結構的反射率減低效果並不充分。
細孔12之形狀可列舉略圓錐形狀、角錐形狀、圓柱形狀等，較佳的是如圓錐形狀、角錐形狀等這樣的與深度方向正交之方向的細孔截面積自最表面向深度方向連續性減少之形狀。
細孔12間之平均間隔為可見光之波長以下、亦即400nm以下。細孔12間之平均間隔較佳的是20nm以上。
細孔12間之平均間隔是藉由電子顯微鏡觀察而測定50點鄰接之細孔12間之間隔(自細孔12之中心至鄰接之細孔12之中心的距離)，將該些值加以平均而所得的值。
作為細孔12之深度，於平均間隔為100nm之情形時，較佳的是80nm~500nm，更佳的是120nm~400nm，特佳的是150nm~300nm。
細孔12之深度是藉由電子顯微鏡觀察而以30000倍之倍率進行觀察時，測定細孔12之最底部與存在於細孔12間之凸部的最頂部之間的距離而所得的值。
細孔12之縱橫比(細孔之深度/細孔間之平均間隔)較佳的是0.8~5.0，更佳的是1.2~4.0，特佳的是1.5~3.0。
(模具脫模劑)
於本發明之第一形態中，模具脫模劑包含1種以上磷酸酯化合物。所謂磷酸酯化合物是有機磷化合物中的磷酸與醇進行脫水縮合而成之酯，是磷酸所具有之3個氫之全 部或一部分被取代為有機基而成之結構的化合物之總稱。磷酸酯可列舉其取代數為1個、2個、3個之磷酸酯，順次為磷酸單酯、磷酸二酯、磷酸三酯。(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物是磷酸與聚(氧化烯)烷基醚脫水縮合而成之化合物。
作為模具脫模劑之(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物與氧化鋁相互作用而吸附於模具之表面，於與活性能量線硬化性樹脂組成物及其硬化物之界面發揮脫模性。另外，(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物與含氟矽烷化合物等不同的是並不生成凝聚物等，因此即使於模具脫模劑掩埋模具表面之微細凹凸結構之情形時，亦可藉由較少之轉印次數而使模具表面之多餘之模具脫模劑轉移至活性能量線硬化性樹脂組成物上，恢復模具表面之微細凹凸結構。
作為模具脫模劑之(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物可以是與後述之活性能量線硬化性樹脂組成物中所添加之內部脫模劑相同之化合物，亦可為不同之化合物。
若模具脫模劑與內部脫模劑為相同之化合物，則自轉印初期便獲得穩定之表面特性。
另外，例如於作為內部脫模劑而言最合適之(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物、與用作模具脫模劑之於溶劑中之稀釋及模具之脫模處理容易的(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物不同之情形時，亦可使內部脫模劑與模具脫模劑為不同之化合物。
自脫模性之方面考慮，作為模具脫模劑之(聚)氧化烯 烷基磷酸酯化合物較佳的是下述式(1)所表示之化合物。
(HO)3-n (O=)P[-O-(R2 O)m -R1 ]n ．．．(1)
R1 為烷基，R2 為伸烷基，m為1~20之整數，n為1~3之整數。
R1 較佳的是碳數為1~20之烷基，更佳的是碳數為3~18之烷基。具體而言，較佳的是碳數為4~16，更佳的是碳數為6~15。
R2 較佳的是碳數為1~4之伸烷基，更佳的是碳數為2~3之伸烷基。具體而言較佳的是伸乙基或伸丙基，更佳的是伸乙基。
m更佳的是1~10之整數。
(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物可為單酯體(n=1)、二酯體(n=2)、三酯體(n=3)之任意者。而且，於二酯體或三酯體之情形時，1分子中之多個(聚)氧化烯烷基亦可分別不同。
(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物之市售品例如可列舉下述者。
城北化學公司製造：JP-506H(n≒1~2，m≒1，R1 =丁基，R2 =伸乙基)、Axel公司製造：Mold Wiz INT-1856(結構未公開)、日光化學公司(Nikko Chemicals Co.,Ltd.)製造：TDP-10(n≒3，m≒10，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、TDP-8 (n≒3，m≒8，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、TDP-6(n≒3，m≒6，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、TDP-2(n≒3，m≒2，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、DDP-10(n≒2，m≒10，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、DDP-8(n≒2，m≒8，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、DDP-6(n≒2，m≒6，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、DDP-4(n≒2，m≒4，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、DDP-2(n≒2，m≒2，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、TLP-4(n≒3，m≒4，R1 =月桂基，R2 =伸乙基)、TCP-5(n≒3，m≒5，R1 =十六基(cetyl)，R2 =伸乙基)、DLP-10(n≒3，m≒10，R1 =月桂基，R2 =伸乙基)。
此處，所謂C12~C15是表示碳數為12~15之烷基。
該些中較佳的是TDP-10、TDP-8、TDP-6、TDP-2，更佳的是TDP-10、TDP-8。
(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
(溶劑)
作為溶劑，若可使(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物均一地溶解，於模具表面之濕潤性良好，且可於塗佈脫模處理溶液後使其乾燥，則可並無特別限制地選擇使用。
溶劑例如可列舉水、醇類(甲醇、乙醇、異丙醇等)、酮類(丙酮、丁酮等)、酯類(乙酸乙酯、乙酸丁酯等)、脂肪族烴類(己烷、庚烷等)、芳香族烴類(苯、甲苯等)、鹵素系溶劑(二氯甲烷等)等。其中較佳的是水、醇類，更佳的是水。
溶劑可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
較佳的是使用上述溶劑中的水而調製脫模處理溶液。藉由使用水，可使揮發之溶劑之排氣處理或爆炸、火災等可能性大幅度降低，於成本之方面而言亦變得有利。而且，於溶劑使用水之情形時，併用一定量之醇等的方法亦有效。
(步驟(I-1))
脫模處理溶液可藉由將作為模具脫模劑之(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物溶於溶劑中而獲得。模具脫模劑之濃度可根據於模具上之塗佈方法而最佳化，為使脫模處理溶液乾燥後由(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物而形成之層可確保脫模性之濃度即可。
由(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物而形成之層的厚度若為數Å左右則可充分地確保脫模性。即使於層之厚度成為數μm以上之情形時，若進行數次轉印，則可使僅僅必要充分量之(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物殘存於模具之表面，過剩量之(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物轉移至硬化樹脂層側。因此，於其以後可獲得具有穩定且均一之突起形狀與表面特性的物品。
模具脫模劑之濃度於脫模處理溶液中較佳的是0.001質量%~10質量%，更佳的是0.01質量%~2質量%，進一步更佳的是0.01質量%~1質量%，特佳的是0.05質量%~0.5質量%。
而且，脫模處理溶液亦可以改善操作性為目的而包含消泡劑等。
脫模處理溶液較佳的是均一之溶液，較佳的是並無懸浮物或渾濁等。其原因在於：懸浮物或渾濁於脫模處理時可直接成為模具表面之缺陷或外觀不良。脫模處理溶液之透明度可利用濁度計等而測定，理想的是實質上並未檢測出粒子狀物質或渾濁。較佳的是例如以濁度(JIS K0101)表示而言為0度。
(步驟(I-2))
作為於模具上塗佈脫模處理溶液之方法，若可於模具之表面塗佈脫模處理溶液，則並無特別限制。塗佈方法例如可列舉浸塗、噴塗、利用滲入有脫模處理溶液之抹布等而擦塗等。
作為脫模處理溶液之乾燥，若可將脫模處理溶液中所使用之溶劑充分除去即可。若可將溶劑充分除去，則乾燥方法並無特別限制，理想的是根據所選擇之溶劑而選擇使其乾燥之環境。
乾燥方法例如可列舉於潔淨環境下之靜置、藉由高溫乾燥機之乾燥、減壓乾燥等。
[步驟(II)、步驟(II')、及步驟(II")]
於步驟(II)中，將包含聚合性化合物、聚合起始劑與內部脫模劑之活性能量線硬化性樹脂組成物夾持於模具與基材之間，對其照射活性能量線而使其硬化，於基材之表面形成轉印有微細凹凸結構之硬化樹脂層，獲得表面具有微細凹凸結構的物品。
步驟(II')與步驟(II)相同。
於步驟(II")中，將包含聚合性化合物、聚合起始劑、及與模具脫模劑相同之內部脫模劑之活性能量線硬化性樹脂組成物夾持於模具與基材之間，對其照射活性能量線而使其硬化，於所述基材之表面形成轉印有所述微細凹凸結構之硬化樹脂層，獲得表面具有微細凹凸結構的物品。
(基材)
基材之形狀可列舉薄膜、薄板、射出成形品、擠壓成形品等。
基材之材質例如可列舉聚碳酸酯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、纖維素系樹脂(三乙酸纖維素等)、聚烯烴、玻璃等。
(活性能量線硬化性樹脂組成物)
活性能量線硬化性樹脂組成物是包含聚合性化合物、聚合起始劑、內部脫模劑之組成物。
組成物於25℃下之黏度較佳的是10000mPa．s以下，更佳的是5000mPa．s以下，進一步更佳的是2000mPa．s以下。若組成物於25℃下之黏度為10000mPa．s以下，則組成物對微細凹凸結構之追隨性變良好，可精度良好地轉印微細凹凸結構。組成物之黏度可使用旋轉式E型黏度計，於25℃下進行測定。
(內部脫模劑)
藉由使活性能量線硬化性樹脂組成物包含內部脫模劑，可提高連續轉印性。
內部脫模劑是使活性能量線硬化性樹脂組成物之硬化 物與模具表面之脫模性提高者，且若具有與活性能量線硬化性樹脂組成物之相溶性，則其組成並無特別限制。
內部脫模劑例如可列舉(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物、含氟化合物、矽酮系化合物、具有長鏈烷基之化合物、聚烯烴蠟、醯胺蠟、鐵氟龍粉末(鐵氟龍是註冊商標)等。該些內部脫模劑可單獨使用1種，亦可併用2種以上。該些中較佳的是以(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物為主成分者。
藉由包含與模具脫模劑相同之(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物而作為內部脫模劑，作為其硬化物之硬化樹脂層與模具之脫模性變得特別良好。而且，脫模時之負載極其低，微細凹凸結構之破損少，其結果可效率良好且精度良好地轉印模具之微細凹凸結構。
自脫模性之方面考慮，(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物較佳的是下述式(1)所表示之化合物。
(HO)3-n (O=)P[-O-(R2 O)m -R1 ]n ．．．(1)
R1 為烷基，R2 為伸烷基，m為1~20之整數，n為1~3之整數。
R1 較佳的是碳數為1~20之烷基，更佳的是碳數為3~18之烷基。具體而言較佳的是碳數為4~16，更佳的是碳數為6~15。
R2 較佳的是碳數為1~4之伸烷基，更佳的是碳數為2 ~3之伸烷基。具體而言較佳的是伸乙基或伸丙基，更佳的是伸乙基。
m較佳的是1~10之整數。
(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物可為單酯體(n=1)、二酯體(n=2)、三酯體(n=3)之任意者。而且，於二酯體或三酯體之情形時，1分子中之多個(聚)氧化烯烷基亦可分別不同。
(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物之市售品例如可列舉下述者。
城北化學公司製造：JP-506H(n≒1~2，m≒1，R1 =丁基，R2 =伸乙基)、Axel公司製造：Mold Wiz INT-1856(結構未公開)、Nikko Chemicals Co.,Ltd.製造：TDP-10(n≒3，m≒10，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、TDP-8(n≒3，m≒8，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、TDP-6(n≒3，m≒6，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、TDP-2(n≒3，m≒2，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、DDP-10(n≒2，m≒10，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、DDP-8(n≒2，m≒8，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、DDP-6(n≒2，m≒6，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、DDP-4(n≒2，m≒4，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、DDP-2(n≒2，m≒2，R1 =C12~15，R2 =伸乙基)、TLP-4(n≒3，m≒4，R1 =月桂基，R2 =伸乙基)、TCP-5(n≒3，m≒5，R1 =十六基，R2 =伸乙基)、DLP-10(n≒3，m≒10，R1 =月桂基，R2 =伸乙基)。
此處，所謂C12~C15是表示碳數為12~15之烷基。
該些中較佳的是TDP-10、TDP-8、TDP-6、TDP-2，更佳的是TDP-6、TDP-2。
(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
於活性能量線硬化性樹脂組成物中，作為內部脫模劑之(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物之量相對於聚合性化合物100質量%而言，較佳的是0.01質量%~1質量%，更佳的是0.05質量%~0.5質量%，進一步更佳的是0.05質量%~0.1質量%。若(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物之量為1質量%以下，則可抑制硬化樹脂層之性能降低。而且，與基材之密接性之降低得到抑制，其結果可抑制模具上之樹脂殘留(脫模不良)或硬化樹脂層自物品上剝落。若(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物之量為0.01質量%以上，則自模具之脫模性變充分，且可抑制模具上之樹脂殘留(脫模不良)。
作為內部脫模劑，為了維持包含氧化鋁之模具之微細凹凸形狀，pH較佳的是3.0以上，特佳的是3.5以上。而且，內部脫模劑之pH較佳的是7.0以下，更佳的是6.0以下，特佳的是5.0以下。亦即，內部脫模劑之pH較佳的是3.0~7.0，更佳的是3.5~6.0，特佳的是3.5~5.0。(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物包含極少量之磷酸作為雜質。若該磷酸濃度過大，則存在隨著轉印次數(輥狀模具之旋轉數)之增大，模具急速溶解而造成微細凹凸形狀變化或消失之可能性，因此欠佳。
因此，進行銳意研究之結果可知：若包含(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物之內部脫模劑的pH為3.0以上，則即使轉印次數增大，微細凹凸形狀亦基本不劣化，可經長時間穩定地生產物品。pH為3.0以上之情形時的內部脫模劑之磷酸濃度為10ppm以下。
亦即，內部脫模劑之磷酸濃度較佳的是70ppm以下，更佳的是10ppm以下，亦可為0ppm。
活性能量線硬化性樹脂組成物亦可以使脫模性進一步提高之目的而進一步包含(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物以外之使脫模性提高的成分。該成分例如可列舉含氟化合物、矽酮系化合物、磷酸酯系化合物、具有長鏈烷基之化合物、包含固形蠟(聚烯烴蠟、醯胺蠟、鐵氟龍粉末(鐵氟龍為註冊商標)等)等之化合物等。
(聚合性化合物)
聚合性化合物可列舉於分子中具有自由基聚合性及/或陽離子聚合性之單體、寡聚物、反應性聚合物等。
具有自由基聚合性之單體可列舉單官能單體、多官能單體。
單官能單體可列舉(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸月桂基酯、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苄基酯、 (甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲基酯、(甲基)丙烯酸烯丙基酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸-2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸酯衍生物；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯腈；苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯衍生物；(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺等(甲基)丙烯醯胺衍生物等。其中，較佳的是(甲基)丙烯酸烷基酯、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯，更佳的是丙烯酸烷基酯、N,N-二甲基丙烯醯胺、丙烯酸-2-羥基乙酯。該些化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
多官能單體可列舉乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改性二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,5-戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)苯基)丙烷、1,2-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)乙烷、1,4-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)丁烷、二羥甲基三環癸烷二(甲 基)丙烯酸酯、雙酚A之環氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A之環氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙烯基苯、亞甲雙丙烯醯胺等二官能性單體；季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷改性三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧丙烷改性三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷環氧乙烷改性三丙烯酸酯、異三聚氰酸環氧乙烷改性三(甲基)丙烯酸酯等三官能單體；琥珀酸/三羥甲基乙烷/丙烯酸之縮合反應混合物、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、EO改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二-三羧甲基丙烷四丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯等四官能以上之單體；二官能以上之丙烯酸胺基甲酸酯、二官能以上之聚酯丙烯酸酯等。其中，較佳的是季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯，更佳的是季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯。該些化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
具有陽離子聚合性之單體可列舉具有環氧基、環氧丙基、噁唑基、乙烯基氧基等之單體，特佳的是具有環氧基之單體。具體而言可列舉：乙二醇二縮水甘油醚、二乙二 醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、丙二醇二縮水甘油醚、三丙二醇二縮水甘油醚、聚丙二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、甘油二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、氫化雙酚A二縮水甘油醚、雙酚A之2莫耳PO加成物的二縮水甘油醚、3-乙基-3-羥基甲基環氧丙烷、2-乙基己基環氧丙烷、苯二甲基雙環氧丙烷、3-乙基-3{[(3-乙基環氧丙烷-3-基)甲氧基]甲基}環氧丙烷、2-羥基乙基乙烯基醚、4-羥基丁基乙烯基醚、二乙二醇單乙烯基醚、2-乙基己基乙烯基醚等。
寡聚物或反應性聚合物可列舉不飽和二羧酸與多元醇之縮合物等不飽和聚酯類；聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸環氧酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯、陽離子聚合型環氧化合物、於側鏈具有自由基聚合性基之上述單體的均聚物或共聚物等。其中，較佳的是(甲基)丙烯酸環氧酯、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯，更佳的是(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯。
聚合性化合物較佳的是自由基聚合性單體彼此之間的組合、或自由基聚合性單體與陽離子聚合性單體之組合，更佳的是自由基聚合性單體彼此之間的組合。
(聚合起始劑)
於利用光硬化反應之情形時，光聚合起始劑例如可列舉安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、二苯乙二酮(benzil)、二苯甲酮、對甲氧基二苯甲酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙 酮、苯甲醯甲酸甲酯、苯甲醯甲酸乙酯、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羥基-環己基苯基酮等羰基化合物；一硫化四甲基甲硫碳醯胺(tetramethyl thiuram monosulfide)、二硫化四甲基甲硫碳醯胺等硫化合物；2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦等醯基膦氧化物類。其中，較佳的是2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羥基-環己基-苯基-酮、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦，更佳的是1-羥基-環己基-苯基-酮、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦。該些化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
於利用熱硬化反應之情形時，熱聚合起始劑例如可列舉過氧化甲基乙基酮、過氧化苯甲醯、過氧化二異丙苯(dicumyl peroxide)、第三丁基過氧化氫、氫過氧化異丙苯、第三丁基過氧基辛酸酯、第三丁基過氧基苯甲酸酯、過氧化月桂醯等有機過氧化物；偶氮雙異丁腈等偶氮系化合物；於所述有機過氧化物中組合N,N-二甲基苯胺、N,N-二甲基對甲苯胺等胺而成之氧化還原聚合起始劑等。其中較佳的是有機過氧化物或偶氮系化合物，更佳的是偶氮系化合物。
聚合起始劑之量相對於聚合性化合物100質量%而言較佳的是0.1質量%~10質量%。若聚合起始劑之量不足0.1質量%，則難以進行聚合。若聚合起始劑之量超過10質量%，則存在如下之現象：硬化膜著色，或機械強度降 低。
(其他成分)
活性能量線硬化性樹脂組成物亦可視需要包含非反應性聚合物、活性能量線溶膠-凝膠反應性組成物、靜電防止劑、用以提高防污性之氟化合物等添加劑、微粒子、少量之溶劑。
非反應性聚合物可列舉丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、聚胺基甲酸酯、纖維素系樹脂、聚乙烯丁醛、聚酯、熱塑性彈性體等。
活性能量線溶膠-凝膠反應性組成物可列舉烷氧基矽烷化合物、矽酸烷基酯化合物等。
烷氧基矽烷化合物可列舉四甲氧基矽烷、四異丙氧基矽烷、四正丙氧基矽烷、四正丁氧基矽烷、四第二丁氧基矽烷、四第三丁氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三丙氧基矽烷、甲基三丁氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、三甲基乙氧基矽烷、三甲基甲氧基矽烷、三甲基丙氧基矽烷、三甲基丁氧基矽烷等。
矽酸烷基酯化合物可列舉矽酸甲酯、矽酸乙酯、矽酸異丙酯、矽酸正丙酯、矽酸正丁酯、矽酸正戊酯、乙醯基矽酸酯等。
已知：作為表面具有微細凹凸結構的物品，若由疏水性材料而形成其表面，則由於蓮花效應而獲得超撥水性，若由親水性材料形成其表面，則獲得超親水性。
(疏水性材料)
為了使硬化樹脂層的微細凹凸結構之表面的水接觸角為90°以上，較佳的是使用含有含氟化合物或矽酮系化合物的組成物作為可形成疏水性材料之活性能量線硬化性樹脂組成物。
含氟化合物：含氟化合物可列舉含氟單體、含氟矽烷化合物、含氟界面活性劑、含氟聚合物等。
含氟單體可列舉經氟烷基取代之乙烯系單體、經氟烷基取代之開環聚合性單體等。
經氟烷基取代之乙烯系單體可列舉經氟烷基取代之(甲基)丙烯酸酯、經氟烷基取代之(甲基)丙烯醯胺、經氟烷基取代之乙烯醚、經氟烷基取代之苯乙烯等。
經氟烷基取代之開環聚合性單體可列舉經氟烷基取代之環氧化合物、經氟烷基取代之環氧丙烷化合物、經氟烷基取代之噁唑啉(oxazoline)化合物等。
含氟矽烷化合物可列舉3,3,3-三氟丙基三甲氧基矽烷、3,3,3-三氟丙基三乙醯氧基矽烷、二甲基-3,3,3-三氟丙基甲氧基矽烷、十三氟-1,1,2,2-四氫辛基三乙氧基矽烷等。
含氟界面活性劑可列舉含有氟烷基之陰離子系界面活性劑、含有氟烷基之陽離子系界面活性劑等。
含氟聚合物可列舉含有氟烷基之單體之聚合物、含有氟烷基之單體與含有聚(氧化烯)基之單體的共聚物、含有氟烷基之單體與含有交聯反應性基之單體的共聚物等。含氟聚合物亦可為與可共聚之其他單體的共聚物。
矽酮系化合物：矽酮系化合物可列舉(甲基)丙烯酸改性矽酮、矽酮樹脂、矽酮系矽烷偶合劑等。
(甲基)丙烯酸改性矽酮可列舉矽酮(二)(甲基)丙烯酸酯等，例如可較佳地使用信越化學工業公司製造之矽酮二丙烯酸酯「X-22-164」「X-22-1602」等。
(親水性材料)
為了使硬化樹脂層之微細凹凸結構之表面的水接觸角為25°以下，較佳的是使用至少含有親水性單體之組成物作為可形成親水性材料之活性能量線硬化性樹脂組成物。而且，自賦予耐擦傷性或耐水性之觀點考慮，更佳的是含有可交聯之多官能單體的組成物。另外，親水性單體與可交聯之多官能單體亦可相同(即，親水性多官能單體)。另外，活性能量線硬化性樹脂組成物亦可含有其他單體。
可形成親水性材料之活性能量線硬化性樹脂組成物更佳的是使用包含4官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯、2官能以上之親水性(甲基)丙烯酸酯、視需要之單官能單體的組成物。
4官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯可列舉二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯(ditrimethylol propane tetra(metha)acylate)、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇羥基五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、琥珀酸/三羥甲基乙烷/丙烯酸之莫耳比為1：2：4之縮合反應混合物、丙烯酸 胺基甲酸酯類(DAICEL-CYTEC Company,Ltd.製造：EBECRYL220、EBECRYL1290、EBECRYL1290K、EBECRYL5129、EBECRYL8210、EBECRYL8301、KRM8200)、聚醚丙烯酸酯類(DAICEL-CYTEC Company,Ltd.製造：EBECRYL81)、改性丙烯酸環氧酯類(DAICEL-CYTEC Company,Ltd.製造：EBECRYL3416)、聚酯丙烯酸酯類(DAICEL-CYTEC Company,Ltd.製造：EBECRYL450、EBECRYL657、EBECRYL800、EBECRYL810、EBECRYL811、EBECRYL812、EBECRYL1830、EBECRYL845、EBECRYL846、EBECRYL1870)等。該些化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
4官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯更佳的是5官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯。
4官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯之比例較佳的是於聚合性化合物100質量%中為40質量%~90質量%，自耐水性、耐化學品性之方面而言，更佳的是50質量%~90質量%，特佳的是60質量%~80質量%。若4官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯之比例為40質量%以上，則彈性模數變高而使耐擦傷性提高。若4官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯之比例為90質量%以下，則難以於表面產生小的龜裂，難以變得外觀不良。
2官能以上之親水性(甲基)丙烯酸酯可列舉ARONIX M-240、ARONIX M260(東亞合成公司製造)、NK Ester AT-20E、NK Ester ATM-35E(新中村化學工業公司製造)等具有長鏈聚乙二醇之多官能丙烯酸酯，聚乙二醇二甲基丙烯酸酯等。該些化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
於聚乙二醇二甲基丙烯酸酯中，於一分子內所存在之聚乙二醇鏈之平均重複單元之合計較佳的是6~40，更佳的是9~30，特佳的是12~20。若聚乙二醇鏈之平均重複單元為6以上，則親水性變充分，防污性提高。若聚乙二醇鏈之平均重複單元為40以下，則與4官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯之相溶性變良好，活性能量線硬化性樹脂組成物難以分離。
2官能以上之親水性(甲基)丙烯酸酯之比例較佳的是於聚合性化合物100質量%中為20質量%~80質量%，更佳的是25質量%~70質量%。若2官能以上之親水性(甲基)丙烯酸酯之比例為20質量%以上，則親水性變充分，防污性提高。若2官能以上之親水性(甲基)丙烯酸酯之比例為80質量%以下，則彈性模數變高而使耐擦傷性提高。
單官能單體較佳的是親水性單官能單體。
親水性單官能單體可列舉M-20G、M-90G、M-230G(新中村化學工業公司製造)等於酯基具有聚乙二醇鏈之單官能(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸羥基烷基酯等於酯基具有羥基之單官能(甲基)丙烯酸酯；單官能丙烯醯胺類；甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨甲基硫酸鹽、甲基丙烯醯氧基乙基三甲基銨甲基硫酸鹽等陽離子性單體類等。
而且，單官能單體亦可使用丙烯醯基嗎啉、乙烯基吡咯啶酮等黏度調整劑；使對物品本體之密接性提高的丙烯醯基異氰酸酯類等密接性提高劑等。
單官能單體之比例較佳的是於聚合性化合物100質量%中為0質量%~20質量%，更佳的是5質量%~15質量%。藉由使用單官能單體，可提高基材與硬化樹脂之密接性。若單官能單體之比例為20質量%以下，則並無4官能以上之多官能(甲基)丙烯酸酯或2官能以上之親水性(甲基)丙烯酸酯不足之現象，從而可充分地表現出防污性或耐擦傷性。
單官能單體亦可製成使1種或2種以上(共)聚合而成之低聚合度聚合物而以於聚合性化合物100質量%中為0質量%~35質量%之量調配於活性能量線硬化性樹脂組成物中。低聚合度聚合物可列舉M-230G(新中村化學工業公司製造)等於酯基具有聚乙二醇鏈之單官能(甲基)丙烯酸酯類、與甲基丙烯醯胺丙基三甲基銨甲基硫酸鹽之40/60共聚合寡聚物(MRC Unitec公司製造，MG聚合物)等。
(SP值)
SP值是藉由Fedors法而計算之溶解度參數[單位為(J/cm3 )1/2 ]，是藉由下式而表示之值。
SP值(δ)=(△H/V)1/2
式中，△H表示莫耳蒸發熱[J]，V表示莫耳體積[cm3 ]。而且，△H、V可各自使用「聚合物工程與科學(POLYMER ENGINEERING AND SCIENCE),1974,Vol.14,No.2,ROBERT F.FEDORS.(第151頁~第153頁)」中所記載之原子團之莫耳蒸發熱(△ei)之合計Σ△ei(=△H)、莫耳體積(△vi)之合計Σ△vi(V)，根據(Σ△ei/Σ△vi)1/2 求出。
內部脫模劑與模具脫模劑之SP值之差較佳的是2.0以下，更佳的是1.5以下。SP值之差越大，則相溶性越變低。於製造表面具有微細凹凸結構之物品時之初期，於模具表面，脫模劑緩緩地自模具脫模劑富集(rich)之狀態轉換為內部脫模劑富集之狀態。因此，若兩者之相溶性過低，則存在產生表面泛白等異常之可能性。
(製造裝置)
表面具有微細凹凸結構的物品例如可使用圖2所示之製造裝置，以如下之方式進行製造。
將活性能量線硬化性樹脂組成物38自貯槽22供給至表面具有微細凹凸結構(圖示略)之輥狀模具20、與和輥狀模具20之旋轉同步地沿輥狀模具20之表面移動之帶狀薄膜42(基材)之間。
於輥狀模具20、與藉由氣壓缸24而調整夾持壓之夾輥26之間，夾持薄膜42及活性能量線硬化性樹脂組成物38，使活性能量線硬化性樹脂組成物38均一地遍布於薄膜42與輥狀模具20之間，同時填充於輥狀模具20之微細凹 凸結構的凹部內。
自設置於輥狀模具20下方之活性能量線照射裝置28，通過薄膜42而對活性能量線硬化性樹脂組成物38照射活性能量線，使活性能量線硬化性樹脂組成物38硬化，藉此形成轉印了輥狀模具20之表面的微細凹凸結構的硬化樹脂層44。
利用剝離輥30將於表面形成有硬化樹脂層44之薄膜42自輥狀模具20剝離，藉此獲得如圖3所示之物品40。
活性能量線照射裝置28較佳的是高壓水銀燈、金屬鹵素燈、熔融燈等，於此情形時之光照射能量之量較佳的是100mJ/cm2 ~10000mJ/cm2 。
(物品)
圖3是表示表面具有微細凹凸結構的物品40之一例的截面圖。
薄膜42為透光性薄膜。薄膜之材料可列舉聚碳酸酯、聚苯乙烯系樹脂、聚酯、聚胺基甲酸酯、丙烯酸系樹脂、聚醚碸、聚碸、聚醚酮、纖維素系樹脂(三乙酸纖維素等)、聚烯烴、脂環族聚烯烴等。
硬化樹脂層44是包含活性能量線硬化性樹脂組成物之硬化物之膜，於表面具有微細凹凸結構。
於使用陽極氧化氧化鋁的模具之情形時，物品40之表面的微細凹凸結構是藉由轉印陽極氧化氧化鋁之表面的微細凹凸結構而形成的，具有包含活性能量線硬化性樹脂組成物之硬化物的多個凸部46。
微細凹凸結構較佳的是排列有多個略圓錐形狀、角錐形狀等突起(凸部)的所謂之蛾眼結構。已知突起間之間隔為可見光之波長以下的蛾眼結構，由於折射率自空氣之折射率連續地增大至材料之折射率，而成為有效之抗反射機構。
凸部間之平均間隔為可見光之波長以下、亦即400nm以下。於使用陽極氧化氧化鋁的模具而形成凸部之情形時，凸部間之平均間隔成為100nm~200nm左右，因此特佳的是250nm以下。
自凸部形成之容易性之方面考慮，凸部間之平均間隔較佳的是20nm以上。
凸部間之平均間隔是藉由電子顯微鏡觀察而測定50點鄰接之凸部間之間隔(自凸部之中心至鄰接之凸部之中心的距離)，將該些值加以平均而所得的值。
作為凸部之高度，於平均間隔為100nm之情形時，較佳的是80nm~500nm，更佳的是120nm~400nm，特佳的是150nm~300nm。若凸部之高度為80nm以上，則反射率充分變低，且反射率之波長相依性少。若凸部之高度為500nm以下，則凸部之耐擦傷性變良好。
凸部之高度是於藉由電子顯微鏡以30000倍之倍率進行觀察時，測定凸部之最頂部與存在於凸部間之凹部的最底部之間的距離而所得的值。
凸部之縱橫比(凸部之高度/凸部間之平均間隔)較佳的是0.8~5.0，更佳的是1.2~4.0，特佳的是1.5~3.0。若 凸部之縱橫比為1.0以上，則反射率充分變低。若凸部之縱橫比為5.0以下，則凸部之耐擦傷性變良好。
凸部之形狀較佳的是與高度方向正交之方向的凸部截面積自最表面向深度方向連續性增加的形狀，亦即凸部之高度方向之截面形狀為三角形、梯形、鐘形等形狀。
硬化樹脂層44之折射率與薄膜42之折射率之差較佳的是0.2以下，更佳的是0.1以下，特佳的是0.05以下。若折射率差為0.2以下，則硬化樹脂層44與薄膜42之界面的反射得到抑制。
已知於表面具有微細凹凸結構之情形時，若該表面由疏水性材料而形成則由於蓮花效應而獲得超撥水性。而且，若該表面由親水性材料而形成，則獲得超親水性。
硬化樹脂層44之材料為疏水性之情形時的微細凹凸結構之表面的水接觸角較佳的是90°以上，更佳的是110°以上，特佳的是120°以上。若水接觸角為90°以上，則變得難以附著水污，因此發揮出充分之防污性。而且，由於難以附著水，因此可期待防止結冰。
硬化樹脂層44之材料為親水性之情形時的微細凹凸結構之表面的水接觸角較佳的是25°以下，更佳的是23°以下，特佳的是21°以下。若水接觸角為25°以下，則附著於表面之污垢可用水沖洗去，且變得難以附著油污，因此發揮出充分之防污性。自抑制硬化樹脂層44由於吸水而造成微細凹凸結構變形、以及伴隨於此之反射率上升之方面考慮，該水接觸角較佳的是3°以上。
(用途)
物品40之用途可列舉抗反射物品、防霧性物品、防污性物品、撥水性物品，更具體而言可列舉顯示器用抗反射膜、時鐘字盤、觸控面板構件、污垢吸附構件、濕度控制構件、抗菌構件、衛生構件、汽車儀錶蓋、汽車鏡、汽車窗、有機或無機電致發光之光出射效率提高構件、太陽電池構件等。
(作用效果)
於以上所說明之本發明之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法中，活性能量線硬化性樹脂組成物含有內部脫模劑，因此即使轉印次數成為多次，亦可維持模具與硬化樹脂層之脫模性。而且，藉由作為模具脫模劑之(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物對模具之形成有微細凹凸結構之側的表面進行了包覆，因此不僅於將模具之微細凹凸結構轉印至物品表面之情形時，初始之脫模性變良好，而且於反覆轉印之情形時，亦可穩定地且生產性良好地製造表面具有微細凹凸結構的物品。
[實例]
以下，藉由實例對本發明加以具體之說明，但本發明並不限定於該些實例。
(磷酸濃度及pH之測定)
使1g模具脫模劑溶解於氯仿50mL中，於其中加入水50mL，於分液漏斗中對混合液進行劇烈攪拌(水萃取試驗)。
繼而，靜置一夜後分離為有機層與水層(水溶液)，使用離子層析儀(日本Dionex股份有限公司製造、「DX-500」)而測定水溶液中之磷酸濃度。
而且，使用pH試驗機(堀場製作所股份有限公司製造、「Customized LAB」)，於25℃之條件下測定水溶液之pH。
(模具溶解之減少率之測定)
將模具於50℃之模具脫模劑中浸漬22小時而進行浸漬試驗。
於浸漬試驗後，取出模具，使用丙酮、氯仿加以清洗。測定浸漬試驗前與清洗後之模具之質量，藉由下述式而求出減少率。
減少率(%)={(浸漬前之模具之質量-清洗後之模具之質量)/浸漬前之模具之質量}×100
(塗佈乾燥後之外觀確認)
調製模具脫模劑之0.1質量%異丙醇溶液作為脫模處理溶液。繼而，於模具上浸塗脫模處理溶液，觀察乾燥後的模具表面。
○：無滴液痕跡等，表面被均一塗佈。
×：發現滴液痕跡或泛白等。
(脫模劑之SP值)
用作模具脫模劑之磷酸酯化合物的SP值之計算可藉 由Fedors法而實施。
將以上之結果示於表1中。
(脫模性)
藉由1個模具反覆進行後述之轉印試驗，評價脫模時之剝離力及於模具表面之樹脂附著。剝離力可依據JIS Z0237中所記載之90°剝離法而進行測定，於剝離力大於30N/m之情形時將脫模性設為×。
○：剝離力小且可容易地脫模，且並未於模具上附著樹脂。
×：剝離力大或者發現於模具上附著有樹脂。
(轉印試驗)
於模具之形成有微細凹凸結構之側滴下10μL之活性能量線硬化性樹脂組成物，覆蓋聚對苯二甲酸乙二酯(以下記為PET)薄膜後，一面施加50N之負載，一面藉由UV照射機(高壓水銀燈，累計光量為1100mJ/cm2 )而進行硬化。繼而，將PET薄膜連同硬化樹脂層自模具上脫模，藉此而獲得於PET薄膜之表面轉印有微細凹凸結構的物品。
(水接觸角)
使用接觸角測定裝置(協和界面科學公司製造、DM301)，於物品之形成有微細凹凸結構之側的表面滴下1μL之水後，自滴下3秒後以1秒之間隔而測定5秒之水接觸角，求出平均值。進一步改變滴下水之位置而進行3次同樣之操作，算出共計3次之平均值。
(反射率光譜之穩定化次數)
對使物品之未形成微細凹凸結構之側的表面成為粗面後，進行消光而塗為黑色之樣品，使用分光光度計(日立製作所公司製造，U-4000)，於入射角為5°、波長為380nm~780nm之範圍測定硬化樹脂層之表面的反射率光譜。
通常已知：若微細凹凸結構之凹凸高度或凹凸之截面形狀變化，則微細凹凸結構之反射率光譜之形態變化。因此較佳的是轉印次數所造成之反射率光譜之變化小，藉由少的轉印次數而使反射率光譜穩定。
對於物品，改變測定點而測定3個位置之反射率光譜，算出其平均。根據轉印次數，將反射率光譜變得並不變化之次數作為反射率光譜之穩定化次數。
[調製例]
以相對於聚合性化合物100質量%而言為以下所示之比例將各成分加以混合，調製基質組成物A。
DPHA：二季戊四醇六丙烯酸酯(新中村化學工業公司製造、NK Ester A-DPH)；25質量%、PETA：季戊四醇三丙烯酸酯(第一工業製藥公司製造、New frontier PET-3)；25質量%、DPEA-12：EO改性二季戊四醇六丙烯酸酯(日本化藥公司製造、KAYARAD DPEA-12)；25質量%、PEGDA-14EO：聚乙二醇二丙烯酸酯(新中村化學工業公司製造、NK Ester A-600)；25質量%、IRGACURE 184：1-羥基環己基苯基酮(BASF公司製 造、IRGACURE 184)；1.0質量%、IRGACURE 819：雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基氧化膦(BASF公司製造、IRGACURE 819)；0.5質量%。
[製造例]
準備將50mm×50mm×厚0.3mm之鋁板(純度99.99%)於過氯酸/乙醇混合溶液(1/4體積比)中進行電解研磨而成者。
步驟(a)：關於該鋁板，於0.3M草酸水溶液中，於直流40V、溫度16℃之條件下進行6小時之陽極氧化。
步驟(b)：將形成有氧化皮膜之鋁板於6質量%磷酸/1.8質量%鉻酸混合水溶液中浸漬3小時，除去氧化皮膜。
步驟(c)：關於該鋁板，於0.3M草酸水溶液中，於直流40V、溫度16℃之條件下進行30秒之陽極氧化。
步驟(d)：將形成有氧化皮膜之鋁板，於32℃之5質量%磷酸水溶液中浸漬8分鐘，進行細孔徑擴大處理。
步驟(e)：關於該鋁板，於0.3M草酸水溶液中，於直流40V、溫度16℃之條件下進行30秒之陽極氧化。
步驟(f)：反覆進行所述步驟(d)及步驟(e)合計5次，獲得 於表面形成有陽極氧化氧化鋁的模具a，所述陽極氧化氧化鋁具有細孔之平均間隔(週期)為100nm、深度為230nm之略圓錐形狀的細孔。
步驟(g)：使用噴水器將模具a之表面的磷酸水溶液輕輕沖洗去，然後將模具a浸漬於流水中10分鐘。
步驟(h)：自氣槍(air gun)對模具a吹空氣，除去附著於模具a之表面的水滴。
[實例1]
於基質組成物A中，以相對於聚合性化合物100質量%而言內部脫模劑成為0.1質量%之方式而添加作為內部脫模劑的TDP-2(日光化學公司製造、式(1)之R1 =碳數為12~15之烷基、R2 =碳數為2之伸烷基、n=2~3、m=2)，完成活性能量線硬化性樹脂組成物。
將TDP-2(日光化學公司製造)作為模具脫模劑而溶解於異丙醇中，調製模具脫模劑之濃度為0.1質量%之脫模處理溶液。
將模具a於脫模處理溶液中浸漬10分鐘後，緩緩拉出，靜置6小時以上而使脫模處理溶液乾燥。
使用活性能量線硬化性樹脂組成物而進行所述轉印試驗，評價脫模性。而且，對於所得之物品，測定水接觸角、反射率光譜之穩定化次數。將結果示於表2中。
[實例2]
於基質組成物A中，以相對於聚合性化合物100質量%而言內部脫模劑成為0.5質量%之方式添加作為內部脫模劑的TDP-2(Nikko Chemicals Co.,Ltd.製造)，完成活性能量線硬化性樹脂組成物。
將TDP-2(Nikko Chemicals Co.,Ltd.製造)作為模具脫模劑而溶解於異丙醇中，調製模具脫模劑之濃度為0.02質量%之脫模處理溶液。
以後與實例1同樣地進行模具之脫模處理，與實例1同樣地進行評價。將評價結果示於表2中。
[實例3]
於基質組成物A中，以相對於聚合性化合物100質量%而言內部脫模劑成為0.02質量%之方式添加作為內部脫模劑的TDP-2(日光化學公司製造)，完成活性能量線硬化性樹脂組成物。
將TDP-2(日光化學公司製造)作為模具脫模劑而溶解於異丙醇中，調製模具脫模劑之濃度為1.0質量%之脫模處理溶液。
以後與實例1同樣地進行模具之脫模處理，與實例1同樣地進行評價。將評價結果示於表2中。
[實例4]
於基質組成物A中，以相對於聚合性化合物100質量%而言內部脫模劑成為0.1質量%之方式添加作為內部脫模劑的TDP-2(日光化學公司製造)，完成活性能量線硬化性樹脂組成物。
將TDP-8(日光化學公司製造、式(1)之R1 =碳數為12~15之烷基、R2 =碳數為2之伸烷基、n=2~3、m=8)作為模具脫模劑而溶解於水中，調製模具脫模劑之濃度為0.1質量%的脫模處理溶液。
以後與實例1同樣地進行模具之脫模處理，與實例1同樣地進行評價。將評價結果示於表2中。
[實例5]
於基質組成物A中，以相對於聚合性化合物100質量%而言內部脫模劑成為0.02質量%之方式添加作為內部脫模劑的TDP-2(日光化學公司製造)，完成活性能量線硬化性樹脂組成物。
將TDP-8(日光化學公司製造)作為模具脫模劑而溶解於水中，調製模具脫模劑之濃度為0.02質量%的脫模處理溶液。
以後與實例1同樣地進行模具之脫模處理，與實例1同樣地進行評價。將評價結果示於表2中。
[實例6]
於基質組成物A中，以相對於聚合性化合物100質量%而言內部脫模劑成為0.5質量%之方式添加作為內部脫模劑之TDP-2(日光化學公司製造)，完成活性能量線硬化性樹脂組成物。
將TDP-8(日光化學公司製造)作為模具脫模劑而溶解於水中，調製模具脫模劑之濃度為1.0質量%的脫模處理溶液。
以後與實例1同樣地進行模具之脫模處理，與實例1同樣地進行評價。將評價結果示於表2中。
[實例7]
於基質組成物A中，以相對於聚合性化合物100質量%而言內部脫模劑成為0.1質量%之方式添加作為內部脫模劑之TDP-8(日光化學公司製造)，完成活性能量線硬化性樹脂組成物。
將TDP-8(日光化學公司製造)作為模具脫模劑而溶解於水中，調製模具脫模劑之濃度為0.1質量%的脫模處理溶液。
以後與實例1同樣地進行模具之脫模處理，與實例1同樣地進行評價。將評價結果示於表2中。
[實例8]
於基質組成物A中，以相對於聚合性化合物100質量%而言內部脫模劑成為0.02質量%之方式添加作為內部脫模劑之TDP-8(日光化學公司製造)，完成活性能量線硬化性樹脂組成物。
將TDP-8(日光化學公司製造)作為模具脫模劑而溶解於水中，調製模具脫模劑之濃度為0.02質量%之脫模處理溶液。
以後與實例1同樣地進行模具之脫模處理，與實例1同樣地進行評價。將評價結果示於表2中。
[實例9]
於基質組成物A中，以相對於聚合性化合物100質量 %而言內部脫模劑成為0.5質量%之方式添加作為內部脫模劑之TDP-8(日光化學公司製造)，完成活性能量線硬化性樹脂組成物。
將TDP-8(日光化學公司製造)作為模具脫模劑而溶解於水中，調製模具脫模劑之濃度為1.0質量%之脫模處理溶液。
以後與實例1同樣地進行模具之脫模處理，與實例1同樣地進行評價。將評價結果示於表2中。
[比較例1]
除了未進行模具之脫模處理以外，與實例1同樣地進行評價。於第1次轉印中產生脫模不良，未能獲得可進行評價之物品。將評價結果示於表3中。
[比較例2]
除了於基質組成物A中未添加內部脫模劑以外，與實例1同樣地進行評價。可進行第1次轉印，但於第5次轉印中產生脫模不良，可知連續轉印性差。將評價結果示於表3中。
[比較例3]
將0.1質量%之作為模具脫模劑之含氟矽烷化合物OPTOOL DSX(大金工業公司製造)溶解於全氟聚醚系溶劑OPTOOL HD-ZV(大金工業公司製造)中而調製脫模處理溶液。
以後與實例1同樣地進行模具之脫模處理，與實例1同樣地進行評價。將評價結果示於表3中。
雖然關於脫模性並無問題，但模具之轉印有微細凹凸結構之薄膜的表面由於OPTOOL DSX之影響而接觸角高，即使於100次轉印之時間點亦為接觸角緩緩地降低之途中。而且，關於反射率光譜亦是緩緩地持續變化，於100次轉印之時間點亦繼續變化。
如上所述，於實例1~實例9中，使用包含(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物作為內部脫模劑之活性能量線硬化性樹脂組成物，且使用包含(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物作為模具脫模劑之脫模處理溶液而進行脫模處理，可實現良好之脫模性，且可由少的轉印次數而獲得具有穩定之表面特性及光學特性的物品。
[產業上之可利用性]
本發明之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法可用以有效率地量產抗反射物品、防霧性物品、防污性物品、撥水性物品。
10‧‧‧鋁基材
12‧‧‧細孔
14‧‧‧氧化皮膜(陽極氧化氧化鋁)
16‧‧‧細孔產生點
18‧‧‧模具
20‧‧‧輥狀模具
22‧‧‧貯槽
24‧‧‧氣壓缸
26‧‧‧夾輥
28‧‧‧活性能量線照射裝置
30‧‧‧剝離輥
38‧‧‧活性能量線硬化性樹脂組成物
40‧‧‧物品
42‧‧‧薄膜(基材)
44‧‧‧硬化樹脂層
46‧‧‧凸部
圖1(a)至圖1(g)是表示於表面具有陽極氧化氧化鋁之模具的製造步驟之截面圖。
圖2是表示表面具有微細凹凸結構的物品之製造裝置之一例的構成圖。
圖3是表示表面具有微細凹凸結構的物品之一例的截面圖。
20‧‧‧輥狀模具
22‧‧‧貯槽
24‧‧‧氣壓缸
26‧‧‧夾輥
28‧‧‧活性能量線照射裝置
30‧‧‧剝離輥
38‧‧‧活性能量線硬化性樹脂組成物
40‧‧‧物品
42‧‧‧薄膜(基材)
44‧‧‧硬化樹脂層

Claims (8)

  1. 一種表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其包含下述步驟(I)及步驟(II)：(I)藉由包含模具脫模劑之脫模處理溶液，對表面具有包含陽極氧化氧化鋁之微細凹凸結構的模具表面進行包覆的步驟，所述模具脫模劑包含1種以上磷酸酯化合物，每1g所述模具脫模劑的藉由50mL水進行萃取時的水溶液之pH為3.0以上；以及(II)於步驟(I)之後，將包含聚合性化合物、聚合起始劑與內部脫模劑之活性能量線硬化性樹脂組成物夾持於所述模具與基材之間，對其照射活性能量線而使其硬化，於所述基材之表面形成轉印有所述微細凹凸結構之硬化樹脂層，獲得表面具有微細凹凸結構的物品的步驟。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中所述模具脫模劑是(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中所述脫模處理溶液是所述模具脫模劑之0.01質量%~2.0質量%之水溶液。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中所述活性能量線硬化性樹脂組成物包含(聚)氧化烯烷基磷酸酯化合物作為所述內部脫模劑。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之表面具有微細凹凸結 構的物品的製造方法，其中藉由50mL之水對1g所述內部脫模劑進行萃取時的水溶液之pH為3.0以上。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中所述模具脫模劑與所述內部脫模劑相同。
  7. 如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其中所述模具脫模劑與所述內部脫模劑之SP值之差為2.0以下。
  8. 一種表面具有微細凹凸結構的物品的製造方法，其包含下述步驟(I)及步驟(II)：(I)藉由包含模具脫模劑之脫模處理溶液，對表面具有包含陽極氧化氧化鋁之微細凹凸結構的模具表面進行包覆的步驟；以及(II)於步驟(I)之後，將包含聚合性化合物、聚合起始劑與內部脫模劑之活性能量線硬化性樹脂組成物夾持於所述模具與基材之間，對其照射活性能量線而使其硬化，於所述基材之表面形成轉印有所述微細凹凸結構之硬化樹脂層，獲得表面具有微細凹凸結構的物品的步驟，所述模具脫模劑與所述內部脫模劑之SP值之差為2.0以下。
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