TWI461362B - Production method of difluorinated carbonyl group - Google Patents

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Description

二氟化羰基之製造方法
本發明關於作為半導體用蝕刻氣體、半導體用清洗氣體等受到注目的二氟化羰基之製造方法。
二氟化羰基係作為半導體用蝕刻氣體或半導體用清洗氣體受到注目的重要化合物。以往，作為此二氟化羰基之製造方法，例如已知以下專利文獻中記載的方法。
(1)國際公開第05-56472之號手冊(專利文獻1)中記載將作為稀釋氣體的氟化氫或二氟化羰基以及一氧化碳與氟氣，連續地供應到反應容器內而使反應，以製造二氟化羰基之方法。
(2)特開2004-262679號公報(專利文獻2)中記載具有以下第一步驟及第二步驟的二氟化羰基之製造方法。
第一步驟：使光氣(COCl2 )與氟化氫反應，而生成二氟化羰基、氯氟羰基(COClF)及氯化氫的混合物，由此混合物中藉由蒸餾去除二氟化羰基及氯化氫，以生成氯氟羰基的步驟，第二步驟：由第一步驟所得之氯氟羰基的不均化反應所得之反應混合物中，去除光氣與氯氟羰基，回收二氟化羰基的步驟，
(3)日本發明專利案3707917號公報(專利文獻3)中記載藉由使二氧化碳與氟氣以氣體狀反應，而製造二氟化羰基的方法。
(4)特開2003-146620號公報(專利文獻4)中記載二氟化羰基之製造方法，其特徵為：在藉由一氧化碳與金屬氟化物(MFx：M例如表示Co(x=2)、Ce(x=4)等)的反應而製造二氟化羰基的方法中，於同一反應容器內，交互地重複進行使一氧化碳與金屬氟化物反應的步驟、與使金屬氟化物與氟反應的步驟。
(5)美國專利第2,836,622號說明書(專利文獻5)中記載含有以下步驟的二氟化羰基之製造方法。
(i)於活性碳觸媒等的存在下，使光氣與氟化氫在50℃以上的反應溫度反應，而得到含有二氟化羰基及氯化氫的反應生成物之步驟，
(ii)對於此反應生成物中所含有的氯化氫及未反應的氟化氫，於0℃以上的溫度條件下，使該氯化氫及氟化氫接觸化學計算量的無機化合物(鹼金屬氟化物、三氧化硫等)，直到該氯化氫及氟化氫被實質上完全吸收為止之步驟。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1：國際公開第05-56472號手冊
專利文獻2：特開2004-262679號公報
專利文獻3：特許第3707917號公報
專利文獻4：特開2003-146620號公報
專利文獻5：美國專利第2,836,622號說明書
然而，上述(1)～(5)的二氟化羰基之製造方法在以下之點依然有改善的餘地。
(1)的製造方法，由於在高溫進行反應，故生成四氟甲烷當作副產物，由於分離精製變困難，或二氟化羰基的收率降低，在工業上具有問題。
(2)的製造方法係具有2個步驟。此由於目的物之二氟化羰基與副產物的氯化氫具有極近似的沸點，故通常的蒸餾在分離上係困難。於此方法中，在分離精製操作變困難、或二氟化羰基的收率降低之點，具有工業的問題。
(3)的製造方法，由於原料的二氧化碳與二氟化羰基具有極近似的沸點，通常的蒸餾在分離上係困難，而且二氟化羰基的收率低，且由於使用高價的氟氣，具有製造成本的增大等之工業問題。
(4)的製造方，由於交互地重複使一氧化碳與金屬氟化物反應的步驟、及使金屬氟化物與氟反應(再氟化)的步驟，故具有設備費用等的增大或再氟化時的氟損失等之問題，具有經濟問題。
(5)的方法，係使藉由光氣與氟化氫的反應所生成的氯化氫或未反應的氟化氫接觸無機化合物(鹼金屬氟化物、三氧化硫等)而去除的方法，惟具有大量使用此無機化合物或無法再利用高價的氟化氫等之經濟問題。
本發明係要解決如上述的先前技術所伴隨的問題者，其目的為提供高效率、簡便且廉價地製造作為半導體用蝕刻氣體或半導體用清洗氣體受到注目的重要化合物之二氟化羰基(COF2 )的方法。
本發明者測定二氟化羰基與氯化氫的氣液平衡(x-y線圖)，結果二氟化羰基與氯化氫的混合物係形成共沸混合物或假共沸混合物，在全區域沸點曲線係接近。如此地，亦瞭解混合物係共沸混合物，當混合物的相對揮發度大致接近1之值時，即便使用通常的蒸餾操作(蒸餾塔)，也非常難以由如此混合物中分離出二氟化羰基與氯化氫。
因此，本發明者們重複專心致力的檢討，結果發現藉由於含有二氟化羰基與氯化氫的混合物中，添加溶劑(夾帶劑)，使混合物的相對揮發度產生變化，或使此混合物的氣液平衡關係自原系統變化，經由共沸蒸餾或萃取蒸餾，可有效率地自含有二氟化羰基與氯化氫的混合物分離出二氟化羰基與氯化氫。
而且，本發明者們發現使光氣與氟化氫在氟化觸媒的存在下以氣相反應而生成二氟化羰基與氯化氫，將沸點非常近似的二氟化羰基和氯化氫的混合物、與和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑混合，將此等蒸餾以分離二氟化羰基之方法，終於完成本發明。
即，本發明關於以下[1]～[13]。
[1]一種二氟化羰基之製造方法，其特徵為具有：使光氣與氟化氫在氟化觸媒的存在下以氣相反應而生成二氟化羰基與氯化氫之步驟，及將含有前述二氟化羰基和前述氯化氫的混合物、與和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑混合，將此等蒸餾以分離二氟化羰基之步驟。
[2]如[1]記載的二氟化羰基之製造方法，其中包含以下步驟(1)～(3)，步驟(1)：使光氣與氟化氫在氟化觸媒的存在下以氣相反應而生成含有二氟化羰基及氯化氫的混合物A之步驟，步驟(2)：混合前述混合物A、與和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑，以調製混合物B之步驟，步驟(3)：將前述混合物B蒸餾以分離二氟化羰基之步驟。
[3]如[1]記載的二氟化羰基之製造方法，其中包含以下步驟(1' )～(3' )，步驟(1' )：使光氣與氟化氫在氟化觸媒的存在下以氣相反應而生成含有二氟化羰基及氯化氫的混合物A，將前述混合物A蒸餾以生成含有二氟化羰基及氯化氫的混合物A' 之步驟，步驟(2' )：混合前述混合物A' 、與和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑，以調製混合物B' 之步驟，步驟(3' )：將前述混合物B' 蒸餾以分離二氟化羰基之步驟。
[4]如[1]～[3]中任一項記載的二氟化羰基之製造方法，其中前述有機溶劑係從醚類、氫氟化碳類及全氟化碳類所組成族群所選出的至少1種。
[5]如[4]記載的二氟化羰基之製造方法，其中前述醚類係二甲基醚。
[6]如[4]記載的二氟化羰基之製造方法，其中前述氫氟化碳類係從氟甲烷、三氟甲烷、五氟乙烷所選出的至少1種。
[7]如[4]記載的二氟化羰基之製造方法，其中前述全氟化碳類係六氟乙烷。
[8]如[1]～[3]中任一項記載的二氟化羰基之製造方法，其中前述氟化觸媒係擔持型觸媒或塊狀型觸媒，其含有含從In、Zn、Ni、Co、Mg、Cr、Cu、Mn、V、Fe及Bi所組成族群所選出的至少1種元素之觸媒成分。
[9]如[8]記載的二氟化羰基之製造方法，其中前述氟化觸媒係經活性氧化鋁所擔持的擔持型觸媒，該活性氧化鋁具有下述特性(1)～(5)，
(1)活性氧化鋁的中心細孔徑為50～400；
(2)在活性氧化鋁的中心徑±50%具有分布的孔係佔70%以上；
(3)活性氧化鋁的細孔之孔容積為0.5～1.6ml/g；
(4)活性氧化鋁的純度為99.9質量%以上；
(5)活性氧化鋁中所含有的鈉含量為100質量ppm以下。
[10]如[8]記載的二氟化羰基之製造方法，其中前述氟化觸媒係經活性碳所擔持的擔持型觸媒。
[11]如[1]～[3]中任一項記載的二氟化羰基之製造方法，其中更包含使所製造的二氟化羰基接觸沸石之步驟(4)。
[12]如[11]記載的二氟化羰基之製造方法，其中前述沸石係從分子篩3A、分子篩4A及分子篩5A所組成族群所選出的至少1種。
[13]一種共沸混合物，其特徵為含有和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑、氯化氫及二氟化羰基。
依照本發明之製造方法，可高效率、簡便且廉價地製造目的物之二氟化羰基(COF2 )。
實施發明的形態
以下具體說明本發明的二氟化羰基之製造方法。本發明的二氟化羰基之製造方法的特徵為具有：使光氣與氟化氫在氟化觸媒的存在下以氣相反應而生成二氟化羰基與氯化氫之步驟，及將含有前述二氟化羰基和前述氯化氫的混合物、與和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑混合，將此等蒸餾以分離二氟化羰基之步驟；例如，具有以下步驟(1)～(3)或步驟(1' )～(3' )。
1.步驟(1)
步驟(1)係使光氣與氟化氫(HF)在氟化觸媒的存在下以氣相反應而生成含有二氟化羰基及氯化氫的混合物A之步驟。表示由此光氣與氟化氫得到二氟化羰基與氯化氫的反應之化學反應式係如以下所示。
COCl2 +2HF→COF2 +2HCl　(1)
起始原料的光氣(COCl2 )例如是如特表2002-542137號公報所揭示地，在作為觸媒的鹵化金屬之存在下，使氯與一氧化碳反應而製造。
(1)氟化觸媒
藉由使用氟化觸媒，可在氣相使光氣與氟化氫反應。
氟化觸媒較佳為含有含從In、Zn、Ni、Co、Mg、Cr、Cu、Mn、V、Fe及Bi所組成族群所選出的至少1種元素之觸媒成分。又，含有如此元素的觸媒成分，例如較佳為金屬氟化物或鹵化金屬。
又，氟化觸媒可為擔持型觸媒，也可為塊狀型觸媒，但較佳為擔持型觸媒。
當氟化觸媒為擔持型觸媒時，擔持觸媒成分的載體較佳為活性碳或活性氧化鋁。
當使用活性碳作為氟化觸媒的載體時，作為活性碳，可適當選擇一般市售的活性碳，但若考慮二氟化羰基為非常容易水解的物質，則較佳為選擇儘可能不含有水分或羥基的活性碳。
又，當以活性碳作為載體時，若顯示作為擔持型氟化觸媒的製法之一例，可藉由使活性碳含浸氯化鉻水溶液，以使氯化鉻水溶液吸附於活性碳後，將吸附有氯化鉻水溶液的活性碳乾燥，在氮氣流通下煅燒而製造。而且，如此所調製的氟化觸媒，在使用於反應的前段，較佳為經由氟化氫處理等而被活性化。
當以活性氧化鋁作為載體時，作為擔持型氟化觸媒的製法，可採用一般的方法，若顯示一例，可藉由使活性氧化鋁含浸氯化鉻水溶液，以使氯化鉻水溶液吸附於活性氧化鋁後，將吸附有氯化鉻水溶液的活性氧化鋁乾燥，在空氣流通下煅燒而製造。而且，如此所調製的氟化觸媒，係與使用活性碳當作載體的情況同樣地，在使用於反應的前段，較佳為經由氟化氫處理等而被活性化。
用作為載體的活性氧化鋁，較佳係滿足以下(1)～(5)的條件。
(1)活性氧化鋁的中心細孔徑為50～400；
(2)在活性氧化鋁的中心徑±50%具有分布的孔係佔70%以上；
(3)活性氧化鋁的細孔之孔容積為0.5～1.6ml/g；
(4)活性氧化鋁的純度為99.9質量%以上；
(5)活性氧化鋁中所含有的鈉含量為100質量ppm以下。
活性氧化鋁的中心細孔徑，例如可藉由能測定35～177μm的細孔直徑之50000psi的Hg-孔度計來測定。此中心細孔經較佳為50～400。中心細孔徑未達50的活性氧化鋁在工業上亦難以得到，用作為觸媒載體時得不到充分的活性，在觸媒壽命之點係不安的。又，中心細孔徑超過400的活性氧化鋁，當用作為觸媒載體時，有得不到充分的觸媒活性之傾向。
再者，可藉由溶膠-凝膠/油滴下法(類似於後述的(e)法)等，調製球狀溶膠的化學性質和形狀，或變化溶膠-凝膠的化學操作，可任意地調整所生成的活性氧化鋁之鬆密度、比表面積、細孔容積、細孔徑及細孔分布。
鈉、矽若作為氧化物存在於觸媒中，考慮由於活性阻礙物質或無水氟酸所致的氟化矽之生成、異構化反應或不均化反應的促進，而阻礙二氟化羰基的生成反應，活性氧化鋁中的鈉含量較佳為100質量ppm以下，更佳為儘可能地少。又，矽含量較佳為未達300質量ppm，更佳為儘可能地少。又，活性氧化鋁純度較佳為99.9質量%以上。
作為活性氧化鋁的種類，例如可舉出若以X射線繞射測定，非晶質(無定形)部分多，結晶化不太進行的勃姆石或假勃姆石，於此等的燒成品之中，亦可舉出κ、θ、δ、η、χ、ρ等的中間氧化鋁。
作為氟化觸媒的載體，常用γ或η-氧化鋁。再者，於活性氧化鋁中，當γ、η的兩相存在時，將該活性氧化鋁稱為r/η氧化鋁，藉由X射線繞射也無法區別γ/η氧化鋁中的γ相氧化鋁與η相氧化鋁。
又，活性氧化鋁通常係藉由氧化鋁水合物的熱分解而製造，具體地在經控制的條件下，加熱氧化鋁水合物，去除氧化鋁水合物中所含有的大部分之水來製造。
活性氧化鋁係以氧化鋁水合物、氫氧化鋁、氫氧化鋁水合物、鋁鹽、鋁酸鹼、烷氧化鋁、金屬鋁等作為原料。作為使用此等原料工業實施的活性氧化鋁之製造方法，可舉出以下(a)～(g)。
(a)將三水鋁礦、勃姆石、硬水鋁石等的天然礦石中所含有氧化鋁水合物(Al2 O3 ‧H2 O或AlOOH)加熱脫水之方法
(b)將由鋁酸納水溶液與硫酸鋁水溶液之反應所得的氧化鋁水合物(凝膠)脫水之方法
(c)將由鋁酸納水溶液與碳酸氣(二氧化碳)之反應所得的氧化鋁水合物(凝膠)脫水之方法
(d)將由鋁酸鈉粉末與二氧化硫氣之反應所得的氧化鋁水合物(凝膠)脫水之方法
(e)將於鋁鹽(例如硫酸鋁、硝酸鋁、氯化鋁)的水溶液中添加含有氨、鹼金屬的氫氧化物、碳酸鹽的任何者之水溶液而得的氧化鋁水合物脫水之方法
(f)將於鋁鹽(例如硫酸鋁、硝酸鋁、氯化鋁)中添加尿素且進行加熱而得之水和氧化鋁(均一沈澱法)脫水之方法
(g)將於硫酸鋁中添加碳酸鹽使生成鹼式硫酸鋁(一種氧化鋁水溶膠)而得的氧化鋁水溶膠脫水之方法
(h)將鋁鹽加熱分解之方法
(I)將異丙氧化鋁加熱分解之方法
活性氧化鋁的原料之氧化鋁水合物係由三水鋁礦、勃姆石、硬水鋁石所得，亦可藉由從鋁土礦製造氧化鋁水合物的拜耳法來獲得。
又，作為拜耳法所代表的氧化鋁水合物之製造法，例如可舉出由氧化鋁凝膠來調製氧化鋁水合物之方法。於此方法中，取決於溫度、pH、時間、原料濃度等的條件，所得之氧化鋁水合物係單一的氧化鋁水合物或含複數種的氧化鋁水合物之混合物。而且，此混合物中的複數種之氧化鋁水合物，隨著在各自不同的氧化鋁相分解，氧化鋁的細孔構造、比表面積及物性亦變化。
再者，將藉由拜耳法所得之氧化鋁3水合物熱處理而得之活性氧化鋁，從容易取得之點來看係較宜。
此氧化鋁3水合物的熱處理例如係在空氣氣流中，於約400℃對含有氧化鋁3水合物的三水鋁礦進行。藉由此熱處理，可從氧化鋁3水合物來製造活性化氧化鋁。
再者，根據X射線繞射，此活性氧化鋁係含有少量勃姆石的γ/η-氧化鋁，典型地具有以下的特徵。而且，於此調整法所得之活性氧化鋁中，將所含有Na2 O之含量減低到0.05%以下係困難。
‧比表面積約250m2 /g。
‧用50000psi(測定35～177μm的細孔直徑)之Hg-孔度計所測定的細孔直徑係具有35～10μm的寬細孔分布，細孔直徑35以下的細孔亦相當多存在。
‧細孔直徑35以下的小細孔之形狀係圓筒狀、球狀等的空孔。
‧於活性氧化鋁中，微量成分包含約0.9質量%的Na2 O及數百質量ppm的SiO2 和Fe2 O3 。
又，活性氧化鋁亦可將藉由拜耳法所得之氧化鋁水合物例如在400～800℃加熱處理、急速活性化而得。
由於在此加熱處理的過程中勃姆石生成及分解物生成係顯著減少，此活性氧化鋁的γ/η-氧化鋁型式係弱，為接近非晶質的氧化鋁。再者，藉由將此氧化鋁凝聚或再水合，可得到具有球狀等各種形態的活性氧化鋁。與凝聚或再水合前的活性氧化鋁相比，此活性氧化鋁在雛晶及細孔徑方面係小。又，此活性氧化鋁的比表面積為300～350m2 /g。
以氧化鋁凝膠當作起始原料時(前述(b)～(d)法)，將氧化鋁凝膠的沈澱物水洗，完全除水而調製氧化鋁餅時，依照X射線繞射分析，此氧化鋁餅中含有假勃姆石型氧化鋁。工業上，將此餅乾燥粉碎擠出而成為的圓柱狀，或噴霧乾燥而成為50左右的球狀微粒子之球或丸粒，在成型後，將所成型的餅熱處理而活性化，以生成活性氧化鋁。根據X射線繞射，此活性氧化鋁包含接近非晶質的γ/η-氧化鋁，含有當作微量成分的少量SiO2 。再者，於此方法中，雖然可製造具有各種構造的氧化鋁凝膠，但是此等氧化鋁凝膠具有300～600m2 /g的比表面積，具有許多細孔。
如此的活性氧化鋁典型上具有以下的特徵。
‧細孔容積為0.3～0.8ml/g
‧比表面積為150～350m2 /g
‧平均細孔徑為40～150程度
‧細孔徑40～500的活性氧化鋁之分布係約20%左右
類似於上述(g)法，亦較佳為將三烷基鋁分解成鋁水合物，接著煅燒此氧化鋁水合物，以得到活性氧化鋁之γ-氧化鋁。若將此γ-氧化鋁加壓或擠出而成型為丸粒形狀，則可得到純度比天然產出的氧化鋁還高，細孔徑一致的細孔分布小之活性氧化鋁。
又，適宜地選擇商業上可取得，中心細孔徑為50～400，在中心徑±50%具有分布的孔佔70%以上，細孔的孔容積為0.5～1.6ml/g的範圍之活性氧化鋁，亦可作為氟化觸媒的載體。
考慮對於氟化觸媒的反應器內的填充或取出等的操作便利性，作為載體所用的活性氧化鋁之最大直徑較佳為20mm以下，更佳為數mm左右。又，基於同樣的理由，活性氧化鋁的形狀較佳為粒狀、珠狀或擠壓成型品的形狀。
(2)反應條件
當係用前述活性氧化鋁的擔持型觸媒或用活性碳的擔持型觸媒時，步驟(1)的反應溫度較佳為100～350℃，更佳為130～250℃。在比上述範圍還低的溫度，光氣的反應速度有變慢的傾向。在比上述範圍還高的溫度，有發生副反應(尤其二氧化碳的副生成)或觸媒的活性降低之傾向。
又，每單位時間所供給的氟化氫之供給量，相對於1莫耳的光氣而言，較佳為2倍莫耳以上，若為如此的莫耳比，則反應係圓滑地進行。
2.步驟(2)
步驟(2)係混合前述混合物A、與和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑，以調製混合物B之步驟。
又，前述混合氣體A中所含有的氯化氫及二氟化羰基，從可均勻且有效率地與前述有機溶劑混合之觀點來看，較佳為在步驟(1)中生成氣體狀的前述混合物(A)，使此氣體狀的混合物(A)液化後，在步驟(2)中，混合液狀的混合物A與有機溶劑，以調製液狀的混合物B。
作為使氣體狀的混合物(A)液化之方法，可舉出藉由使用習知的手段，將氣體狀混合物(A)冷卻，而使氣體狀混合物(A)液化之方法。
作為和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑，較佳為從醚類、氫氟化碳類及全氟化碳類所組成族群所選出的至少1種。
作為如此的醚類，例如較佳為甲醚。
又，作為氫氟化碳類，例如較佳為氟甲烷、三氟甲烷、五氟乙烷。
而且，作為全氟化碳類，例如較佳為六氟乙烷。
例如，若使用二甲基醚當作上述有機溶劑，用奧斯默(Othmer)式氣液平衡測定器來測定二氟化羰基與二甲基醚的氣液平衡，可知共沸關係不存在，於此情況下，全組成範圍中的二氟化羰基與二甲基醚之分離係可能。
另一方面，若用奧斯默式氣液平衡測定器來測定氯化氫與二甲基醚的氣液平衡，可知在二甲基醚(質量)/氯化氫(質量)=56/44的混合比中，最高共沸點係存在。如此地，利用二氟化羰基與二甲基醚沒有共沸關係存在，氯化氫與二甲基醚有共沸關係存在，可藉由共沸蒸餾及萃取蒸餾，由步驟(1)所得之二氟化羰基與氯化氫所成的混合物，分離二氟化羰基與氯化氫。
同樣地，若使用六氟乙烷當作上述有機溶劑，用奧斯默式氣液平衡測定器來測定二氟化羰基與六氟乙烷的氣液平衡，可知共沸關係不存在，於此情況下，全組成範圍中的二氟化羰基與六氟乙烷之分離係可能。
另一方面，若用奧斯默式氣液平衡測定器來測定氯化氫與六氟乙烷的氣液平衡，可知在六氟乙烷(質量)/氯化氫(質量)=68/32的混合比中，最低共沸點係存在。即，利用二氟化羰基與六氟乙烷沒有共沸關係存在，氯化氫與六氟乙烷有共沸關係存在，可藉由後述的共沸蒸餾或萃取蒸餾來分離氯化氫與六氟乙烷。
3.步驟(3)
步驟(3)係將步驟(2)所調製的混合物B蒸餾以分離二氟化羰基之步驟。
於由混合物B分離二氟化羰基時，可使用眾所周知的蒸餾手段，藉由蒸餾手段由混合液B分離二氟化羰基。
例如，作為由混合液B蒸餾目的物之二氟化羰基以分離的方法，可將步驟(2)所得之混合物B導入第一蒸餾塔，可分別在塔頂分離出低沸成分的二氟化羰基，在塔底分離出高沸成分的氯化氫/二甲基醚的共沸混合物及氟化氫。
此處，可由第一蒸餾塔的塔底取出氯化氫/二甲基醚的共沸混合物及氟化氫，將此等導入第二蒸餾塔，分離前述共沸混合物與氟化氫。
又，亦較佳為藉由在從第二蒸餾塔所取出的前述共沸混合物中，添加鹼水溶液或水等，由前述混合物分離二甲基醚與氯化氫，回收二甲基醚，再藉由脫水等而分離二甲基醚，使循環於反應系中而再利用。
4.步驟(1' )、(2' )及(3' )
步驟(1' )係亦包含於步驟(1)之後繼續將前述混合物A蒸餾以生成含有二氟化羰基及氯化氫的混合物A' 之步驟的步驟。於此步驟中，在生成前述混合物A後，將前述混合物A導入第一蒸餾塔，由塔頂取出低沸成分之含有氯化氫/二氟化羰基的共沸混合物之混合物A' ，由塔底取出高沸成分的氟化氫。
步驟(2' )係將前述混合物A' 、與和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑混合，以調製混合物B' 之步驟。於步驟(2' )中，將由步驟(1' )所取出的混合物A' 、與和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑混合以調製混合物B' 。和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑，係與上述步驟(2)記載者同樣，此處例示使用二甲基醚的情況。又，混合物B' 係與前述混合物B同樣，較佳為在將混合物A' 液化後，與二甲基醚混合而成為液狀。
步驟(3' )係將前述混合物B' 蒸餾以分離二氟化羰基之步驟。於步驟(3' )中，將前述混合物B' 導入第二蒸餾塔，由塔頂取出二氟化羰基，由塔底取出氯化氫/二甲基醚的共沸混合物。
如上述地，代替步驟(1)、步驟(2)及步驟(3)，進行步驟(1' )、步驟(2' )及步驟(3' )，可得到與步驟(1)、步驟(2)及步驟(3)同樣的效果。再者，步驟(1' )、步驟(2' )及步驟(3' )所使用的蒸餾手段、混合手段等係與步驟(1)、步驟(2)及步驟(3)的上述者同樣。
5.步驟(4)
較佳為更含有使步驟(3)或步驟(3' )所分離的二氟化羰基接觸沸石之步驟(4)。藉由此步驟(4)，可去除步驟(3)所分離的二氟化羰基中所含有的水分等。步驟(4)的溫度條件較佳為室溫以下，例如較佳為-20～30℃。
又，作為上述沸石，較佳為從分子篩3A、分子篩4A及分子篩5A所組成族群所選出的至少1種類。
實施例
以下顯示實施例來說明本發明的二氟化羰基之製造方法，惟本發明完全不受此等實施例所限定。
[氟化觸媒的調製]
[觸媒1]
將8.2克氯化鉻(CrCl3 ‧6H2 O)溶解在52ml的純水中以調製觸媒液。接著，於此觸媒液中，浸漬100ml具有下述物性的球狀高純度活性氧化鋁(日揮UNIVERSAL(股)製品NST-3)，以使氧化鋁全量吸收觸媒液。
將吸收有觸媒液的氧化鋁在90℃的熱水浴上乾燥‧乾固，於空氣循環型的熱風乾燥器內在110℃乾燥10小時而得到乾燥觸媒。再者，將乾燥觸媒填充於玻璃製煅燒管，將空氣以500Hr-1 的空間速度(SV0 )流動，升溫到400℃為止，煅燒8小時而得到觸媒1。
<球狀高純度活性氧化鋁的物性>
粒徑：3.2mm Φ
調製法：溶膠-凝膠/油滴下法
中心細孔徑：300
細孔分布：在163～444具有分布的孔係佔79.8%。
細孔容積：1.3ml/g
純度：99.93質量%(鈉含量為10質量ppm)
[觸媒2]
除了使用將0.8克氯化鈷(CoCl2 )溶解在55ml的純水中而調製的觸媒液以外，與觸媒例1同樣調製而得到觸媒2。
[合成例1]
於內徑1吋、長度1m的Inconel(註冊商標)600型反應器中，填充40ml的觸媒1。
接著，在後述二氟化羰基的合成反應之前，使用經氮氣稀釋的氟化氫氣體及100體積%氟化氫，在下述條件下，進行觸媒1的部分氟化處理，將觸媒1活性化而得到活性化觸媒1。
[部分氟化處理的條件]
氟化氫濃度：25～100體積%、
處理溫度：150～350℃
處理時間：約10小時
將所得之活性化觸媒1投入反應器內，邊流動氮氣邊保持溫度在150℃，以143ml/min的速率流動氟化氫，再者一邊以57ml/min的速率流動光氣，一邊停止氮氣的供給，而開始反應。自反應開始起約2小時後，一邊繼續反應，一邊採集出口氣體(混合物A)，對所得之混合物A，使用FT-IR(光析管：CaF2 )進行分析。以下顯示結果。
[出口氣體(混合物A)的FT-IR分析結果]
COF2 　92.4體積%
COClF　7.3體積%
未反應光氣　0.29體積%
CO2 　0.08體積%
[合成例2]
於內徑1吋、長度1m的Inconel(註冊商標) 600型反應器中，填充50ml的觸媒2。
接著，在後述二氟化羰基的合成反應之前，使用經氮氣稀釋的氟化氫氣體及100體積%氟化氫氣體，在下述條件下，進行觸媒2的部分氟化處理，將觸媒2活性化而得到活性化觸媒2。
[部分氟化處理的條件]
氟化氫濃度：25～100體積%、
處理溫度：150～350℃
處理時間：約10小時。
將所得之活性化觸媒2投入反應器內，邊流動氮氣邊保持溫度在165℃，以162ml/min的速率流動氟化氫，再者一邊以57ml/min的速率流動光氣，一邊停止氮氣的供給，而開始反應。自反應開始起約4小時後，一邊繼續反應，一邊採集含有二氟化羰基及副生成物的出口氣體(混合物A)。以下顯示將所得之混合物A導入FT-IR(光析管：CaF2 )進行分析的結果。
[出口氣體(混合物A)的FT-IR分析結果]
COF2 　99.51體積%
COClF　0.3體積%
COCl2 　0.09體積%
CO2 　0.1體積%
接著，以下顯示分析酸份的結果。
氯化氫　112ml/min
未反應氟化氫　49ml/min
[實施例1]
將合成例2所得之混合物A冷卻，使液化，在SUS料筒(容積500ml)中回收約200克經液化的混合物A。接著，分析經液化的混合物A之組成。以下顯示所得之結果。
COF2 　41.4質量%
HCl　46.7質量%
HF　11.9質量%
接著，於此經液化的混合物A中，添加190克二甲基醚，以調製混合物B。再者，於以下條件下，對混合物B進行蒸餾分離，分析蒸餾塔的塔頂餾出份。下述顯示所得之結果。
(蒸餾條件及操作)
蒸餾規模：上述混合物B投入量　380克
蒸餾塔：填充塔　16mm×500mm
填充物：Helipack No.2(東京特殊金網製)　約100ml
理論段數：15段
操作條件
壓力：約0.8MPa
油浴溫度：36～45℃
回流比：15
(塔頂餾出份的分析結果)
COF2 　98.8質量%
其它成分　1.2質量%
再者，其它成分主要係氧、氮、二氧化碳(碳酸氣)。如由塔頂餾出份的分析結果可明知，藉由將在混合物A中添加二甲基醚而調製的混合物B蒸餾，可得到高濃度的COF2 。
[實施例2]
將合成例2所得之混合物A冷卻，使液化，在SUS料筒(容積500ml)中回收約200克經液化的混合物A。接著，分析經液化的混合物A之組成。以下顯示所得之結果。
COF2 　41.5質量%
HCl　46.6質量%
HF　11.9質量%
接著，於以下條件下，蒸餾此混合物A。
(蒸餾條件及操作)
蒸餾規模：上述混合物A投入量　190克
蒸餾塔：填充塔　16mm×500mm
填充物：Helipack No.2(東京特殊金網製)　約100ml
理論段數：15段
壓力：約0.8MPa
油浴溫度：36～45℃
回流比：15
(塔頂餾出份的分析結果)
COF2 　46.94質量%
HCl　52.91質量%
其它　0.15質量%
回收150克此塔頂餾出份的混合物A' ，在塔頂餾出份中添加160克二甲基醚而得到約310克混合物B' 。再者，於以下條件下進行蒸餾分離，藉由FT-IR(光析管：CaF2 )來分析蒸餾塔的塔頂餾出份。下述顯示所得之結果。
(蒸餾條件及操作)
蒸餾規模：上述混合物B' 投入量　約310克
蒸餾塔：填充塔　16mm×500mm
填充物：Helipack No.2(東京特殊金網製)　約100ml
理論段數：15段
操作條件：壓力約0.8MPa
油浴溫度：36～45℃
(塔頂餾出份的分析結果)
COF2 　99.2質量%
其它成分　0.8質量%
再者，其它成分主要係氧、氮、二氧化碳(碳酸氣)。如由塔頂餾出份的分析結果可明知，藉由將在混合物A' 中添加二甲基醚而調製的混合物B' 蒸餾，可得到高濃度的COF2 。
[實施例3]
將合成例2所得之混合物A冷卻，使液化，在SUS料筒(容積500ml)中回收約200克經液化的混合物A。接著，分析經液化的混合物A之組成。以下顯示所得之結果。
COF2 　41.3質量%
HCl　46.7質量%
HF　12.0質量%
接著，於以下條件下，蒸餾此混合物A。
(蒸餾條件及操作)
蒸餾規模：上述混合物A投入量　190克
蒸餾塔：填充物　16mm×500mm
填充物：Helipack No.2(東京特殊金網製)　約100ml
理論段數：15段
壓力：約0.8MPa
油浴溫度：36～45℃
回流比：15
(塔頂餾出份的分析結果)
COF2 　46.96質量%
HCl　52.90質量%
其它成分　0.14質量%
回收140克此塔頂餾出份的混合物A' ，在塔頂餾出份中添加200克氟甲烷(CH3 F)而得到約340克混合物B' 。再者，於以下條件下進行蒸餾分離，藉由FT-IR(光析管：CaF2 )來分析蒸餾塔的塔頂餾出份。下述顯示所得之結果。
(蒸餾條件及操作)
蒸餾規模：上述混合物B' 投入量　約330克
蒸餾塔：填充塔　16mm×500mm
填充物：Helipack No.2(東京特殊金網製)　約100ml
理論段數：15段
壓力：約0.8MPa
油浴溫度：31～42℃
(塔頂餾出份的分析結果)
COF2 　99.1質量%
其它成分　0.9質量%
再者，其它成分主要係氧、氮、二氧化碳(碳酸氣)。如由塔頂餾出份的分析結果可明知，藉由將在混合物A' 中添加氟甲烷而調製的混合物B' 蒸餾，可得到高濃度的COF2 。
[比較例1]
將合成例2所得之混合物A冷卻，使液化，在SUS料筒(容積500ml)中回收約180克經液化的混合物A。接著，分析經液化的混合物A之組成。以下顯示所得之結果。
COF2 　41.4質量%
HCl　46.5質量%
HF　12.1質量%
接著，於以下條件下，蒸餾此混合物A。
(蒸餾條件及操作)
蒸餾規模：上述混合物A投入量　170克
蒸餾塔：填充塔　16mm×500mm
填充物：Helipack No.2(東京特殊金網製)　約100ml
理論段數：15段
油浴溫度：36～45℃
回流比：15
(塔頂餾出份的分析結果)
COF2 　46.93質量%
HCl　52.92質量%
其它成分　0.15質量%
回收120克此塔頂餾出份的混合物A' ，在塔頂餾出份中添加130克氯甲烷(CH3 Cl)而得到約250克混合物B' 。再者，於以下條件下進行蒸餾分離，藉由FT-IR(光析管：CaF2 )來分析蒸餾塔的塔頂餾出份。下述顯示所得之結果。
(蒸餾條件及操作)
蒸餾規模：上述混合物B' 投入量　約250克
蒸餾塔：填充塔　16mm×500mm
填充物：Helipack No.2　約100ml
理論段數：15段
壓力：約0.8MPa
油浴溫度：36～45℃
(塔頂餾出份的分析結果)
COF2 　46.92質量%
HCl　52.93質量%
其它成分　0.15質量%
再者，其它成分主要係氧、氮、二氧化碳(碳酸氣)。如由塔頂餾出份的分析結果可明知，即使將在混合物A' 中添加對於氯化氫及二氟化羰基皆沒有共沸關係的氯甲烷而調製的混合物B' 蒸餾，也無分離COF2 與HCl，而無法得到高濃度的COF2 。
 產業上的利用可能性
依照本發明的二氟化羰基之製造方法，相對於在眾所周知的蒸餾等之分離方法中二氟化羰基的分離極困難者，可提供能高效率、簡便且廉價地製造二氟化羰基的二氟化羰基之製造方法。

Claims (10)

  1. 一種二氟化羰基之製造方法，其係具有：包含以下步驟(1)~(3)或包含以下步驟(1' )~(3' )之二氟化羰基之製造方法，步驟(1)：使光氣與氟化氫在氟化觸媒的存在下以氣相反應而生成含有二氟化羰基及氯化氫的混合物A之步驟，步驟(2)：混合前述混合物A、與和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑，以調製混合物B之步驟，步驟(3)：將前述混合物B蒸餾以分離二氟化羰基之步驟；步驟(1' )：使光氣與氟化氫在氟化觸媒的存在下以氣相反應而生成含有二氟化羰基及氯化氫的混合物A，將前述混合物A蒸餾以生成含有二氟化羰基及氯化氫的混合物A' 之步驟，步驟(2' )：混合前述混合物A' 、與和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑，以調製混合物B' 之步驟，步驟(3' )：將前述混合物B' 蒸餾以分離二氟化羰基之步驟；其特徵為前述有機溶劑係從醚類、氫氟化碳類及全氟化碳類所組成族群中所選出的至少1種。
  2. 如申請專利範圍第1項之二氟化羰基之製造方法， 其中前述醚類係二甲基醚。
  3. 如申請專利範圍第1項之二氟化羰基之製造方法，其中前述氫氟化碳類係從氟甲烷、三氟甲烷、五氟乙烷所選出的至少1種。
  4. 如申請專利範圍第1項之二氟化羰基之製造方法，其中前述全氟化碳類係六氟乙烷。
  5. 如申請專利範圍第1項之二氟化羰基之製造方法，其中前述氟化觸媒係擔持型觸媒或塊狀型觸媒，其含有含從In、Zn、Ni、Co、Mg、Cr、Cu、Mn、V、Fe及Bi所組成族群所選出的至少1種元素之觸媒成分。
  6. 如申請專利範圍第5項之二氟化羰基之製造方法，其中前述氟化觸媒係經活性氧化鋁所擔持的擔持型觸媒，該活性氧化鋁具有下述特性(1)~(5)，(1)活性氧化鋁的中心細孔徑為50~400Å；(2)在活性氧化鋁的中心徑±50%具有分布的孔係佔70%以上；(3)活性氧化鋁的細孔之孔容積為0.5~1.6ml/g；(4)活性氧化鋁的純度為99.9質量%以上；(5)活性氧化鋁中所含有的鈉含量為100質量ppm以下。
  7. 如申請專利範圍第5項之二氟化羰基之製造方法，其中前述氟化觸媒係經活性碳所擔持的擔持型觸媒。
  8. 如申請專利範圍第1項之二氟化羰基之製造方法，其中更包含使所製造的二氟化羰基接觸沸石之步驟 (4)。
  9. 如申請專利範圍第8項之二氟化羰基之製造方法，其中前述沸石係從分子篩3A、分子篩4A及分子篩5A所組成族群所選出的至少1種。
  10. 一種共沸混合物，其係含有和氯化氫有共沸關係且和二氟化羰基沒有共沸關係的有機溶劑、氯化氫及二氟化羰基，其特徵為前述有機溶劑係從醚類、氫氟化碳類及全氟化碳類所組成族群中所選出的至少1種。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101395423B1 (ko) * 2009-10-27 2014-05-14 쇼와 덴코 가부시키가이샤 불소 함유 화합물의 정제 방법
US8932406B2 (en) * 2012-09-04 2015-01-13 Matheson Tri-Gas, Inc. In-situ generation of the molecular etcher carbonyl fluoride or any of its variants and its use
CN103303894B (zh) * 2013-06-17 2015-03-11 邯郸净化设备研究所 一种碳酰氟的纯化方法
CN105967166B (zh) * 2016-06-16 2018-11-09 邯郸净化设备研究所 一种碳酰氟的纯化方法和制备方法
CN109468658B (zh) * 2018-12-11 2020-10-30 浙江巨圣氟化学有限公司 一种碳酰氟的制备方法
CN114206822B (zh) * 2019-08-27 2024-05-10 关东电化工业株式会社 羧酰氟的制造方法
CN111760581B (zh) * 2019-08-30 2021-07-23 万华化学（宁波）有限公司 制备光气的催化剂及其制备方法和光气制备与能源综合利用的方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2836622A (en) * 1955-02-18 1958-05-27 Du Pont Preparation of carbonyl fluoride
US2838512A (en) * 1958-06-10 Preparation of cyanuric chloride
US3253029A (en) * 1962-05-09 1966-05-24 Du Pont Method for the separation of cof2 and hci
US4260561A (en) * 1978-06-01 1981-04-07 Hoechst Aktiengesellschaft Process for the preparation of carbonyl difluorides
US5444171A (en) * 1992-10-14 1995-08-22 Showa Denko Kabushiki Kaisha Method for purification of 1,1,1,2-tetrafluoroethane
US20020001560A1 (en) * 1997-11-10 2002-01-03 Ralph Newton Miller Process for purifying perfluorinated products
WO2006030677A1 (en) * 2004-09-16 2006-03-23 Showa Denko K.K. Fluoromethane production process and product

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3707917B2 (ja) 1997-10-06 2005-10-19 セントラル硝子株式会社 フッ化カルボニルの製造方法
JP3805109B2 (ja) 1998-07-15 2006-08-02 日本リファイン株式会社 メチルエチルケトン、グリコールエーテルおよび水よりなる混合溶液の共沸蒸留法およびそれを用いたメチルエチルケトンとグリコールエーテルの回収方法
DE19916856A1 (de) 1999-04-14 1999-09-23 Eckert Gmbh Dr Verfahren zur Herstellung von Carbonyldichlorid aus Chlor und Kohlenmonoxid
JP2002326001A (ja) 2001-02-27 2002-11-12 Mitsubishi Chemicals Corp 共沸蒸留方法
JP2002348270A (ja) 2001-05-28 2002-12-04 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd カルボン酸とジメチルアミドの蒸留分離方法およびその装置
JP4104320B2 (ja) 2001-11-16 2008-06-18 セントラル硝子株式会社 二フッ化カルボニルの製造方法
JP2004262679A (ja) * 2003-02-17 2004-09-24 Daikin Ind Ltd 二フッ化カルボニルの製造方法
CN100434358C (zh) 2003-12-11 2008-11-19 旭硝子株式会社 碳酰氟的制造方法及制造装置
EP1574478A1 (de) * 2004-03-08 2005-09-14 Solvay Fluor GmbH Herstellung von Carbonylfluorid
JP4437715B2 (ja) * 2004-07-16 2010-03-24 株式会社トクヤマ 塩化メチルの製造方法及び高次塩素化メタン類の製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2838512A (en) * 1958-06-10 Preparation of cyanuric chloride
US2836622A (en) * 1955-02-18 1958-05-27 Du Pont Preparation of carbonyl fluoride
US3253029A (en) * 1962-05-09 1966-05-24 Du Pont Method for the separation of cof2 and hci
US4260561A (en) * 1978-06-01 1981-04-07 Hoechst Aktiengesellschaft Process for the preparation of carbonyl difluorides
US5444171A (en) * 1992-10-14 1995-08-22 Showa Denko Kabushiki Kaisha Method for purification of 1,1,1,2-tetrafluoroethane
US20020001560A1 (en) * 1997-11-10 2002-01-03 Ralph Newton Miller Process for purifying perfluorinated products
WO2006030677A1 (en) * 2004-09-16 2006-03-23 Showa Denko K.K. Fluoromethane production process and product

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