JP5357607B2 - 二フッ化カルボニルの製造方法 - Google Patents
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Description
ガス等として注目されている重要な化合物である。従来、この二フッ化カルボニルの製造方法および精製方法としては、以下の特許文献等に記載されている方法が知られている。
)とフッ化水素を第1反応装置で反応させ、得られた二フッ化カルボニル、塩化水素及びクロロフルオロカルボニル(COClF)の混合物から二フッ化カルボニルと塩化水素を蒸留により除去してクロロフルオロカルボニルを生成する第一工程と、第一工程で得られたクロロフルオロカルボニルを、触媒を含む第2反応装置に供給して不均化反応を行い、得られた反応混合物からホスゲンとクロロフルオロカルボニルを除去し、二フッ化カルボニルを回収する第二工程を用いて、二フッ化カルボニルを製造する方法が記載されている。
触させて、CF3OFを除去する方法が記載されている。
として活性炭を充填することを特徴とする[4]または[5]に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。
とする[1]〜[7]のいずれかに記載の二フッ化カルボニルの製造方法。
工程(1)は、一酸化炭素、塩素およびフッ化水素を、触媒の存在下、気相状態で反応させる工程を含む。
COCl2 + 2HF → COF2 + 2HCl (式2)
反応ゾーンに充填する触媒は、単一の触媒または異なる2種類を選択することができ、例えば、単一の触媒としては活性炭、異なる2種類の触媒としては活性炭および酸化クロムを含む触媒を用いることができる。活性炭は種々公知のものを用いることができる。また、酸化クロムを含む触媒は、たとえば、高純度活性アルミナなどの担体に、塩化クロム水溶液などのハロゲン化クロム水溶液を吸収させることで得ることができる。
よび酸化クロムを含む触媒の両方にフッ化水素を供給できるように、フッ化水素の導入口を配置することが、反応温度を制御するという点で好ましい。
反応器の入口よりフッ化水素が導入され、第一反応器の出口ガスとフッ化水素とが混合され、第二反応器に導入される。導入されるホスゲンとフッ化水素のモル比は、ホスゲン/フッ化水素=1.0/1.9〜6.0が好ましく、より好ましくは1.9〜4.0が望ましい。ホスゲンに対するフッ化水素のモル比が、6.0を超えると、反応器が大きくなるなど設備費が大きくなり好ましくない。第二反応器には、活性炭か、または、酸化クロムを含む触媒が充填され、好ましくは、(式2)の反応を効率的に行うという点で、酸化クロムを含む触媒である。酸化クロムを含む触媒は、使用する前段でフッ化水素を用いて活性化処理を実施しておくことが望ましい。第二反応器の反応温度は50〜400℃が望ましく、より好ましくは100〜250℃の温度範囲がよい。50℃未満では、反応が進行しないおそれがあり、400℃を超えると、副生成物が増加し、収率や選択率が低下するおそれがあり好ましくない。反応圧力は、0.05〜0.6MPaが望ましく、より好ましくは0.1〜0.5MPaがよい。また、第二反応器の反応圧力は、第一反応器より低い圧力を選択することが、設備費等を考慮すると好ましい。
工程(2)および後述する工程(3)は、副生物として発生する塩化水素を効率的に除去するための工程である。本発明では、前記工程(1)に続いて、工程(2)と後述する工程(3)とを行うことで、より高純度の二フッ化カルボニルを高収率で得ることができるため、好ましい。
液状の混合物Bを調製することが好ましい。ガス状の混合物Aを液化させる方法としては、従来公知の手段を用いて、ガス状混合物Aを冷却することにより液化させる方法が挙げられる。
工程(3)は、前記工程(2)において調製された混合物Bを蒸留して二フッ化カルボニルを分離する工程であれば、特に限定されない。
本発明では、以下の工程(1’)に続いて、工程(2’)と(3’)とを行うことが、高純度の二フッ化カルボニルを効率よく簡便に、かつ安価に製造することができるだけでなく、二フッ化カルボニルの精製をより効率的に行うことができるため、好ましい。
本発明では、工程(3)または工程(3’)で分離された二フッ化カルボニルを、ゼオライトに接触させる工程(4)をさらに含むことが好ましい。
酸分等を除去することができる。工程(4)における温度条件は、室温以下であることが好ましく、例えば−20〜30℃が好ましい。また、上記ゼオライトとしては、特に限定されないが、モレキュラシーブス3A、モレキュラシーブス4Aおよびモレキュラシーブス5Aからなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましい。
以下、本発明の二フッ化カルボニルの製造方法について実施例を示して説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
[触媒1(活性炭)]
市販の(株)ツルミコール製、商品名4GSを砕き、3mmの形状に揃えて使用した。
塩化クロム(CrCl3・6H2O)8.2gを純水52mlに溶解して触媒液を調製した。次いで、この触媒液に球状の高純度活性アルミナ(日揮ユニバーサル(株)製品NST−3)100mlを浸漬して、アルミナに触媒液を全量吸収させた。触媒液を吸収したアルミナを90℃の湯浴上で乾燥・乾固し、空気循環型の熱風乾燥器内で、110℃で10時間乾燥して乾燥触媒を得た。さらに、乾燥触媒をガラス製焼成管に充填し、空気を空間速度(SV0)500Hr-1で流し、400℃まで昇温し、8時間焼成し触媒2を得た
。
内径1インチ(2.54cm)、長さ1mのインコネル(登録商標)600型反応器に、触媒1(活性炭)を50ml充填し、窒素ガスを流しながら、温度を150℃、圧力を0.2MPaに保持し、フッ化水素ガスを200ml/minで流し、次いで塩素ガスを50ml/min、一酸化炭素ガスを52ml/minで流しながら、窒素ガスの供給を停止し、反応を開始した。なお、一酸化炭素ガス、塩素ガスおよびフッ化水素ガスの供給モル比は、CO/Cl2/HF=52/50/200であった。
COF2 94.16体積%
COClF 2.23体積%
COCl2 0.31体積%
CO2 0.12体積%
CO 3.06体積%
その他 0.12体積%
次いで、酸分を分析した結果を以下に示す。なお、酸分は、FT−IRを用いて分析を行った。
フッ化水素 102.82ml/min
[実施例2]
内径1インチ(2.54cm)、長さ1mのインコネル(登録商標)600型反応器の下部に触媒2(酸化クロムを含む触媒)を50ml充填し、その上部に触媒1(活性炭)を25ml充填し、窒素ガスを流しながら温度を135℃、圧力を0.2MPaに保持し、反応器の上部からフッ化水素ガスを162ml/minで流し、次いで塩素ガス50ml/min、一酸化炭素ガスを50ml/minで流しながら、窒素ガスの供給を停止し反応を開始した。なお、一酸化炭素ガス、塩素ガスおよびフッ化水素ガスの供給モル比は、CO/Cl2/HF=50/50/162であった。
)に導入して分析を行った結果を下記に示す。
COF2 97.32体積%
COClF 1.82体積%
COCl2 0.46体積%
CO2 0.16体積%
CO 0.13体積%
その他 0.11体積%
[実施例3]
内径1インチ(2.54cm)、長さ1mのインコネル(登録商標)600型反応器の下部に触媒2(酸化クロムを含む触媒)を40ml充填し、その上部に触媒1(活性炭)を35ml充填した。
)に導入して分析を行った結果を下記に示す。
COF2 99.08体積%
COClF 0.52体積%
COCl2 0.12体積%
CO2 0.14体積%
CO 0.08体積%
その他 0.06体積%
[実施例4]
実施例2の反応を継続し、二フッ化カルボニルと塩化水素を含む混合物Aを得て、冷却して液化させた。ついで、約180gの液化した混合物AをSUSシリンダー(容積500ml)中に回収した。液化した混合物Aは、以下の組成であった。
HCl 43.44質量%
HF 25.52質量%
その他 1.81質量%
次いで、この液化した混合物Aにジメチルエーテル190gを添加して、混合物Bを調製した。さらに、混合物Bを以下の条件で蒸留分離を行い、蒸留塔の塔頂留出分を分析した。得られた結果を下記に示す。
蒸留スケール:上記混合物Bの仕込み量 約365g
蒸留塔 :充填塔 16mm×500mm
充填物 :ヘリパック(商標) No.2(東京特殊金網製)約100ml
理論段数 :15段
操作条件
圧力:約0.8MPa
油浴温度:35℃
還流比:15
(塔頂留出分の分析結果)
COF2 96.33質量%
その他 3.67質量%
なお、上記のその他の成分は主として、酸素、窒素、二酸化炭素、一酸化炭素であり、ジメチルエーテルはガスクロマトグラフ(検出下限値:1volppm)で分析を行ったところ、検出下限値未満であった。また酸分は、塩化水素をイオンクロマトグラフ(検出下限値:3volppm)で分析を行い、フッ化水素をFT−IR(検出下限値:2.2volppm)で分析を行ったところ、それぞれ検出下限未満であった。塔頂留出分の分析結果から明らかなように、ジメチルエーテルを添加してから蒸留することにより、高純度なCOF2を得ることができる。
Claims (14)
- 一酸化炭素、塩素およびフッ化水素を、活性炭および酸化クロムを含む触媒の存在下、気相状態で反応させることを特徴とする二フッ化カルボニルの製造方法。
- 前記の反応が、単一反応領域で行われることを特徴とする請求項1に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。
- 前記単一反応領域が、反応器で構成されており、
該反応器の上部より一酸化炭素と塩素が供給され、該反応器の中央部付近よりフッ化水素が供給されることを特徴とする請求項2に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。 - 前記単一反応領域が、反応器で構成されており、
該反応器の中央部付近より下層に、触媒として酸化クロムを含む触媒を充填し、該酸化クロムを含む触媒の上層に、触媒として活性炭を充填することを特徴とする請求項2または3に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。 - 一酸化炭素、塩素およびフッ化水素を、前記触媒の存在下、気相状態で反応させて得られた、二フッ化カルボニルと塩化水素を含む混合物に、
塩化水素と共沸混合物を形成し、かつ二フッ化カルボニルと共沸混合物を形成しない有機化合物を添加する工程を含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。 - 一酸化炭素、塩素およびフッ化水素を、前記触媒の存在下、気相状態で反応させて得られた、二フッ化カルボニルと塩化水素を含む混合物Aに、
塩化水素と共沸関係にあり且つ二フッ化カルボニルと共沸関係にない有機化合物を添加、混合して、混合物Bを調製し、
前記混合物Bを蒸留して二フッ化カルボニルを分離する
工程を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。 - 一酸化炭素、塩素およびフッ化水素を、前記触媒の存在下、気相状態で反応させて得られた、二フッ化カルボニルと塩化水素を含む混合物Aを蒸留して、二フッ化カルボニルおよび塩化水素を含む混合物A'を生成させ、
前記混合物A'に、塩化水素と共沸関係にあり且つ二フッ化カルボニルと共沸関係にない有機化合物を添加、混合し、混合物B'を調製し、
前記混合物B'を蒸留して二フッ化カルボニルを分離する
工程を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。 - 前記の有機化合物が、エーテル類、ハイドロフルオロカーボン類およびパーフルオロカーボン類からなる群から選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項5〜7のいずれか一項に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。
- 前記のエーテル類が、ジメチルエーテルであることを特徴とする請求項8に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。
- 前記のハイドロフルオロカーボン類が、フルオロメタン、トリフルオロメタンおよびペンタフルオロエタンから選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする請求項8に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。
- 前記のパーフルオロカーボン類が、ヘキサフルオロエタンであることを特徴とする請求項8に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。
- 前記の反応が、50〜400℃の温度で行なわれることを特徴とする請求項1〜11のいずれか一項に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。
- 前記の反応が、0.05〜0.6MPaの圧力で行なわれることを特徴とする請求項1〜12のいずれか一項に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。
- 前記の一酸化炭素、塩素およびフッ化水素のモル比が、一酸化炭素/塩素/フッ化水素=1.0〜1.4/1.0/1.9〜6.0であることを特徴とする請求項1〜13のいずれか一項に記載の二フッ化カルボニルの製造方法。
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