CN100434358C - 碳酰氟的制造方法及制造装置 - Google Patents
碳酰氟的制造方法及制造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN100434358C CN100434358C CNB2004800361108A CN200480036110A CN100434358C CN 100434358 C CN100434358 C CN 100434358C CN B2004800361108 A CNB2004800361108 A CN B2004800361108A CN 200480036110 A CN200480036110 A CN 200480036110A CN 100434358 C CN100434358 C CN 100434358C
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- reaction
- carbonyl fluoride
- fluoride
- fluorine
- diluent gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- SYNPRNNJJLRHTI-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)butane-1,4-diol Chemical compound OCCC(CO)CO SYNPRNNJJLRHTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 75
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 63
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 30
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 38
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 14
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims description 13
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- 101100328843 Dictyostelium discoideum cofB gene Proteins 0.000 abstract 1
- IYRWEQXVUNLMAY-UHFFFAOYSA-N carbonyl fluoride Chemical compound FC(F)=O IYRWEQXVUNLMAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000008141 laxative Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000001543 purgative effect Effects 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 230000032696 parturition Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/24—Stationary reactors without moving elements inside
- B01J19/2415—Tubular reactors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/80—Phosgene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/58—Preparation of carboxylic acid halides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00002—Chemical plants
- B01J2219/00004—Scale aspects
- B01J2219/00006—Large-scale industrial plants
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00051—Controlling the temperature
- B01J2219/00074—Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids
- B01J2219/00087—Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids with heat exchange elements outside the reactor
- B01J2219/00094—Jackets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00164—Controlling or regulating processes controlling the flow
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
本发明提供了收率良好地可工业制造COF2的方法。本发明是碳酰氟的制造方法，该方法是向反应容器(1)内伴随稀释气体连续地供给一氧化碳(A)和氟(B)，使之反应制造碳酰氟的方法，其特征在于，作为稀释气体使用氟化氢或碳酰氟。本发明还是碳酰氟的制造装置，该装置是使一氧化碳(A)与氟(B)反应生成碳酰氟的碳酰氟制造装置，其特征在于，设置有一氧化碳(A)的供给单元、氟(B)的供给单元、由氟化氢或碳酰氟形成的稀释气体的供给单元以及反应容器。
Description
技术领域
本发明涉及作为半导体制造装置等中的清洗气、蚀刻气、有机化合物的氟化剂而有用的碳酰氟(COF2)的有利于工业生成的制造方法。
背景技术
作为碳酰氟的合成法，已知有通过流通法将一氧化碳由氟直接氟化的方法(参考非专利文献1)。但是在进行该反应时，为了避免爆炸的危险性、副反应引起的碳酰氟的反应收率低下以及剧烈放热，需要在反应系中添加N2、He、Ne、Ar等惰性气体(参考专利文献1)。
这样，在使用惰性气体稀释作为原料气体的一氧化碳和氟的方法中，较好为稀释至在反应器的出口处的COF2的浓度小于等于50体积％。经该方法反应后，需要精制所得的COF2，作为该精制方法，可考虑使用蒸馏精制或者将COF2在小于等于熔点(-111℃)的条件下冷却，使之凝固再收集精制的方法。
但是，作为使COF2凝固再收集的方法，从液氮等极低温冷却介质的成本、凝固收集装置中伴随进行COF2的凝固收集而产生的与冷却面的总导热系数下降的方面考虑，是不适于工业制造的工艺方法。另一方面，通过蒸馏精制的方法中，使COF2(大气压下沸点为-85℃)凝缩液化，将COF2与沸点低于其的上述惰性气体分离，此时，凝缩温度(例如从-70℃到20℃)下蒸气分压的COF2会伴随上述惰性气体损失，存在COF2收率低下的问题。
【专利文献1】日本专利特开2003-267712号公报
【非专利文献1】Handbook of preparative inorganic chemistryI，206页2nd ed.，Georg Brauer，ed.，Academic Press，NewYork，1965
发明的揭示
发明要解决的课题
本发明的目的是提供没有上述问题、COF2收率良好、可用于工业制造的方法。
解决课题的方法
本发明提供了碳酰氟的制造方法，该方法是向反应容器内伴随稀释气体连续地供给一氧化碳和氟，使之反应制造碳酰氟的方法，其特征在于，作为稀释气体使用氟化氢或者碳酰氟。
另外，本发明提供了碳酰氟的制造装置，该装置是使一氧化碳与氟反应生成碳酰氟的碳酰氟制造装置，其特征在于，设置有一氧化碳的供给单元、氟的供给单元、由氟化氢形成的稀释气体的供给单元以及反应容器，并且具有将氟化氢从自反应容器取出的反应生成物中回收的单元以及将回收的氟化氢返送至反应容器的单元。
本发明还提供了碳酰氟的制造装置，该装置是使一氧化碳与氟反应生成碳酰氟的碳酰氟制造装置，设置有一氧化碳的供给单元、氟的供给单元、由碳酰氟形成的稀释气体的供给单元以及反应容器，并且具有将从反应容器取出的反应生成物精制而得到碳酰氟的单元以及将一部分回收的碳酰氟返送至反应容器的单元。
发明效果
本发明中，当使用氟化氢作为稀释气体时，由于氟化氢的沸点(大气压下为19.5℃)较COF2的沸点(大气压下为-85℃)高，因此通过冷却所得的反应生成物，可容易地通过气液分离将氟化氢和COF2分离。
另外，本发明中，如使用主要含有COF2的稀释气体，则在蒸馏精制时不会发生蒸气分压的COF2的损失。
即，通过本发明可以从反应结束后的反应生成物中容易地回收COF2，可以以工业规模高收率地制造高纯度的COF2。
附图的简单说明
【图1】显示本发明的制造方法的一例的流程图。
【图2】本发明的制造装置的简图。
【符号说明】
1：反应容器
2：冷阱
3：COF2精制装置
4：COF2储槽
5：压力调整阀
6a、6b、6c：泵
7：反应装置
8：冷却夹套
A：第1原料气体
B：第2原料气体
C：稀释气体
D：COF2
E：反应生成物
F：冷却介质
实施发明的最佳方式
本发明中，使用氟化氢或者碳酰氟作为稀释气体。氟化氢是不会被反应性高的氟所氟化的物质，沸点接近常温，由于与COF2的沸点差别大因此易分离，价格便宜且容易得到，因此较为适宜。另外，COF2与使用低沸点的N2、He、Ne、Ar等惰性气体作为稀释气体的情况相比，在蒸馏精制时没有蒸气分压的COF2的损失的方面较好。
相对于一氧化碳的供给流量与氟的供给流量中较小的一个供给流量，上述稀释气体的供给流量的比率用体积比表示，较好为1～100，特好为在1～40的范围。上述比率在该范围时，可以避免由副反应引起的碳酰氟的反应收率低下、放热高。
稀释气体较好为只由氟化氢、COF2或者它们的混合物形成，但是在不妨碍本发明效果的范围内也可以含有其他的惰性气体。
另外，本发明中，使用含有氟化氢的稀释气体时，较好为从所得的反应生成物中分离、回收氟化氢，再作为稀释气体供给至反应容器使用。
另一方面，本发明中，使用含有COF2的稀释气体时，较好为精制所得的反应生成物得到COF2，将一部分所得的COF2再次作为稀释气体供给至反应容器使用。
另外，作为含有COF2的稀释气体，也可直接使用所得的反应生成物。只是这种情况时，由于反应生成物中可能存在未反应的氟，因此较好为将要循环的反应生成物返送至氟的供给通路。
上述反应生成物的精制较好为通过蒸馏来进行，例如，在0.2～5MPa(绝对压，以下相同)的压力、温度-20～130℃的条件进行蒸馏，可以得到纯度高的COF2。
这样，将回收、再利用稀释气体时的制造流程的概念图示于图1。在图1中，第1原料气体A以及第2原料气体B可任意是氟或一氧化碳。另外，图1中，在第1原料气体A的供给通路中设置有含有氟化氢的稀释气体的供给口，在第2原料气体B的供给通路中设置有含有COF2的稀释气体的供给口，但是这些稀释气体的供给口的位置不限于上述，例如也可直接设置在反应容器1中。
从使氟的反应性得到抑制的观点来看，较好为在供给氟的供给通路设置稀释气体的供给口。
本发明中，混合一氧化碳和氟气体，使之反应的反应域温度通常较好为20～500℃。另外，该反应域的温度较好为小于等于构成反应容器的部件的耐热温度，例如部件由SUS304形成的情况时，较好为小于等于500℃。
另一方面，反应容器的外壁，从抑制由副反应副生的杂质以及对热保护反应容器的观点来考虑，较好为至大于等于20℃、小于等于100℃，特好为冷却至大于等于20℃、小于等于60℃。
另外，本发明中反应的压力可以是减压或加压，通常较好为大于等于0.01MPa、小于等于0.15MPa的大气压附近，更好为大于等于0.02MPa、小于等于0.13MPa。
一氧化碳的供给流量与氟的供给流量的比率，以摩尔比表示，较好为一氧化碳的供给流量/氟的供给流量＝1～4，特好为1～1.1。上述比率如超过上述范围，即过剩添加一氧化碳时，需要在之后的反应生成物的精制工序中分离过剩的一氧化碳，这成为COF2收率低下的主要原因。
本发明中，作为稀释气体使用含有氟化氢的稀释气体时，较好为：通过用冷阱等将从反应容器取出的反应生成物冷却至低于氟化氢的沸点的温度，使氟化氢液化来将氟化氢与COF2进行气液分離。在此，气液分离时的冷却温度较好为-70～10℃。
本发明的碳酰氟的制造方法可使用具有一氧化碳的供给单元、氟的供给单元、由氟化氢或碳酰氟形成的稀释气体的供给单元以及反应容器的碳酰氟的制造装置进行实施。
使用氟化氢作为稀释气体的情况时，当从所得的反应生成物中分离、回收氟化氢，再次作为稀释气体供给至反应容器使用时，较好为使用具有将氟化氢从自反应容器取出的反应生成物中回收的单元以及将回收的氟化氢返送至反应容器的单元的上述制造装置。
另外，使用COF2作为稀释气体的情况时，当精制所得的反应生成物得到COF2，将一部分所得的COF2再次作为稀释气体供给至反应容器使用时，较好为使用具有精制从反应容器取出的反应生成物得到碳酰氟的单元以及将一部分回收的碳酰氟返送至反应容器的单元的上述制造装置。
作为本发明的碳酰氟的制造装置的一例，例如可使用图2所示的装置。该反应装置是双重管结构，使冷却介质F在作为反应容器的内筒1与外筒之间流通。在进行反应的内塔中，供给作为第1原料气体A的一氧化碳以及作为第2原料气体B的氟。在图2所示的装置中，显示了将稀释气体C分别从一氧化碳的供给通路和氟的供给通路供给的示例。一边将一氧化碳和氟化氢在内筒1中流通一边将其混合，反应生成碳酰氟。
实施例
以下，通过实施例更详细地说明本发明。例1为比较例，例2为实施例。
[例1]
准备图2所示的反应装置。内筒为SUS304制，其直径为25mm。另外，作为第1原料气体的供给通路以及第2原料气体的供给通路，使用内径为12.5mm的配管。通过第1原料气体的供给通路，以1000cm3/分(标准状态)的供给速度向内筒内供给氟，通过第2原料气体的供给通路，向内筒1内供给氮4000cm3/分(标准状态)与一氧化碳1000cm3/分(标准状态)的混合气体。这时，内筒内的反应压力为0.12MPa，反应温度小于等于500℃。在0.2～5MPa的压力下蒸馏从反应气体出口回收的反应生成物E，分离出COF2。所得的COF2的收率为80％左右。
[例2]
使用与例1相同的反应装置，除了代替氮供给COF2 4000cm3/分(标准状态)作为稀释气体C之外，进行与例1相同的反应。使用气相色谱法分析从反应气体出口回收的反应生成物E的纯度，结果COF2的纯度为99％，收率为90％。
产业上利用的可能性
本发明的制造方法可适用于作为半导体制造装置等中的清洗气、蚀刻气体、有机化合物的氟化剂而有用的碳酰氟(COF2)的工业制造方法。
Claims (6)
1.碳酰氟的制造方法，该方法是向反应容器内伴随稀释气体连续地供给一氧化碳和氟，使之反应来制造碳酰氟的方法，其特征在于，作为稀释气体使用氟化氢或者碳酰氟。
2.如权利要求1所述的碳酰氟的制造方法，其特征还在于，相对于一氧化碳的供给流量与氟的供给流量中较小的一个供给流量，上述稀释气体的供给流量的比率用体积比表示在1～100的范围内。
3.如权利要求1或2所述的碳酰氟的制造方法，其特征还在于，供给氟化氢作为稀释气体进行上述反应之后，从所得的反应生成物中回收氟化氢，将回收的氟化氢作为上述反应的稀释气体循环使用。
4.如权利要求1或2所述的碳酰氟的制造方法，其特征还在于，精制所得的反应生成物得到碳酰氟，将一部分所得的碳酰氟作为上述反应的稀释气体使用。
5.碳酰氟的制造装置，其特征在于，该装置是使一氧化碳与氟反应生成碳酰氟的碳酰氟制造装置，设置有一氧化碳的供给单元、氟的供给单元、由氟化氢形成的稀释气体的供给单元以及反应容器，并且具有将氟化氢从自反应容器取出的反应生成物中回收的单元以及将回收的氟化氢返送至反应容器的单元。
6.碳酰氟的制造装置，其特征在于，该装置是使一氧化碳与氟反应生成碳酰氟的碳酰氟制造装置，设置有一氧化碳的供给单元、氟的供给单元、由碳酰氟形成的稀释气体的供给单元以及反应容器，并且具有将从反应容器取出的反应生成物精制而得到碳酰氟的单元以及将一部分回收的碳酰氟返送至反应容器的单元。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003413238 | 2003-12-11 | ||
| JP413238/2003 | 2003-12-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1890174A CN1890174A (zh) | 2007-01-03 |
| CN100434358C true CN100434358C (zh) | 2008-11-19 |
Family
ID=34675050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB2004800361108A Expired - Fee Related CN100434358C (zh) | 2003-12-11 | 2004-12-10 | 碳酰氟的制造方法及制造装置 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US7371898B2 (zh) |
| EP (1) | EP1698592A4 (zh) |
| JP (1) | JP4765630B2 (zh) |
| KR (1) | KR101093466B1 (zh) |
| CN (1) | CN100434358C (zh) |
| CA (1) | CA2548383C (zh) |
| RU (1) | RU2358903C2 (zh) |
| WO (1) | WO2005056472A1 (zh) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101080362B (zh) * | 2004-12-16 | 2011-02-02 | 旭硝子株式会社 | 碳酰氟的制造方法 |
| JP4994746B2 (ja) * | 2006-08-30 | 2012-08-08 | 関東電化工業株式会社 | Ｃｏｆ２の製造方法及び装置 |
| US8664438B2 (en) | 2008-10-06 | 2014-03-04 | Showa Denko K.K. | Process for producing carbonyl difluoride |
| JP5254735B2 (ja) * | 2008-10-14 | 2013-08-07 | 昭和電工株式会社 | 二フッ化カルボニルの製造方法 |
| JP5495642B2 (ja) * | 2009-07-09 | 2014-05-21 | 昭和電工株式会社 | 二フッ化カルボニルの精製方法 |
| JP5955187B2 (ja) * | 2012-10-01 | 2016-07-20 | 住友精化株式会社 | 塩化水素の製造方法 |
| CN110482518B (zh) * | 2019-03-30 | 2022-04-22 | 天津市长芦化工新材料有限公司 | 利用蒸馏塔纯化碳酰氟的方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003267712A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-25 | Central Glass Co Ltd | 二フッ化カルボニルの製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2823981A1 (de) * | 1978-06-01 | 1979-12-13 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung von carbonyl-difluoriden |
| JP3707917B2 (ja) * | 1997-10-06 | 2005-10-19 | セントラル硝子株式会社 | フッ化カルボニルの製造方法 |
| JP4059680B2 (ja) * | 2002-01-31 | 2008-03-12 | セントラル硝子株式会社 | 二フッ化カルボニルの製造方法 |
-
2004
- 2004-12-10 CN CNB2004800361108A patent/CN100434358C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-10 RU RU2006124745/15A patent/RU2358903C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2004-12-10 CA CA2548383A patent/CA2548383C/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-10 EP EP04820314A patent/EP1698592A4/en not_active Withdrawn
- 2004-12-10 KR KR1020067006559A patent/KR101093466B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2004-12-10 JP JP2005516200A patent/JP4765630B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-10 WO PCT/JP2004/018504 patent/WO2005056472A1/ja active Application Filing
-
2006
- 2006-06-09 US US11/449,831 patent/US7371898B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003267712A (ja) * | 2002-03-18 | 2003-09-25 | Central Glass Co Ltd | 二フッ化カルボニルの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2548383A1 (en) | 2005-06-23 |
| JP4765630B2 (ja) | 2011-09-07 |
| EP1698592A1 (en) | 2006-09-06 |
| KR101093466B1 (ko) | 2011-12-13 |
| US20060229467A1 (en) | 2006-10-12 |
| WO2005056472A1 (ja) | 2005-06-23 |
| US7371898B2 (en) | 2008-05-13 |
| KR20060126946A (ko) | 2006-12-11 |
| CN1890174A (zh) | 2007-01-03 |
| EP1698592A4 (en) | 2009-07-01 |
| CA2548383C (en) | 2012-05-15 |
| JPWO2005056472A1 (ja) | 2007-07-05 |
| RU2358903C2 (ru) | 2009-06-20 |
| RU2006124745A (ru) | 2008-01-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9371259B2 (en) | Method for preparing vinyl chloride from acetylene and dichlorethane | |
| KR101231370B1 (ko) | 모노실란의 열분해에 의한 디실란의 제조방법 및 제조장치 | |
| CN109867262B (zh) | 一种乙硼烷的合成系统及合成方法 | |
| AU782332B2 (en) | Method and apparatus for the production of nitrogen trifluoride | |
| CN110606490B (zh) | 一种高纯四氟化硅的合成及纯化方法 | |
| CN100434358C (zh) | 碳酰氟的制造方法及制造装置 | |
| CN112723313A (zh) | 一种制备三氟化氯的方法 | |
| JP2016029039A (ja) | プロピレンを循環処理および精製するための方法および装置 | |
| CN217313451U (zh) | 一种双氟磺酰亚胺的塔式连续制备装置 | |
| CN113353893B (zh) | 一种四氟化硫的合成方法及反应系统 | |
| CN110342469A (zh) | 一种高氢氧比条件下氢氧直接合成过氧化氢的方法 | |
| CN109867263B (zh) | 一种用于乙硼烷合成的二段式管式连续反应系统及乙硼烷的合成方法 | |
| CN209778297U (zh) | 一种乙硼烷的合成系统 | |
| CN116969467A (zh) | 一种新型改良西门子法多晶硅生产工艺 | |
| CN101080362B (zh) | 碳酰氟的制造方法 | |
| CN216946810U (zh) | 一种用于工业化制备高纯六氟乙烷的设施 | |
| CN106699696B (zh) | 一种环氧丙烷和环己酮的联产方法 | |
| CN115583631A (zh) | 一种三氟化氯的制备方法及装置 | |
| CN101671276B (zh) | 甲苯二异氰酸酯连续生产过程中回收光气的方法 | |
| JP4535269B2 (ja) | 水素の製造装置及び水素の製造方法 | |
| JP2008100881A (ja) | 五フッ化ヨウ素の製造法 | |
| CN114014743A (zh) | 一种连续生产六氟丁二烯的方法 | |
| US7413722B2 (en) | Method and apparatus for manufacturing nitrogen trifluoride | |
| CN210764338U (zh) | 一种四氟化碳的合成装置 | |
| CN115850001B (zh) | 二氧化碳联合碘化氢制备甲烷的方法及装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C17 | Cessation of patent right | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20081119 Termination date: 20131210 |