TWI454438B - 玻璃膜層疊體 - Google Patents
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Description
本發明是有關於一種藉由支持玻璃來支持玻璃膜的玻璃膜層疊體,該玻璃膜用於液晶顯示器或有機電激發光(Electroluminescence,EL)顯示器等的平板顯示器、太陽電池、鋰離子電池、數位電子看板(Digital Signage)、觸摸面板、電子紙等的裝置的玻璃基板,及有機EL照明等的裝置的蓋玻璃或醫藥品包裝等。
自節省空間的觀點考慮,代替先前普及的陰極射線管(Cathode-ray tube,CRT)型顯示器,近年來正普及液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL顯示器、場發射顯示器等的平板顯示器。對於該些平板顯示器而言進一步要求薄型化。尤其對於有機EL顯示器而言,要求藉由摺疊或捲繞而使搬運變得容易,同時不僅平面可使用曲面亦可使用。而且,要求平面可使用曲面亦可使用的並不限於顯示器,例如,只要可於汽車的車體表面或建築物的屋頂、支柱或外壁等具有曲面的物體的表面形成太陽電池,或者形成有機EL照明,則其用途會變得廣泛。因此,對於該些裝置中所使用的基板或蓋玻璃進一步要求薄板化及高可撓性。
有機EL顯示器中所使用的發光體會因氧或水蒸氣等的氣體接觸而發生劣化。因此,對有機EL顯示器中所使用的基板要求高阻氣性,從而期待使用玻璃基板。然而,基板中所使用的玻璃與樹脂膜並不同,因對拉伸應力較弱故而可撓性較低,若藉由將玻璃基板彎曲而對玻璃基板表面施加拉伸應力,則會導致破損。為了對玻璃基板賦予可撓性而必需進行超薄板化,從而提出了如下述專利文獻1所記載般的厚度為200 μm以下的玻璃膜。
對平板顯示器或太陽電池等的電子裝置中所使用的玻璃基板,被施以透明導電膜等的附膜處理、清洗處理等各種電子裝置製造關聯的處理。然而,若進行該些電子裝置中所使用的玻璃基板的膜化,則會由於玻璃為脆性材料而因一些應力變化導致破損,從而當進行上述各種電子裝置製造關聯處理時,存在操作非常困難的問題。此外,因厚度為200 μm以下的玻璃膜富於可撓性,故而會有在進行製造關聯處理時難以定位、於圖案化時產生偏離等的問題。
對此,為了提高玻璃膜的操作性,提出了在將黏著性物質塗佈於樹脂膜後層疊玻璃膜而成的層疊體。對於該層疊體而言,由於玻璃膜是藉由韌性材料即樹脂膜而支持,故而當進行上述各種製造關聯處理時,與為單個玻璃膜的情況相比,玻璃膜層疊體的操作變得容易。
然而,在最終將樹脂模自層疊體剝離而僅形成玻璃膜的情況下,有如下問題:作為脆性材料的玻璃膜容易破損,此外,將樹脂膜剝離後黏著性物質會殘存於玻璃膜,從而引起污染。而且,因樹脂膜與玻璃膜各自的熱膨脹率存在差異,即使是以200℃左右的比較低的溫度進行作為製造關聯處理的熱處理,仍有可能會引起熱翹曲或樹脂的剝離等。此外,因樹脂膜亦富於可撓性,故而亦有在製造關聯處理時的定位及圖案化時容易產生偏離等的問題。
為了解決上述問題,提出有下述專利文獻2所記載的層疊體。下述專利文獻2中提出了一種經由黏著劑層而層疊的層疊體,該黏著劑層即便因支持玻璃基板與玻璃片材的反覆使用亦可維持成固定。藉此,即便使用為單體的無強度及剛性的玻璃片材,亦可共用先前的玻璃用液晶顯示元件製造線而製造出液晶顯示元件,且於工序結束後,不會使玻璃基板破損便可快速地將其剝離。而且,支持體中使用了玻璃,因此可一定程度地防止熱翹曲等。此外,因支持體的剛性高,故而製造關聯處理時的定位時及圖案化時的偏離等的問題也不易產生。
然而,即便為上述層疊體,關於在剝離支持玻璃後黏著劑殘存於薄板玻璃片材的問題,依然沒有得到完全解決。
[先行技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2008-133174號公報
[專利文獻2]日本專利特開平8-86993號公報
本發明是為了解決上述先前技術的問題而完成的,其目的在於提供如下的玻璃膜層疊體:使對玻璃膜進行製造關聯處理時的操作性提高,亦不會產生定位時及圖案化時的偏離等的問題,且在製造關聯處理後將玻璃膜裝入至各種裝置時,能使玻璃膜自支持玻璃容易剝離,且能可靠防止剝離後黏著劑殘存於玻璃膜。
技術方案1的發明是有關於一種玻璃膜層疊體,在玻璃膜上層疊支持玻璃而成,其特徵在於:上述玻璃膜及上述支持玻璃的相互接觸一側的表面的表面粗糙度Ra分別為2.0 nm以下。
技術方案2的發明是有關於技術方案1所述之玻璃膜層疊體,其中,上述玻璃膜及上述支持玻璃的相互接觸一側的表面的表面的GI值分別為1000 pcs/m2
以下。
技術方案3的發明是有關於技術方案1或2所述之玻璃膜層疊體,其中,上述玻璃膜的厚度為300 μm以下。
技術方案4的發明是有關於技術方案1至3中任一技術方案所述之玻璃膜層疊體,其中,上述支持玻璃的厚度為400 μm以上。
技術方案5的發明是有關於技術方案1至4中任一技術方案所述之玻璃膜層疊體,其中,上述玻璃膜與上述支持玻璃的30℃~380℃時的熱膨脹係數(coefficient of thermal expansion)的差為5×10-7
/℃以內。
技術方案6的發明是有關於技術方案1至5中任一技術方案所述之玻璃膜層疊體,其中,上述玻璃膜及上述支持玻璃藉由溢流下拉法(overflow down draw)而成。
技術方案7的發明是有關於技術方案1至6中任一技術方案所述之玻璃膜層疊體,其中,上述玻璃膜與上述支持玻璃於緣部的至少一部分設置段差而層疊著。
技術方案8的發明是有關於技術方案1至7中任一技術方案所述之玻璃膜層疊體,其中,於上述玻璃膜與上述支持玻璃的接觸部分的一部分區域插入安裝著剝離用的片材構件,而且該片材構件的一部分自上述接觸部分突出。
技術方案9的發明是有關於技術方案1至8中任一技術方案所述之玻璃膜層疊體,其中,於上述支持玻璃,在與上述玻璃膜的有效面外相對應的位置處設置著至少一個貫通孔。
技術方案10的發明是有關於技術方案1至9中任一技術方案所述之玻璃膜層疊體,其中,於上述支持玻璃的上述玻璃膜側設置著用以對上述玻璃膜進行定位的導引構件。
技術方案11的發明是有關於技術方案10所述之玻璃膜層疊體,其中上述導引構件比上述玻璃膜的厚度更薄。
【發明的效果】
根據技術方案1的發明,成為在玻璃膜上層疊支持玻璃而成的玻璃膜層疊體,因此能夠提高對玻璃膜進行製造關聯處理時的操作性、並防止產生定位錯誤及圖案化時的偏離等的問題。玻璃膜及支持玻璃的相互接觸一側的表面的表面粗糙度Ra分別為2.0 nm以下,玻璃膜與支持玻璃以光滑的表面彼此接觸因此密接性優異,從而即便不使用接著劑亦可使玻璃膜與支持玻璃牢固穩定地層疊。因未使用接著劑,故而於製造關聯處理後將玻璃膜裝入至各種裝置時,只要能使玻璃膜以1個部位自支持玻璃剝離,則之後可連續使玻璃膜整體容易地自支持玻璃剝離,且可形成完全未殘存有接著劑的玻璃膜。
另一方面,若表面粗糙度Ra超過2.0 nm,則密接性會降低,從而若不利用接著劑則無法將玻璃膜與支持玻璃牢固層疊。
根據技術方案2的發明,因玻璃膜及支持玻璃的相互接觸一側的表面的GI值分別為1000 pcs/m2
以下,故而玻璃膜與支持玻璃的接觸面潔淨,從而不會破壞表面的活性,即便不利用接著劑亦可使玻璃膜與支持玻璃更牢固穩定地層疊。
根據技術方案3的發明,因玻璃膜的厚度為300 μm以下,故而即便對於操作更困難、且容易產生定位錯誤及圖案化時的偏離等的問題的超薄壁的玻璃膜,亦能夠容易進行製造關聯處理。
根據技術方案4的發明,因支持玻璃的厚度為400 μm以上,故而能夠可靠地支持玻璃膜。
根據技術方案5的發明,因玻璃膜與支持玻璃的30℃~380℃時的熱膨脹係數的差為5×10-7
/℃以內,故而即便於製造關聯處理時進行熱處理,亦可形成不易產生熱翹曲等的玻璃膜層疊體。
根據技術方案6的發明,因玻璃膜及支持玻璃藉由溢流下拉法而成形,故而無需研磨工序便可獲得表面精度極高的玻璃。藉此,可使玻璃膜與支持玻璃更牢固地層疊。
根據技術方案7的發明,因玻璃膜與支持玻璃於緣部的至少一部分設置段差而層疊著,故而於玻璃膜自支持玻璃突出的情況下,能夠將玻璃膜與支持玻璃更容易且可靠地剝離。另一方面,於支持玻璃自玻璃膜突出的情況下,能夠適當地保護玻璃膜的端部不受擊打等的影響。
根據技術方案8的發明,因於上述玻璃膜與上述支持玻璃的接觸部分的一部分區域插入安裝著剝離用的片材構件,且該片材構件的一部分自上述接觸部分突出,故而能夠把持片材構件的突出的部分而將玻璃膜與支持玻璃更容易且可靠地剝離。
根據技術方案9的發明,因於上述支持玻璃的在與上述玻璃膜的有效面外相對應的位置處設置著至少一個貫通孔,故而當將玻璃膜自支持玻璃剝離時,藉由通過貫通孔的壓縮空氣的注入或銷等的插入,而能夠僅提起玻璃膜,從而容易開始剝離玻璃膜。
根據技術方案10的發明,因於支持玻璃的玻璃膜側設置著用以對玻璃膜進行定位的導引構件,故而當對支持玻璃層疊玻璃膜時,能夠容易進行玻璃膜對支持玻璃的定位。
根據技術方案11的發明,因導引構件比玻璃膜的厚度更薄,故而在對玻璃膜層疊體進行作為製造關聯處理的清洗處理的情況下,能夠防止液體殘留於玻璃膜表面。
以下,一邊參照附圖一邊對本發明的玻璃膜層疊體的較佳實施形態進行說明。
如圖1所示,本發明的玻璃膜層疊體(1)由玻璃膜(2)與支持玻璃(3)所構成,無需使用接著劑等便可將玻璃膜(2)與支持玻璃(3)層疊在一起。
玻璃膜(2)使用矽酸鹽玻璃(silicate glass),較佳為使用二氧化矽玻璃、硼矽酸玻璃,最佳為使用無鹼玻璃。若玻璃膜(2)中含有鹼成分,則表面的陽離子會脫落,亦即產生所謂的白濁的現象,從而結構方面會變得粗糙。此時,若使玻璃膜(2)彎曲而使用,則有可能隨著經年劣化,變粗的部分會發生破損。另外,此處的無鹼玻璃,是指實質不包含鹼成分(鹼金屬氧化物)的玻璃,具體而言,是指鹼成分的重量比為1000 ppm以下的玻璃。本發明中的鹼成分的含量較佳為500 ppm以下,更佳為300 ppm以下。
玻璃膜(2)的厚度較佳為300 μm以下,更佳為5 μm~200 μm,最佳為5 μm~100 μm。藉此,使玻璃膜(2)的厚度更薄,而可賦予適當的可撓性,同時能夠容易地對操作性困難且容易產生定位錯誤及圖案化時的偏離等的問題的玻璃膜(2)進行製造關聯處理。若小於5 μm,則玻璃膜(2)的強度容易不足,當將玻璃膜(2)自玻璃膜層疊體(1)剝離並裝入裝置中時會容易導致破損。
支持玻璃(3)與玻璃膜(2)同樣地,使用矽酸鹽玻璃、二氧化矽玻璃、硼矽酸玻璃、無鹼玻璃等。關於支持玻璃(3),較佳為使用與玻璃膜(2)的30℃~380℃時的熱膨脹係數的差為5×10-7
/℃以內的玻璃。藉此,能夠形成如下的玻璃膜層疊體(1):即便於製造關聯處理時進行熱處理,亦可維持不易因膨脹率的差導致產生熱翹曲等的穩定的層疊狀態。
支持玻璃(3)的厚度較佳為400 μm以上。若支持玻璃(3)的厚度小於400 μm,則在以支持玻璃單體進行操作時,會有可能引起強度方面的問題。支持玻璃(3)的厚度較佳為400 μm~700 μm,最佳為500 μm~700 μm。藉此,能夠可靠地支持玻璃膜(2),同時有效地抑制將玻璃膜(2)與支持玻璃(3)剝離時可能產生的破損。
玻璃膜(2)及支持玻璃(3)的相互接觸一側的表面的表面粗糙度Ra分別為2.0 nm以下。若表面粗糙度Ra超過2.0 nm,則密接性降低,不利用接著劑則無法將玻璃膜(2)與支持玻璃(3)牢固地層疊。玻璃膜(2)及支持玻璃(3)的上述表面的表面粗糙度Ra較佳地分別為1.0 nm以下,更佳為0.5 nm以下,最佳為0.2 nm以下。
玻璃膜(2)及支持玻璃(3)的相互接觸一側的表面的GI值較佳地分別為1000 pcs/m2
以下。藉此,因玻璃膜(2)與支持玻璃(3)的接觸面潔淨,故而不會破壞表面的活性,即便不使用接著劑亦可使玻璃膜(2)與支持玻璃(3)更牢固穩定地層疊。本說明書中的GI值,是指1 m2
的區域內所存在的長徑為1 μm以上的不純粒子的個數(pcs)。玻璃膜(2)及支持玻璃(3)的上述表面的GI值更佳地分別為500 pcs/m2
以下,最佳為100 pcs/m2
以下。
本發明中所使用的玻璃膜(2)及支持玻璃(3)較佳為藉由下拉法而成形。這樣是為了使玻璃膜(2)的表面成形為更光滑。尤其圖2所示的溢流下拉法是成形時玻璃板的兩面不與成形構件接觸的成形法,從而在所獲得的玻璃板的兩面(透光面)不易產生損傷,即便不進行研磨亦可獲得高表面品質。藉此,能夠使玻璃膜(2)與支持玻璃(3)更牢固地層疊。
自剖面為楔型的成形體(7)的下端部(71)流下後的玻璃帶(G),寬度方向的收縮藉由冷卻輥(8)而受到限制,同時被朝下方拉伸而變薄至規定的厚度為止。其次,將達到上述規定厚度的玻璃帶(G)在緩冷爐(annealer)中緩慢冷卻,以除去玻璃帶(G)的熱應變,並將玻璃帶(G)切斷為規定尺寸。藉此,成形出由玻璃膜(2)或支持玻璃(3)構成的玻璃片材。
圖3(a)~圖3(c)是表示將玻璃膜與支持玻璃在緣部設置段差而層疊所成的玻璃膜層疊體的圖,圖3(a)是支持玻璃自玻璃膜突出的形態的圖,圖3(b)是玻璃膜自支持玻璃突出的形態的圖,圖3(c)是在支持玻璃設置著切口部的形態的圖。
本發明的玻璃膜層疊體(1)如圖3(a)~圖3(c)所示,較佳為將玻璃膜(2)與支持玻璃(3)設置段差(4)而層疊在一起。圖3(a)中,以支持玻璃(3)比玻璃膜(2)更突出的方式設置著段差(41)。藉此,能夠適當地保護玻璃膜(2)的端部。另一方面,圖3(b)中,則是在玻璃膜(2)比支持玻璃(3)更突出的狀態下設置著段差(42)。藉此,在玻璃膜(2)與支持玻璃(3)開始剝離時,能夠容易地僅把持玻璃膜(2),從而能夠更容易且可靠地剝離兩者。
段差(4)可設置於玻璃膜層疊體(1)的周邊部的至少一部分,例如,在玻璃膜層疊體(1)俯視時為矩形狀的情況下,可設置於4邊中的至少1邊。而且,亦可藉由於支持玻璃(3)或玻璃膜(2)的4角的一部分設置切口(Orientation Flat),來設置段差。
於圖3(b)的形態中,玻璃膜(2)的突出量較佳為0.5 mm~20 mm。若小於0.5 mm,則在開始剝離時有可能難以把持玻璃膜(2)的緣部,若超過20 mm,則於對玻璃膜層疊體(1)的側緣施加擊打等的外力時,玻璃膜(2)有可能會破損。
此外,藉由形成如下的玻璃膜層疊體(1):於玻璃膜層疊體(1)的端部,形成著使支持玻璃(3)的緣部自玻璃膜(2)的緣部突出而形成的段差、與使玻璃膜(2)的緣部自支持玻璃(3)的緣部突出而形成的段差(4)此兩個段差,而能夠分別同時把持玻璃膜(2)與支持玻璃(3),此外可使玻璃膜(2)容易剝離。各自的段差最佳為分別形成於附近。
另外,如圖3(c)記載所示,於玻璃膜(2)小於支持玻璃(3)的情況下,較佳為在支持玻璃(3)的端部設置著切口部(31)。可適當地保護玻璃膜(2)的端部,同時在剝離玻璃膜(2)時,能夠容易把持支持玻璃(3)的切口部(31)處所露出的玻璃膜(2),從而可容易剝離玻璃膜(2)。切口部(31)可藉由如下方法而形成:利用磨石等對支持玻璃(3)端部的一部分進行研磨,或者利用鑽孔機(Core Drill)等將端部的一部分切除。
較佳為於玻璃膜(2)與支持玻璃(3)的接觸部分的一部分區域,以自玻璃膜層疊體(1)突出的狀態插入安裝著剝離用的片材構件。這樣是為了藉由單獨地把持片材構件的突出的部分,而可容易剝離玻璃膜(2)。關於片材構件,可使用公知的樹脂片材等。關於厚度,較佳為在使玻璃膜(2)剝離時單獨地拉伸片材構件時,成為片材構件不會斷裂的程度。關於片材構件,可使玻璃膜(2)剝離即可,而對於插入安裝量、突出量均未作特別限定,縱橫1~2 cm左右即可。
在使玻璃膜(2)與支持玻璃(3)剝離時,較佳為將玻璃膜層疊體(1)浸漬於水中,一邊施加超音波一邊進行剝離。藉此,玻璃膜(2)與支持玻璃(3)的剝離所需的力得以減輕,從而能夠更容易地使玻璃膜(2)與支持玻璃(3)剝離。
圖4(a)~圖4(b)是於支持玻璃設置著貫通孔的圖,圖4(a)是平面圖,圖4(b)是A-A線剖面圖。
較佳為於支持玻璃(3)設置著至少一個貫通孔(32)。該貫通孔(32)設置在至少其一部分藉由玻璃膜(2)所覆蓋的位置。其原因在於:當將玻璃膜(2)自支持玻璃(3)時,通過貫通孔(32)注入壓縮空氣、或插入銷等,藉此能夠僅將玻璃膜層疊體(1)的玻璃膜(2)自支持玻璃(3)提起,從而容易開始進行玻璃膜(2)的剝離。
於貫通孔(32)附近的玻璃膜(2),有可能被施加剝離開始時的彎曲應力或銷等擊打所引起的外力,又,於貫通孔(32)附近,因支持玻璃(3)的有無所引起的熱傳遞的差,在貫通孔(32)附近的玻璃膜(2)經過加熱工序時容易產生應變,因此較佳為在與玻璃膜(2)的有效面外相對應的位置處設置著貫通孔(32)。另外,此處所指的玻璃膜(2)的有效面外,是指例如將玻璃膜(2)裝入至裝置中時被切斷除去的不需要的部分,或在玻璃膜(2)表面進行成膜時,成膜範圍外的非有效部分等。
貫通孔(32)的形狀為圓形狀、三角形、四邊形等的多邊形狀等,並未作特別限定,但就貫通孔(32)的加工性及防止裂紋的產生而言,較佳為圓形狀。貫通孔(32)的大小未作特別限定,列舉具有1 mm~50 mm的開口部的貫通孔(32)。關於設置著貫通孔(32)的部位,在玻璃膜層疊體(1)俯視時為矩形狀的情況下,較佳為設置於4角的角部附近。
圖5(a)~圖5(b)是於支持玻璃設置著導引構件的圖,圖5(a)是平面圖,圖5(b)是B-B線剖面圖。
較佳為於支持玻璃(3)的玻璃膜(2)側,在支持玻璃(3)的外周部設置著導引構件(5)。藉此,當對支持玻璃(3)層疊玻璃膜(2)時,能夠容易進行定位。
如圖5(a)~圖5(b)所示,在玻璃膜層疊體(1)俯視時為矩形狀的情況下,與支持玻璃(3)的相鄰的2邊平行地設置著導引構件(5)。藉此,於玻璃膜(2)的支持玻璃(3)上2邊的位置得以決定,因此能更可靠進行玻璃膜(2)的定位。而且,導引構件(5)如圖5(b)所示,藉由將其高度設為比玻璃膜(2)更低,則在玻璃膜層疊體(1)經過清洗工序的情況下,能夠防止液體殘存於玻璃膜(2)上,從而可使排水良好。此外,於導引構件(5)上設置溝槽(6),藉此可進一步提高排水性。溝槽(6)較佳為於導引構件(5)上設置有多個。
導引構件(5)較佳為由玻璃而製作。其原因在於:於玻璃膜層疊體(1)經過加熱工序的情況下,能夠防止導引構件(5)的劣化及損耗。導引構件(5)藉由玻璃粉(glass frit)的熔融接著或樹脂的接著等而形成。
於導引構件(5)與玻璃膜(2)之間形成著間隙的情況下,可藉由填充樹脂而填埋間隙。關於所使用的樹脂,較佳為紫外線硬化樹脂。當使玻璃膜(2)自支持玻璃(3)剝離時,可藉由照射紫外線而使樹脂硬化,因此可降低黏著力從而可容易地使之剝離。
【實例】
以下,根據實例對本發明的玻璃膜層疊體進行詳細說明,但本發明並不限定於該些實例。
使用縱250 mm、橫250 mm、厚700 μm的矩形狀的透明的玻璃板作為支持玻璃。作為層疊於支持玻璃上的玻璃膜,使用縱230 mm、橫230 mm、厚100 μm的玻璃膜。支持玻璃與玻璃膜使用的是日本電氣硝子股份有限公司製造的無鹼玻璃(製品名:OA-10G,30℃~380℃時的熱膨脹係數:38×10-7
/℃)。將藉由溢流下拉法(overflow down draw)而成形的玻璃在未研磨的狀態下直接使用、或者適當控制研磨及化學蝕刻的量,藉此進行表面粗糙度Ra的控制。使用Veeco公司製造的原子力顯微鏡(atomic force microscope,AFM)(Nanoscope III a),在掃描尺寸10 μm、掃描頻率1 Hz、抽樣線(sample line) 512的條件下,測定支持玻璃及玻璃膜的接觸面側的表面粗糙度Ra。表面粗糙度Ra根據測定範圍10 μm見方的測定值而算出。於測定後,在表1所示的試驗區對支持玻璃及玻璃膜的各個加以分類。
關於已進行分類的支持玻璃及玻璃膜,藉由控制清洗及室內的空調來進行水中及空氣中所包含的灰塵量的調節,並對附著於支持玻璃及玻璃膜的接觸面側的表面的灰塵量進行調節,藉此進行GI值的控制。關於GI值,利用日立高科技電子工程股份有限公司製造的GI7000進行測定。
其後,依照分別示於表1中的分類,使玻璃膜層疊於支持玻璃上,從而獲得實例1~8、比較例1~3的玻璃膜層疊體。
關於所獲得的玻璃膜層疊體,藉由分別進行清洗工序來判定接著強度是否優良。將藉由清洗工序而水浸入接著面後剝離的玻璃膜層疊體設為×,將可清洗而不會剝離的玻璃膜層疊體設為○,此外將即便用刷子進行擦洗亦不會剝離的玻璃膜層疊體設為◎,藉此進行密接性的判定。將結果示於表1中。
根據表1所示可知,關於玻璃膜與支持玻璃的表面粗糙度Ra均為2.0 nm以下的實例1~8,玻璃膜與支持玻璃具有充分的密接性,可進行清洗而不會剝離。與此相對,關於玻璃膜與支持玻璃中任一表面粗糙度Ra為2.5 nm以上的比較例1~3,因接觸面粗糙故而玻璃膜與支持玻璃的密接性較低,從而清洗時兩玻璃的接觸面浸入水後會發生剝離。
【產業上的可利用性】
本發明可較佳地用於液晶顯示器或有機EL顯示器等的平板顯示器或太陽電池等的裝置中所使用的玻璃基板及有機EL照明的蓋玻璃。
雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作些許之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1...玻璃膜層疊體
2...玻璃膜
3...支持玻璃
4、41、42...段差
5...導引構件
6...溝槽
7...成形體
8...冷卻輥
31...切口部
32...貫通孔
71...成形體7的下端部
G...玻璃帶
圖1是本發明的玻璃膜層疊體的剖面圖。
圖2是玻璃膜及支持玻璃的製造裝置的說明圖。
圖3(a)是將玻璃膜與支持玻璃在緣部設置段差而層疊所成的玻璃膜層疊體的圖,且是支持玻璃自玻璃膜突出的形態的圖。
圖3(b)是玻璃膜自支持玻璃突出的形態的圖。
圖3(c)是於支持玻璃設置著切口部的形態的圖。
圖4(a)是於支持玻璃設置著貫通孔的平面圖。
圖4(b)是圖4(a)的A-A線剖面圖。
圖5(a)是於支持玻璃設置著導引構件的平面圖。
圖5(b)是圖5(a)的B-B線剖面圖。
1...玻璃膜層疊體
2...玻璃膜
3...支持玻璃
Claims (11)
- 一種玻璃膜層疊體,在玻璃膜上層疊支持玻璃而成,其特徵在於:上述玻璃膜及上述支持玻璃的相互接觸一側的表面的表面粗糙度Ra分別為2.0nm以下。
- 如申請專利範圍第1項所述之玻璃膜層疊體,其中上述玻璃膜及上述支持玻璃的上述表面的GI值分別為1000pcs/m2 以下。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之玻璃膜層疊體,其中上述玻璃膜的厚度為300μm以下。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之玻璃膜層疊體,其中上述支持玻璃的厚度為400μm以上。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之玻璃膜層疊體,其中上述玻璃膜與上述支持玻璃的30℃~380℃時的熱膨脹係數的差為5×10-7 /℃以內。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之玻璃膜層疊體,其中上述玻璃膜及上述支持玻璃藉由溢流下拉法而成形。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之玻璃膜層疊體,其中上述玻璃膜與上述支持玻璃於緣部的至少一部分設置 段差而層疊著。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之玻璃膜層疊體,其中於上述玻璃膜與上述支持玻璃的接觸部分的一部分區域插入安裝著剝離用的片材構件,而且該片材構件的一部分自上述接觸部分突出。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之玻璃膜層疊體,其中於上述支持玻璃,在與上述玻璃膜的有效面外相對應的位置處設置著至少一個貫通孔。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之玻璃膜層疊體,其中於上述支持玻璃的上述玻璃膜側設置著用以對上述玻璃膜進行定位的導引構件。
- 如申請專利範圍第10項所述之玻璃膜層疊體,其中上述導引構件比上述玻璃膜的厚度更薄。
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