TWI439313B - 矮式表面安裝過濾器 - Google Patents

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TWI439313B
TWI439313B TW96104638A TW96104638A TWI439313B TW I439313 B TWI439313 B TW I439313B TW 96104638 A TW96104638 A TW 96104638A TW 96104638 A TW96104638 A TW 96104638A TW I439313 B TWI439313 B TW I439313B
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Nathan Abbott
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Description

矮式表面安裝過濾器
本發明大體係關於過濾器,且更明確地說,係關於矮式表面安裝過濾器。
許多製造過程需要以經調節的流動速率及壓力傳遞相對高純度之氣體。(例如)在製造半導體時,必須謹慎調節氣體之純度及流動速率以防止晶圓上之缺陷。歸因於缺陷之晶圓損耗不僅昂貴而且耗時。
在半導體製造中,經由"氣體棒(gas stick)"將氣體提供至處理腔室。氣體棒可包括各種組件(諸如過濾器、閥、質量流量控制器、壓力轉換器或其他組件)以淨化氣體、調節氣流或監視氣體或氣流之特性。傳統意義上,組件以"同軸"方式連接,其中每一組件藉由VCR連接器連接至下一組件。近來,半導體工業已變成模組化架構。在模組化架構中,氣體組件安裝至模組化基板區塊。基板區塊中之流動通道導引在基板區塊之間的流動及(因此)氣體組件之間的流動。模組化架構提供減小之佔據面積及標準化界面之優點。
圖1說明使用一模組化架構之氣體棒100之一實施例。在圖1之實例中,壓力轉換器102安裝於基板區塊104上且過濾器106安裝於基板區塊108上。氣體棒100要求基板108容納獨立的過濾器106。額外基板108使氣體棒100更長、更重且更昂貴。
已若干次嘗試藉由使用可疊過濾器來縮短氣體棒。已使先前過濾器具有一夾於區塊之兩個區之間的淨化元件或與至/自堆疊於過濾器之頂部上之基板或組件的各種流動通道垂直對準的淨化元件。第一類型之過濾器遭受在過濾器區塊之各種區之間需要多次密封之劣勢。額外之機械密封可中斷流動路徑,增加潤濕表面積且增加死空間。另外,密封可歸因於過濾器區塊之區之密封表面之間的尺寸或表面拋光不規則性而漏洩。第二類型之過濾器(例如,其中淨化元件與流動通道對準之過濾器)需要額外高度來容納淨化元件。
因此,需要一種矮式過濾器,其在配合模組化基板之佔據面積時最小化機械密封、氣體棒長度及高度。
本發明之實施例提供大體消除或減少先前所研發過濾器系統及方法之劣勢之矮式過濾器之系統及方法。更明確地說,本發明之實施例提供一種用於與模組化氣體板設計一起使用之矮式過濾器。本發明之一實施例包括一過濾器外殼,其經調適以安裝於一基板區塊上,該過濾器外殼中界定複數個流動路徑及一過濾器腔室。該過濾器腔室經界定以在使用矮式過濾器時在大體水平方向中延伸。第一流動通道經界定以將該過濾器外殼之一入口連接至該過濾器腔室之第一區,且第二流動通道經界定以將該過濾器腔室之一第二區連接至該過濾器外殼之一出口。包含過濾器及轉接器之過濾器總成係安置於該過濾器腔室中且密封至該過濾器腔室之表面,從而將該過濾器腔室分成相鄰之區,該等區包括過濾器腔室之第一區及過濾器腔室之第二區。在其他實施例中,可使用垂直定向之過濾器,但是此可能犧牲節省高度之能力。
過濾器外殼可為單一材料片。過濾器可包括鎳、鋼、陶瓷、鐵氟龍(TEFLON)或其他材料之盤形或管式過濾器。根據本發明之各種實施例,流動通道可經配置以致在氣體被導引至安裝於過濾器之頂部上之組件之前或在氣體自組件返回之後過濾該氣體。根據其他實施例,過濾器可充當獨立的過濾器,其中自基板區塊接收氣體,過濾氣體,且將其返回基板區塊。
本發明之另一實施例可包括一種用於使用一矮式過濾器來過濾氣體之方法,該方法包含:將一過濾器安裝至一基板區塊;將氣體自過濾器外殼中之入口引導至大體水平的第一過濾器腔室;使氣體流入大體水平方向之第一過濾器總成中且使氣體流過第一過濾器以過濾該氣體;及將氣體自第一過濾器腔室引導至過濾器外殼中之出口。又,可在氣體被導引至安裝於矮式過濾器上之組件之前或之後過濾氣體。根據其他實施例,可自基板區塊接收氣體,過濾該氣體且將其返回至基板區塊。
本發明之又一實施例包括一種製得矮式過濾器之方法,該方法包含:形成一具有一頂部表面及一底部表面之過濾器外殼;將一過濾器腔室加工於過濾器外殼中,其中使用中之過濾器腔室被定向成大體水平的;將第一流動通道加工於過濾器外殼中,其中該第一流動通道自過濾器外殼中之入口延伸至過濾器腔室,且將第二流動通道加工於過濾器外殼中,其中該第二流動通道自過濾器腔室通向出口;形成一過濾器總成;及將過濾器總成密封至過濾器腔室之表面以將過濾器腔室分成相鄰之區,其中第一流動通道進入第一區中之過濾器腔室且第二流動通道進入第二區中之過濾器腔室。
本發明之實施例藉由提供矮式表面安裝過濾器來提供一種優於先前所研發之過濾器的技術優點,該矮式表面安裝過濾器在最小化高度的同時,對於半導體製造應用而言,產生一足夠的壓降且具有一足夠的對數下降值("LRV")。
本發明之實施例藉由減少流動路徑中之密封件數目、進而減小潤濕表面積及過濾器內的死空間來提供另一優點。此可縮短乾燥過濾器之時間(亦即,縮短弄乾時間)且最小化自死空間去除雜散粒子且雜散粒子進入氣流之可能。
圖式中說明本發明之較佳實施例,該等圖式中類似數字用於指示各種圖式之類似及對應部分。
本發明之實施例提供一種用於矮式過濾器之系統及方法。根據一實施例,矮式過濾器包括一過濾器外殼,該過濾器外殼頂部及底部上有用於氣體進入/流出之口。過濾器主體界定一經由該過濾器主體大體水平延伸之過濾器腔室。過濾器總成將過濾器腔室劃分成兩個水平相鄰之區。第一流動通道自過濾器主體之頂部或底部上之口通向第一區,而第二流動通道自頂部或底部上之另一口通向第二區。基於口及流動通道之組態,可在氣體流向安裝於矮式過濾器之頂部上之組件之前或之後過濾該氣體。在其他實施例中,可使用垂直定向之過濾器,但是此可能會犧牲用以節省高度之能力。
根據一實施例,過濾器總成可包括一管式過濾器及一轉接器。該轉接器可為耦接至該管式過濾器及密封至過濾器腔室之表面的環或其他形狀。當位於過濾器腔室中時,過濾器總成將過濾器腔室隔離成兩個水平相鄰之區,其中管式過濾器伸入該等區中之一者中。氣體經由第一流動通道進入第一區,流過轉接器之中心且經由管式過濾器滲入第二區中。接著,氣體可經由第二流動通道流出過濾器腔室之第二區。
根據另一實施例,過濾器總成可包括跨越過濾器腔室而密封之一或多個垂直盤形膜(例如,該或該等膜大體在垂直於過濾器腔室之水平主軸之平面中)。在此實例中,氣體經由第一流動通道進入第一區,流過盤形膜至過濾器腔室之第二區且經由第二流動通道流出過濾器腔室。
流動通道可經組態且口可經配置以致在氣體流向堆疊於矮式過濾器之頂部上之組件之前或在氣體自堆疊於矮式過濾器之頂部上之組件流動之後過濾該氣體。
另外,流動通道及口可經組態以致矮式過濾器充當獨立的過濾器。
圖2說明根據本發明之實施例具有矮式過濾器210之實例的氣體棒200之實施例。在圖2之實例中,矮式過濾器210係安裝於基板區塊212與壓力轉換器214之間。與圖1相比,消除一基板區塊,從而縮短氣體棒。另外,過濾器210顯著短於過濾器106。矮式過濾器210可經組態以在氣體流向壓力轉換器214之前、在氣體離開壓力轉換器214之後或在兩種情況中過濾該氣體。
操作中,氣體經由基板區塊212進入矮式過濾器210之底部。氣體可經過濾且傳至壓力轉換器214或穿過壓力轉換器214且在返回基板區塊212時經過濾。矮式過濾器210可經組態以配合各種基板區塊且可經形成以與K1S、K1、K1H、C-密封、W-密封、CS-密封或此項技術中已知或已研發之其他氣體板基板區塊相容。另外,除了壓力轉換器214外之其他組件可安裝至矮式過濾器210,該其他組件包括(但不限於)質量流量控制器、顯示器、濕度監視器、量具、閥、漫射體、壓力調節器或此項技術中已知或已研發之其他組件。
圖3說明利用安裝於基板區塊312上之矮式過濾器310之實施例的氣體棒300之另一實施例。在圖3之實例中,矮式過濾器310為獨立的過濾器。然而,同圖2之實例一樣,矮式過濾器310顯著短於過濾器106。在此實例中,氣體自基板區塊312進入矮式過濾器310,穿過過濾器,且返回基板區塊312。
圖4A及圖4B為矮式過濾器210之一實施例之示意性表示。矮式過濾器210包括一過濾器外殼400,該過濾器外殼中具有大體水平的過濾器腔室402。雖然僅圖示為源於表面404,但是過濾器腔室402可源於過濾器外殼400之額外外表面以有助於插入過濾器總成430(以下將論述)。過濾器外殼400之頂部表面及底部表面上之一或多個口(例如,口406、口408、口410、口412)充當至矮式過濾器210之入口或出口。過濾器外殼400中所界定之流動通道將氣體通向過濾器腔室402/自過濾器腔室402導出,且通向入口/出口/自入口/出口導出。舉例而言,流動通道414自底部口406延伸至過濾器腔室402,而流動通道416自過濾器腔室402延伸至頂部口410。流動通道418為一在底部口408與頂部口412之間延伸之貫穿通道。過濾器外殼400可進一步包括各種連接孔(420處指示其中之一者)以允許過濾器外殼400被連接至基板區塊。
過濾器外殼400由適於引導氣流之材料(諸如不銹鋼)形成,但是,可使用其他材料。過濾器外殼400之各種特徵可經組態以允許矮式過濾器210與各種基板區塊及組件相容。作為實例而非限制,矮式過濾器210可與C-密封架構相容。因此,過濾器外殼400可為1.125吋寬、1.125吋深(亦即,可具有大約與C-密封基板區塊相同之佔據面積)及0.375吋高。在此實例中,口406將充當至矮式過濾器210之入口,口410將充當出口以將氣體提供至堆疊於矮式過濾器210之頂部上之組件(亦即,根據C-密封架構,中心口為組件之入口),口410將經過濾之氣體提供至經堆疊組件且口408將為至基板區塊之出口。因此,對於堆疊於矮式過濾器210之頂部上之組件而言,過濾器外殼400可提供與C-密封基板區塊相同之口配置。
根據一實施例,過濾器外殼400為單一不銹鋼區塊。使用已知加工技術將過濾器腔室402、口406、408、410及412加工成不銹鋼區塊。舉例而言,過濾器腔室402可具有0.276吋之直徑。接著,可鑽出各種流動通道及安裝孔。請注意,一些半導體製造商規定通向流動通道之C-密封口之中心處之孔可具有不大於0.180吋之大徑。流動通道之角度及流動通道之直徑可經選擇以致流動通道之入口處之圓或橢圓(若以一角度被鑽出)不大於規定尺寸(例如,0.180吋)。假設在與外殼400之頂部表面成一角度處鑽出流動通道416以致形成一橢圓入口,自過濾器腔室402延伸至口410之流動通道416之角度及直徑可經選擇以使得入口之大徑不大於0.180吋或其他規定尺寸。
根據一實施例,在兩個階段中加工自口406至過濾器腔室402之流動通道414。自入口406至過濾器外殼400中加工第一部分。又,流動通道416之角度及半徑可經選擇以致至流動通道416之橢圓入口不會超過規定尺寸。可自過濾器腔室402之表面以一角度向內加工流動通道416之第二部分以與流動通道414之第一區相接。流動通道414被首先加工之部分通常將具有稍微大於經加工第二部分之直徑,從而使其更易於確保加工期間第二部分與第一部分完全相接。舉例而言,流動通道414之第一部分可具有0.125吋之直徑,而第二部分(較小部分)之直徑可為0.094吋。根據一實施例,流動通道416亦可具有一大約0.125吋之直徑,而在此實例中,流動通道416可具有一多至0.180吋之直徑。然而,請注意,任何加工技術皆可用於形成過濾器外殼400。
過濾器總成430經安置於過濾器腔室402中且其將過濾器腔室402分成兩個水平相鄰之區,432及434處大體展示(參看圖5)。流動通道414進入區432中之過濾器腔室402,且流動通道416進入區434中之過濾器腔室。因此,過濾器總成430隔離自入口406至過濾器腔室402之流動通道(亦即,流動通道414)與自過濾器腔室402至出口410之流動通道。
根據圖4之實施例,過濾器總成430包括耦接至轉接器440之管式過濾器438。然而,過濾器總成430可包括用於隔離過濾器腔室402以致在區之間過濾氣體之任何過濾器機構。管式過濾器438可包括適用於一組過程要求之任何管式過濾器。作為實例而非限制,管式過濾器438可為0.003微米不銹鋼或鎳之過濾器。鋼及鎳之管式過濾器之實例分別包括Mykrolis Corp.之Wafergard SL氣體過濾器WGSLSFC1M及WGSLNFC1M。在此等實例中,壁厚度為約0.020-0.065吋,其中微孔尺寸為5-10微米。(Mykrolis Corp.以Billerica,MA為根據地且已與Chaska,MN之Entegris Corp.合併)。過濾器材料之其他實例包括陶瓷、鐵氟龍及其他過濾器材料(鐵氟龍為Wilmington,Delaware之E.I.du Pont de Nemours and Company之註冊商標)。轉接器440可為不銹鋼或其他材料。
管式過濾器438可焊接或以另外方式耦接至轉接器440以形成過濾器總成430。將過濾器總成插入過濾器腔室402中,且一密封形成於過濾器總成430與過濾器腔室402之壁之間。根據一實施例,經由轉接器440與過濾器腔室402之壁之間的干涉配合形成該密封。根據此實施例,轉接器440之半徑或外尺寸稍微大於轉接器440將與過濾器腔室402之壁密封之區域處的過濾器腔室402之半徑或外尺寸。舉例而言,在環境溫度時,轉接器440可具有0.0005-0.0015吋之半徑,其大於待形成密封之區域中之過濾器腔室402之半徑。可使用按壓迫使過濾器總成430進入過濾器腔室402中以在轉接器440與過濾器腔室402之間形成干涉密封。根據另一實施例,可冷卻過濾器總成430(例如,以液氮或其他冷卻方法)且加熱過濾器外殼400。當過濾器總成430歸因於冷卻而收縮且過濾器腔室402歸因於加熱而膨脹時,過濾器總成430被置放於過濾器腔室402中。當過濾器總成430及過濾器外殼400達到環境溫度時,干涉密封將形成於過濾器轉接器440與過濾器腔室402之壁之間。在另一實施例中,可使用電子束、雷射、鎢極惰性氣體或電漿來將過濾器總成430焊接至過濾器腔室402。
可在表面404處使用密封釦狀物、栓塞或其他材料片424(如圖4B及圖5所示)來密封過濾器腔室402。密封釦狀物可由不銹鋼或其他材料(其較佳與預期處理氣體不反應或最低程度地反應)形成。根據一實施例,使用熔焊將密封釦狀物密封至過濾器外殼400。
在操作中,矮式過濾器210係安裝至基板,如圖2所示。氣體經由口406進入流動通道414且流向過濾器腔室402之區432。接著,氣體流過轉接器440之中心進入管式過濾器438,且滲透過管式過濾器438之壁進入過濾器腔室402之區434。經過濾氣體自過濾器腔室402經由流動通道416流向口410,流至安裝於矮式過濾器210上之組件。
根據其他實施例,流動通道414可進入區434中之過濾器腔室402且流動通道416可進入區432中之過濾器腔室402。因此,將藉由自管式過濾器438之外側傳遞至管式過濾器438之內側來過濾氣體。
圖5為自側展示過濾器腔室402之矮式過濾器210之剖視圖之示意性表示。圖5中所展示的為過濾器外殼400,其包括底部口406、頂部口410及412及過濾器腔室402。圖5亦說明包括管式過濾器438及轉接器440之過濾器總成430。亦展示密封釦狀物424。如自圖5可見,過濾器總成430將過濾器腔室402分成水平相鄰之區432及區434。流動通道414自底部口406延伸至過濾器腔室402,而流動通道416自口410延伸至過濾器腔室402。在此實例中,氣體自基板區塊流入口406中且經由區432中之流動通道414而進入過濾器腔室402。氣體流過轉接器440之中心進入管式過濾器438之中心且滲出管式過濾器438之壁進入區434。接著,氣體經由流動通道416且經由口410流出過濾器腔室402,流至安裝於矮式過濾器210上之組件。氣體經由口412自組件返回且導回基板區塊。在此實例中,在氣體進入組件之前過濾該氣體。
圖6為圖4A之矮式過濾器210之剖視圖之示意性表示。圖6說明過濾器外殼400、口406、口408、口410、口412、流動通道416、流動通道418及管式過濾器438。根據一實施例,流動通道416將管式過濾器438所過濾之氣體引導至安裝於矮式過濾器210上之組件。自組件返回之氣體在口412處進入過濾器外殼400。流動通道418為一自口412通向口408及下伏基板區塊之貫穿流動通道。
在先前實施例中,在將氣體提供至安裝於矮式過濾器210上之組件之前,矮式過濾器210過濾氣體。然而,在其他實施例中,矮式過濾器210可在組件將氣體輸回矮式過濾器210之後過濾氣體。圖7為用於在組件之出口側上過濾氣體之矮式過濾器210之示意性表示。根據圖7之實施例,矮式過濾器210包括一過濾器外殼700,該過濾器外殼中具有大體水平的過濾器腔室702。雖然僅圖示為源於表面704,但是過濾器腔室702可源於過濾器外殼700之額外外表面以有助於插入過濾器總成730(以下所論述)。過濾器外殼700之頂部表面及底部表面上之一或多個口(例如,口706、口708、口710、口712(在圖8中更好觀察口706及708))充當至矮式過濾器210之入口或出口。過濾器外殼700中所界定之流動通道將氣體通向過濾器腔室702/自過濾器腔室702導出,且通向入口/出口/自入口/出口導出。舉例而言,流動通道714自底部口706延伸至頂部口710。流動通道716自頂部口712延伸至過濾器腔室702,而流動通道718(如圖8中所展示)自過濾器腔室702延伸至頂部口708。過濾器外殼700可進一步包括各種連接孔(720處所指示)以允許過濾器外殼700被連接至基板區塊。過濾器外殼700可由單一材料區塊形成且可以類似於結合圖4A及圖4B之過濾器外殼400所描述之方式的方式來設定尺寸及加工,但是其中流動通道經配置以提供出口側過濾。
過濾器總成730經安置於過濾器腔室702中且將過濾器腔室702分成兩個水平相鄰之區,大體在732及734處展示(圖8中所示)。流動通道716進入區732中之過濾器腔室702,且流動通道718進入區734中之過濾器腔室。因此,過濾器總成730隔離自頂部入口712至過濾器腔室702之流動通道(亦即,流動通道716)與自過濾器腔室702至底部出口708之流動通道(亦即,流動通道718)。
根據圖7之實施例,過濾器總成730包括耦接至轉接器740之管式過濾器738(在圖8中更好觀察)。然而,過濾器總成730可包括用於隔離過濾器腔室702以致在區之間過濾氣體之任何過濾器機構。管式過濾器738可包括適用於一組過程要求之任何管式過濾器。作為實例而非限制,管式過濾器738可為0.003微米不銹鋼或鎳之過濾器。轉接器740可為不銹鋼或其他材料。
過濾器總成730可以與圖4A之過濾器總成430類似之方式形成且可耦接至過濾器外殼700以形成干涉密封或其他密封。可在表面704處使用密封釦狀物724(圖8所示)或其他材料片密封過濾器腔室702。釦狀物724可由不銹鋼或其他材料(其較佳與預期處理氣體不反應或最低程度地反應)形成。根據一實施例,使用熔焊將釦狀物724密封至過濾器外殼700。
在操作中,矮式過濾器210係安裝至基板,如圖2所示。氣體經由口706進入流動通道714且經由口710流向安裝於矮式過濾器210之頂部上之組件。組件經由口712將氣體返回至矮式過濾器210。氣體流過流動通道716至過濾器腔室702。接著,氣體流過轉接器740之中心進入管式過濾器738且滲透過管式過濾器738之壁進入過濾器腔室702之區734。經過濾氣體經由流動通道718自過濾器腔室702流向口708,以返回至其上安裝有矮式過濾器210之基板。
根據其他實施例,流動通道716可進入區734中之過濾器腔室702且流動通道718可進入區732中之過濾器腔室702。因此,將藉由自管式過濾器738之外側傳遞至管式過濾器738之內側來過濾氣體。無論如何,在經安裝組件之出口側上過濾氣體提供由組件所引入之任何污染物會在氣體被導引至其他組件之前被過濾的優點。
圖8為圖7之矮式過濾器210之剖視圖之示意性表示。圖8中所展示的為過濾器外殼700,其包括底部口706及708、頂部口710及712及過濾器腔室702。亦展示的為包括管式過濾器738及轉接器740之過濾器總成730。圖8進一步說明密封釦狀物724。如在圖8中可見,過濾器總成730將過濾器腔室702分成水平相鄰之區732及區734。流動通道716自頂部口712延伸至過濾器腔室702,而流動通道718自過濾器腔室702延伸至底部口708。在此實例中,氣體自基板區塊流入口706中且直至口710。在自安裝至矮式過濾器210之組件之返迴路徑上,氣體自口712流向過濾器腔室702,經由轉接器740之中心進入管式過濾器738之中心且滲出管式過濾器738進入區734。接著,氣體經由口708流出矮式過濾器210至基板區塊。然而,又可顛倒流動通道之定向以致藉由自管式過濾器738之外側將氣體傳遞至管式過濾器738之中心來過濾氣體。
本發明之先前所描述實施例利用單個過濾器。根據本發明之另一實施例,可使用多個過濾器。圖9A及圖9B為對偶過濾器組態矮式過濾器210之一實施例之示意性表示。根據圖9A及圖9B之實施例,矮式過濾器210包括一過濾器外殼900,該過濾器外殼中具有一對大體水平的過濾器腔室902及903。雖然僅圖示為源於表面904,但是過濾器腔室902及903可源於過濾器外殼900之額外外表面以有助於插入過濾器總成930及931。過濾器外殼900之頂部表面及底部表面上之一或多個口充當至矮式過濾器210之入口或出口。自圖9A及圖9B之角度,僅指示頂部口910及912。過濾器外殼900中所界定之流動通道將氣體通向過濾器腔室902及903/自過濾器腔室902及903導出,且通向入口/出口/自入口/出口導出。舉例而言,流動通道914自底部口延伸至過濾器腔室902及過濾器腔室903。此外,一流動通道自過濾器腔室902通向口910,而另一流動通道自過濾器腔室903延伸至口910。自口912至底部出口之流動通道充當貫穿通道。
過濾器總成930係安置於過濾器腔室902中且第二過濾器總成931係安置於過濾器腔室903中。過濾器總成930將過濾器腔室902分成兩個水平相鄰之區,而過濾器總成931將過濾器腔室903分成兩個水平區。流動通道914進入過濾器腔室902之第一區中之過濾器腔室902及過濾器腔室903之第一區中之過濾器腔室903中。出口流動通道(例如,自過濾器腔室902延伸至口910)進入過濾器腔室902之第二區中之過濾器腔室902而過濾器腔室903之出口流動通道(例如自過濾器腔室903延伸至口910)進入過濾器腔室903之第二區中之過濾器腔室903。因此,流動通道914由於過濾器總成930而與過濾器腔室902之出口分離且由於過濾器總成931而與過濾器腔室903之出口分離。
根據圖9A及圖9B之實施例,過濾器總成930及過濾器總成931可與先前所描述之過濾器總成類似且可包括一轉接器及管式過濾器。然而,兩者中任一過濾器總成可包括用於將各別過濾器腔室隔離成區以致在區之間過濾氣體的任何過濾器機構。作為實例而非限制,管式過濾器可為0.003微米不銹鋼或鎳之過濾器,而轉接器可為不銹鋼或其他材料。
過濾器總成930及931可以與圖4A及圖4B之過濾器總成430類似之方式形成且可耦接至過濾器外殼900以形成干涉密封或其他密封。可在表面904處使用由不銹鋼或其他材料(其較佳與預期處理氣體不反應或最低程度地反應)形成之密封釦狀物或栓塞密封過濾器腔室902及過濾器腔室903。可使用熔焊將栓塞或密封釦狀物密封至過濾器外殼900。
在操作中,矮式過濾器210安裝至基板,如圖2所示。氣體經由底部口進入流動通道914且流向過濾器腔室902及903。氣體分別流過過濾器總成930及931之中心且滲入過濾器腔室902及903之另一區中。然而,又可顛倒此流動以致藉由將氣體流入管式過濾器而不是流出管式過濾器來過濾氣體。流動通道將氣體自過濾器腔室902及過濾器腔室903引導至口910。氣體自組件經由口912返回,流過一貫穿流動通道且流出過濾器外殼900之底部上之出口。因此,除了在將氣體引導至堆疊於矮式過濾器210之頂部上之組件之前將氣體並行引導至兩個過濾器腔室以過濾氣體外,流動路徑與結合圖4A、圖4B及圖5而描述之流動路徑類似。
在圖9A-9B之實例中,矮式過濾器210充當入口過濾器。然而,對於組件之出口側,矮式過濾器210可組態成對偶過濾器。根據另一實施例,一過濾器可執行於組件之入口側上而另一過濾器可執行於組件之出口側上。根據其他實施例,兩個過濾器可處於相同過濾器腔室(例如,自每一末端插入)中且氣體經由過濾器腔室再循環。
使用對偶過濾器提供一優於單個過濾器之優點,因為對偶過濾器可使用小直徑提供較大表面積。此可允許較大或與單個過濾器類似之壓降,同時允許過濾器外殼900之高度減小。另外,多個較小直徑之過濾器可用於其中口置放不會允許配合較大過濾器之過濾器外殼。
圖10為矮式過濾器210之又一實施例之示意性表示。矮式過濾器210包括一過濾器外殼1000,該過濾器外殼中具有大體水平的過濾器腔室1002。雖然僅圖示為源於一表面,但是過濾器腔室1002可源於過濾器外殼1000之額外外表面以有助於插入過濾器總成1030。過濾器外殼1000之頂部表面及底部表面上之一或多個口(例如,口1006、口1008、口1010、口1012)充當至矮式過濾器210之入口或出口。過濾器外殼1000中所界定之流動通道將氣體通向過濾器腔室1002/自過濾器腔室1002導出,且通向入口/出口/自入口/出口導出。舉例而言,流動通道1014自底部口1006延伸至過濾器腔室1002,而流動通道1016自過濾器腔室1002延伸至頂部口1010。流動通道1018為一在頂部口1008與頂部口1012之間延伸之貫穿通道。過濾器外殼1000可進一步包括各種連接孔以允許過濾器外殼1000被連接至基板區塊。
過濾器總成1030係安置於過濾器腔室1002中且過濾器總成1030將過濾器腔室1002分成兩個水平相鄰之區。流動通道1014進入第一區中之過濾器腔室1002,且流動通道1016進入第二區中之過濾器腔室。因此,過濾器總成1030隔離自入口1006至過濾器腔室1002之流動通道(亦即,流動通道1014)與自過濾器腔室1002至出口1010之流動通道。
根據圖10之實施例,過濾器總成1030包括耦接至轉接器1040之管式過濾器1038。然而,過濾器總成1030可包括用於隔離過濾器腔室1002以致在區之間過濾氣體之任何過濾器機構。管式過濾器1038可包括適用於一組過程要求之任何管式過濾器。根據本發明之一實施例,管式過濾器1038為鐵氟龍過濾器,該過濾器包含對第一區開口之多個鐵氟龍管(例如,中空纖維)。該等管可視需要為直管或(例如)"U"形管。轉接器1040可為不銹鋼環。在Mykrolis Corp.之pHasor膜接觸器(Membrane Contactor)PH2005F0F中可發現類似之鐵氟龍管之實例。根據一實施例,鐵氟龍管具有一大約5微米之微孔尺寸及0.006-0.012吋壁厚,但是在製得該等管之過程期間可控制微孔尺寸、管長度及壁厚度。鐵氟龍層密封鐵氟龍管之間的間隙及鐵氟龍管與轉接器1040之間的間隙。結合圖11更詳細描述用於形成過濾器總成1030之一實施例。
將過濾器總成1030插入過濾器腔室1002中,且一密封形成於過濾器總成1030與過濾器腔室1002之壁之間。根據一實施例,經由轉接器1040與過濾器腔室1002之壁之間的干涉配合形成該密封。根據此實施例,轉接器1040之半徑或外尺寸稍微大於在轉接器1040將與過濾器腔室1002之壁密封之區域處的過濾器腔室1002之半徑或外尺寸。舉例而言,在環境溫度時,轉接器1040之直徑可比待形成密封之區域中之過濾器腔室1002之直徑大0.001-0.002吋。可使用按壓迫使過濾器總成1030進入過濾器腔室1002中以在轉接器1040與過濾器腔室1002之間形成干涉密封。根據另一實施例,可冷卻過濾器總成1030(例如,以液氮或其他冷卻方法)且加熱過濾器外殼1000。當過濾器總成1030歸因於冷卻而收縮且過濾器腔室1002歸因於加熱而膨脹時,過濾器總成1030被置放於過濾器腔室1002中。當過濾器總成1030及過濾器外殼1000達到環境溫度時,干涉密封將形成於過濾器轉接器1040與過濾器腔室1002之壁之間。
可在外殼1000之表面處使用密封釦狀物1024或其他材料片密封過濾器腔室1002。釦狀物1024可由不銹鋼或其他材料(其較佳與預期處理氣體不反應或最小程度地反應)形成。根據一實施例,使用熔焊將釦狀物1024密封至過濾器外殼1000。
在操作中,矮式過濾器210安裝至基板,如圖2所示。氣體經由口1006進入流動通道1014且流入過濾器腔室1002之第一區中。接著,氣體流過暴露於過濾器腔室1002之第一區之鐵氟龍管之開口末端且滲過管壁進入過濾器腔室1002之另一區中。經過濾氣體自過濾器腔室1002經由流動通道1016流向口1010,流至安裝於矮式過濾器210上之組件。根據其他實施例,可配置流動通道以致將藉由自管式過濾器1038之外側流向鐵氟龍管之內側來過濾氣體。
在圖10之實例中,在安裝至矮式過濾器210上之組件之入口側上過濾氣體。根據其他實施例,可在組件之出口側上或入口側及出口側兩者上過濾氣體。另外,多個鐵氟龍(或其他材料)過濾器可用於在入口側、出口側或兩者上過濾氣體。
圖11說明形成過濾器總成1030之一實施例。轉接器1040及多個鐵氟龍管(例如,諸如管1102)係置放於坩堝1103中。小的鐵氟龍珠粒散佈於管之間(例如,珠粒1104)以充當灌封材料。較佳地,珠粒1104具有比鐵氟龍管及轉接器1040低的熔融溫度。舉例而言,鐵氟龍管可為PFA鐵氟龍,而鐵氟龍珠粒可為MFA鐵氟龍。將坩堝加熱至熔融珠粒1104而不是鐵氟龍管或轉接器1040之溫度。當珠粒熔融而填充管之間的間隙及管與轉接器1040之間的間隙時,可將坩堝冷卻至環境溫度以允許熔融鐵氟龍冷卻成鐵氟龍密封件1106。接著,可切除鐵氟龍管之末端以確保管不會被鐵氟龍密封件1106塞住。舉例而言,可使管與轉接器1040齊平。雖然鐵氟龍密封件1106可能不會與轉接器1040完全黏結(例如,歸因於鐵氟龍及轉接器之各別材料之特性),但是當轉接器1040經由建立與過濾器外殼1000之干涉配合而變形時(亦即,當過濾器腔室"擠壓"轉接器以形成干涉配合時)可完成鐵氟龍密封件1106與轉接器1040之間的機械密封。
至此,已在位於基板區塊與組件之間的過濾器之情況中描述矮式過濾器。然而,根據本發明之其他實施例,矮式過濾器可為獨立的過濾器(例如,圖3之矮式過濾器310)。圖12為矮式過濾器310之剖視圖之一實施例之示意性表示。矮式過濾器310包括一過濾器外殼1200,該過濾器外殼中具有大體水平的過濾器腔室1202。雖然僅圖示為源於一表面,但是過濾器腔室1202可源於過濾器外殼1200之額外外表面以有助於插入過濾器總成1230。過濾器外殼1200之底部表面上之一或多個口(例如,口1206及口1208)充當至矮式過濾器310之入口或出口。過濾器外殼1200中所界定之流動通道將氣體通向過濾器腔室1202/自過濾器腔室1202導出,且通向入口/出口/自入口/出口導出。舉例而言,流動通道1214自底部口1206延伸至過濾器腔室1202,而流動通道1216自過濾器腔室1202延伸至底部口1208。過濾器外殼1200可進一步包括各種連接孔(1220處所指示)以允許過濾器外殼1200被連接至基板區塊。
過濾器外殼1200由適於引導氣流之材料(諸如不銹鋼)形成,但是,可使用其他材料。過濾器外殼1200之各種特徵可經組態以允許矮式過濾器310與各種基板區塊及組件相容。作為實例而非限制,矮式過濾器310可與C-密封架構相容。
過濾器總成1230經安置於過濾器腔室1202中且其將過濾器腔室1202分成兩個水平相鄰之區,1232及1234處大體展示。流動通道1214進入區1232中之過濾器腔室1202,且流動通道1216進入區1234中之過濾器腔室。因此,過濾器總成1230隔離自入口1206至過濾器腔室1202之流動通道(亦即,流動通道1214)與自過濾器腔室1202至出口1208之流動通道。過濾器總成1230可包括與過濾器總成430、730、930、931、1030或其他過濾器總成類似之過濾器總成。
在操作中,矮式過濾器310係安裝至基板,如圖3所示。氣體經由口1206進入流動通道1214且流向過濾器腔室1202之區1232。接著,氣體流過轉接器1240之中心進入管式過濾器1238且滲透過管式過濾器1238之壁進入過濾器腔室1202之區1234。經過濾氣體自過濾器腔室1202經由流動通道1216流向口1208返回基板區塊。
根據其他實施例,流動通道1214可進入區1234中之過濾器腔室1202且流動通道1216可進入區1232中之過濾器腔室1202。因此,將藉由自管式過濾器1238之外側傳遞至管式過濾器1238之內側來過濾氣體。另外,請瞭解,過濾器310可包括多個過濾器腔室以用於並行或逐次過濾氣體。
圖13為本發明之另一實施例之示意性表示。根據圖13之實施例,矮式過濾器210包括一過濾器外殼1300,該過濾器外殼中具有大體水平的過濾器腔室1302。雖然僅圖示為向一表面開口,但是過濾器腔室1302可向過濾器外殼1300之額外外表面開口。可以類似於先前所描述之方式的方式或其他適合之配置來配置各種口及流動通道(未圖示)。
過濾器總成1330經安置於過濾器腔室1302中且將過濾器腔室1302分成三個水平隔開之區,1332、1334及1335處大體展示。至過濾器腔室1302之入口進入區1332且出口在區1335處引出。氣體進入過濾器腔室1302、流過過濾器總成1330且自過濾器腔室1302引出。
根據圖13之實施例,過濾器總成1330包括一或多個盤形過濾器(例如,盤形過濾器1342、1344),其跨越過濾器腔室1302以致氣體在主要水平方向中流過盤形過濾器。每一盤形過濾器可包括適用於一組過程要求之任何過濾器,其包括(作為實例而非限制)鋼、陶瓷、鎳或其他盤形過濾器。轉接器1340經焊接或以另外方式耦接至盤形過濾器以形成密封。如以上所描述,可使用干涉配合或其他密封將轉接器1340密封至外殼1300。在以上實例中,雖然單個轉接器固定多個盤,但是在其他實施例中,可使用多個轉接器。
可使用密封釦狀物1324或其他材料片來密封過濾器腔室1302。釦狀物1324可由不銹鋼或其他材料(其較佳與預期處理氣體不反應或最低程度地反應)形成。根據一實施例,使用熔焊將釦狀物1324密封至過濾器外殼1300。因此,本發明之實施例可提供使用一或多個盤形過濾器來過濾氣體之矮式過濾器。
在先前實施例中,轉接器與過濾器外殼之間的密封主要被描述成由轉接器與過濾器腔室之尺寸差異所引起的干涉密封,但是可使用其他密封。圖14為可使用之機械密封之另一實例之示意性表示。在圖14之實施例中,將金屬或其他材料墊片1402(例如,鋼環或其他墊片)置放於過濾器外殼1406與轉接器1404之間。過濾器外殼1406與轉接器1404之每一者均可包括一薄的突出邊緣(例如,邊緣1408及邊緣1410)。當轉接器1404被按壓於過濾器腔室中時,各別邊緣插入墊片1402中,從而產生機械密封。
因此,本發明之實施例提供可配合於氣體棒之組件之間的矮式過濾器或充當獨立過濾器的過濾器,該獨立過濾器對整個氣體棒高度具有最小影響。矮式過濾器可在安裝於其上之組件之入口側、出口側或兩側上過濾。雖然已使用尺寸及過濾器之特定實例,但是此等實例係用於說明之目的。可使用其他適合尺寸及材料。此外,可使用諸如折疊過濾器之任何適合之過濾器。
請注意,本發明之各種實施例之過濾器腔室及過濾器可垂直定向以在過濾器之入口側、出口側或兩側上過濾氣流。使用垂直過濾器可允許過濾器更長,其允許給定量之過濾具有更多表面積及更高流量。然而,垂直定向之過濾器可能需要更高過濾器外殼。舉例而言,圖15提供過濾器1500之又一實施例,該過濾器1500包括過濾器腔室1502及1503及過濾器1530及1532。除了過濾器腔室及過濾器係經配置以允許經由腔室之大體垂直流動外,過濾器1500之總成可與圖9A及圖9B所示之過濾器總成類似。雖然在兩個過濾器組態中展示,但是亦可使用單個垂直過濾器。
本發明之各種實施例藉由減少所需組件之數目且減少所需之每一過濾器之密封件數目而提供優於先前技術過濾器之優點。此減少可能中斷氣體流動路徑之密封件數目,最小化內部潤濕表面積,最小化內部死空間,減小洩漏可能性並減小過濾器高度。
雖然此處已參考說明性實施例詳細描述本發明,但是請瞭解,描述僅作為實例且並非以限制意義來解釋。因此,請進一步瞭解,已參考此描述之一般熟習此項技術者將顯而易見本發明之實施例之細節中的眾多變化及本發明之額外實施例,且一般熟習此項技術者可做出該等變化。預期所有此等變化及額外實施例係在如以下所主張之本發明之範疇內。
100...氣體棒
102...壓力轉換器
104...基板區塊
106...過濾器
108...基板區塊
200...氣體棒
210...矮式過濾器
212...基板區塊
214...壓力轉換器
310...矮式過濾器
312...基板區塊
400...過濾器外殼
402...過濾器腔室
404...過濾器表面
406...口
408...口
410...口
412...口
414...流動通道
416...流動通道
418...流動通道
420...連接孔
424...密封釦狀物
430...過濾器總成
432...區
434...區
438...管式過濾器
440...轉接器
700...過濾器外殼
702...過濾器腔室
704...表面
706...口
708...口
710...口
712...口
714...流動通道
716...流動通道
718...流動通道
720...連接孔
724...密封釦狀物
730...過濾器總成
732...區
734...區
738...管式過濾器
740...轉接器
900...過濾器外殼
902...過濾器腔室
903...過濾器腔室
904...表面
910...頂部口
912...頂部口
914...流動通道
930...過濾器總成
931...過濾器總成
1000...過濾器外殼
1002...過濾器腔室
1006...口
1008...口
1010...口
1012...口
1014...流動通道
1016...流動通道
1018...流動通道
1024...密封釦狀物
1030...過濾器總成
1038...過濾器
1040...轉接器
1102...管
1103...坩鍋
1104...珠粒
1106...鐵氟龍密封件
1038...過濾器
1040...轉接器
1200...過濾器外殼
1202...過濾器腔室
1206...底部口
1208...底部口
1214...流動通道
1216...流動通道
1220...連接孔
1230...過濾器總成
1232...區
1234...區
1238...管過濾器
1240...轉接器
1300...過濾器外殼
1302...過濾器腔室
1324...密封釦狀物
1332...區
1334...區
1335...區
1340...轉接器
1342...盤形過濾器
1344...盤形過濾器
1402...墊片
1404...轉接器
1406...過濾器外殼
1408...邊緣
1410...邊緣
1500...過濾器
1502...過濾器腔室
1503...過濾器腔室
1530...過濾器
1532...過濾器
圖1說明使用一模組化架構及具有其所需基板之獨立過濾器之氣體棒的一實施例;圖2說明使用一安裝於基板區塊與組件之間的矮式過濾器之經縮短氣體棒的實施例;圖3說明其中矮式過濾器充當獨立的過濾器之氣體棒之實施例;圖4A及圖4B為矮式過濾器之示意性表示;圖5為根據圖4A之矮式過濾器之實施例之剖視圖的示意性表示;圖6為根據圖4A之矮式過濾器之實施例之另一剖視圖的示意性表示;圖7為矮式過濾器之另一實施例之示意性表示;圖8為圖7之矮式過濾器之剖視圖之示意性表示;圖9A及圖9B為矮式過濾器之另一實施例之示意性表示;圖10為矮式過濾器之另一實施例之示意性表示;圖11為製得過濾器總成之實施例之示意性表示;圖12為矮式過濾器之另一實施例之剖視圖;圖13為矮式過濾器之另一實施例之剖視圖;圖14為矮式過濾器之一密封機構之示意性表示;圖15為過濾器之另一實施例之示意性表示。
210...矮式過濾器
400...過濾器外殼
402...過濾器腔室
404...過濾器表面
406...口
408...口
410...口
412...口
414...流動通道
416...流動通道
418...流動通道
420...連接孔
430...過濾器總成
438...管式過濾器
440...轉接器

Claims (64)

  1. 一種矮式過濾器,其包含:一過濾器外殼,其經調適以安裝於一表面安裝基板與一適於安裝在該表面安裝基板上之裝置之間,該過濾器外殼中具有複數個流動路徑及一過濾器腔室,其中:該過濾器腔室經界定以在使用該矮式過濾器時在一水平方向中延伸;一第一流動通道經界定以將該過濾器外殼之一第一側之一入口連接至該過濾器腔室之一第一區;一第二流動通道經界定以將該過濾器腔室之一第二側之一第二區連接至該過濾器外殼之一出口,其中該第一側及該第二側係該過濾器外殼之相反側;一具有一第一貫穿流動通道開口及一第二貫穿流動通道開口之貫穿流動通道,其經界定以自該過濾器外殼之該第一側延伸至該過濾器外殼之該第二側,並旁通該過濾器腔室;及該入口、該出口、該第一貫穿流動通道開口及該第二貫穿流動通道開口係經組構間隔以界面該表面安裝基板之對應埠口與一單一氣體裝置;及一過濾器總成,其包含一安置於該過濾器腔室中之過濾器,該過濾器總成密封至該過濾器腔室之表面,從而將該過濾器腔室分成相鄰之區,該等區包括該過濾器腔室之該第一區及該過濾器腔室之該第二區。
  2. 如請求項1之矮式過濾器,其中該過濾器總成進一步包 含:一轉接器,其耦接至該過濾器及該過濾器腔室之該表面,該轉接器經組態以允許經由該過濾器之流動。
  3. 如請求項2之矮式過濾器,其中該過濾器為一盤形過濾器,該盤形過濾器經對準以允許氣體在一大體水平的方向中流過該盤形過濾器。
  4. 如請求項1之矮式過濾器,其中該過濾器為一管式過濾器。
  5. 如請求項4之矮式過濾器,其中該轉接器耦接至該過濾器腔室之該表面以形成一干涉密封。
  6. 如請求項4之矮式過濾器,其中該轉接器係藉由一焊接密封而耦接至該過濾器腔室之該表面。
  7. 如請求項4之矮式過濾器,其進一步包含一安置於該轉接器與該過濾器腔室之該表面之間的墊片。
  8. 如請求項4之矮式過濾器,其中該入口係在該過濾器外殼之一底部上,而該出口係在該過濾器外殼之該頂部上。
  9. 如請求項8之矮式過濾器,其中該第一貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該頂部上之一貫穿流動通道入口,而該第二貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該底部上之一貫穿流動通道出口。
  10. 如請求項4之矮式過濾器,其中該入口係在該過濾器外殼之該頂部上,而該出口係在該過濾器外殼之該底部上。
  11. 如請求項10之矮式過濾器,其中該第一貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該底部上之一貫穿流動通道入口,而該第二貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該頂部上之一貫穿流動通道出口。
  12. 如請求項1之矮式過濾器,其中該過濾器總成進一步包含:一轉接器,其耦接至該過濾器腔室之一表面;一或多個管,其用以充當該過濾器;及一密封材料,其係安置於該或該等管與該轉接器之間。
  13. 如請求項12之矮式過濾器,其中該入口係在該過濾器外殼之一底部上,而該出口係在該過濾器外殼之該頂部上。
  14. 如請求項13之矮式過濾器,其中該第一貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該頂部上之一貫穿流動通道入口,而該第二貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該底部上之一貫穿流動通道出口。
  15. 如請求項12之矮式過濾器,其中該入口係在該過濾器外殼之該頂部上,而該出口係在該過濾器外殼之該底部上。
  16. 如請求項15之矮式過濾器,其中該第一貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該底部上之一貫穿流動通道入口,而該第二貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該頂部上之一貫穿流動通道出口。
  17. 如請求項1之矮式過濾器,其中該過濾器總成為一包含一第一過濾器之第一過濾器總成,該第一過濾器總成安置於一第一過濾器腔室中,該矮式過濾器進一步包含:一第二過濾器總成,其包含一第二過濾器,該第二過濾器總成係安置於一第二過濾器腔室中,從而將該第二過濾器腔室分成相鄰之區,其中該過濾器外殼界定該第二過濾器腔室。
  18. 如請求項17之矮式過濾器,其中:該第一過濾器總成進一步包含一第一轉接器,該第一轉接器耦接至該過濾器且密封至該第一過濾器腔室之表面;且該第二過濾器總成包含一第二轉接器,該第二轉接器耦接至該第二過濾器且密封至該第二過濾器腔室之表面。
  19. 如請求項17之矮式過濾器,其中該第一過濾器及該第二過濾器為盤形過濾器。
  20. 如請求項17之矮式過濾器,其中該第一過濾器及該第二過濾器為管式過濾器。
  21. 如請求項18之矮式過濾器,其中:該入口係在該過濾器外殼之一底部上,而該出口係在該過濾器外殼之該頂部上;且該過濾器外殼界定一自該第二過濾器腔室之一第二區通向該過濾器外殼之該頂部上之該出口的第三流動通道。
  22. 如請求項21之矮式過濾器,其中該第一貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該頂部上之一貫穿流動通道入口,而該第二貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該底部上之一貫穿流動通道出口。
  23. 如請求項18之矮式過濾器,其中:該入口係在該過濾器外殼之該頂部上,而該出口係在該過濾器外殼之該底部上;且該過濾器外殼界定一自該第二過濾器腔室之一第二區通向該過濾器外殼之該底部上之該出口的第三流動通道。
  24. 如請求項23之矮式過濾器,其中該第一貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該底部上之一貫穿流動通道入口,而該第二貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該頂部上之一貫穿流動通道出口。
  25. 一種利用一矮式過濾器過濾一氣體之方法,其包含:將一過濾器安裝至一基板;將一表面安裝氣體裝置安裝至於該過濾器上;將該氣體自一過濾器外殼中之一入口引導至一水平的第一過濾器腔室;使該氣體依一水平方向流入一第一過濾器總成中且流過一第一過濾器以過濾該氣體,使該氣體在貫穿流過該器體裝置之前或之後被過濾;將該氣體自該第一過濾器腔室引導至該過濾器外殼中之一出口; 在過濾前將該氣體自該基板經由一貫穿流體通道引導至該氣體裝置,或在過濾後將該氣體自該氣體裝置經由該貫穿流體通道引導至該基板,該貫穿流體通道自該過濾器之該第一側上之一第一貫穿流動通道開口流動延伸至該過濾器之一第二側上之一第二貫穿流動通道開口,其中該第一側及第該二側係該過濾器之相反側。
  26. 如請求項25之方法,其中使該氣體流過該第一過濾器總成進一步包含使該氣體流過一盤形過濾器。
  27. 如請求項之方法,其中使該氣體流過該第一過濾器總成進一步包含使該氣體流過一管式過濾器。
  28. 如請求項27之方法,其進一步包含在將該氣體引導至該第一過濾器腔室之前自一基板區塊接收該氣體,及在過濾該氣體之後將該氣體輸出至一安裝於該過濾器外殼之頂部上之組件。
  29. 如請求項27之方法,其進一步包含在將該氣體引導至該第一過濾器腔室之前自一安裝於該過濾器外殼之頂部上之組件接收該氣體,及在過濾該氣體之後將該氣體輸出至一在該過濾器外殼下方之基板區塊。
  30. 如請求項27之方法,其進一步包含將該氣體自該入口引導至一水平的第二過濾器腔室;使該氣體依一水平方向流入一第二過濾器總成中且流過一第二過濾器以過濾該氣體;將該氣體自該第二過濾器腔室引導至該過濾器外殼中之該出口。
  31. 如請求項30之方法,其進一步包含在將該氣體引導至該第一過濾器腔室及該第二過濾器腔室之前自一基板區塊接收該氣體,及在過濾該氣體之後將該氣體輸出至一安裝於該過濾器外殼之頂部上之組件。
  32. 如請求項30之方法,其進一步包含在將該氣體引導至該第一過濾器腔室及該第二過濾器腔室之前自一安裝於該過濾器外殼之頂部上之組件接收該氣體,及在過濾該氣體之後將該氣體輸出至一在該過濾器外殼下方之基板區塊。
  33. 如請求項27之方法,其進一步包含:在將該氣體引導至該第一過濾器腔室之前自一基板區塊接收該氣體,且在過濾該氣體之後將該氣體輸出至一安裝於該過濾器外殼之頂部上之組件;將該氣體自該組件引導至一大體水平的第二過濾器腔室;使該氣體依一大體水平方向流入一第二過濾器總成中且流過一過濾器以過濾該氣體;及將該氣體自該第二過濾器腔室引導至該過濾器外殼中之該出口。
  34. 一種製造一矮式過濾器之方法,其包含:形成一具有一頂部表面及一底部表面之過濾器外殼;將一過濾器腔室加工於該過濾器外殼中,其中該過濾器腔室在使用時被定向成水平;將一第一流動通道加工於該過濾器外殼中,其中該第 一流動通道自該過濾器外殼之一第一側上之一入口延伸至該過濾器腔室,且將一第二流動通道加工於該過濾器外殼中,其中該第二流動通道自該過濾器腔室通向一在該過濾器外殼之一第二側上之出口,其中該第一側及該第二側係該過濾器外殼之相反側;形成一具有一第一貫穿流動通道開口及一第二貫穿流動通道開口之貫穿流動通道,該貫穿流動通道自該過濾器外殼之該第一側流動延伸至該過濾器外殼之該第二側,並旁通該過濾器腔室,其中該入口、該出口、該第一貫穿流動通道開口及該第二貫穿流動通道開口係組構間隔以界面該表面安裝基板之對應埠口與一單一氣體裝置;形成一過濾器總成;將該過濾器總成密封至該過濾器腔室之一表面以將該過濾器腔室分成相鄰之區,其中該第一流動通道進入一第一區中之該過濾器腔室且該第二流動通道進入一第二區中之該過濾器腔室。
  35. 如請求項34之方法,其中形成該過濾器總成進一步包含將一過濾器耦接至一轉接器。
  36. 如請求項35之方法,其中該過濾器為一盤形過濾器。
  37. 如請求項35之方法,其中該過濾器為一管式過濾器。
  38. 如請求項37之方法,其中該過濾器為一金屬管式過濾器且該轉接器為一不銹鋼轉接器,且其中將該過濾器耦接至該轉接器進一步包含將該過濾器焊接至該轉接器。
  39. 如請求項34之方法,其進一步包含在該過濾器總成與該過濾器腔室之該表面之間產生一干涉密封。
  40. 如請求項39之方法,其進一步包含藉由以足夠力將該過濾器總成按壓於該過濾器腔室中產生干涉密封來產生該干涉密封。
  41. 如請求項39之方法,其進一步包含藉由以下步驟產生該干涉密封:加熱該過濾器外殼以使該過濾器腔室膨脹;冷卻該過濾器總成;將該過濾器總成插入該過濾器腔室中;及允許該過濾器外殼及該過濾器總成達到環境溫度。
  42. 如請求項34之方法,其進一步包含密封該過濾器腔室之末端。
  43. 如請求項34之方法,其中至該過濾器外殼之該入口係位於該過濾器外殼之該底部表面上,且該過濾器外殼之該出口係位於該過濾器外殼之該頂部表面上。
  44. 如請求項34之方法,其中至該過濾器外殼之該入口及該過濾器外殼之該出口位於該過濾器外殼之該底部表面上。
  45. 如請求項34之方法,其中至該過濾器外殼之該入口位於該過濾器外殼之該頂部表面上且該出口位於該過濾器腔室之該底部表面上。
  46. 如請求項34之方法,其中該過濾器外殼為一單一材料區塊。
  47. 一種過濾器,其包含:一過濾器外殼,其經調適以安裝於一基板區塊上,該過濾器外殼中界定複數個流動路徑及一過濾器腔室,其中:該過濾器腔室經界定以在該過濾器安裝於該基板區塊上時在一方向中延伸;一第一流動通道經界定以將該過濾器外殼之一入口連接至該過濾器腔室之一第一區;且一第二流動通道經界定以將該過濾器腔室之一第二區連接至該過濾器外殼之一出口;一具有一第一貫穿流動通道開口及一第二貫穿流動通道開口之貫穿流動通道,該貫穿流動通道自該過濾器外殼之該第一側流動延伸至該過濾器外殼之該第二側,並旁通該過濾器腔室,其中該入口、該出口、該第一貫穿流動通道開口及該第二貫穿流動通道開口係組構間隔以界面一表面安裝基板之對應埠口與一單一氣體裝置;一第一過濾器總成,其包含:一第一過濾器,其包含至少一管;及一轉接器,其耦接至該過濾器且密封至該過濾器腔室之表面,該轉接器經組態以允許經由該過濾器之流動,其中該過濾器總成將該過濾器腔室分成相鄰之區,該等區包括該過濾器腔室之該第一區及該過濾器腔室之該第二區。
  48. 如請求項47之過濾器,其中該轉接器耦接至該過濾器腔室之該表面以形成一干涉密封。
  49. 如請求項47之過濾器,其中該轉接器係藉由一焊接密封而耦接至該過濾器腔室之該表面。
  50. 如請求項47之過濾器,其進一步包含一安置於該轉接器與該過濾器腔室之該表面之間的墊片。
  51. 如請求項47之過濾器,其中該第一流動通道自該過濾器外殼之底部上之一入口通向該過濾器腔室之該第一區,且該第二流動通道自該過濾器腔室之該第二區通向該過濾器外殼之頂部上之一出口。
  52. 如請求項47之過濾器,其中該貫穿流動通道自該過濾器外殼之頂部上之一第二入口延伸至該過濾器外殼之底部上之一第二出口。
  53. 如請求項47之過濾器,其中該第一流動通道自該過濾器外殼之頂部上之一入口通向該過濾器腔室之該第一區,且該第二流動通道自該過濾器腔室之該第二區通向該過濾器外殼之底部上之一出口。
  54. 如請求項53之過濾器,其中該貫穿流動通道自該過濾器外殼之該頂部上之一第二入口延伸至該過濾器外殼之該底部上之一第二出口。
  55. 如請求項47之過濾器,其中該過濾器包含多個管,且該過濾器總成進一步包含一安置於該多個管與該轉接器之間的密封材料。
  56. 如請求項55之過濾器,其中該第一流動通道自該過濾器 外殼之底部上之一入口通向該過濾器腔室之該第一區,且該第二流動通道自該過濾器腔室之該第二區通向該過濾器外殼之頂部上之一出口。
  57. 如請求項55之過濾器,其中該貫穿流動通道自該過濾器外殼之頂部上之一第二入口延伸至該過濾器外殼之底部上之一第二出口。
  58. 如請求項55之過濾器,其中該第一流動通道自該過濾器外殼之頂部上之一入口通向該過濾器腔室之該第一區,且該第二流動通道自該過濾器腔室之該第二區通向該過濾器外殼之底部上之一出口。
  59. 如請求項58之過濾器,其中該貫穿流動通道自該過濾器外殼之該頂部上之一第二入口延伸至該過濾器外殼之該底部上之一第二出口。
  60. 如請求項47之過濾器,其進一步包含:一第二過濾器總成,其包含一第二過濾器,該第二過濾器總成係安置於一第二過濾器腔室中從而將該第二過濾器腔室分成相鄰之區,其中該過濾器外殼界定該第二過濾器腔室,其中該過濾器總成及該過濾器腔室為一第一過濾器總成及一第一過濾器腔室。
  61. 如請求項60之過濾器,其中:該第一流動通道自該過濾器外殼之底部上之一入口通向該第一過濾器腔室之該第一區且通向該第二過濾器腔室之一第一區,且該第二流動通道自該第一過濾器腔室之該第二區通向該過濾器外殼之頂部上之一出口;且 該過濾器外殼界定一自該第二過濾器腔室之一第二區通向該過濾器外殼之該頂部上之該出口的第三流動通道。
  62. 如請求項61之過濾器,其中該第一貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該頂部上之一貫穿流動通道入口,而該第二貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該底部上之一貫穿流動通道出口。
  63. 如請求項60之過濾器,其中:該第一流動通道自該過濾器外殼之頂部上之一入口通向該第一過濾器腔室之該第一區且通向該第二過濾器腔室之一第一區,且該第二流動通道自該第一過濾器腔室之該第二區通向該過濾器外殼之底部上之一出口;且該過濾器外殼界定一自該第二過濾器腔室之一第二區通向該過濾器外殼之該底部上之該出口的第三流動通道。
  64. 如請求項63之過濾器,其中該第一貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該底部上之一貫穿流動通道入口,而該第二貫穿流動通道開口係該過濾器外殼之該頂部上之一貫穿流動通道出口。
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7575616B2 (en) * 2006-02-10 2009-08-18 Entegris, Inc. Low-profile surface mount filter
JP2010501336A (ja) * 2006-08-25 2010-01-21 ポール・コーポレーション 浄化要素を備える流体アセンブリ
US7806143B2 (en) * 2007-06-11 2010-10-05 Lam Research Corporation Flexible manifold for integrated gas system gas panels
US8322380B2 (en) * 2007-10-12 2012-12-04 Lam Research Corporation Universal fluid flow adaptor
US9147188B2 (en) 2010-10-26 2015-09-29 Tectonics Electronic currency and authentication system and method
WO2012151292A2 (en) * 2011-05-02 2012-11-08 Advantage Group International Inc. Manifold system for gas and fluid delivery
ES2561900T3 (es) * 2012-12-10 2016-03-01 Gometrics S.L. Mezclador de gases
CN103192516B (zh) * 2013-04-02 2015-02-25 上海正乾生物技术有限公司 脂质体制备高压挤出过滤系统
WO2017176622A2 (en) * 2016-04-07 2017-10-12 Entegris, Inc. Gas filter
US10363503B1 (en) 2018-10-19 2019-07-30 Marvin Salganov Foldable multi-stage water filter system
KR102602359B1 (ko) * 2018-11-22 2023-11-16 에이치엘만도 주식회사 체크밸브 및 이를 포함하는 모듈레이터블록
WO2020214616A1 (en) * 2019-04-15 2020-10-22 Lam Research Corporation Modular-component system for gas delivery

Family Cites Families (93)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US516475A (en) * 1894-03-13 Thomas corscaden
US2528557A (en) * 1944-10-27 1950-11-07 Samuel A Shapiro Refrigerant control manifold
US3516436A (en) * 1967-03-14 1970-06-23 Inst Werkzeugmaschinen Arrangement for interconnecting logical operational units for pneumatic controls
US3589387A (en) * 1969-08-22 1971-06-29 Int Basic Economy Corp Integrated manifold circuits and method of assembly
US3654960A (en) * 1969-12-31 1972-04-11 Hydro Stack Mfg Corp Modular hydraulic system
US3834417A (en) * 1972-04-10 1974-09-10 Norgren Co C A Coupling unit for fluid control components
US4384474A (en) * 1980-10-30 1983-05-24 Amf Incorporated Method and apparatus for testing and using membrane filters in an on site of use housing
US4784880A (en) * 1986-07-25 1988-11-15 Albany International Corp. Method for modifying asymmetric membranes by endo-treating
US5136475A (en) * 1990-10-29 1992-08-04 Mcdermott Kevin Emergency light for marking of aircraft landing sites and other purposes
DE4212367C2 (de) * 1991-04-15 2000-08-03 Denso Corp Vorrichtung zur Entfernung von Wasser in einem Kühlsystem
JP2731080B2 (ja) * 1991-05-31 1998-03-25 株式会社本山製作所 ガス制御装置
WO1993005296A1 (en) * 1991-09-10 1993-03-18 Smc Kabushiki Kaisha Fluid pressure apparatus
US5163475A (en) * 1991-11-26 1992-11-17 Praxair Technology, Inc. Gas delivery panels
US5303731A (en) * 1992-06-30 1994-04-19 Unit Instruments, Inc. Liquid flow controller
FR2696947B1 (fr) * 1992-10-20 1994-11-25 Ceramiques Tech Soc D Module de filtration, de séparation, de purification de gaz ou de liquide, ou de transformation catalytique.
US5423228A (en) * 1992-12-18 1995-06-13 Monitor Labs, Inc. Dilution stack sampling apparatus
KR0177533B1 (ko) * 1993-02-11 1999-03-20 길버트 피. 와이너 배관용 필터
US5333637A (en) * 1993-06-11 1994-08-02 Rosemount Inc. Pneumatic instrument particle trap
JPH07236808A (ja) * 1994-03-01 1995-09-12 Koganei Corp 真空配管用濾過装置
US6234455B1 (en) * 1994-06-30 2001-05-22 Gotz-Ulrich Wittek Device and process for delivering substances for dispersal in the air
US5730181A (en) * 1994-07-15 1998-03-24 Unit Instruments, Inc. Mass flow controller with vertical purifier
US5545242A (en) * 1994-07-19 1996-08-13 Pall Corporation In-line filter for tubing
JPH08254283A (ja) * 1995-03-17 1996-10-01 Motoyama Seisakusho:Kk バルブ
US5605179A (en) * 1995-03-17 1997-02-25 Insync Systems, Inc. Integrated gas panel
AU5386396A (en) 1995-05-05 1996-11-21 Insync Systems, Inc. Mfc-quick change method and apparatus
JP3546275B2 (ja) * 1995-06-30 2004-07-21 忠弘 大見 流体制御装置
US5684245A (en) * 1995-11-17 1997-11-04 Mks Instruments, Inc. Apparatus for mass flow measurement of a gas
KR100232112B1 (ko) * 1996-01-05 1999-12-01 아마노 시게루 가스공급유닛
US5810031A (en) 1996-02-21 1998-09-22 Aeroquip Corporation Ultra high purity gas distribution component with integral valved coupling and methods for its use
US5732744A (en) * 1996-03-08 1998-03-31 Control Systems, Inc. Method and apparatus for aligning and supporting semiconductor process gas delivery and regulation components
US6394138B1 (en) * 1996-10-30 2002-05-28 Unit Instruments, Inc. Manifold system of removable components for distribution of fluids
US5992463A (en) * 1996-10-30 1999-11-30 Unit Instruments, Inc. Gas panel
US6293310B1 (en) * 1996-10-30 2001-09-25 Unit Instruments, Inc. Gas panel
US5836355A (en) * 1996-12-03 1998-11-17 Insync Systems, Inc. Building blocks for integrated gas panel
US5908553A (en) * 1996-12-06 1999-06-01 Reid; Roger P. Water purifier with adjustable volume in dwell passage
JP3997338B2 (ja) * 1997-02-14 2007-10-24 忠弘 大見 流体制御装置
JPH10300000A (ja) * 1997-02-28 1998-11-13 Benkan Corp 集積化ガス制御装置
US6068016A (en) * 1997-09-25 2000-05-30 Applied Materials, Inc Modular fluid flow system with integrated pump-purge
JP4378553B2 (ja) * 1997-10-13 2009-12-09 忠弘 大見 流体制御装置
JP4042191B2 (ja) * 1997-12-11 2008-02-06 Smc株式会社 マニホールド形流量検出器組立体
AU2218699A (en) * 1998-01-09 1999-07-26 Swagelok Company Seal for a modular flow devices
US6158454A (en) * 1998-04-14 2000-12-12 Insync Systems, Inc. Sieve like structure for fluid flow through structural arrangement
US6260581B1 (en) * 1998-06-12 2001-07-17 J. Gregory Hollingshead Apparatus for assembling modular chemical distribution substrate blocks
US6514323B1 (en) * 1998-06-24 2003-02-04 Pall Corporation Purification assemblies and purification methods
US5964481A (en) * 1998-07-10 1999-10-12 Buch; Dana Modular mounting apparatus for fluid control components
US6078030A (en) * 1998-09-09 2000-06-20 Millipore Corporation Component heater for use in semiconductor manufacturing equipment
US6149718A (en) * 1998-10-16 2000-11-21 Mott Mettallurgical Corporation Contamination control system
WO2000031462A1 (en) * 1998-11-20 2000-06-02 Mykrolis Corporation System and method for integrating gas components
US6298881B1 (en) * 1999-03-16 2001-10-09 Shigemoto & Annett Ii, Inc. Modular fluid handling assembly and modular fluid handling units with double containment
US6155289A (en) * 1999-05-07 2000-12-05 International Business Machines Method of and system for sub-atmospheric gas delivery with backflow control
US6186177B1 (en) * 1999-06-23 2001-02-13 Mks Instruments, Inc. Integrated gas delivery system
US6123107A (en) * 1999-07-09 2000-09-26 Redwood Microsystems, Inc. Apparatus and method for mounting micromechanical fluid control components
US6817381B2 (en) * 1999-08-24 2004-11-16 Tokyo Electron Limited Gas processing apparatus, gas processing method and integrated valve unit for gas processing apparatus
US6729353B2 (en) * 1999-09-01 2004-05-04 Asml Us, Inc. Modular fluid delivery apparatus
US6283155B1 (en) * 1999-12-06 2001-09-04 Insync Systems, Inc. System of modular substrates for enabling the distribution of process fluids through removable components
US6546960B1 (en) * 2000-03-03 2003-04-15 Creative Pathways, Inc. Self-aligning SmartStrate™
DE60106312T2 (de) * 2000-03-10 2005-11-17 Tokyo Electron Ltd. Fluidregelvorrichtung
JP4156184B2 (ja) * 2000-08-01 2008-09-24 株式会社キッツエスシーティー 集積化ガス制御装置
JP2002089798A (ja) * 2000-09-11 2002-03-27 Ulvac Japan Ltd 流体制御装置およびこれを用いたガス処理装置
US6349744B1 (en) * 2000-10-13 2002-02-26 Mks Instruments, Inc. Manifold for modular gas box system
JP2002174400A (ja) * 2000-12-06 2002-06-21 Motoyama Eng Works Ltd 集積化ユニット
JP4487135B2 (ja) * 2001-03-05 2010-06-23 東京エレクトロン株式会社 流体制御装置
WO2002093053A1 (en) * 2001-05-16 2002-11-21 Unit Instruments, Inc. Fluid flow system
JP2002349797A (ja) * 2001-05-23 2002-12-04 Fujikin Inc 流体制御装置
US6951226B2 (en) * 2001-07-13 2005-10-04 Talon Innovations, Inc. Shear-resistant modular fluidic blocks
JP3564115B2 (ja) * 2001-12-06 2004-09-08 シーケーディ株式会社 ガス供給ユニット
KR20040071690A (ko) * 2001-12-06 2004-08-12 아사히 유키자이 고교 가부시키가이샤 매니폴드 밸브
US6634385B2 (en) * 2001-12-21 2003-10-21 Motorola, Inc. Apparatus for conveying fluids and base plate
JP2003280745A (ja) * 2002-03-25 2003-10-02 Stec Inc マスフローコントローラ
US6934138B2 (en) * 2002-08-08 2005-08-23 General Instrument Corporation Method and device for bonding AC utilities and HFC access networks for surge mitigation
JP4116366B2 (ja) * 2002-08-21 2008-07-09 日本精線株式会社 フィルター組立体
KR20060017577A (ko) * 2002-08-27 2006-02-24 셀레리티 인크. 공통 평면 내에 매니폴드 연결부를 갖는 모듈형 기판 가스패널
JP4092164B2 (ja) * 2002-09-20 2008-05-28 シーケーディ株式会社 ガス供給ユニット
WO2004036099A1 (ja) * 2002-10-21 2004-04-29 Ckd Corporation ガス集積弁
US7258139B2 (en) * 2002-11-26 2007-08-21 Swagelok Company Modular surface mount fluid system
JP2004183771A (ja) * 2002-12-03 2004-07-02 Fujikin Inc 流体制御装置
US7089134B2 (en) * 2003-01-17 2006-08-08 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for analyzing gas flow in a gas panel
US6907904B2 (en) * 2003-03-03 2005-06-21 Redwood Microsystems, Inc. Fluid delivery system and mounting panel therefor
US20050005981A1 (en) * 2003-03-26 2005-01-13 Paul Eidsmore Modular fluid components and assembly
WO2005005109A1 (ja) * 2003-07-14 2005-01-20 Kuroda Precision Industries, Ltd. 切換弁装置
US7418978B2 (en) * 2004-01-30 2008-09-02 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for providing fluid to a semiconductor device processing apparatus
US7370674B2 (en) * 2004-02-20 2008-05-13 Michael Doyle Modular fluid distribution system
US7048008B2 (en) * 2004-04-13 2006-05-23 Ultra Clean Holdings, Inc. Gas-panel assembly
JP2006009969A (ja) * 2004-06-25 2006-01-12 Kitz Sct:Kk 集積化ガス制御装置用流路ブロックとその製造方法並びに集積化ガス制御装置
US7458397B2 (en) * 2004-07-09 2008-12-02 Michael Doyle Modular fluid distribution system
US20060011246A1 (en) * 2004-07-09 2006-01-19 Leys John A Fluid flow control system and method
US7004199B1 (en) * 2004-08-04 2006-02-28 Fujikin Incorporated Fluid control apparatus
US7320333B2 (en) * 2005-05-09 2008-01-22 Elkhart Brass Manufacturing Company, Inc. Compact field adjustable pressure reducing valve
US7299825B2 (en) * 2005-06-02 2007-11-27 Ultra Clean Holdings, Inc. Gas-panel assembly
US7320339B2 (en) * 2005-06-02 2008-01-22 Ultra Clean Holdings, Inc. Gas-panel assembly
US7410519B1 (en) * 2005-08-16 2008-08-12 Ewald Dieter H Sandwich filter block
US7575616B2 (en) * 2006-02-10 2009-08-18 Entegris, Inc. Low-profile surface mount filter
US7806143B2 (en) * 2007-06-11 2010-10-05 Lam Research Corporation Flexible manifold for integrated gas system gas panels

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