TWI437571B - 半導體記憶體裝置及其控制方法 - Google Patents

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Description

半導體記憶體裝置及其控制方法
本發明關係於一半導體記憶體裝置及其控制方法，例如有關於一記憶體裝置，其非揮發儲存資料並具有一錯誤校正電路及控制該記憶體裝置的方法。
在部份類型之非揮發記憶體裝置中，控制資料儲存的實體數量狀態隨著時間而改變。如果經過時間到達預定長度，則資料可能遺失。有各種類型之記憶體裝置具有此一特徵。此記憶體裝置之一例如使用所謂積層閘結構的電晶體作為記憶格的非揮發半導體記憶體裝置。
積層閘結構包含一隧道絕緣膜、浮動閘電極、電極間絕緣膜、及控制閘電極，這些被依序堆疊在基材上。為了儲存資訊於記憶格中，電子係自基材經由隧道絕緣膜注入至浮動閘電極。累積在浮動閘電極中之電荷保留資訊。隨著時間經過，累積在浮動閘電極中之電荷經由隧道絕緣膜洩漏至基材。為此理由，保留在記憶格中之資訊可能隨著時間之經過而遺失(可能在資訊中發生錯誤)。
如果由資訊儲存時間開始的經過時間很短，則幾乎在資訊中不會發生錯誤。相反，如果在資訊儲存時間後經過長時間，則有相當高可能在資訊中發生錯誤。具有多數此記憶格之記憶體裝置有時包含一錯誤校正機制，用以將錯誤資訊回復至正確狀態。
通常，為了校正例如由資訊記錄的經過時間所造成之由多數位元所形成之資料內所包含的若干錯誤，有必要具有高錯誤校正能力的校正機制。具有高錯誤校正能力的校正機制具有大電路規模並需要高功率消耗及長時間之處理。通常，為了從資訊儲存開始經過長時間後，保證回復為正確資訊，一記憶體裝置使用一具有高錯誤校正能力的校正機制。高效錯誤校正機制被均等地應用，而不管由資訊儲存開始所經過時間的長短。
為此，即使讀取短時間儲存的資訊，能使用高效錯誤校正機制。因為予以讀取之資訊包含不是太多的錯誤，所以使用高效錯誤校正機制是種浪費。這造成在記憶體裝置功率上之浪費。
為了增加錯誤校正能力，通常，錯誤校正目標資訊的大小需要很大。例如，錯誤校正碼係被產生不是用於512位元組，而是用於例如藉由序連多數512位元組資料所取得之4k位元組資料。這增加了錯誤校正能力。然而，在此方法中，即使在讀出512位元組資料時，仍有必要讀取4k位元組資料。這也造成在記憶體裝置上的電力浪費。
有關於本案之先前技術參考文獻為日本專利特開昭JP－A－63－275225(公開)。
在該參考文獻中，揭示了具有高錯誤校正能力的校正設備。
依據本發明一態樣，其中提供之半導體記憶體裝置包含：多數檢測碼產生器，架構以產生多數檢測碼，以分別檢測在多數資料項中之錯誤；多數第一校正碼產生器，架構以產生多數第一校正碼，以分別校正在多數第一資料區塊中之錯誤，各個第一資料區塊包含資料項之一及一對應檢測碼；一第二校正碼產生器，架構以產生第二校正碼，以校正在第二資料區塊中之錯誤，該第二資料區塊包含該第一資料區塊；及一半導體記憶體，架構以非揮發儲存該第二資料區塊、該第一校正碼、及該第二校正碼。
依據本發明之一態樣，提供有一半導體記憶體裝置，包含：一用以控制一半導體記憶體裝置的方法，該方法包含：產生多數檢測碼，以分別檢測在多數資料項中之錯誤；產生多數第一校正碼，以分別校正在多數第一資料區塊中之錯誤，各個第一資料區塊包含資料項之一及一對應檢測碼；產生第二校正碼，以校正在第二資料區塊中之錯誤，該第二資料區塊包含該第一資料區塊；及非揮發儲存該第二資料區塊、該第一校正碼、及該第二校正碼。
本發明之實施例將參考附圖加以說明。在以下說明中，相同元件符號表示幾乎相同功能與配置的構成元件，及只要當必要時才會重覆解釋。
以下所要說明的實施例係為實施本發明技術範圍的設備與方法。本發明之技術範圍並不限於此所述之元件的材 料、形狀、結構及配置。本發明之技術範圍允許在隨附之申請專利範圍中作各種變化與修改。
本發明之實施例的功能方塊可以以硬體、電腦軟體、或其組合加以實施。以下所述之方塊通常由其功能的觀點描述，同時可以了解它們可以以硬體及軟體加以實施。至於，以硬體或軟體執行一功能係取決於整個系統的特定實施例或設計限制。熟習於本技藝者可以了解，各種特定實施例之方法來實施功能，本發明加以了這些實施法。
圖1為依據一實施例之半導體記憶裝置的方塊圖。
如圖1所示，一半導體記憶體裝置10包含一錯誤校正電路1及半導體記憶體2。錯誤校正電路1及半導體記憶體2係被形成為例如在單一半導體晶片上之一半導體積體電路。如果半導體記憶體2可以非揮發儲存資訊，則其可以為任意記憶體裝置，及所儲存資料可以改變。半導體記憶體2的一例子為NAND快閃記憶體。
NAND快閃記憶體具有多數記憶格。各記憶格係為由MOSFET(金屬氧化物半導體場效電晶體)形成，其具有所謂積層閘結構。具有積層閘結構的MOS電晶體包含一隧道絕緣膜、浮動閘電極、層間絕緣膜、控制閘電極、及源及汲擴散層。各記憶格電晶體的臨限電壓係依據累積在浮動閘電極中之電荷量加以改變，及各記憶格電晶體儲存對應於臨限電壓改變的資訊。記憶格電晶體可以被設計以儲存錯誤校正電路1位元資料或多位元之資訊。在半導體記憶體2中之包含感應放大器及電位產生電路的控制電路 可以將供給至半導體記憶體2的資料寫至記憶格電晶體，或輸出儲存於記憶格電晶體中之資料至半導體記憶體2的外部。
屬於相同列之記憶格電晶體的控制閘電極係被連接至單一字元線。一選擇閘電晶體係被提供至屬於相同行之記憶格電晶體的每一端並被串聯連接。一選擇閘電晶體被連接至一位元線。根據此規則，設有記憶格電晶體、選擇閘電晶體、字元線及位元線。資料寫入及讀取係對每一組之多數記憶格電晶體加以完成。由一組記憶格電晶體所形成之儲存區對應於一頁。多數頁則形成一區塊。NAND快閃記憶體抹除於每一區域中之資料。
需要被寫入至半導體記憶體2中之資料(寫入資料)被由外部供給至半導體記憶體裝置10。錯誤校正電路1將一錯誤校正碼及錯誤檢測碼加入至寫入資料並將之供給至半導體記憶體2。半導體記憶體2儲存具有錯誤校正碼與錯誤檢測碼之寫入資料。
回應於供給至半導體記憶體裝置10的控制信號，半導體記憶體2供給需要讀取之資料(讀取資料)及被加入至讀取資料的錯誤校正碼及錯誤檢測碼給錯誤校正電路1。錯誤校正電路1檢測及校正在讀取資料中之錯誤。如有錯誤，則錯誤校正電路1校正它，移除錯誤校正碼及錯誤檢測碼，及輸出讀取資料至外部裝置。
(寫入系統電路的配置)
圖2為有關於資料寫入之錯誤校正電路1的主部份方塊圖。錯誤校正電路1產生用於各個多數寫入資料的錯誤校正碼並也產生用於該組多數寫入資料的另一錯誤校正碼，各寫入資料具有預定大小。寫入資料的數目係依據想要完成的錯誤校正能力及予以使用之錯誤校正碼加以決定。以下將說明寫入資料數目為8的例子。
如圖2所示，錯誤校正電路1接收寫入資料項Da1至Da8。第一大小可以匹配例如半導體記憶體2的寫入或讀取資料的大小。更明確地說，當NAND快閃記憶體被使用作為半導體記憶體2時，寫入資料大小對應於一頁的大小，例如512位元組。為方便說明起見，在以下例子中，第一大小為512位元組。
錯誤校正電路1具有一暫時儲存電路3。暫時儲存電路3係由例如揮發儲存電路所形成並可以例如是DRAM(動態隨機存取記憶體)。當產生用於寫入資料的錯誤檢測碼及錯誤校正碼給半導體記憶體2時，暫時儲存電路3作為寫入之暫時儲存區。在寫入時，暫時儲存電路3接收寫入資料項Da1至Da8。暫時儲存電路3儲存寫入資料項Da1至Da8。
寫入資料項Da1至Da8分別被寫入至錯誤檢測碼產生單元41－48(部份未示出)。
錯誤檢測碼產生單元41－48分別產生用於寫入資料項Da1至Da8之錯誤檢測碼Db1－Db8(資料)。錯誤檢測碼Db1－Db8係被用以檢測在寫入資料項Da1至Da8中之錯誤 。一碼允許錯誤檢測碼產生單元容易地計算碼並降低功率消耗，同時，完成上述目的係被用作為錯誤檢測碼Db1－Db8。例如，CRC(循環冗餘檢和)32或CRC16係有用於作為錯誤檢測碼。錯誤檢測碼Db1－Db8係被供給至暫時儲存電路3。
錯誤檢測碼Db1－Db8也分別被供給至第一錯誤校正碼產生單元61－68。第一錯誤校正碼產生單元61－68也分別接收寫入資料項Da1至Da8。
第一錯誤校正碼產生單元61－68使用寫入資料項Da1至Da8及錯誤檢測碼Db1－Db8產生第一錯誤校正碼。為第一錯誤校正碼產生單元61所產生之第一錯誤校正碼係用以校正在寫入資料項Da1及錯誤檢測碼資料Db1中的錯誤。同樣地，為第一錯誤校正碼產生單元62－68所產生之第一錯誤校正碼係用以校正在寫入資料項Da2至Da8及錯誤檢測碼資料Db2－Db8中之錯誤。
在第一錯誤校正碼中，例如，一具有約1位元之相當低錯誤校正能力的碼並不需要高功率及不必長時間計算，只需要可用之小規模執行電路。更明確地說，例如，一漢明碼係可用作為第一錯誤校正碼。
第一錯誤校正碼產生單元61－68分別輸出第一錯誤校正碼Dc1至Dc8(的資料)。第一錯誤校正碼Dc1至Dc8被供給至暫時儲存電路3。
錯誤檢測碼Db1－Db8被供給至第二錯誤校正碼產生單元8。第二錯誤校正碼產生單元8也接收寫入資料項Da1 至Da8。第二錯誤校正碼產生單元8使用寫入資料項Da1至Da8及錯誤檢測碼Db1－Db8產生第二錯誤校正碼。第二錯誤校正碼被用以校正在寫入資料項Da1至Da8及錯誤檢測碼Db1－Db8中之錯誤。
至於第二錯誤校正碼，例如，雖然計算量較大，但可以使用較使用第一錯誤校正碼之錯誤校正為高的錯誤校正能力並可以校正多位元的錯誤的碼。更明確地說，例如，一BHC碼、Reed－Solomon(RS)碼或LDPC(低密度同位檢查)碼可以使用作為第二錯誤校正碼。因為較大之計算量之故，所以第二錯誤校正碼產生單元8的電路規模、功率消耗、及計算時間超出第一錯誤校正碼產生單元61－68者。然而，第二錯誤校正碼產生單元8具有較第一錯誤校正碼產生單元61－68為大之錯誤校正能力。
第二錯誤校正碼產生單元8供給第二錯誤校正碼Dd(的資料)給暫時儲存電路3。暫時儲存電路3供給寫入資料項Da1至Da8、錯誤檢測碼Db1－Db8、第一錯誤校正碼Dc1至Dc8、及第二錯誤校正碼Dd至半導體記憶體2，各資料具有後述之結構。
(資料寫入的操作)
在資料寫入中之錯誤校正電路1的操作將參考圖3至6加以描述。圖3至6依序顯示在寫入時之暫時儲存電路3的資料狀態。
首先，如圖3所示，予以寫入至半導體記憶體2的寫 入資料項Da1至Da8係被供給至錯誤校正電路1。寫入資料項Da1至Da8係被儲存於暫時儲存電路3中。
再者，如圖4所示，寫入資料項Da1至Da8分別被供給至錯誤檢測碼產生單元41－48。錯誤檢測碼產生單元41－48分別產生用於寫入資料項Da1至Da8的錯誤檢測碼Db1－Db8。當CRC32被使用作為錯誤檢測碼時，各個該錯誤檢測碼Db1－Db8具有32位元的大小。
在寫入資料項Da1形成為錯誤校正單元的第一資料區塊D1後，寫入資料項Da1及錯誤檢測碼Db1序連。同樣地，寫入資料項Da1至Da8及錯誤檢測碼Db2至Db8在形成第一資料區塊D2至D8後序連。第一資料區塊D1至D8被儲存在暫時儲存電路3中。熟習於本技藝者已知錯誤檢測碼產生單元41－48的詳細安排，及其說明將被省略。在此實施例中，錯誤檢測碼產生單元41－48並聯執行檢測碼產生操作。錯誤檢測碼產生單元41－48的並聯操作，縮短了處理時間。
再者，如圖5所示，第一資料區塊D1至D8被分別供給至第一錯誤校正碼產生單元61－68。第一錯誤校正碼產生單元61使用第一資料區塊D1產生第一錯誤校正碼Dc1，用以校正在第一資料區塊D1中之錯誤。在錯誤檢測碼Db1後及寫入資料項Da2前，第一錯誤校正碼Dc1被序連並儲存於暫時儲存電路3中。
同樣地，第一錯誤校正碼產生單元62－68使用第一資料區塊D2至D8，分別產生第一錯誤校正碼Dc2至Dc8， 用以校正在第一資料區塊D2至D8中之錯誤。在錯誤檢測碼Db2後及在寫入資料項Da3之前，第一錯誤校正碼Dc2被序連並被儲存在暫時儲存電路3中。同樣地，第一錯誤校正碼Dc3至Dc7在錯誤檢測碼Db3－Db7後及在寫入資料項Da4至Da8前被個別序連並儲存於暫時儲存電路3中。在錯誤檢測碼Db8後，第一錯誤校正碼Dc8被序連及儲存於暫時儲存電路3中。
當漢明碼被使用作為第一錯誤校正碼時，各個該第一資料區塊D1至D8具有對應於寫入資料(4096位元)＋錯誤檢測碼(32位元)之大小。為了校正在第一資料區塊D1至D8中之1位元錯誤，各個第一錯誤校正碼Dc1至Dc8具有例如13位元之大小。熟習於本技藝者已知第一錯誤校正碼產生單元61－68的詳細配置，其說明將被省略。在本實施例中，第一錯誤校正碼產生單元61－68並聯執行校正碼產生操作。第一錯誤校正碼產生單元61－68的並聯操作縮短了處理時間。
第一資料區塊D1至D8係被序連，以形成第二資料區塊。第二資料區塊係被供給至第二錯誤校正碼產生單元8。第二資料區塊係為一予以為第二錯誤校正碼產生單元所使用之資料單元，以產生第二錯誤校正碼。第二錯誤校正碼產生單元8使用該第二資料區塊，以產生用以校正在該第二資料區塊中之錯誤的第二錯誤校正碼Dd。在第二資料區塊後，第二錯誤校正碼Dd被序連，並被儲存在暫時儲存電路3中。
當RS碼被使用作為第二錯誤校正碼時，第二資料區塊具有相當於寫入資料(4096位元)×8＋錯誤檢測碼(32位元)×8的大小並校正在第二資料區塊中之12位元錯誤。為了校正在第二資料區塊中之具有此大小的錯誤，第二錯誤校正碼Dd具有例如192位元之大小。熟習於本技藝者已知該第二錯誤校正碼產生單元8的詳細配置，其說明將被省略。
在上述處理中之第二資料區塊後，第二錯誤校正碼Dd被序連，藉以取得轉移資料區塊(在圖5中之暫時儲存電路3的結構)。轉移資料區塊被供給至半導體記憶體2。半導體記憶體2儲存各個轉移資料區塊。
(讀取系統電路的配置)
圖6為有關於資料讀取之錯誤校正電路1的主部份的方塊圖。
如圖6所示，半導體記憶體2供給信號S1給第一錯誤校正單元11。信號S1係由轉移資料區塊形成(圖5中之暫時儲存電路3中的結構)。
如果第一資料區塊D1至D8包含錯誤，則在第一錯誤校正單元11的能力範圍內，第一錯誤校正單元11分別使用在信號S1中之第一錯誤校正碼Dc1至Dc8，來校正在第一資料區塊D1至D8中之錯誤。更明確地說，第一錯誤校正單元11使用第一錯誤校正碼Dc1校正在第一資料區塊D1中之錯誤。同樣地，在第一錯誤校正單元11的 能力範圍內，第一錯誤校正單元11分別使用第一錯誤校正碼Dc2至Dc8來校正在第一資料區塊D2至D8中之錯誤。
第一錯誤校正單元11輸出使用該第一錯誤校正碼校正信號S1中之錯誤所取得之信號S2。如果在錯誤校正前，在第一資料區塊D1至D8中之錯誤位元數目等於或小於第一錯誤校正單元11的錯誤校正能力，則在錯誤校正後的信號S2中的第一資料區塊D1至D8沒有錯誤。然而，如果在錯誤校正前在第一資料區塊D1至D8中之錯誤位元數量超出第一錯誤校正單元11的錯誤校正能力，則在錯誤校正後之信號S2中之第一資料區塊D1至D8仍有錯誤。
信號S2被供給至錯誤檢測單元12及第二錯誤校正單元13。錯誤檢測單元12使用錯誤檢測碼Db1－Db8檢測在寫入資料項Da1至Da8中之錯誤。錯誤檢測單元12直接供給信號S2至選擇單元14。錯誤檢測單元12也供給表示在第一資料區塊D1至D8中之錯誤檢測有/無的信號S3給選擇單元14。除了錯誤檢測有/無外，錯誤檢測單元12也供給表示在第一資料區塊D1至D8中之錯誤檢測位置的資訊之信號S4至第二錯誤校正單元13。
第二錯誤校正單元13分析信號S4並取得表示是否錯誤在錯誤檢測單元12的錯誤檢測被檢出否的資訊。如果未檢出錯誤，則不必錯誤校正。例如，當來自電源電路(未示出)的電力或來自時鐘電路(未示出)的時鐘信號停 止時，第二錯誤校正單元13停止處理目標信號S2的操作。
於分析信號S4及取得表示錯誤在信號S2中被檢出的資訊時，第二錯誤校正單元13使用第二錯誤校正碼Dd，校正在第一資料區塊D1至D8中之錯誤。在此時，第二錯誤校正單元13只對包含錯誤的第一資料區塊D1至D8執行錯誤校正。圖7顯示此狀態例。
圖7顯示在第一資料區塊D2、D4及D5中檢出錯誤時的例子。第二錯誤校正單元13對所有第一資料區塊D1至D8，使用第二錯誤校正碼Dd，執行徵候群計算。另一方面，第二錯誤校正單元13只對包含檢測出錯誤的第一資料區塊D2、D4及D5執行陳氏搜尋法。第二錯誤校正單元13使用第二錯誤校正碼Dd校正在第一資料區塊D2、D4及D5中之錯誤。第二錯誤校正單元13輸出藉由使用第二錯誤校正碼以校正在信號S2中之錯誤所取得之信號S5。
由第二錯誤校正單元13所進行之錯誤校正係依序對在第一資料區塊D1至D8中之檢測出的錯誤加以執行，而與先前技術不同。即，沒有專用於各個第一資料區塊D1至D8中的錯誤校正電路。這降低了第二錯誤校正單元13的電路規模及功率消耗。
取決於受到錯誤校正之第一資料區塊的數目，必要時間可能較第一資料區塊D1至D8之專用電路的並聯錯誤校正為長。然而，在此實施例中，第二錯誤校正單元13 只對第一資料區塊D1至D8中包含有檢測出錯誤的資料區塊執行陳氏搜尋。另外，第一錯誤校正碼係被指定能使用第一錯誤校正碼，只校正在第一資料區塊D1至D8中之多數錯誤(幾乎100%)。為此，第二錯誤校正碼很少使用。在此實施例中，有可能降低第二錯誤校正單元13的電路規模及功率消耗，而藉由分享第一資料區塊D1至D8的錯誤校正電路，不會增加處理時間。
假設重覆由記憶體裝置讀取包含轉移資料區塊的程序中，錯誤檢測單元12在第一次讀取的轉移資料區塊中並未檢出錯誤。在此時，在第二次及後續次，讀取轉移資料區塊之前，對第二錯誤校正單元13之電源供給及時鐘信號供給的至少之一係被停止。這大量降低在讀取相同轉移資料區塊時，錯誤校正電路1中之功率消耗。
如何決定第一錯誤校正單元11的校正能力及錯誤檢測單元12的校正能力將如後述。注意第一錯誤校正單元11的校正能力也包含使得第一錯誤校正碼產生單元61－68產生第一錯誤校正碼Dc1至Dc8的程序。同樣地，第二錯誤校正單元13的校正能力也包含使得第二錯誤校正碼產生單元8產生第二錯誤校正碼Dd的程序。
圖8為必要校正能力與寫入資料於半導體記憶體2之經過時間之間的關係圖。如圖8所示，當經過時間變長時，寫入在半導體記憶體2中之資料的錯誤數目增加。錯誤校正能力係依據錯誤數量增加而加以改變。第一錯誤校正單元11的錯誤校正能力與第二錯誤校正單元13的錯誤校 正能力係被決定以使得過量或不足錯誤校正能力被使用。更明確地說，第一錯誤校正單元11的錯誤校正能力與第二錯誤校正單元13之錯誤校正能力係被決定以使得當經過時間短時，錯誤校正可以只為第一錯誤校正單元11所完成，同時，當經過時間超出一預定時間(錯誤數量突然增加)時，第一錯誤校正單元11及第二錯誤校正單元13可以執行錯誤校正。
圖9顯示依據此實施例之第一錯誤校正單元11的處理範圍與第二錯誤校正單元13之處理範圍的概念。在圖9中之橫軸表示在半導體記憶體2的預定範圍(一頁的DAND快閃記憶體)內的錯誤數目。縱座標表示錯誤發生或然率。虛線表示在半導體記憶體2劣化前之關係(在寫入後)。實線表示在半導體記憶體2的劣化後的關係(在經過保證資料保留時間後)。
如圖9所示，第一錯誤校正單元11的錯誤校正能力係被決定，使得當在預定範圍內錯誤的數目很少時，只有第一錯誤校正單元11可以校正所有錯誤。更明確地說，決定了可校正位元數目、錯誤校正方法、及錯誤校正碼的位元數目。例如，第一錯誤校正單元11的錯誤校正能力係被決定使得其可以校正在劣化前幾乎100%的錯誤及在劣化後錯誤的約99%。另一方面，第二錯誤校正單元13的錯誤校能力係被決定以校正在劣化後的剩餘錯誤校正電路1%的錯誤。
結果，如圖10所示，第二錯誤校正單元13的使用或 然率與錯誤率而增加。
如上所述，具有較低錯誤校正能力但需要較短處理時間及較低功率消耗的第一錯誤校正單元11校正幾乎所有錯誤。需要長處理時間及較高功率消耗但具有較高錯誤校正能力的第二錯誤校正單元13校正了剩餘之錯誤。因此，錯誤校正電路1可以完成短處理時間、低功率消耗、及小電路規模，同時，維持高錯誤校正能力。
圖11顯示錯誤率與第二錯誤校正單元13的平均陳氏搜尋範圍間之關係。在此實施例中(實線)，第一錯誤校正單元11的錯誤校正能力係被設定，使得如所述多數錯誤只可以被第一錯誤校正單元11所校正。為此理由，相較於先前技術(虛線)，即使當錯誤率高時，第二錯誤校正單元13也幾乎不涉及錯誤校正。
如上所述，依據半導體記憶體裝置的實施例，形成了包含對應多數的寫入資料項的多數第一資料區塊D1至D8。第一錯誤校正碼Dc1至Dc8係被分別產生用於第一資料區塊D1至D8。另外，第二錯誤校正碼Dd係被產生用於由第一資料區塊D1至D8所形成之第二資料區塊。當錯誤位元數目很小時，使用具有低能力但需要低功率消耗及小電路規模之第一錯誤校正碼Dc1至Dc8加以完成校正。當錯誤位元數量大時，則使用第一錯誤校正碼Dc1至Dc8及需要高功率消耗及大電路規模但允許以高能力校正的第二錯誤校正碼Dd，來完成錯誤校正。因此，本案提供一半導體記憶體裝置，其錯誤校正電路1具有適當的電路規 模及功率消耗並縮短了錯誤校正時間，而不必犧牲錯誤校正能力。
在本實施例中，在使用第一錯誤校正碼Dc1至Dc8進行錯誤校正後，使用第二錯誤校正碼Dd，來只對第一資料區塊D1至D8中包含錯誤的資料執行錯誤校正。這相較於對多數第一資料區塊D1至D8進行第二錯誤校正碼Dd的錯誤校正電路，顯著地降低了第二錯誤校正單元13的電路規模。
其他的優點與修改將為熟習於本技藝者所了解。因此，本發明並不限於此所示與所述之特定細節與表示實施例。因此，各種修改可以在不脫離隨附申請專利範圍及其等效所界定的本案發明概念的精神及範圍下加以完成。
1‧‧‧錯誤校正電路
2‧‧‧半導體記憶體
3‧‧‧暫時儲存電路
8‧‧‧第二錯誤校正碼產生單元
10‧‧‧半導體記憶體裝置
11‧‧‧第一錯誤校正單元
12‧‧‧錯誤檢測單元
13‧‧‧第二錯誤校正單元
14‧‧‧選擇單元
41－48‧‧‧錯誤檢測碼產生單元
61－68‧‧‧第一錯誤校正碼產生單元
圖1為一方塊圖，顯示依據實施例之半導體記憶體裝置；圖2為有關於資料寫入之錯誤校正電路的主部份方塊圖；圖3為寫入時之暫時儲存電路的資料狀態圖；圖4為圖3後的下一狀態圖；圖5為圖4後的下一狀態圖；圖6為有關於資料讀取之錯誤校正電路的主部份的方塊圖；圖7為第二錯誤校正單元的操作例圖； 圖8為在必要校正能力與由寫入開始的經過時間的關係圖；圖9為第一錯誤校正單元的處理範圍與第二錯誤校正單元之處理範圍的概念圖；圖10為第二錯誤校正單元的錯誤率與使用或然率間之關係圖；及圖11為第二錯誤校正單元的錯誤率與平均強搜尋間之關係圖。
3‧‧‧暫時儲存電路
8‧‧‧第二錯誤校正碼產生單元
61、62、68‧‧‧第一錯誤校正碼產生單元
Da1、Da2、Da8‧‧‧寫入資料項
Db1、Db2、Db8‧‧‧錯誤檢測碼
Dc1、Dc2、Dc8‧‧‧第一錯誤校正碼
Dd‧‧‧第二錯誤校正碼

Claims (15)

  1. 一種半導體記憶體裝置，包含：多數檢測碼產生器，架構以產生多數檢測碼，以分別檢測在多數資料項中之錯誤；多數第一校正碼產生器，架構以產生多數第一校正碼，以分別校正在多數第一資料區塊中之錯誤，各個第一資料區塊包含該等資料項之一及一對應檢測碼；一第二校正碼產生器，架構以產生第二校正碼，以校正在第二資料區塊中之錯誤，該第二資料區塊包含該等第一資料區塊；及一半導體記憶體，架構以非揮發儲存該第二資料區塊、該第一校正碼、及該第二校正碼，其中該第二校正碼的錯誤校正能力係高於該等第一校正碼的錯誤校正能力。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，更包含：一第一校正器，架構以使用該等第一校正碼，校正於該等第一資料區塊中之該等錯誤；一檢測器，架構以使用該等檢測碼，檢測為該第一校正器所校正的該等資料項中之錯誤並產生表示各個該等校正資料項中有/無出現錯誤的第一錯誤資訊；及一第二校正器，架構以使用該第一錯誤資訊與該第二校正碼，校正在該等已校正的資料項中的若干包含有該等錯誤的資料項中之該等錯誤。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之裝置，更包含一選 擇器，架構以選擇及輸出為該第一校正器所校正的該等資料項所形成之第一校正資料與由該第二校正器所校正的該等資料項所形成之第二校正資料之一。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之裝置，其中該檢測器產生表示在該第一校正資料中有/無出現錯誤的第二錯誤資訊，及該選擇器當該第一校正資料無錯誤時輸出該第一校正資料，及當該第一校正資料包含有錯誤時，根據該第二錯誤資訊輸出該第二校正資料。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該半導體記憶體使用一第一大小作為執行讀取或寫入資料的最小單位，及各個該資料項具有等於該第一大小的大小。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，更包含一暫時儲存電路，架構以暫時儲存該資料項及該等檢測碼。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該等檢測碼產生器執行並聯產生該等檢測碼的處理，及該第一校正碼產生器執行並聯產生該等第一校正碼的處理。
  8. 如申請專利範圍第2項所述之裝置，其中當該第一校正器所校正的該等資料項無錯誤時，該第二校正器停止校正處理。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之裝置，其中該半導 體裝置為一NAND快閃記憶體。
  10. 一種控制半導體記憶體裝置的方法，該方法包含：產生多數檢測碼，以分別檢測在多數資料項中之錯誤；產生多數第一校正碼，以分別校正在多數第一資料區塊中之錯誤，各個該等第一資料區塊包含該等資料項之一及一對應檢測碼；產生第二校正碼，以校正在第二資料區塊中之錯誤，該第二資料區塊包含該等第一資料區塊；及非揮發儲存該第二資料區塊、該第一校正碼、及該第二校正碼，其中該第二校正碼的錯誤校正能力係高於該等第一校正碼的錯誤校正能力。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之方法，更包含：使用該第一校正碼，校正在該第一資料區塊中之該等錯誤；使用該等檢測碼，檢測在該等使用該等第一校正碼校正的資料項中之錯誤，藉以產生表示在各個該等校正資料項中有/無錯誤出現的第一錯誤資訊；及使用該第一錯誤資訊與該第二校正碼，以校正在該等校正資料項中，包含有該等錯誤的若干資料項中的該等錯誤。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之方法，更包含： 選擇及輸出使用該等第一校正碼校正的該等資料項所形成之第一校正資料及使用該第二校正碼校正之該等資料項所形成的第二校正資料之一。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之方法，更包含：產生表示在該第一校正資料中有/無出現錯誤的第二錯誤資訊，及其中在該輸出步驟中，根據該第二錯誤資訊，當該第一校正資料未包含錯誤時，該第一校正資料被輸出，及當該第一校正資料包含有錯誤時，該第二校正資料被輸出。
  14. 如申請專利範圍第10項所述之方法，其中各個該等資料項具有一等於讀取資料或寫入資料的大小。
  15. 如申請專利範圍第10項所述之方法，其中：在該等檢測碼產生步驟中，產生該等檢測碼的處理係被並聯執行，及在該第一校正碼產生步驟中，產生該等第一校正碼的處理係被並聯執行。
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