TWI436832B - 吐出部、塗布裝置及塗布方法 - Google Patents

Description

吐出部、塗布裝置及塗布方法

本發明係有關於吐出流體之吐出部、塗布裝置及塗布方法。

在製造以往之有機電致發光顯示裝置時，在形成包含發光層之有機電致發光層的製程，有一種形成方式，其係與使具有吐出液體之噴嘴孔的噴嘴向基板移動，同時使從噴嘴孔連續地吐出有機電致發光材料(溶液)，並塗布於基板上，藉此，形成有機電致發光層。

例如，在特開2002-75640號公報，揭示一種有機電致發光顯示裝置的製造方法，其特徵為具備如下的過程：預先將應塗布有機電致發光材料之對應於既定圖案形狀的槽形成於基板上，以使噴嘴沿著該槽的方式使基板與噴嘴相對地移動，再使來自該噴嘴的有機電致發光材料流入該槽內並塗布。

可是，在特開2002-75640號公報所揭示的噴嘴一面對塗布對象物的表面朝向垂直方向移動液體一面吐出。

因而，從噴嘴吐出並著地於塗布對象物的液體，不是以往塗布對象物的著地點為中心大致均勻地擴散，而是從液體的著地點主要朝向噴嘴的行進方向擴散。尤其，在塗布對象物有凹凸的情況，難均勻地塗布液體。

因而，尤其難製造大型的有機電致發光基板，而製品規格受到限制。

此外，可認為這種問題點在既定的條件下，在塗布包含發光層之材料的液體以外的液體時亦會發生。

本發明係鑑於上述之問題點而開發者，其優點在於提供可將液體均勻地塗布於塗布對象物之塗布區域的吐出部、使用該吐出部的塗布裝置及其塗布方法。

本發明之吐出部，其向塗布對象物的塗布區域吐出液體，該吐出部具備：被填充該液體的本體；及噴嘴板，係設置於該本體的一端側，並具有吐出該液體的吐出路；該吐出路的軸線係相對鉛垂線朝向該吐出部相對該塗布區域相對地行進之行進方向的反側傾斜。

本發明之塗布裝置，其向塗布對象物的塗布區域塗布液體，該塗布裝置具備：吐出部，係具有被填充該液體的本體；及噴嘴板，係設置於該本體的一端側，並具有吐出該液體的吐出路；移動部，係以該吐出部相對該塗布對象物之該塗布區域相對地行進的方式使該吐出部或該塗布對象物的至少一個移動；及吐出方向變更部，係使該吐出路的軸線相對鉛垂線朝向該吐出部相對該塗布區域相對地行進之行進方向的反側傾斜。

一種塗布方法，其向塗布對象物的塗布區域塗布液體，該塗布方法係：因應於具有吐出該液體之吐出路的吐出部相對該塗布對象物之該塗布區域相對地行進的行進方向，使該吐出路的軸線相對鉛垂線朝向該吐出部相對該塗布區域之相對行進方向的反側傾斜；一面以吐出部相對該塗布對象物之該塗布區域朝向該行進方向相對地行進的方式使該吐出部或該塗布對象物的至少一個移動，一面從該吐出路向該塗布區域吐出該液體。

若依據本發明之吐出部、塗布裝置及塗布方法，可提供均勻地塗布液體之吐出部、塗布裝置及均勻地塗布液體之塗布方法。

以下，參照圖面說明本發明之實施形態的吐出部、塗布裝置及其塗布方法。此外，本發明未限定為以下所說明的實施形態(亦包含圖面所記載的內容)。可對以下所說明的實施形態加以變更。尤其亦可適當地刪除以下所說明之實施形態構成元件。

又，在以下，雖然說明將本發明應用於噴嘴印刷方式之塗布裝置的情況，但是未限定如此，亦可適合應用於噴墨方式之塗布裝置。

在以下，雖然說明吐出部所吐出之液體採用有機電致發光材料(以下稱為溶液)的情況，但是吐出部所吐出之液體亦可是其他的液體。溶液例如是高分子發光材料溶解或分散於溶液的液體。高分子發光材料是可發光之周知的材料。作為這種材料，例如有包含聚對苯伸乙烯(polyphene vinylene)系或聚芴系等共軛雙重鍵結聚合物的發光材料等。溶媒例如是水系溶媒或有機溶媒。作為有機溶媒，有四氫萘(tetralin)、四甲苯、三甲苯、二甲苯等。藉由塗布這種溶液並將所塗布之溶液乾燥，而形成在有機電致發光元件之具有發光層、電洞注入層及中間層等的有機電致發光層。

<第1實施形態>

塗布裝置900是利用噴嘴印刷方式塗布，如第1圖所示，主要具備溶液槽903、供給管909、加壓部907、第1驅動部905、流量計911、噴嘴(吐出部)10、吐出部支承構件915、第2驅動部913(移動部)、工作台919、第3驅動部917(移動部)、第4驅動部(第1吐出方向變更部，以下稱為吐出方向變更部)40及控制部66a。此外，塗布裝置900之噴嘴10以外的各構成元件可適當地由周知的元件所構成。又，從噴嘴10被塗布溶液的基板30設置於工作台919。在此，說明基板30之構成的概要。

在基板30，將具有可發出R(紅)、G(綠)、B(藍)之發光色的有機電致發光元件之複數個像素配置成陣列狀。在此基板30，朝向列方向排列複數條掃描線，朝向與掃描線正交的方向排列複數條信號線，並於掃描線與信號線的各交點附近各自排列像素。而且，具有相同之發光色之有機電致發光元件的像素沿著信號線的排列方向朝向行方向排列，並朝向沿著掃描線的排列方向之列方向按照固定順序重複排列具有R、G、B發光色之有機電致發光元件的像素。在此基板30，形成用以劃分在朝向行方向所排列之像素中之有機電致發光元件之形成區域的間壁36，由間壁36所包圍的區域成為塗布溶液的塗布區域。

溶液槽903是用以儲存溶液。供給管909的一端與溶液槽903連通並連接。

供給管909是用以將溶液導往噴嘴10。供給管909以彈性材料所形成。

加壓部907例如是在溶液槽903內滑動，(利用所謂的活塞運動)推壓溶液槽903所儲存的溶液，以提高溶液槽903內的壓力，使溶液向供給管909流動，並被第1驅動部905驅動。

第1驅動部905例如由壓縮機(未圖示)與閥(未圖示)所構成。第1驅動部905因應於控制部66a的控制信號而打開閥，向加壓部907引入由壓縮機所儲存之壓縮空氣，而使加壓部907移動。

流量計911是測量在供給管909內流動之溶液的流量，並向控制部66a輸出電性信號。流量計911例如使用熱電偶式或超音波式流量計。流量計911利用這些方式測量溶液的流量，並以數位信號向控制部66a輸出對應於該流量的電性信號。

噴嘴10具有向基板30吐出溶液的吐出口，並與供給管909的另一端連接。此外，關於細部之構成將後述。

吐出部支承構件915支承噴嘴10。關於細部之構成將後述。

第2驅動部913因應於控制部66a的控制，而使吐出部支承構件915朝向第1圖、第2圖中的左右方向(X方向：將其設為主掃描方向)移動。即，第2驅動部913使吐出部支承構件915及噴嘴10相對基板30朝向左右方向相對地移動。此主掃描方向對應於基板30的行方向。

工作台919是用以固定基板30。

第3驅動部917由控制部66a控制，使工作台919朝向對應於與第2圖中之X方向正交的Y方向之方向(將其設為副掃描方向)移動。即，隨著工作台919的移動，基板30朝向第2圖中的Y方向移動。此副掃描方向對應於基板30的列方向。

吐出方向變更部40是為了變更噴嘴10之溶液的吐出方向，而使噴嘴10繞垂直軸轉動。關於細部之構成將後述。

控制部66a是為了將溶液塗布於基板30，而控制塗布裝置900整體。詳細說明之，控制部66a因應於從流量計911所傳送的電性信號，控制第1驅動部905，以使加壓部907按照固定的比例向供給管909供給溶液。又，控制部66a控制第2驅動部913，以使吐出部支承構件915相對基板30朝向主掃描方向移動。又，控制部66a在將溶液塗布於基板30之溶液塗布區域的一行後，控制第3驅動部917，以使工作台919朝向副掃描方向進行步級移動。進而，因應於噴嘴10相對基板30之相對行進方向D，控制第4驅動部40，以變更溶液的吐出方向。(關於細部之構成將後述。)控制部66a對塗布溶液之全部的行依序進行上述的控制。

利用上述之構成，如第2圖所示，噴嘴10一面相對基板30鋸齒狀移動，一面向基板30的塗布區域連續地吐出溶液。

此外，第3驅動部917亦可作成不是經由工作台919使基板30朝向副掃描方向移動，而未設置工作台919，將基板30直接載置於第3驅動部917上，使基板30朝向副掃描方向移動。

又，雖然在第2圖採用具備1個噴嘴10之構成，但是未限定如此。亦可是具備2個以上的噴嘴10，並同時塗布於基板30的複數條行。在此情況，除了藉第3驅動部917之副掃描方向的移動量與具備1個噴嘴10的情況相異以外，動作都一樣。

接著，利用噴嘴10塗布溶液，而形成有機電致發光層，成為作用為發光裝置21之狀態。參照第3圖，說明基板30、間壁36、像素電極(例如陽極)43、發光層45及相對向電極(例如陰極)46在第2圖中之Y方向的截面構造。

在基板30上，形成產生閘極導電層的圖案而成之電晶體T1、電晶體T1的閘極T1g。在與各發光像素相鄰的基板30上，產生閘極導電層的圖案，並形成沿著行方向延伸的資料線Ld。

利用CVD(Chemical Vapor Deposition)法等，將絕緣膜32形成於電晶體T1的閘極T1g及資料線Ld上。

利用CVD法等將由非晶形矽等所構成之半導體層114形成於絕緣膜32上。進而，利用CVD法等將由例如SiN等所構成之絕緣膜形成於半導體層114上。

進而，利用光微影法等產生絕緣膜的圖案，而將阻隔膜115形成於半導體層114上。進而，半導體層114與歐姆接觸層116、117係利用CVD法等形成由包含n型雜質之非晶形矽等所構成的膜，再利用光微影等產生此膜和半導體層114的圖案，而形成於半導體層114及阻隔膜115上。

汲極T1d及源極T1s係將是貫穿孔的接觸洞形成於絕緣膜32後，利用濺鍍法、真空蒸鍍法等將由例如Mo膜、Cr膜、Al膜、Cr/Al疊層膜、AlTi合金膜或AlNdTi合金膜、MoNb合金膜等所構成之源極一汲極導電膜覆膜，再利用光微影產生其圖案而形成。

像素電極43係以具備透光性的導電材料所形成，並包含例如ITO(Indium Tin Oxide)、ZnO等。各像素電極43利用層間絕緣膜47與相鄰之其他的發光像素之像素電極43絕緣。

層間絕緣膜47由例如氮化矽膜的絕緣材料所形成，並形成於像素電極43間，以將各電晶體T1或選擇線(未圖示)、陽極線(未圖示)進行絕緣保護。大致方形的開口部47a形成於層間絕緣膜47，利用此開口部47a劃分發光像素的發光區域。進而，在複數個發光像素形成沿著層間絕緣膜47上的間壁36朝向行方向延伸之槽狀的開口部36a。

間壁36係使例如聚醯亞胺等之感光性樹脂的絕緣材料硬化而成，並形成於層間絕緣膜47上。間壁36形成帶狀，以將沿著行方向之複數個發光像素的像素電極43一起加工開口。此外，間壁36的平面形狀未限定如此，亦可是各像素電極43具有開口部的格子狀。

發光層45形成於像素電極43上。發光層45具有藉由對像素電極43與相對向電極46之間施加電壓，而產生光之功能。

發光層45是利用本實施形態的塗布裝置900塗布溶液，並使溶液中的溶媒揮發，藉此而形成。

又，相對向電極46在底發射式的情況，是疊層構造，其具有設置於發光層45側並由導電材料之例如Li、Mg、Ca、Ba等之功函數低的材料所構成之電洞注入性的下層、及由Al等之反光性導電金屬所構成的上層。

此外，在本實施形態，雖然權宜上列舉作為有助於發光的有機電致發光層(有機層)僅具備發光層45之構成，但是未限定如此，有機層亦可具備電洞注入層與發光層，亦可具備電洞注入層、中間層及發光層。

其次，參照第4圖，說明吐出溶液(有機電致發光材料)的噴嘴10。噴嘴10主要由頭缸體12、缸體凸緣13、噴嘴板14及噴嘴蓋16所構成。

頭缸體12是噴嘴10的本體，並形成筒形。利用供給管909向頭缸體12的內部供給溶液。又，圓板形的缸體凸緣13向大徑方向突出形成於頭缸體12之上端部的外周面。又，適合後述之噴嘴蓋16之陰螺紋的陽螺紋形成於頭缸體12之下端部的外周面。

缸體凸緣13係其下面被嵌裝於第5A圖所示之後述的吐出部支承構件915與頭缸體12之間之軸承67的內輪支承，並固定地保持噴嘴10的姿勢。

噴嘴板14形成圓板形，並在中心部具有構成吐出口的貫穿孔(吐出液體的吐出路)140。吐出路140係相對噴嘴板14的上下面以既定角度斜向貫穿地形成。換言之，吐出路140係相對頭缸體12的軸線以既定角度斜向地形成。

噴嘴蓋16形成蓋狀，在其中央部具有貫穿孔160。又，在噴嘴蓋16的內面，形成適合形成於該頭缸體12的外周面之陽螺紋的陰螺紋。噴嘴蓋16為在和頭缸體12的下面之間夾入噴嘴板14，而被螺入頭缸體12。依此方式，噴嘴板14組合入噴嘴10中。

如上述所示構成的噴嘴10，經由噴嘴板14的吐出路140以既定角度吐出溶液。

其次，參照第5A圖說明支承噴嘴10之吐出部支承構件915的構成。

吐出部支承構件915形成板狀，並在一部分形成用以收容吐出方向變更部40之凹形的凹部920。吐出部支承構件915在凹部920的既定位置具有貫穿孔918。軸承68嵌裝於此貫穿孔918。被插入貫穿孔918的噴嘴10利用軸承68支承成可轉動。

又，形成板狀的蓋構件916以成為與吐出部支承構件915之上面大致同一面的方式覆蓋凹部920。蓋構件916具有與吐出部支承構件915之貫穿孔918的鉛垂線同心的貫穿孔925。軸承67嵌裝於此貫穿孔925。被插入貫穿孔925的噴嘴10利用軸承67支承成可轉動。利用蓋構件916與吐出部支承構件915劃分收容吐出方向變更部40的收容空間922。

其次，參照第5A圖、第5B圖及第6A圖、第6B圖，說明變更噴嘴10之吐出方向的吐出方向變更部40。吐出方向變更部40配設於吐出部支承構件915的內部，主要由皮帶60、皮帶輪62、馬達64及控制部66a所構成。

皮帶60是架設於頭缸體12與圓柱狀之皮帶輪62的無端皮帶。

馬達64是驅動皮帶輪62轉動既定位角度的步進馬達，由控制部66a控制轉動角度。馬達64固定於吐出部支承構件915的凹部920。

在噴嘴10相對基板30之相對行進方向D從第5A圖中的朝右向變成第6A圖中的朝左時，或變成相反時，控制部66a使馬達64僅轉動既定角度。隨著馬達64之軸的轉動，皮帶輪62轉動，同時皮帶60轉動。藉皮帶60的轉動，頭缸體12轉動至從吐出路140所吐出之溶液的吐出方向23成為與噴嘴10相對基板30之相對行進方向反側的位置。

依此方式，吐出方向變更部40調整噴嘴10的轉動角度。

其次，參照第7A圖、第7B圖說明向基板30垂直地吐出溶液之以往的情況、與以既定角度吐出溶液之本發明的情況之相對基板30之相對之溶液之吐出方向的差異。

首先，以往的噴嘴向基板30垂直地吐出溶液。在此情況，如第7A圖所示，由噴嘴進給速度向量50與溶液吐出速度向量52a之合成所構成之溶液的合成速度向量54a斜向朝向噴嘴10的進給方向側。

相對地，本發明之實施形態的噴嘴10向與噴嘴進給速度向量50之方向反側之方向的吐出方向22以既定角度吐出溶液。在此情況，如第7B圖所示，由噴嘴進給速度向量50與溶液吐出速度向量52b的合成所構成之溶液的合成速度向量54b抵消噴嘴10之進給方向的速度成分，而朝向大致垂直(大致鉛垂方向)於基板30的方向，從噴嘴10所吐出之溶液對基板30從大致鉛垂方向射入。在此，吐出方向22的方向被設定成合成速度向量54b成為對基板30大致垂直的方向。

參照第8A圖、第8B圖至第10A圖、第10B圖說明本實施形態的噴嘴10與以往的噴嘴之對基板30之溶液之塗布狀態的差異。

首先，由電晶體等之電路元件或配線構件所構成之電路構造物34、用以劃分成各影像顯示區域的間壁36設置於被塗布溶液的基板30上。

使用以往的噴嘴時，如第8A圖所示，利用朝向相當於合成速度向量54a之方向成分的溶液射入方向74a射入的吐出液28，對位於塗布區域33上的電路構造物34塗布溶液。因為溶液射入方向74a對基板30傾斜，所以間壁36成為障礙，而吐出液28難著地於面向沿著噴嘴相對基板30之相對行進方向D所吐出之吐出液28的背後之間壁36附近的區域B，溶液未被充分塗布於配置於間壁36附近之區域B的電路構造物34。

相對地，在本實施形態的噴嘴10，在噴嘴板14的吐出路140之溶液的導出方向，為了朝向與噴嘴10相對基板30之相對行進方向D反方向，而被設定成朝向對頭缸體12的軸線以既定角度傾斜的方向。因此，從吐出路140所吐出之吐出液28如第8B圖所示，朝向相當於合成速度向量54b之方向成分的溶液射入方向74b被吐出。因為溶液射入方向74b是相對基板30大致垂直的方向，所以利用從大致鉛垂方向所射入的吐出液28對位於塗布區域33上的電路構造物34塗布溶液。因此，對配置於面向沿著噴嘴相對基板30之相對行進方向D所吐出之吐出液28的背後之間壁36附近之區域B的電路構造物34亦可塗布溶液。

此外，在間壁36附近之區域B，亦可替代電路構造物34，而設置未具有電路構造物34之作為電路之功能的虛擬電路構造物，其係以和電路構造物34相同的製程所製造，而且構造和電路構造物34相同。在第8A圖所示的方法，被塗布於虛擬電路構造物之某區域B上的溶液變成比如上述所示被間壁36所包圍之中央區域A上的溶液更稀薄。雖然因為虛擬電路構造物未具有作為像素之功能，而所塗布之溶液變稀薄亦可，但是因為噴嘴相對基板30之相對移動速度愈快，區域B在像素整體的面積比例愈高，所以發生必須增加虛擬電路構造物之配置面積的問題。

相對地，在第8B圖所示的方法，因為被塗布於虛擬電路構造物之某區域B上之溶液的量被設定成與被塗布於間壁36所包圍之中央區域A上之溶液的量大略相等，所以可減少虛擬電路構造物之配置面積或亦可不設置虛擬電路構造物。

又，在第9A圖、第9B圖放大表示第8A圖、第8B圖所示之電路構造物34(例如電晶體)的附近。若使用以往的噴嘴，如第9A圖所示，利用朝向相當於合成速度向量54a之方向成分的溶液射入方向74a所射入之吐出液28，對基板30塗布溶液。此時，吐出液28向溶液射入方向74a傾斜。因而，由於溶液從噴嘴被吐出並著地於基板30時，會在著地點沿著噴嘴相對於基板30之相對行進方向D強力地衝撞，所以著地之溶液中朝行進方向D側移動的量會比朝向該行進方向D之反向側移動的量更多，而在間壁36內之區域的塗布量根據所在位置而發生偏差。又，即使在將虛擬電路構造物設置於區域B的情況，亦需要使區域B的面積變大。

相對地，在本實施形態的噴嘴10，為了吐出路140的方向朝向與噴嘴10相對基板30之相對行進方向D反向，而被設定成朝向對頭缸體12的軸線以既定角度傾斜的方向。因此，從吐出路140所吐出之吐出液28如第9B圖所示，利用朝向相當於合成速度向量54b之方向成分的溶液射入方向74b所射入之吐出液28，對基板30塗布溶液。此時，因為溶液射入方向74b是對基板30大致垂直的方向，吐出液28從大致鉛垂方向射入，吐出液28從著地點成放射狀均勻地擴散。因而，基板30可得到厚度大致均勻的塗布面。進而，因為吐出液28大致垂直地射入基板30，所以可使著地之溶液中朝向該行進方向D之反向側移動的量與朝向行進方向D側移動的量大致相等，而在間壁36內可將溶液塗布成均勻之厚度。

又，即使在基板30相對向噴嘴10朝向副掃描方向相對移動的狀況，溶液的塗布性亦良好，在第10A圖、第10B圖表示在越過間壁36之前後，噴嘴10塗布溶液之狀態。

若使用以往的噴嘴，如第10A圖所示，溶液往間壁36的射入角度在越過間壁36之前後成為不對稱。即，在噴嘴往副掃描方向之一連串的移動，發生溶液的偏差。

相對地，若使用本實施形態的噴嘴10，如第10B圖所示，溶液往間壁36的射入角度在越過間壁36之前後成為大致對稱。即，在噴嘴往副掃描方向之一連串的移動，未發生溶液的偏差。

其次，說明塗布裝置900的動作。控制部66a使第1圖所記載的第2驅動部913動作。第2驅動部913使吐出部支承構件915以既定速度朝向主掃描方向移動。控制部66a因應於為了驅動第2驅動部913所發送的電性信號，向馬達64發送電性信號，使噴嘴10朝向與吐出部支承構件915的進給方向反方向。馬達64因應於從控制部66a所接收的電性信號，僅轉動既定角度。藉馬達64的轉動，皮帶輪62轉動，利用頭缸體12經由皮帶60轉動，而噴嘴10僅轉動既定角度。

若依據上述的動作，噴嘴10之溶液的吐出方向被控制成總是朝向與噴嘴10之行進方向D(例如吐出部支承構件915的移動方向)相反的方向。因此，溶液向基板30的射入方向被保持成與基板30大致垂直，結果，控制對基板30的塗布不均。

(第1變形例)

在該實施形態，雖然作為變更吐出方向的吐出方向變更部40，舉例表示包含皮帶輪62與皮帶60之構成，但是未限定如此。例如，如第11圖所示，亦可作成藉由使齒輪80與小齒輪82嚙合而傳達轉動扭力，以變更溶液的吐出方向。

說明此構成，齒輪80固定於頭缸體12的外周。小齒輪82是與齒輪80嚙合的配置及形狀，利用馬達64進行轉動驅動。即使是依此方式的構成，亦可和包含皮帶輪62與皮帶60之構成一樣地使其作用為吐出方向變更部40。

(第2變形例)

其次，參照第12A圖~第12C圖說明形成於噴嘴板14之中心部的吐出路140之形狀的第2變形例。

第12A圖所示的吐出路140是以雷射等對吐出面142朝向斜向所鑽孔的貫穿孔。溶液在通過吐出路140內之中成軸對稱地流動。可是因為吐出面142不是與吐出路140的軸線垂直，所以從吐出面142無法成軸對稱地吐出溶液，結果，亦成為發生塗布不均的要因。

作為防止發生這種塗布不均之構造，如第12B圖所示，噴嘴板15a具有形成於與吐出路140同一軸線之圓柱形的槽143。槽143形成於吐出路140中之上部及下部的2個位置。

(第3變形例)

又，如第12C圖所示，噴嘴板15b具有錐狀、大徑側是噴嘴板15b的表面側，並形成於與吐出路140同一軸線的槽144。槽144形成於吐出路140中之上部及下部的2個位置。

如上述之第2變形例及第3變形例所示，藉由將圓柱形的槽143及錐狀的槽144同軸地形成於吐出路140的上部及下部，而吐出路140之溶液的入口面、出口面(吐出面142)成為與吐出路140的軸線垂直。因而，可從吐出面142成軸對稱地吐出溶液，而可抑制溶液之塗布不均的發生。

<第2實施形態>

第2實施形態的噴嘴11a與第1實施形態的噴嘴10相異，如第13A圖、第13B圖所示，係具備與頭缸體12的軸線平行地形成吐出路141的噴嘴板15c。即使是具備這種噴嘴板15c者，亦可使其具備使溶液的吐出方向變更成朝向與噴嘴11a之行進方向D反向的功能。以下說明其構造。此外，在以下，關於構造與在第1實施形態所說明者相同的附加相同的符號，為了易於理解而避免重複的說明。

作為具有將溶液的吐出方向變更成朝向與噴嘴11a之行進方向D反向的功能，具有吐出方向變更部41(第2吐出方向變更部)。吐出方向變更部41由支承軸70、71、2個軸承69、馬達(第2馬達)464及控制部66b所構成。

如第13A圖所示，2支支承軸(support)70、71位於與頭缸體12之軸線正交的延長線上，並從頭缸體12的外周面突出，形成圓棒形。

2個軸承69嵌裝於吐出部支承構件915的貫穿孔924，並將支承軸70、71支承成可轉動。

噴嘴11a利用上述的支承軸70、71及2個軸承69，由吐出部支承構件915支承成可轉動。

又，馬達464是固定於吐出部支承構件915的外面，並與支承軸70之端部連結的步進馬達。

控制部66b藉由控制馬達464之馬達軸的轉動角度，而經由支承軸70控制噴嘴11a的轉動角度。即，控制溶液的吐出角度。

其次，說明具備噴嘴11a及吐出方向變更部41之塗布裝置901的動作。控制部66b使第1圖所記載的第2驅動部913動作。第2驅動部913使吐出部支承構件915以既定的速度朝向主掃描方向移動。控制部66b因應於為了驅動第2驅動部913而發送的電性信號，從吐出部支承構件915的進給速度與溶液的吐出速度算出對噴嘴11a應設定的傾斜角度。控制部66b向馬達464發送與所算出之傾斜角度對應的電性信號。馬達464因應於從控制部66b所接收的電性信號，經由馬達軸、支承軸70，使噴嘴11a轉動既定角度。依此方式，因應於溶液的吐出速度及噴嘴11a的進給速度，調整噴嘴11a的傾斜角度。

藉由依此方式動作，而可因應於噴嘴11a的進給方向、進給速度及溶液之吐出速度的變更，變更吐出角度。因而，可總是相對基板30大致垂直地塗布溶液，結果，可抑制塗布不均。

又，與以既定的吐出角度吐出溶液之第1實施形態的噴嘴10相異，本實施形態的噴嘴11a可微細地調整吐出角度。

(變形例)

其次，參照第14A圖、第14B圖說明具有變更吐出方向之功能之吐出方向變更部41的變形例之吐出方向變更部42(42a、42b)(吐出方向變更部)。

吐出方向變更部42a主要由固定部422a、固定支承部420a、電螺管426a及可動支承部424a所構成。

固定部422a固定於形成板狀之蓋構件916的下面，後述的固定支承部420a固定於與噴嘴11b相對向的側面。

固定支承部420a形成為在從上面看時，第14A圖中的右側分枝成字形，並配置成夾住噴嘴11b之在第14A圖中的上側。固定支承部420a在相當於通過噴嘴11b之中心軸之平面上的位置，利用相對向的2支銷428a(由於表示之角度的關係，僅圖示一支)將噴嘴11b支承成可轉動。

電螺管426a被固定於形成於吐出部支承構件915之凹狀的凹部920的上面。電螺管426a因應於由控制部66c所供給控制的電流，使後述的可動支承部424a往圖中的右側、左側移動。

可動支承部424a形成為在從上面看時，第14A圖中的右側分枝成字形，並配置成夾住噴嘴11b之在第14A圖中的下側。可動支承部424a在相當於通過噴嘴11b之中心軸之平面上的位置，利用相對向的2支銷429a(由於表示之角度的關係，僅圖示一支)將噴嘴11b支承成可轉動。

又，在噴嘴11b之與銷429a接合的部位形成橢圓形的槽430a，其形成為長度方向與噴嘴11b的軸線平行。藉由槽430a形成於噴嘴11b而在可動支承部424a往左右方向移動時，防止因銷428a與銷429a的距離變化，而從噴嘴11b經由銷428a及銷429a對固定支承部420a及可動支承部424a產生負載。

其次，說明具備噴嘴11b及吐出方向變更部42a之塗布裝置901的動作。控制部66c使第1圖所記載的第2驅動部913動作。第2驅動部913使吐出部支承構件915以既定的速度朝向主掃描方向移動。控制部66c因應於為了驅動第2驅動部913而發送的電性信號，從吐出部支承構件915的進給速度與溶液的吐出速度算出對噴嘴11b應設定的傾斜角度。控制部66c向電螺管426a供給與所算出之傾斜角度對應的電流。電螺管426a因應於從控制部66c所供給的電流，使可動支承部424a移動，再經由銷429a，使噴嘴11b以銷428a為中心轉動既定角度。依此方式，因應於溶液的吐出速度及噴嘴11b的進給速度，調整噴嘴11b的傾斜角度。

又，雖然說明該第2實施形態之變形例的吐出方向變更部42a固定噴嘴11b的上側，並使噴嘴11b的下側移動，藉此，使噴嘴11b轉動，但是例如如第14B圖所示，亦可作成顛倒地配置噴嘴11b的固定、移動部位並使其轉動之構成。

依此方式構成吐出方向變更部42b時，固定是吐出路141附近之噴嘴11b的下側，並利用電螺管426b使噴嘴11b以該固定部位(銷428b)為中心轉動。因而，因為在配合噴嘴11b之行進方向D的變更，而變更噴嘴11b的角度時，可抑制來自吐出路141之吐出液28的吐出區域擴大，所以噴嘴11b的控制變得容易。

關於此事項，藉由作成將噴嘴11b的轉動中心配置於吐出路141的附近，而對第2實施形態的吐出方向變更部41亦可得到一樣之效果。

又，未限定為如上述所示，具有固定噴嘴11b的上側並使下側移動之構成的吐出方向變更部42a、及具有固定噴嘴11b的下側並使上側移動之構成的吐出方向變更部42b，例如亦可作成使上側及下側之雙方相對地移動並使噴嘴11b傾斜之構成。

以上，因為該實施形態的噴嘴朝向與噴嘴之行進方向D反方向吐出溶液，所以可對基板朝向大致垂直方向塗布溶液，而得到均勻的塗布面。

進而，藉由使用該實施形態的噴嘴，可形成短的虛擬電路構造物。

又，藉由將圓柱狀或錐狀的槽同軸地形成於吐出路的上部及下部，並使吐出面相對吐出路垂直，而可從吐出路軸對稱地吐出溶液，並可抑制溶液的塗布不均。

又，即使是具備相對頭缸體的軸線未斜向地形成吐出路之噴嘴板的噴嘴，亦藉由使噴嘴本身相對基板的塗布面傾斜，而可使吐出路朝向噴嘴之行進方向D的反向。尤其若依據這種構成，可因應於噴嘴的進給速度、吐出速度，微調噴嘴的角度。

此外，本發明的應用未限定為上述的實施形態，可在不超出本發明之主旨的範圍適當地變更。

例如，雖然在上述的各實施形態，作為噴嘴相對基板相對地移動的方法，在吐出溶液時，使噴嘴朝向主掃描方向移動，而固定工作台，但是未限定如此，亦可固定噴嘴，而使工作台朝向主掃描方向移動。在此情況，工作台所移動之主掃描方向的方向只要與在上述所說明之噴嘴所移動之主掃描方向的方向相反即可。

又，亦可使噴嘴朝向主掃描方向之一方的方向移動，使工作台朝向與主掃描方向之該一方的方向相反之另一方的方向。

又，亦可使工作台一直固定，而使噴嘴朝向主掃描方向及副掃描方向移動。或者，亦可使噴嘴一直固定，而使工作台朝向主掃描方向及副掃描方向移動。

又，雖然在上述的各實施形態，吐出液28從噴嘴的吐出路至著地點是一串液體較佳，但是亦可是噴嘴採用噴墨而分離成各個的液滴。

在此，引用並編入在2009年9月4日所申請之日本專利申請第2009-204369號及在2010年7月21日所申請之日本專利申請第2010-164361號之包含專利說明書、申請專利範圍及摘要之全部的揭示。

雖然表示且說明各種典型的實施形態，但是本發明未限定為上述的實施形態。因此，本發明之範圍僅受到如下的申請專利範圍限定。

10、11a、11b．．．噴嘴(吐出部)

12．．．頭缸體(本體)

14、15a、15b、15c．．．噴嘴板

140、141．．．吐出路

142．．．吐出面

22、23．．．吐出方向

30．．．基板(塗布對象物)

33．．．塗布區域

40．．．第4驅動部(吐出方向變更部、第1吐出方向變更部)

41．．．第4驅動部(吐出方向變更部、第2吐出方向變更部)

42、42a、42b．．．第4驅動部(吐出方向變更部)

420a、420b．．．固定支承部

424a、424b．．．可動支承部

426a、426b．．．電螺管

464．．．馬達

50．．．噴嘴進給速度向量

52a、52b．．．溶液吐出速度向量

54a、54b．．．合成速度向量

60．．．皮帶

62．．．皮帶輪

64．．．馬達

66、66a、66b、66c．．．控制部

70、71．．．支承軸(support)

74a、74b．．．溶液射入方向

80．．．齒輪

82．．．小齒輪

900、901．．．塗布裝置

913．．．第2驅動部(移動部)

915．．．吐出部支承構件

917．．．第3驅動部(移動部)

919．．．工作台

第1圖係表示塗布裝置之整體構成的模式圖。

第2圖係表示吐出溶液之噴嘴相對基板相對地移動的狀況之模式立體圖。

第3圖係表示成為作用為發光裝置的狀態之基板、間壁、像素電極、發光層及相對向電極在第2圖中之Y方向的剖面圖。

第4圖係以模式表示在液體的吐出狀態時之本實施形態之噴嘴的剖面圖。

第5A圖係表示第1實施形態的噴嘴所具備之吐出方向變更部的正視圖(一部分包含剖面圖)，第5B圖係底視圖。

第6A圖係表示從第5A圖的狀態使噴嘴以軸線為中心轉動180度之狀態之噴嘴之吐出方向變更部的正視圖(一部分包含剖面圖)，第6B圖係底視圖。

第7A圖係表示在以往的噴嘴之溶液相對基板之相對吐出速度的向量圖，第7B圖係表示在本發明之實施形態的噴嘴之溶液相對基板之相對吐出速度的向量圖。

第8A圖係表示從以往的噴嘴所吐出之溶液落到基板之2個瞬間的圖，第8B圖係表示從本實施形態的噴嘴所吐出之溶液落到基板之2個瞬間的圖。

第9A圖係將第8A圖所示的區域A放大表示的圖，第9B圖係將第8B圖所示的區域A放大表示的圖。

第10A圖係表示在以往的噴嘴吐出溶液下越過間壁之2個瞬間之狀態的圖。第10B圖係表示在本實施形態的噴嘴吐出溶液下越過間壁之2個瞬間之狀態的圖。

第11圖係表示第1變形例之吐出方向變更部的正視圖(一部分包含剖面圖)。

第12A圖係表示形成於噴嘴板之吐出路及吐出面的圖。第12B圖係表示第2變形例之形成於噴嘴板之吐出路及吐出面的圖。第12C圖係表示第3變形例之形成於噴嘴板之吐出路及吐出面的圖。

第13A圖係表示第2實施形態的噴嘴所具備之吐出方向變更部的側視圖，第13B圖係表示在對第13A圖之狀態變更吐出方向的狀態之吐出方向變更部的正視圖。

第14A圖係表示第2實施形態之變形例的噴嘴所具備之吐出方向變更部的正視圖。第14B圖係表示其他的例子之吐出方向變更部的正視圖。

10．．．噴嘴

12．．．頭缸體

13．．．缸體凸緣

14．．．噴嘴板

16．．．噴嘴蓋

22．．．吐出方向

28．．．吐出液

40．．．第4驅動部

60．．．皮帶

62．．．皮帶輪

64．．．馬達

66a．．．控制部

67．．．軸承

68．．．軸承

92．．．凹部

140．．．吐出路

160．．．貫穿孔

915．．．吐出部支承構件

916．．．蓋構件

918．．．貫穿孔

922．．．收容空間

925．．．貫穿孔

D．．．行進方向

Claims (8)

1. 一種吐出部，其向塗布對象物的塗布區域吐出液體，該吐出部具備：被填充該液體的本體；及噴嘴板，係設置於該本體的一端側，並具有吐出該液體的吐出路；該吐出路的軸線，係相對於該本體的中心軸朝向該吐出部對該塗布區域相對行進之行進方向的反側傾斜，該本體係和該噴嘴板一起被支持成可相對於該中心軸旋轉，該吐出路的軸線被設定成：在該吐出部的行進方向是第1方向時，和與該第1方向相反方向的第2方向時，藉該本體之旋轉而朝該行進方向的相反方向傾斜，該軸線係因應朝向該行進方向的行進速度和該液體的吐出速度傾斜，俾使該液體對該塗布區域朝鉛垂方向射入。
2. 如申請專利範圍第1項之吐出部，其中該吐出路的軸線係相對於該本體的軸線呈傾斜。
3. 如申請專利範圍第2項之吐出部，其中該吐出路之吐出該液體的吐出面係與該吐出路的軸線形成垂直。
4. 如申請專利範圍第1項之吐出部，其中該吐出路的軸線係相對於該本體的軸線呈平行；該本體的軸線係相對於鉛垂線呈傾斜。
5. 一種塗布裝置，其向塗布對象物的塗布區域塗布液體，該塗布裝置具備：吐出部，係具有被填充該液體的本體；及噴嘴板，其設置於該本體的一端側，並具有吐出該液體的吐出路；移動部，係使該吐出部或該塗布對象物的至少一個移動，俾使該吐出部對該塗布對象物之該塗布區域相對地行進；及吐出方向變更部，係使該吐出路的軸線相對於該本體的中心軸朝該吐出部對該塗布對象物之該塗布區域相對行進之行進方向的反側傾斜，該本體係和該噴嘴板一起被支持成可相對於該中心軸旋轉，吐出方向變更部係設定成：在該吐出部的行進方向是第1方向時，和與該第1方向相反方向的第2方向時，使該吐出路的軸線朝該該行進方向的相反方向傾斜，該軸線係因應朝向該行進方向的行進速度和該液體的吐出速度傾斜，俾使該液體對該塗布區域朝鉛垂方向射入。
6. 如申請專利範圍第5項之塗布裝置，其中該吐出路的軸線係相對於該本體的軸線呈傾斜；該吐出方向變更部係具備第1吐出方向變更部，其因應於藉該移動部所設定之該吐出部或該塗布對象物之往相對行進方向之移動的變更，使該吐出部以該本體的軸 線為中心轉動既定角度，而變更該吐出路之軸線相對於鉛垂線的傾斜方向。
7. 如申請專利範圍第5項之塗布裝置，其中該吐出路的軸線係相對於該本體的軸線呈平行；該吐出方向變更部係具備第2吐出方向變更部，其因應於藉該移動部所設定之該吐出部或該塗布對象物之往相對行進方向之移動的變更，使該吐出部以在該本體與該行進方向正交並設定於水平方向的支承軸為中心轉動，而變更該本體之軸線相對於鉛垂線的傾斜方向。
8. 一種塗布方法，係向塗布對象物的塗布區域塗布液體，該塗布方法為：因應具有吐出該液體之吐出路的吐出部對該塗布對象物之該塗布區域相對行進的行進方向，使該吐出路的軸線相對於被填充該液體的本體之中心軸朝向該吐出部對該塗布區域之相對行進方向的反側傾斜；使該吐出部或該塗布對象物的至少一個移動，俾使吐出部對該塗布對象物之該塗布區域朝該行進方向相對地行進，設定該吐出部在該吐出部的行進方向是第1方向時與和該第1方向相反方向的第2方向時，藉該本體之旋轉使該吐出路之軸線朝該行進方向的相反方向傾斜，該軸線係因應朝向該行進方向的行進速度和該液體的吐出速度傾斜，俾使該液體對該塗布區域朝鉛垂方向射入，從該吐出路向該塗布區域吐出該液體。