TWI422479B - 熱可塑性樹脂薄膜及其製法 - Google Patents

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TWI422479B
TWI422479B TW096115528A TW96115528A TWI422479B TW I422479 B TWI422479 B TW I422479B TW 096115528 A TW096115528 A TW 096115528A TW 96115528 A TW96115528 A TW 96115528A TW I422479 B TWI422479 B TW I422479B
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Description

熱可塑性樹脂薄膜及其製法
本發明係有關一種熱可塑性樹脂薄膜及其製法,特別是有關具有適合於液晶顯示裝置之品質的熱可塑性樹脂薄膜及其製法。
以往,係使熱可塑性樹脂薄膜進行延伸,使其表現面內之阻滯值(Re)、厚度方向之阻滯值(Rth),使用作為液晶顯示元件之相位差膜,且使視野角擴大予以實施。
作為使該熱可塑性樹脂薄膜延伸的方法,例如朝薄膜之縱(長度)方向延伸的方法(縱延伸)、朝薄膜之橫(寬度)方向延伸的方法(橫延伸)、或同時進行縱延伸與橫延伸的方法(同時延伸)。於此等之中,由於縱延伸之設備簡單,故自古以來多被採用。通常,縱延伸係於2對以上之噴嘴輥間、在玻璃轉移溫度(Tg)以上使薄膜進行加熱,且藉由使出口側之搬送速度較入口側之噴嘴輥的搬送速度更為快速,朝縱方向進行延伸的方法。
於專利文獻1中,記載使纖維素酯進行縱延伸的方法。該專利文獻1係藉由使縱延伸的方向與流延製膜的方向相反,以改善遲相軸之角度斑。此外,於專利文獻2中,記載使在縱橫比(L/W)為0.3以上、2以下之短跨距間所設的噴嘴輥設置於延伸區域中,予以延伸的方法。藉由該專利文獻2時,可改善厚度方向之配向(Rth)。此處所指的縱橫比,係為使延伸時所使用的噴嘴輥之間隔(L)除以延伸的熱可塑性薄膜之寬度(W)的值。
【專利文獻1】日本特開2002-311240號公報【專利文獻2】日本特開2003-315551號公報
此處,使延伸前(未延伸)之熱可塑性樹脂薄膜,藉由使熔融樹脂在冷卻輥上進行冷卻硬化予以製膜時,冷卻輥之溫度不適當時,在薄膜上會有產生條狀缺點且阻滯性增大的情形。
本發明有鑑於該情形,遂以提供由於可防止條狀缺點或抑制阻滯性表現,可製得光學特性均勻的光學用途之薄膜的熱可塑性樹脂薄膜及其製法為目的。
如申請專利範圍第1項記載之發明,為達成上述目的時,使經熔融的熱可塑性樹脂自塑模押出成薄片狀,且使該熱可塑性樹脂薄片具有算術平均高度Ra為100nm以下之表面性,以押壓用冷卻輥與押壓輥夾住進行冷卻硬化,再一邊以數個冷卻輥進行搬送且一邊冷卻硬化的熱可塑性樹脂薄膜之製法中,其特徵為使該冷卻輥之溫度對該熱可塑性樹脂薄片與該冷卻輥接觸時之薄片溫度而言為±3℃以內,且使該數個冷卻輥之最下游側的冷卻輥脫離該熱可塑性樹脂薄片時之溫度,為該熱可塑性樹脂之玻璃轉移溫度Tg(℃)-15℃以下。
本發明之發明人,再三深入研究有關使經熔融的熱可塑性樹脂自塑模押出成薄片狀,使該熱可塑性樹脂薄片一邊以數個冷卻輥進行搬送一邊冷卻硬化,以使薄膜予以製膜之藉由熔融製膜法製造薄膜的方法中,結果發現造成薄膜之條狀缺點或阻滯情形的原因,遂知可藉由使製膜後之薄膜以冷卻輥予以急速冷卻。換言之,以數個冷卻輥使薄膜冷卻時、設定使薄膜進行冷卻硬化為目的之冷卻輥的溫度時,使薄膜與冷卻輥接觸時薄膜與冷卻輥產生溫度差,因該溫度差導致薄膜在冷卻輥上急速收縮,成為產生薄膜之條狀缺點或表現阻滯情形的原因。因此,本發明人等藉由使薄膜之冷卻不在冷卻輥上進行,且在沒有接觸冷卻輥之狀態下,即在冷卻輥間之空間中使經搬送的薄膜冷卻,以解決上述原因。所以,使薄膜與冷卻輥接觸時之薄膜溫度、與接觸薄膜之冷卻輥的溫度差以0℃較佳,可解決上述原因;溫度差只要是在±3℃以內時即沒有問題,可解決上述原因。另外,可藉由於數個冷卻輥之最下游處,使薄膜之溫度在樹脂的Tg(℃)-15℃以下,一邊以數個冷卻輥搬送薄膜一邊於冷卻輥間之空間內使薄膜進行冷卻硬化。
另外,本發明之發明人由所製造的薄膜之厚度斑及阻滯值Re、Rth之分佈表現,再三深入研究有關該原因,發現藉由接觸輥法製造薄膜,可解決上述問題。該接觸輥法係使自塑模押出的樹脂夾於押壓用冷卻輥與押壓輥間且予以冷卻的方法,可提高厚度的精度。然後,於表現阻滯值Re、Rth之分佈的原因中,發現係為引起延伸前薄膜之厚度斑之原因,以厚度精度良好的接觸輥法所製造的薄膜,即使予以延伸時,由於可均勻地進行延伸,故不易產生延伸斑且可抑制阻滯分布。
因此,如申請專利範圍第1項之發明,其中使冷卻輥之溫度、與薄片接觸冷卻輥時之薄片溫度相比時,為±3℃以內,且使數個冷卻輥之最下游側的冷卻輥脫離時之薄片溫度成為熱可塑性樹脂的玻璃轉移溫度Tg(℃)-15℃以下,沒有以冷卻輥下、使冷卻輥間使薄膜進行冷卻硬化,可抑制薄片在冷卻輥上急速收縮,且可抑制薄片之條狀缺點或阻滯情形,以及抑制薄膜之厚度斑及阻滯值Re、Rth分布,故可製得適合於寬度方向.長度方向之光學特性均勻的光學用途之熱可塑性樹脂薄膜。
如申請專利範圍第2項記載之發明,於申請專利範圍第1項之發明中在該押壓用冷卻輥與該冷卻輥中,相鄰的該輥之輥外周速度比例滿足下述(1)式,且該相鄰的輥間之薄片長度滿足下述(2)式。自上游側數來第n個輥之輥直徑為rn (cm),第n個輥與第(n+1)個之輥間的薄片長度為sn (cm),第n個輥與第(n+1)個之輥間的薄片熱收縮率為cn (%),第n個輥之外周速度為ωn 時,0.98 x(1-cn /100)<[(輥外周速度比例)=ωn+1n ]<1.02 x(1-cn /100)………(1)式 sn /rn >0.3………(2)式
藉由如申請專利範圍第2項之發明,於押壓用冷卻輥與冷卻輥中,第n+1個輥之外周速度為ωn+1 ,該輥之前(上游側)的第n個輥之外周速度為ωn ,其輥之外周速度比例滿足上述(1)式,且相鄰的輥間之薄片長度滿足上述(2)式,由於在薄片沒有鬆弛下且冷卻輥上薄片沒有進行滑動及延伸的情形,故可抑制薄膜之條狀缺點或阻滯情形。
如申請專利範圍第3項記載之發明,於如申請專利範圍第1或2項記載之發明中該押壓用冷卻輥與該押壓輥中至少一個為金屬製彈性輥。
藉由如申請專利範圍第3項記載之發明,由於押壓用冷卻輥與押壓輥中至少一個為金屬製彈性輥,故進行彈性變形且經由熱可塑性樹脂薄片、與另一個輥進行面接觸,及以使經彈性變形的形狀回復至原形的回復力,可使熱可塑性樹脂薄片之面狀均勻地押壓。該樹脂為面狀且被均勻地押壓時一邊冷卻,可製造在內部沒有殘留變形的薄膜,藉此可抑制於製膜時之阻滯之表現。
如申請專利範圍第4項記載之發明,於如申請專利範圍第3項記載的發明中,該押壓用冷卻輥與該押壓輥可滿足下述(3)、(4)、(5)中任一式。熱可塑性樹脂之玻璃轉移溫度Tg(℃)-彈性輥之溫度(℃)為X(℃),線速度為Y(m/min)0.0043X2 +0.12X+1.1<Y<0.019X2 +0.73X+24………(3)式彈性輥之外筒厚度Z為0.05mm<Z<7.0mm………(4)式
該押壓用冷卻輥與該押壓輥經由該熱可塑性樹脂薄片進行接觸之長度為Q cm,以該押壓用冷卻輥與該押壓輥夾住該熱可塑性樹脂薄片之線壓為P kg/cm,3kg/cm2 <P/Q<50kg/cm2 ………(5)式
藉由如申請專利範圍第4項記載之發明,由於藉由押壓用冷卻輥與押壓輥夾住熱可塑性樹脂時,彈性輥(押壓用冷卻輥及/或押壓輥)之外筒厚度Z係滿足0.05mm<Z<7.0mm下所構成,故彈性輥進行彈性變形,且經由熱可塑性樹脂薄片與另一個輥面接觸,及使經彈性變形的形狀以藉由回復至原形之回復力,使樹脂形成面狀且均勻地進行押壓。此處,彈性輥之外筒厚度Z為0.05mm以下時,不僅該回復力小,無法得到面質改善的效果,且輥強度變弱之故。此外,為7.0mm以上時,無法得到彈性且無法得到解決殘留變形之效果。而且,外筒厚度Z滿足0.05mm<Z<7.0mm時,即沒有問題,惟以0.2mm<Z<5.0mm較佳。
另外,藉由使熱可塑性樹脂之玻璃轉移溫度Tg(℃)-彈性輥之溫度(℃)為X(℃),線速度為Y(m/min)時,滿足0.0043X2 +0.12X+1.1<Y<0.019X2 +0.73X+24,可解決薄膜之殘留變形及薄膜貼附於彈性輥的情形。具體而言,變化彈性輥之溫度及線速度Y,就各種觀點而言觀察薄膜的結果,發現線速度Y為0.0043X2 +0.12X+1.1以下時,押壓的時間過長,薄膜會產生殘留變形情形,且有阻滯情形。而且,線速度Y為0.019X2 +0.73X+24以上時,冷卻時間過短,無法使薄膜徐冷,產生貼附於彈性輥的情形。此外,此時之線速度Y為使薄膜製膜之速度,與押壓用冷卻輥之速度一致。
此外,使押壓冷卻輥與押壓輥經由熱可塑性樹脂薄片接觸的長度為Q(cm),以押壓冷卻輥與押壓輥夾住該熱可塑性樹脂薄片之線壓為P(kg/cm)時,藉由滿足3kg/cm2 <P/Q<50kg/cm2 ,可防止薄膜之殘留變形情形。此處,P/Q為3kg/cm2 以下時,使樹脂押壓成面狀的押壓力過小,不具面質之改善效果,P/Q為50 kg/cm2 以上時,押壓力過大,薄膜會產生殘留變形的情形,而表面阻滯。此處,接觸長度Q係為彈性輥與樹脂接觸之長度,例如在靜止的押壓用冷卻輥與押壓輥之間,於與樹脂相同厚度下夾住壓感紙(感應壓力予以發色的薄片)與調距板,壓感紙可藉由經發色的長度測定。線壓P亦同樣地,例如可藉由壓感紙測定。而且,接觸長度Q與線壓P,可藉由變化輥之圓筒壓予以控制。
如申請專利範圍第5項記載之發明,於如申請專利範圍第1~4項中任一項記載之發明中,該數個冷卻輥具有算術平均高度Ra為100nm以下之表面性。
藉由如申請專利範圍第5項記載之發明,由於數個冷卻輥之各表面性於算術平均高度Ra為100nm以下時,可使薄膜之表面性良好。
如申請專利範圍第6項記載的發明,於如申請專利範圍第1~5項中任一項記載之發明中,自該塑模吐出時之熱可塑性樹脂之零切變黏度為2000Pa.sec以下。
藉由如申請專利範圍第6項之發明,係使自塑模吐出時之熱可塑性樹脂的零切變黏度為2000Pa.sec以下,可更容易防止於薄膜上產生條狀缺點。而且,零切變黏度大於2000Pa.sec時,自塑模吐出的熔融樹脂於吐出後擴大,容易附著於塑模之前端部分,造成污染而容易產生條狀缺點。而且,零切變黏度係藉由板錐型之熔融黏度測定裝置測定熔融黏度之切變速度相關性數據,且藉由自與熔融黏度之切變速度相關性無關的範圍所測定的測定值使零切變速度時之熔融黏度外插而得。
如申請專利範圍第7項記載之發明,於如申請專利範圍第1~6項中任一項記載之發明中,薄膜厚度為20~300 μm、面內之阻滯值Re為20nm以下、厚度方向之阻滯值Rth為20nm以下。
藉由本發明,由於可製造厚度精度高、沒有條狀缺點且變形情形少、適合於光學薄膜之熱可塑性樹脂,故可製得厚度為20~300 μm、面內之阻滯值(Re)為20nm以下、厚度方向之阻滯值(Rth)為20nm以下的熱可塑性樹脂薄膜。
如申請專利範圍第8項記載之發明,係為一種熱可塑性樹脂薄膜,其特徵為以如申請專利範圍第1~7項中任一項記載之製法所製造。
如申請專利範圍第9項記載之發明,係於如申請專利範圍第8項記載之發明中,該熱可塑性樹脂為醯化纖維素樹脂。
本發明係於製造阻滯表現性良好的醯化纖維素薄膜中特別有效。
如申請專利範圍第10項記載之發明,係如申請專利範圍第9項記載之發明中,該醯化纖維素樹脂之數平均分子量為2萬~8萬,且A為乙醯基之取代度,B為碳數3~7之醯基的取代度總和時,醯基為下述之取代度,滿足2.0≦A+B≦3.0、0≦A≦2.0、1.2≦B≦2.9。
滿足該取代度之醯化纖維素樹脂,由於具有低熔點、容易延伸、防濕性優異等之特徵,故可製造作為液晶顯示元件之相位差膜等之功能性薄膜之優異的熱可塑性樹脂薄膜。
如申請專利範圍第11項之液晶顯示板用光學補償薄膜,其特徵為使用如申請專利範圍第8~10項中任一項記載之熱可塑性樹脂薄片作為基材;如申請專利範圍第12項之偏光板,其特徵為至少使用一張如申請專利範圍第8~10項中任一項記載之熱可塑性樹脂薄膜作為偏光膜之保護膜。
如申請專利範圍第8~10項中任一項記載之熱可塑性樹脂薄膜,由於具有高的光學特性,故適於液晶顯示板用光學補償薄膜或偏光板。
藉由本發明,可提供一種使熔融樹脂在冷卻輥上進行冷卻硬化予以製膜時,由於可防止條狀缺點或抑制阻滯性之表現,故可製得光學特性均勻的光學用途之薄膜的熱可塑性樹脂薄膜及其製法。
於下述中,以附加圖面說明有關本發明之熱可塑性樹脂薄膜及其製法的較佳實施形態。而且,本實施形態係為製造醯化纖維素薄膜作為熱可塑性樹脂薄膜之例,惟本發明不受此等所限制,亦可適合於製造飽和原菠烯樹脂或聚碳酸酯樹脂等。此外,本實施形態說明有關使自塑模押出的樹脂以一對冷卻輥夾住且進行冷卻的接觸輥法予以製造薄膜時,押壓輥為金屬製之彈性輥。
第1圖係表示熱可塑性樹脂薄膜之製造裝置的簡略構成例。第1圖所示之製造裝置10,主要由製造延伸前之醯化纖維素薄膜12之製膜步驟部14、使以製膜步驟部14所製造的醯化纖維素薄膜12進行縱延伸之縱延伸步驟部16、進行橫延伸之橫延伸步驟部18、使經延伸的醯化纖維素薄膜12捲取的捲取步驟部20所構成。
製膜步驟部14係為以押出機22所熔融的醯化纖維素樹脂自塑模24吐出成薄片狀,供應給回轉的一對輥26、27之間。然後,使在輥27上被冷卻、硬化的薄片以數個冷卻輥28、29進行搬送且冷卻,形成醯化纖維素薄膜12。醯化纖維素薄膜12自輥29予以剝離後,順序送至縱延伸步驟部16、橫延伸步驟部18進行延伸,以捲取步驟部20捲成輥狀。藉此製造延伸醯化纖維素薄膜12。於下述中,詳細說明有關各步驟部。
第2圖係表示製膜步驟部14之單軸螺旋的押出機22。如第2圖所示,在圓筒32內,於螺旋軸34上配置具有刮板36之單軸螺旋38,自圖中沒有表示的箱子、經由供應口40供應醯化纖維素樹脂給圓筒32內。圓筒32內係自供應口40側以自供應口40使供應的醯化纖維素樹脂定量輸送的供應部(以A所示之範圍)、使醯化纖維素樹脂混練.壓縮的壓縮部(以B所示之範圍)、使經混練.壓縮的醯化纖維素樹脂計量的計量部(以C所示之範圍)順序構成。以押出機22熔融的醯化纖維素樹脂,自吐出口42連續送至塑模24。
押出機22之螺旋壓縮比設定為2.5~4.5,L/D設定為20~50。此處,螺旋壓縮比為以供應部A與計量部C之容積比、即以供應部A之單位長度的容積÷計量部C之單位長度的容積表示,使用供應部A之螺旋軸34的外徑d1、計量部C之螺旋軸34的外徑d2、供應部A之溝徑a1、計量部C之溝徑a2求取。另外,L/D係指對第2圖之圓筒內徑(D)而言圓筒長度(L)之比。此外,押出溫度設定於190~240℃。在押出機22內之溫度大於240℃時,在押出機22與塑模24之間亦可設置冷卻機(圖中沒有表示)。
而且,押出機22可以為1軸押出機,亦可以為2軸押出機,惟螺旋壓縮比為2.5以下之過小值時,無法充分進行混練,會產生未溶解部分,切變發熱情形變小,結晶之熔解情形變得不充分,製造後之醯化纖維素薄膜中容易殘留有微細的結晶,且容易混入氣泡。藉此使醯化纖維素薄膜12進行延伸時,殘留的結晶會阻害延伸性,且無法充分提高配向性。反之,螺旋壓縮比為4.5以上之過大值時,由於相當耗費切變應力,藉由發熱容易導致樹脂惡化,故製造後之醯化纖維素薄膜上容易滲出黄色。此外,過分耗費切變應力時,會引起分子被切斷的情形,且導致分子量降低、薄膜之機械強度亦會降低。因此,為使製造後之醯化纖維素薄膜不易滲出黄色且不易被延伸斷裂時,螺旋壓縮比為2.5~4.5之範圍,較佳者為2.8~4.2之範圍,更佳者為3.0~4.0之範圍。
另外,L/D為20以下之過小值時,熔融變得不充分或混練變得不充分,與壓縮比小時相同地,製造後之醯化纖維素薄膜中容易殘留有微細的結晶。反之,L/D為50以上之過大值時,在押出機22內之醯化纖維素樹脂的滯留時間變得過長,容易引起樹脂惡化情形。另外,滯留時間變長時,容易引起分子被切斷情形,導致分子量降低且薄膜之機械強度降低。因此,為使製造後之醯化纖維素薄膜不易滲出黄色且不易被延伸斷裂時,L/D為20~50之範圍,較佳者為22~45之範圍,更佳者為24~40之範圍。
而且,押出溫度為190℃以下之過低值時,結晶之熔解變得不充分,製造後之醯化纖維素膜中容易殘留有微細的結晶,使醯化纖維素薄膜進行延伸時,會阻害延伸性且無法充分提高配向性。反之,押出溫度大於240℃之過高值時,導致醯化纖維素樹脂惡化,且黃色(YI值)的程度惡化。因此,為使製造後之醯化纖維素薄膜不易滲出黄色且不易被延伸斷裂時,押出溫度為190℃~240℃之範圍,較佳者為195℃~235℃之範圍,更佳者為200℃~230℃之範圍。
使用如上述所構成的押出機22以使醯化纖維素樹脂進行熔融,且使該熔融樹脂連續供應給塑模24,自塑模24之前端(下端)吐出成薄片狀。於吐出時醯化纖維塑樹脂之零切變黏度為2000Pa.s以下較佳。零切變黏度大於2000Pa.s時,自塑模吐出的熔融樹脂於吐出後擴大,容易附著於塑模之前端部,該物變成污物,容易產生條狀缺點。經吐出的熔融樹脂供應給輥26、27(參照第1圖)之間。
第3圖係為輥26、27之一實施形態者。輥26、27係為押壓輥26、押壓用冷卻輥27所成。
輥26、27係表面為鏡面、或接近鏡面之狀態,以算術平均高度Ra為100nm以下,較佳者為50nm以下,更佳者為25nm以下予以鏡面化。此外,輥26、27係為可控制其表面溫度下構成,例如藉由在輥26、27之內部上使水等之液狀介質循環,可控制表面溫度。
於輥26、27中,押壓輥26以較另一方之押壓用冷卻輥27更小的直徑予以形成,表面由金屬材所成,可以良好精度控制其表面溫度較佳。另外,押壓輥26係自外層以構成外殼之金屬筒44、液狀介質層46、彈性體層48、金屬旋轉軸50順序構成的金屬性之彈性輥較佳。藉此,以一對輥26、27夾住薄片狀熔融樹脂時,押壓輥26經由薄片受到來自押壓用冷卻輥27之反彈力,依照押壓用冷卻輥27之面,彈性變形成凹狀。因此,使押壓輥26與押壓用冷卻輥27對薄片而言進行面接觸,且使經彈性變形的押壓輥26之形狀藉由回復至原形之回復力,使經夾住的薄片被押壓成面狀,以押壓用冷卻輥27予以冷卻。構成外殼之金屬筒(外筒)44,以金屬薄膜製作,不具溶接連接部之無縫構造較佳。又,金屬筒44之厚度Z為0.05mm<Z<7.0mm之範圍為較佳。此處,彈性輥之金屬筒的厚度Z為0.05mm以下時,不僅上述回復力小、無法得到面質改善效果,且輥強度變弱。此外,為7.0mm以上時,無法得到彈性、不具解決殘留變形之效果。而且,金屬筒之厚度Z只要是滿足0.05mm<Z<7.0mm 即沒有問題,惟以0.2mm<Z<5.0mm較佳。
另外,醯化纖維素樹脂之玻璃轉移溫度Tg(℃)-彈性輥26之溫度(℃)為X(℃),製膜步驟之製膜速度為Y(m/min)時,以滿足0.043X2 +0.12X+1.1<Y<0.019X2 +0.73X+24以設定製膜速度Y與押壓輥26之溫度較佳。製膜速度Y為0.043X2 +0.12X+1.1以下時,押壓時間過長、薄膜上顯現殘留變形,且製膜速度Y為0.019X2 +0.73X+24以上時,冷卻時間過短、無法使薄膜徐冷,導致貼附於押壓輥26。例如,醯化纖維素樹脂之Tg為120℃時,拋光輥26之溫度為115℃、90℃、60℃,在薄膜上顯現殘留變形的情形 製膜速度Y各為1m/min、8m/min、23m/min以下,貼附於押壓輥時製膜速度各為29m/min、64m/min、137m/min以上。而且,對各樹脂而言進行實驗,藉由此等之實驗數據以求取X與Y之關係。另外,押壓用冷卻輥27之溫度對押壓輥26之溫度而言必須在±20℃以內,較佳者為±15℃以內,更佳者為±10℃。
另外,一對輥26、27之押壓輥26與押壓用冷卻輥27,經由樹脂薄片、接觸的長度為Q(cm),以押壓輥26與押壓用冷卻輥27夾住樹脂薄片之線壓為P(kg/cm)時,以設定滿足3kg/cm2 <P/Q<50kg/cm2 之線壓P與接觸長度Q較佳。此處,P/Q為3kg/cm2 以下時,使樹脂押壓成面狀之押壓力過小,沒有改善面狀之效果,P/Q為50kg/cm2 以上時,押壓力過大、薄膜會產生殘留變形的情形,而表現阻滯性。
藉由如上所述構成的製膜步驟部14時,自塑模24吐出醯化纖維素樹脂,經吐出的醯化纖維素樹脂在一對輥26、27間形成極為少量的液體滯留情形(bank),使該醯化纖維素樹脂以一對輥26、27夾壓予以調整其厚度且形成薄片狀。此時,押壓輥26經由醯化纖維素樹脂受到來自押壓用冷卻輥27之反彈力,依照押壓用冷卻輥27之面,彈性變形成凹狀,醯化纖維素樹脂藉由押壓輥26與押壓用冷卻輥27進行押壓成面狀。然後,以滿足上述條件之金屬筒的厚度Z、溫度、線壓、冷卻長度之輥26、27夾壓,製造薄膜12時,可製造適合於沒有條狀缺點、厚度精度高、且殘留變形經抑制、阻滯性小的光學薄膜之醯化纖維素薄膜12。
以一對輥26、27所夾壓的薄膜12,被捲於押壓用冷卻輥27上予以冷卻後,再順序送至冷卻輥28、冷卻輥29,自冷卻輥29之表面剝離,送至後段之縱延伸步驟部16。
此處,冷卻輥28、29之溫度、與薄膜接觸各冷卻輥時之薄膜溫度相比時,為±3℃以內,且使數個冷卻輥28、29之最下游側的冷卻輥29剝離時之薄膜溫度,為熱可塑性樹脂之玻璃轉移溫度Tg(℃)-15℃以下。
此係以數個冷卻輥28、29使樹脂薄片冷卻時,使薄膜12在冷卻輥28、29上進行冷卻、硬化為目的設定冷卻輥之溫度,使樹脂薄片與冷卻輥28、29接觸時,冷卻輥與樹脂薄片產生溫度差,藉由該溫度差使樹脂薄片在冷卻輥上急速收縮,以防止形成產生薄膜之條狀缺點或顯現阻滯性的原因。
其中,樹脂薄片之冷卻並無在冷卻輥上進行,而在沒有與冷卻輥28、29接觸的狀態下、即於冷卻輥間之空間中使經搬送的樹脂薄片進行冷卻。因此,使樹脂薄片與冷卻輥28、29接觸時之薄片溫度、及與樹脂薄片接觸的冷卻輥之溫度差以0℃較佳,溫度差為±3℃以內即可、沒有問題,可防止在冷卻輥上被收縮。
此外,由於使數個冷卻輥28、29之最下游的冷卻輥29脫離時之薄片溫度為熱塑性樹脂之Tg(℃)-15℃以下,故可一邊以數個冷卻輥28、29搬送薄膜12一邊在冷卻輥間之空間中使薄膜12進行冷卻硬化。
而且,此處為有效地防止樹脂薄片在冷卻輥間之空間中進行冷卻時,亦可設置非接觸型之冷卻裝置(圖中沒有表示)。
因此,由於不是在冷卻輥上、而是使樹脂薄片在冷卻輥間之空間中進行冷卻硬化,故可防止樹脂薄片在冷卻輥上急速被收縮,可抑制薄膜之條狀缺點或阻滯性之表現情形。
此外,於押壓用冷卻輥27與冷卻輥28、29中,相鄰輥之輥外周速度比例,自上流側數來第n個輥之輥直徑為rn (cm),第n個輥與第(n+1)個之輥間的薄膜長度為sn (cm),第n個輥與第(n+1)個之輥間的薄膜熱收縮率為cn (%),第n個輥之外周速度為ωn 時,以滿足0.98 x(1-cn /100)<[(輥外周速度比例)=ωn+1n ]<1.02 x(1-cn /100)、以及sn /rn >0.3較佳。
換言之,於第4圖中在滿足自ω21 為0.98 x(1-c1 /100)至1.02 x(1-c1 /100)之間,以及ω32 為0.98 x(1-c2 /100)至1.02 x(1-c2 /100)之間下設定冷卻輥28、29之外周速度ω2 、ω3 。另外,在滿足s1 /r1 >0.3、及s2 /r2 >0.3下設定輥間之薄片長度。
藉由設定該冷卻輥28、29,由於薄膜沒有鬆弛情形、且薄膜沒有在冷卻輥上滑動、被延伸,故可抑制薄膜12之條狀缺點或阻滯之表現。
而且,上述實施形態為2個冷卻輥28、29之例,惟冷卻輥之個數不受此等所限制,為至少1個以上之冷卻輥時,即可抑制薄膜12之條狀缺點或阻滯之表現。
於如上述所構成的製膜步驟部14中,可製造薄膜厚度為20~300 μm,面內之阻滯值Re為20nm以下,厚度方向之阻滯值Rth為20nm以下之醯化纖維素薄膜12。
此處,阻滯值Re、Rth係以下式求取。
Re(nm)=|n(MD)-n(TD)|×T(nm) Rth(nm)=|{(n(MD)+n(TD))/2}-n(TH)|×T(nm)
式中之n(MD)、n(TD)、n(TH)係表示長度方向、寬度方向、厚度方向之折射率,T係為以nm單位所表示之厚度。
於下述中,說明有關使以製膜步驟部14所製造的醯化纖維素薄膜12進行延伸,且直至製造延伸醯化纖維素薄膜12為止的延伸步驟。
醯化纖維素薄膜12之延伸,係為使醯化纖維素薄膜12中之分子進行配向,以具有面內之阻滯值(Re)與厚度方向之阻滯值(Rth)時予以進行。
如第1圖所示,醯化纖維素薄膜12係先在縱延伸步驟部16中朝長度方向進行縱延伸。縱延伸步驟部16係使醯化纖維素薄膜12進行預熱後,在醯化纖維素薄膜12被加熱的狀態下,捲附於二個噴嘴輥30、31上。出口側之二個噴嘴輥31,以較入口側之噴嘴輥30更快的搬送速度搬送醯化纖維素薄膜12,藉此使醯化纖維素薄膜12朝縱方向進行延伸。
縱延伸步驟部16之預熱溫度以Tg-40℃以上、Tg+60℃以下較佳,以Tg-20℃以上、Tg+40℃以下更佳,以Tg以上、Tg+30℃以下最佳。另外,縱延伸步驟部16之延伸溫度以Tg以上、Tg+60℃以下較佳,以Tg+2℃以上、Tg+40℃以下更佳,以Tg+5℃以上、Tg+30℃以下最佳。縱方向之延伸倍率以1.0倍以上、2.5倍以下較佳,以1.1倍以上、2倍以下更佳。
經縱延伸的醯化纖維素薄膜12,被送至橫延伸步驟部18,朝寬度方向進行橫延伸。橫延伸步驟部18例如較佳可使用拉幅器,藉由該拉幅器使醯化纖維素薄膜12之寬度方向的兩端以夾子固定,朝橫方向進行延伸。藉由該橫延伸,可使阻滯值Rth變得更大。
橫延伸以使用拉幅器實施較佳,較佳的延伸溫度以Tg以上、Tg+60℃以下較佳,以Tg+2℃以上、Tg+40℃以下更佳,以Tg+4℃以上、Tg+30℃以下最佳。延伸倍率以1.0倍以上、2.5倍以下較佳,以1.1倍以上、2.0倍以下更佳。以於橫延伸後使朝縱、橫中任一方向、或兩方向緩和較佳。藉此可使寬度方向之遲相軸的分佈變小。
藉由該延伸,Re之絕對值為500nm以下,較佳者為10nm以上、400nm以下,更佳者為15nm以上、300nm以下,Rth之絕對值為0nm以上、500nm以下,較佳者為50nm以上、400nm以下,更佳者為70nm以上、350nm以下。
其中,以滿足Re≦Rth更佳,以滿足Re×2≦Rth者更佳。為實現該高Rth、低Re時,使上述經縱延伸者朝橫(寬度)方向進行延伸較佳。換言之,縱方向與橫方向之配向差為面內阻滯值之差(Re),除縱方向外亦藉由在其垂直方向之橫方向進行延伸,可使縱橫之配向差變小且使面配向(Re)變小。另外,為了除縱方向外亦藉由橫方向進行延伸使面積倍率增加,可伴隨厚度減少以使厚度方向之配向增加、使Rth增加。
此外,視Re、Rth之寬度方向、長度方向而定有所變動,皆為10%以下,較佳者為8%以下,更佳者為6%以下,尤佳者為4%以下,最佳者為2%以下。
而且,視厚度之寬度方向、長度方向而定有所變動,皆為10%以下,較佳者為8%以下,更佳者為6%以下,尤佳者為4%以下,最佳者為2%以下。
另外,此處厚度、及Re、Rth之變動,可如下述求取。
使經延伸的醯化纖維素薄膜12予以採樣10m(米),且使薄膜寬度方向之兩端各除去20%,自薄膜中心部朝寬度方向、長度方向以等間隔各取樣50點,測定厚度、Re.Rth。而且,Re.Rth之測定例如可藉由自動複折射計(KOBRA-21ADH/PR:王子計測器(股)製)進行測定。
求取寬度方向之厚度平均值ThTD-av 、最大值ThTD-max 、最小值ThTD-min ,(ThTD-max -ThTD-min )÷ThTD-av ×100[%]作為寬度方向之厚度變化。
此外,求取長度方向之厚度平均值ThMD-av 、最大值ThMD-max 、最小值ThMD-min ,(ThMD-max -ThMD-min )÷ThMD-av ×100[%]作為長度方向之厚度變化。
有關Re,Rth,各求取寬度方向之平均值ReTD-av ,RthTD-av 、最大值ReTD-max ,RthTD-max 、最小值ReTD-min ,RthTD-min ,可以相同的計算方式求取ReTD 、ReMD 、RthTD 、RthMD 之變動(惟為所求取之值的絕對值)。
為如上述之本實施形態時,可提高所製造的醯化纖維素薄膜12之厚度精度,可製得寬度方向.長度方向之光學特性均勻的光學用途薄膜。
延伸後之醯化纖維素薄膜12,以第1圖之捲取步驟部20捲取成輥狀。此時,醯化纖維素薄膜12之捲取強度,以0.02kg/mm2 以下較佳。藉由使捲取強度設定於該範圍內,可在延伸醯化纖維素薄膜12上沒有產生阻滯分布下予以捲取。
於下述中,順序詳細說明有關適合本發明之醯化纖維素樹脂、延伸前之醯化纖維素薄膜12之製膜方法、醯化纖維素薄膜12之加工方法。
(醯化纖維素樹脂)
本發明所使用的醯化纖維素,以具有下述之特徵者較佳。此處,A係表示乙醯基之取代度,B係表示碳數3~7之醯基的取代度總和。
2.0≦A+B≦3.0 式(1) 0≦A≦2.0 式(2) 1.2≦B≦2.9 式(3)
於本發明之醯化纖維素中,其特徵為如上述式(1)所示、A+B滿足2.0~3.0。較佳者為2.4~3.0,更佳者為2.5~2.95。A+B小於2.0時,醯化纖維素之親水性增大、薄膜之透濕性變大,故不為企求。
而且,本說明書中使用「~」所示之數值範圍,係指包含以「~」前後記載的數值為下限值及上限值之範圍。
如上述式(2)所示,其特徵為A滿足0~2.0。較佳者為0.05~1.8,更佳者為0.1~1.6。
其特徵為上述式(3)中所示之B滿足1.2~2.9。較佳者為1.3~2.9,更佳者為1.4~2.9,最佳者為1.5~2.9。以B之1/2以上為丙醯基時,2.4≦A+B≦3.0 2.0≦B≦2.9未達B之1/2為丙醯基時,2.4≦A+B≦3.0 1.3≦B≦2.5較佳,以B之1/2以上為丙醯基時,2.5≦A+B≦2.95 2.4≦B≦2.9未達B之1/2為丙醯基時,2.5≦A+B≦2.95 1.4≦B≦2.0更佳。
本發明之特徵係為使醯基中所佔的乙醯基的取代度減少,且使丙醯基、丁醯基、戊醯基、己醯基之取代度總合增多。藉此可減小延伸後之經時之Re,Rth的變化,由於使較乙醯基更長的此等之基增多,可提高薄膜之柔軟性及提高延伸性,故不易伴隨延伸而導致醯化纖維素分子之配向混亂,藉此可使表現之經時的Re,Rth變化減小。然而,上述者較乙醯基更長時,由於玻璃轉移溫度(Tg)或彈性率過於降低,故不為企求之醯基。取代度B之對象的碳數3~7之醯基中,較佳者為丙醯基、丁醯基、2-甲基丙醯基、戊醯基、3-甲基丁醯基、2-甲基丁醯基、2,2-二甲基丙醯基(戊醯基)、己醯基、2-甲基戊醯基、3-甲基戊醯基、4-甲基戊醯基、2,2-二甲基丁醯基、2,3-二甲基丁醯基、3,3-二甲基丁醯基、環戊烷羰基、庚醯基、環己烷羰基、苯甲醯基等,更佳者為丙醯基、丁醯基、戊醯基、己醯基、苯甲醯基,最佳者為丙醯基、丁醯基。
此等醯化纖維素之合成方法的基本原理,係如右田等人、木材化學180~190頁(共立出版、1968年)記載。典型的合成方法係藉由羧酸酐-醋酸-硫酸觸媒之液相醋化法。具體而言,使棉絨或木材紙漿等之纖維素原料以適當量醋酸進行前處理後,投入預先冷卻的羧酸化混液中進行酯化,使完全醯化纖維素(2位、3位及6位之醯基取代度的合計約為3.00)予以合成。上述羧酸化混液,一般而言包含作為溶劑之醋酸、作為酯化劑之無水羧酸及作為觸媒之硫酸。無水羧酸以較與該物反應之纖維素及系內所存在的水分之合計量、化學量論而言過剩量予以使用,係極為普通。於醯化反應完成後,為使系內所殘存的過剩無水羧酸進行水解及一部分酯化觸媒進行中和時,添加中和劑(例如鈣、鎂、鐵、鋁或鋅之碳酸鹽、醋酸鹽或氧化物)之水溶液。然後,藉由使所得的完全醯化纖維素在少量的醋化反應觸媒(一般而言為殘留的硫酸)存在下,保持於50~90℃下進行皂化熟成,且變化至具有企求的醯基取代度及聚合度之醯化纖維素。在製得企求的醯化纖維素時,藉由使系內所殘留的觸媒使用如上述之中和劑予以完全中和,或沒有進行中和下在水或稀硫酸中投入醯化纖維素溶液(或在醯化纖維素溶液中投入水或稀硫酸),以使醯化纖維素進行分離、洗淨以及安定化處理,以製得醯化纖維素。
本發明所使用較佳的醯化纖維素之數平均分子量,必須為2萬~8萬,較佳者為3萬~7.5萬,更佳者為4萬~7萬。分子量降低為2萬時,薄膜之機械物性不充分、容易破裂,故不為企求。另外,分子量大於8萬時,熔融製膜時之熔融黏度過高,不為企求。
為調整該黏度平均聚合度時,亦可藉由除去低分子量成分予以達成。除去低分子成分時,平均分子量(聚合度)提高,惟為使黏度較一般的醯化纖維素更低時有用。低分子成分之除去,可藉由使醯化纖維素以適當的有機溶劑洗淨予以實施。另外,聚合方法亦可調整分子量。例如於製造低分子成分少的醯化纖維素時,使醋化反應之硫酸觸媒量對100重量纖維素而言以調整為0.5~25質量份較佳。使硫酸觸媒之量在上述範圍內時,就分子量部分之分佈而言可合成較佳的(分子量分布均勻的)醯化纖維素。
於本發明中,醯化纖維素藉由GPC之重量平均聚合度/數平均聚合度,以2.0~5.0較佳,以2.2~4.5更佳,以2.4~4.0為特佳。
此外,本發明之醯化纖維素,藉由使殘留硫酸根量為0~100ppm之範圍,可製得熱安定性經提高、醯化纖維素薄膜於熔融製膜時不會有著色情形、透明性高的醯化纖維素光學薄膜。
此等之醯化纖維素可僅使用1種,亦可以2種以上混合使用。而且,亦可使除醯化纖維素外之高分子成分適當混合使用。經混合的高分子成分,以與纖維素酯之相溶性優異者較佳,作為薄膜時之透過率為80%以上,較佳者為90%以上,更佳者為92%以上。
另外,本發明中藉由添加可塑劑,不僅可使醯化纖維素之結晶熔解溫度(Tm)降低,且可減低經時之Re,Rth變化,故較佳。此係藉由添加可塑劑,使醯化纖維素予以疏水化,且藉由吸水可抑制醯化纖維素分子之延伸配向緩和。所使用的可塑劑之分子量沒有特別的限制,可以為低分子量,亦可以為高分子量。可塑劑之種類例如磷酸酯類、烷基酞醯基烷基乙醇酸酯類、羧酸酯類、多元醇之脂肪酸酯類等。此等可塑劑的形狀,可以為固體,亦可以為油狀物。換言之,該熔點或沸點沒有特別的限制。進行熔融製膜時,以使用具有不揮發性者更佳。
磷酸酯之具體例如三苯基磷酸酯、三丁基磷酸酯、三丁氧基乙基磷酸酯、三羥甲苯基磷酸酯、三辛基磷酸酯、三萘基磷酸酯、三甲苯基磷酸酯、參-鄰聯苯基磷酸酯、甲苯基苯基磷酸酯、辛基二苯基磷酸酯、聯苯二苯基磷酸酯、1,4-伸苯基四苯基磷酸酯等。另外,以使用日本特表平6-501040號公報之申請專利範圍第3~7項記載的磷酸酯系可塑劑較佳。
烷基酞醯基烷基乙醇酸酯類例如甲基酞醯基甲基乙醇酸酯、乙基酞醯基乙基乙醇酸酯、丙基酞醯基丙基乙醇酸酯、丁基酞醯基丁基乙醇酸酯、辛基酞醯基辛基乙醇酸酯、甲基酞醯基乙基乙醇酸酯、乙基酞醯基甲基乙醇酸酯、乙基酞醯基丙基乙醇酸酯、甲基酞醯基丁基乙醇酸酯、乙基酞醯基丁基乙醇酸酯、丁基酞醯基甲基乙醇酸酯、丁基酞醯基乙基乙醇酸酯、丙基酞醯基丁基乙醇酸酯、丁基酞醯基丙基乙醇酸酯、甲基酞醯基辛基乙醇酸酯、乙基酞醯基辛基乙醇酸酯、辛基酞醯基甲基乙醇酸酯、辛基酞醯基乙基乙醇酸酯等。
羧酸酯例如二甲基酞酸酯、二乙基酞酸酯、二丁基酞酸酯、二辛基酞酸酯及二乙基己基酞酸酯等之酞酸酯類、及檸檬酸乙醯基三甲酯、檸檬酸乙醯基三乙酯、檸檬酸乙醯基三丁酯等之檸檬酸酯類、二甲基己二酸酯、二丁基己二酸酯、二異丁基己二酸酯、雙(2-乙基己基)己酸酯、二異癸基己二酸酯、雙(丁基二乙二醇己二酸酯)等之己二酸酯類、四辛基均苯四甲酸酯、三辛基偏苯三酸酯等之芳香族多元羧酸酯類、二丁基己二酸酯、二辛基己二酸酯、二丁基癸二酸酯、二辛基癸二酸酯、二乙基壬二酸酯、二丁基壬二酸酯、二辛基壬二酸酯等之脂肪族多元羧酸酯類、丙三醇三乙酸酯、二丙三醇四乙酸酯、乙醯基化甘油酯、單甘油酯、二甘油酯等之多元醇之脂肪酸酯類等。其他可單獨使用油酸丁酯、蓖蔴醇酸甲基乙醯酯、癸二酸二丁酯、三乙炔等或併用者較佳。
另外,例如由聚己二酸乙二酯、聚己二酸丁二酯、聚琥珀酸乙二酯、聚琥珀酸丁二酯等之二醇與二元酸所成的脂肪族聚酯類;由聚乳酸、聚乙二醇酸等之氧化羧酸所成的脂肪族聚酯類;由聚己內酯、聚丙內酯、聚戊內酯等之內酯所成的脂肪族聚酯類;聚乙烯基吡咯烷酮等之乙烯基聚合物類等之高分子量系可塑劑。可塑劑可單獨使用此等,亦可與低分子量可塑劑併用。
多元醇系可塑劑例如與纖維素脂肪酸酯之相溶性佳,且熱可塑化效果顯著的丙三醇酯、二丙三醇酯等之丙三醇系酯化合物或聚乙二醇或聚丙二醇等之聚烷二醇、在聚烷二醇之羥基上鍵結有醯基的化合物等。
具體的丙三醇酯例如丙三醇二乙酸酯硬脂酸酯、丙三醇二乙酸酯棕櫚酸酯、丙三醇二乙酸酯肉桂酸酯、丙三醇二乙酸酯月桂酸酯、丙三醇二乙酸酯癸酸酯、丙三醇二乙酸酯壬酸酯、丙三醇二乙酸酯辛酸酯、丙三醇二乙酸酯庚酸酯、丙三醇二乙酸酯己酸酯、丙三醇二乙酸酯戊酸酯、丙三醇二乙酸酯油酸酯、丙三醇乙酸酯二癸酸酯、丙三醇乙酸酯二壬酸酯、丙三醇乙酸酯二辛酸酯、丙三醇乙酸酯二庚酸酯、丙三醇乙酸酯二己酸酯、丙三醇乙酸酯二戊酸酯、丙三醇乙酸酯二丁酸酯、丙三醇二丙酸酯癸酸酯、丙三醇二丙酸酯月桂酸酯、丙三醇二丙酸酯肉桂酸酯、丙三醇二丙酸酯棕櫚酸酯、丙三醇二丙酸酯硬脂酸酯、丙三醇二丙酸酯油酸酯、丙三醇三丁酸酯、丙三醇三戊酸酯、丙三醇單棕櫚酸酯、丙三醇單硬脂酸酯、丙三醇二硬脂酸酯、丙三醇丙三酯月桂酸酯、丙三醇油酸酯丙酸酯等,沒有特別的限制,此等可單獨使用,亦可以併用。
其中,以丙三醇二乙酸酯辛酸酯、丙三醇二乙酸酯壬酸酯、丙三醇二乙酸酯癸酸酯、丙三醇二乙酸酯月桂酸酯、丙三醇二乙酸酯肉桂酸酯、丙三醇二乙酸酯棕櫚酸酯、丙三醇二乙酸酯硬脂酸酯、丙三醇二乙酸酯油酸酯較佳。
二丙三醇酯之具體例如二丙三醇四乙酸酯、二丙三醇丙酸酯、二丙三醇四丁酸酯、二丙三醇四戊酸酯、二丙三醇四己酸酯、二丙三醇四庚酸酯、二丙三醇四辛酸酯、二丙三醇四壬酸酯、二丙三醇四癸酸酯、二丙三醇四月桂酸酯、二丙三醇四肉桂酸酯、二丙三醇四棕櫚酸酯、二丙三醇三乙酸酯丙酸酯、二丙三醇三乙酸酯丁酸酯、二丙三醇三乙酸酯戊酸酯、二丙三醇三乙酸酯己酸酯、二丙三醇三乙酸酯庚酸酯、二丙三醇三乙酸酯辛酸酯、二丙三醇三乙酸酯壬酸酯、二丙三醇三乙酸酯癸酸酯、二丙三醇三乙酸酯月桂酸酯、二丙三醇三乙酸酯肉桂酸酯、二丙三醇三乙酸酯棕櫚酸酯、二丙三醇三乙酸酯硬脂酸酯、二丙三醇三乙酸酯油酸酯、二丙三醇二乙酸酯二丙酸酯、二丙三醇二乙酸酯二丁酸酯、二丙三醇二乙酸酯二戊酸酯、二丙三醇二乙酸酯二己酸酯、二丙三醇二乙酸酯二庚酸酯、二丙三醇二乙酸酯二辛酸酯、二丙三醇二乙酸酯二壬酸酯、二丙三醇二乙酸酯二癸酸酯、二丙三醇二乙酸酯二月桂酸酯、二丙三醇二乙酸酯二肉桂酸酯、二丙三醇二乙酸酯二棕櫚酸酯、二丙三醇二乙酸酯二硬脂酸酯、二丙三醇二乙酸酯二油酸酯、二丙三醇乙酸酯三丙酸酯、二丙三醇乙酸酯三丁酸酯、二丙三醇乙酸酯三戊酸酯、二丙三醇乙酸酯三己酸酯、二丙三醇乙酸酯三庚酸酯、二丙三醇乙酸酯三辛酸酯、二丙三醇乙酸酯三壬酸酯、二丙三醇乙酸酯三癸酸酯、二丙三醇乙酸酯三月桂酸酯、二丙三醇乙酸酯肉桂酸酯、二丙三醇乙酸酯三棕櫚酸酯、二丙三醇乙酸酯三硬脂酸酯、二丙三醇乙酸酯三油酸酯、二丙三醇月桂酸酯、二丙三醇硬脂酸酯、二丙三醇辛酸酯、二丙三醇肉桂酸酯、二丙三醇油酸酯等二丙三醇之混酸酯等,惟不受此等所限制,此等可單獨使用,亦可以併用。
其中,以二丙三醇四乙酸酯、二丙三醇四丙酸酯、二丙三醇四丁酸酯、二丙三醇四辛酸酯、二丙三醇四月桂酸酯較佳。
聚烷二醇之具體例如平均分子量為200~1000之聚乙二醇、聚丙二醇等,惟不受此等所限制,此等可單獨使用,亦可併用。
在聚烷二醇之羥基上鍵結有醯基之化合物的具體例如聚氧化乙烯乙酸酯、聚氧化乙烯丙酸酯、聚氧化乙烯丁酸酯、聚氧化乙烯戊酸酯、聚氧化乙烯己酸酯、聚氧化乙烯庚酸酯、聚氧化乙烯辛酸酯、聚氧化乙烯壬酸酯、聚氧化乙烯癸酸酯、聚氧化乙烯月桂酸酯、聚氧化乙烯肉桂酸酯、聚氧化乙烯棕櫚酸酯、聚氧化乙烯硬脂酸酯、聚氧化乙烯油酸酯、聚氧化乙烯蓖蔴醇酯、聚氧化丙烯乙酸酯、聚氧化丙烯丙酸酯、聚氧化丙烯丁酸酯、聚氧化丙烯戊酸酯、聚氧化丙烯己酸酯、聚氧化丙烯庚酸酯、聚氧化丙烯辛酸酯、聚氧化丙烯壬酸酯、聚氧化丙烯癸酸酯、聚氧化丙烯月桂酸酯、聚氧化丙烯肉桂酸酯、聚氧化丙烯棕櫚酸酯、聚氧化丙烯硬脂酸酯、聚氧化丙烯油酸酯、聚氧化丙烯蓖蔴醇酯等,沒有特別的限制,此等可單獨使用、亦可併用。
可塑劑之添加量以0~20重量%較佳,以2~18重量%更佳,以4~15重量%最佳。可塑劑之含量大於20重量%時,醯化纖維素之熱流動性雖佳,惟會有可塑劑滲出於經熔融製膜的薄膜表面上,且耐熱性之玻璃轉移溫度Tg降低。
於本發明中,在不會損及視其所需要求的性能之範圍內,亦可單獨或2種以上混合添加作為防止熱惡化用、防止著色用安定劑之磷化物系化合物、亞磷酸酯系化合物、磷化物、硫代磷化物、弱有機酸、環氧化合物等。磷化物系安定劑之具體例,以特開2004-182979號之段落[0023]~[0039]記載的化合物較佳。亞磷酸酯系安定劑之具體例,可使用特開昭51-70316號公報、特開平10-306175號公報、特開昭57-78431號公報、特開昭54-157159號公報、特開昭55-13765號公報記載的化合物。
本發明之安定劑的添加量,對醯化纖維素而言以0.005~0.5重量%較佳,以0.01~0.4重量%以上更佳,以0.05~0.3重量%最佳。若添加量未達0.005重量%時,熔融製膜時之防止惡化或抑制著色的效果不充分,故不為企求。另外,為0.5重量%以上時,會滲出於經熔融製膜的醯化纖維素薄膜表面上,故不為企求。
此外,以添加防止惡化劑及抗氧化劑較佳。藉由添加苯酚系化合物、硫醚系化合物、磷系化合物等作為防止惡化劑或抗氧化劑,具有使防止惡化及氧化之相乘效果。另外,以使用發明協會公開技報(公技編號2001-1745、2001年3月15日發行、發明協會)17頁~22頁中詳細記載的原料作為其他安定劑較佳。
其次,本發明之醯化纖維素,其特徵為含有防止紫外線劑,可含有1種或2種以上之紫外線吸收劑。液晶用紫外線吸收劑,就防止液晶惡化而言以波長380nm以下之紫外線吸收能力優異,且就液晶顯示性而言以波長400nm以上之可視光吸收少者較佳。例如氧化苯并噻吩系化合物、苯并三唑系化合物、水楊酸酯系化合物、苯并噻吩系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等。更佳的紫外線吸收劑例如苯并三唑系化合物或苯并噻吩系化合物。其中,苯并三唑系化合物由於對纖維素酯醯化纖維素而言很少會有不需的著色情形,故較佳。
較佳的防止紫外線劑例如2,6-二-第3-丁基-p-甲酚、季戊四醇肆[3-(3,5-二-第3-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、三乙二醇雙[3-(3-第3-丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯]、1,6-己烷二醇雙[3-(3,5-二-第3-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、2,4-雙-(n-辛基硫代)-6-(4-羥基-3,5-二-第3-丁基-苯胺基)-1,3,5-三、2,2-硫代-二亞乙基雙[3-(3,5-二-第3-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、十八烷基-3-(3,5-二-第3-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯、N,N’-六伸甲基雙(3,5-二-第3-丁基-4-羥基-羥醯胺)、1,3,5-三甲基-2,4,6-參(3,5-二-第3-丁基-4-羥基苯甲基)-苯、參(3,5-二-第3-丁基-4-羥基苯甲基)-異氰酸酯等。
另外,以使用2-(2’-羥基-5’-甲基苯基)苯并三唑、2-(2’-羥基-3’,5’-二-第3-丁基苯基)苯并三唑、2-(2’-羥基-3’-第3-丁基苯-5’-甲基苯基)苯并三唑、2-(2’-羥基-3’,5’-二-第3-丁基苯基)-5-氯化苯并三唑、2-(2’-羥基-3’-(3”,4”,5”,6”-四氫酞醯亞胺甲基)-5’-甲基苯基)苯并三唑、2,2-伸甲基雙(4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)苯酚)、2-(2’-羥基-3’-第3-丁基-5’-甲基苯基)-5-氯化苯并三唑、2-(2H-苯并三坐-2-基)-6-(直鏈及側鏈十二烷基)-4-甲基苯酚、辛基-3-[3-第3-丁基-4-羥基-5-(氯化-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙酸酯與2-乙基己基-3-[3-第3-丁基-4-羥基-5-(5-氯-2H-苯并三唑-2-基)苯基]丙酸酯之混合物、或作為紫外線吸收劑之高分子紫外線吸收劑、特開平6-148430號記載的聚合物型紫外線吸收劑等較佳。
此外,亦可併用2,6-二-第3-丁基-p-甲酚、季戊四醇肆[3-(3,5-二-第3-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、三乙二醇雙[3-(3-第3-丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯]較佳。而且,例如N,N’-雙[3-(3,5-二-第3-丁基-4-羥基苯基)丙醯基]肼等之肼系金屬惰性劑或參(2,4-二-第3-丁基苯基)磷化物等之磷系加工安定劑。此等化合物之添加量對纖維素酯醯化纖維素酯而言以質量比例為1ppm~3.0%較佳,以10ppm~2%更佳。
此等之紫外線吸收劑,可利用市售品之下述品。苯并三唑系例如TINUBIN P(汽巴精化公司)(Ciba Specialty Chemicals)、TINUBIN 234(汽巴精化公司)、TINUBIN 320(汽巴精化公司)、TINUBIN 326(汽巴精化公司)、TINUBIN 327(汽巴精化公司)、TINUBIN 328(汽巴精化公司)、史米索布340(住友化學)等。另外,二苯甲酮系紫外線吸收劑例如西索布100(西布羅化成)、西索布101(西布羅化成)、西索布101S(西布羅化成)、西索布102(西布羅化成)、西索布103(西布羅化成)、亞迪卡司型LA-51(旭電化)、肯米索布111(肯米布羅化成)、UVINUL D-49(BASF)等。草酸醯替苯胺系紫外系吸收劑例如TINUBIN 312(汽巴精化公司)或TINUBIN 315(汽巴精化公司)。而且,水楊酸系紫外線吸收劑例如市售的西索布201(西布羅化成)或西索布202(西布羅化成),氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑例如西索布501(西布羅化成)、UVINUL N-539(BASF)。
此外,可添加各種添加劑(例如光學各向異性控制劑、微粒子、紅外線吸收劑、界面活性劑、除臭劑(胺等)等)。紅外線吸收染料例如可使用日本特開平2001-194522號公報所記載者,對各醯化纖維素而言以含有0.001~5質量%較佳。微粒子以使用平均粒徑為5~3000nm者較佳,可使用由金屬氧化物或交聯聚合物所成者,對醯化纖維素而言以含有0.001~5質量%更佳。光學各向異性控制劑可使用例如特開2003-66230號公報、特開2002-49128號公報記載者,對醯化纖維素而言以含有0.1~15質量%較佳。
(熔融製膜)
(1)乾燥醯化纖維素樹脂亦可直接以粉體使用,惟為使製膜之後度變化減少時,使用經粒料化者更佳。
醯化纖維素樹脂,使含水率為1%以下、較佳者為0.5%以下、更佳者0.1%以下後,投入押出機之箱內。此時,箱子之溫度為Tg-50℃以上、Tg+30℃以下,較佳者為Tg-40℃以上、Tg+10℃以下,更佳者為Tg-30℃以上、Tg以下。藉此可抑制箱內之水分的再吸附情形,可使上述乾燥更為有效、更為容易。另外,使箱內吹入經脫水的空氣或惰性氣體(例如氮氣)更佳。
(2)混練押出在190℃以上、240℃以下(較佳者為195℃以上、235℃以下,更佳者為200℃以上、230℃以下)進行混練熔融。此時,熔融溫度可在一定溫度下進行,亦可任意進行分割、控制。較佳的混練時間為2分鐘以上、60分鐘以下(較佳者為3分鐘以上、40分鐘以下,更佳者為4分鐘以上、30分鐘以下)。而且,使押出機內使用惰性(氮氣等)氣流中、或附有帶子之押出機進行真空排氣予以實施較佳。
(3)鑄造使經熔融的醯化纖維素樹脂通過齒輪幫浦,且除去押出機之脈動後,以金屬篩網過濾器等進行過濾,然後自經設置的T型塑模、在冷卻桶上押出成薄片狀。押出處理可以單層進行,亦可以使用多支管塑模或填料區塑模進行數層押出。此時,藉由調整塑模唇部之間隔,可調整寬度方向之厚度斑。
然後,押出於冷卻桶上。此時,使用接觸輥法。
此時,以具有算術平均高度Ra為100nm以下之表面性的一對輥夾住,進行冷卻硬化較佳。使用算術平均高度Ra大於100nm之表面性的冷卻輥時,由於薄膜之透明性降低,故不為企求。較佳者為50nm以下,更佳者為25nm以下。
冷卻桶以60℃以上、160℃以下較佳,更佳者為70℃以上、150℃以下,最佳者為80℃以上、140℃以下。然後,使薄片自冷卻桶剝取,經過噴嘴輥及拉幅器後進行捲取。捲取速度以10m/分以上、100m/分以下較佳,更佳者為15m/分以上、80m/分以下,最佳者為20m/分以上、70m/分以下。
製膜寬度為1m以上、5m以下,較佳者為1.2m以上、4m以下,更佳者為1.3m以上、3m以下。如此所得的未延伸之醯化纖維塑薄膜的厚度以30 μm以上、300 μm以下較佳,更佳者為40 μm以上、250 μm以下,最佳者為50 μm以上、200 μm以下。
如此所得的醯化纖維素薄膜12,以使兩端進行整理後,且以捲取機捲取較佳。經整理的部分於進行粉碎處理後,或視其所需進行造粒處理或解聚合.再聚合等之處理後,作為相同品種之醯化纖維素薄膜用原料或作為不同品種之醯化纖維素薄膜用原料予以再利用。另外,亦可於捲取前,在一面上施予表層薄膜,就防止擦傷而言較佳。
使如此所得的醯化纖維素薄膜之玻璃轉移溫度(Tg),以70℃以上、180℃以下較佳,更佳者為80℃以上、160℃以下,最佳者為90℃以上、150℃以下。
(醯化纖維素薄膜之加工)
使以上述方法製膜的醯化纖維素薄膜,以下述方法予以1軸或2軸延伸,且作成延伸醯化纖維素薄膜。該物可單獨使用,亦可以組合該物與偏光板使用,亦可於此等之上設置液晶層或控制折射率之層(低反射層)或硬性塗覆層使用。此等可藉由下述步驟予以達成。
(1)表面加工醯化纖維素薄膜藉由進行表面處理,可提高各種功能層(例如底塗層及背面層)之黏合。例如可使用輝光放電處理、紫外線照射處理、電暈放電處理、火焰處理、酸或鹼處理。此處所指的輝光放電處理,以在10-3 ~10-20 Torr之低壓氣體下進行低溫電漿處理,或在大氣壓下進行電漿處理較佳。電漿激勵氣體係指於上述條件下予以電漿激勵的氣體,例如氬氣、氦氣、氖氣、氪氣、氙氣、氮氣、二氧化碳、四氟甲烷之氟龍類及此等之混合物等。有關此等之詳細說明,如發明協會公開技報(公技編號2001-1745、2001年3月15日發行、發明協會)中30頁~32頁之詳細記載。而且,近年來大受注目的在大氣中之電漿處理,例如在10~1000Kev下、使用20~500kgy之照射能量(較佳者在30~500Kev下、使用20~300kgy之照射能量。於此等之中,更佳者為鹼性皂化處理。
鹼性皂化處理可以浸漬於鹼化液中(浸漬法),亦可以塗覆皂化液(塗覆法)。為浸漬法時,使NaOH或KOH等之pH值為10~14之水溶液在20℃~80℃下加溫的槽,通過0.1分鐘~10分鐘時,藉由中和、水洗、乾燥予以達成。
為塗覆方法時,可使用浸漬塗覆法、廉幕塗覆法、刮刀塗覆法、棒塗覆法及E型塗覆法。鹼性皂化處理塗覆液之溶劑,為對皂化液之透明載體而言進行塗覆時,以選擇濕潤性佳、且視皂化液溶劑而定沒有在透明載體表面上形成凹凸下保持良好的面狀之溶劑較佳。具體而言,以醇系溶劑較佳,以異丙醇更佳。而且,亦可使用界面活性劑之水溶液作為溶劑。鹼性皂化塗覆液以溶解於上述溶劑之鹼較佳,以KOH、NaOH更佳。皂化塗覆液之pH值以10以上較佳,以12以上更佳。鹼性皂化時之反應條件,以在室溫下進行1秒以上、5分鐘以下較佳,以5秒以上、5分鐘以下更佳,以20秒以上、3分鐘以下特佳。鹼性皂化反應後,以使皂化液塗覆面進行水洗或以酸洗淨後進行水洗較佳。而且,可使塗覆式皂化處理與下述之配向膜解塗設處理連續進行,可減少步驟數。此等之皂化方法,具體例如特開2002-82226號公報、WO02/46809號公報中記載的內容。
為與功能層黏合時,以設置底塗層較佳。該層可於上述表面處理後進行塗設,亦可在沒有進行表面處理下予以塗設。有關底塗層之詳細記載,如發明協會公開技報(公技編號2001-1745、2001年3月15日發行、發明協會)中32頁之記載。
此等之表面處理、底塗層步驟,亦可於製膜步驟之最後段組入,亦可單獨實施,亦可在下述賦予功能層之步驟中實施。
(2)功能層之賦予在本發明之醯化纖維素薄膜上,以組合如發明協會公開技報(公技編號2001-1745、2001年3月15日發行、發明協會)中32頁~45頁之詳細記載的功能性層較佳。其中,較佳者為偏光層之賦予(偏光板)、光學補償片之賦予(光學補償片)、防止反射層之賦予(防止反射薄膜)。
(A)偏光層之賦予(偏光層之作成)(A-1)使用原料目前市售的偏光層,一般而言係使經延伸的聚合物浸漬於浴槽中之碘或二色性色素的溶液中,在黏合劑中使碘、或二色性色素浸透予以製作。偏光膜亦可利用Optiva Inc.之典型的塗覆型偏光膜。偏光膜之碘及二色性色素,係藉由在黏合劑中進行配向以具有偏向性能。二色性色素可使用偶氮系色素、芪系色素、吡唑啉系色素、三苯基甲烷系色素、喹啉系色素、噁系色素、噻系色素或蒽醌系色素。二色性色素以具有水溶性較佳。二色性色素以具有親水性取代基(例如磺基、胺基、羥基)較佳。例如發明協會公開技報、公技編號2001-1745、58頁(2001年3月15日發行、發明協會)中記載的化合物。
偏光膜之黏合劑,使用其本身可交聯的聚合物或藉由交聯劑可交聯的聚合物中任何一種,可使用數種此等之組合。黏合劑例如包含特開平8-338913號公報之說明書中段落編號0022中記載的甲基丙烯酸酯系共聚物、苯乙烯系共聚物、聚烯烴、聚乙烯醇及改性聚乙烯醇、聚(N-羥甲基丙烯醯胺)、聚酯、聚醯亞胺、醋酸乙烯酯共聚物、羧基甲基纖維素、聚羧酸酯等。亦可使用矽烷偶合劑作為聚合物。水溶性聚合物(例如聚(N-羥甲基丙烯醯胺)、羧基甲基纖維素、明膠、聚乙烯醇、改性聚乙烯醇)較佳,以明膠、聚乙烯醇及改性聚乙烯醇更佳,以聚乙烯醇及改性聚乙烯醇最佳。以併用2種之聚合度不同的聚乙烯醇或改性聚乙烯醇特佳。聚乙烯醇之皂化度以70~100%較佳,以80~100%更佳。聚乙烯醇之聚合度以100~5000較佳。有關改性聚乙烯醇,如特開平8-338913號公報、同9-152509號公報及同9-316127號公報之各公報中記載。聚乙烯醇及改性聚乙烯醇亦可以2種以上併用。
黏合劑厚度之下限,以10 μm較佳。厚度之上限,就液晶顯示裝置之漏光情形而言愈薄時愈薄。目前市售的偏光板(約30 μm)以下較佳,以25 μm以下更佳,以20 μm以下最佳。
偏光膜之黏合劑,亦可進行交聯。亦可使具有交聯性官能基之聚合物、單體混合於黏合劑中。亦可使黏合劑聚合物本身具有交聯性官能基。交聯可藉由光、熱或pH值變化予以進行,可形成具有交聯構造之黏合劑。有關交聯劑,於美國再發行專利23297號說明書中記載。而且,亦可使用硼化合物(例如硼酸、硼砂)作為交聯劑。黏合劑之交聯劑的添加量,對黏合劑而言以0.1~20質量%較佳。偏光元件之配向性、偏光膜之耐溼熱性良好。
於交聯反應完成後,未反應之交聯劑以1.0質量%以下較佳,以0.5質量%以下更佳。藉此可提高耐候性。
(A-2)偏光層之延伸偏光膜以使偏光膜進行延伸(延伸法)、或進行摩擦(摩擦法)後以碘、二色性染料予以染色較佳。
為延伸法時,延伸倍率以2.5~30.0倍較佳,以3.0~10.0倍更佳。延伸可以在空氣中進行乾式延伸予以實施。此外,亦可在浸漬於水中之狀態下進行濕式延伸予以實施。乾式延伸之延伸倍率以2.5~5.0倍較佳,濕式延伸之延伸倍率以3.0~10.0倍較佳。延伸亦可以平行於MD方向進行(平行延伸)、亦可朝斜向方向進行(斜向延伸)。此等之延伸,亦可以1次進行,亦可分為數次進行。藉由分為數次,即使進行高倍率延伸時,仍可更均勻地進行延伸。
(a)平行延伸法預先進行延伸,使PVA薄膜進行膨脹。膨脹度為1.2~2.0倍(膨脹前與膨脹後之重量比)。然後,經由導輥等進行連續搬送,且在水系介質浴內或二色性物質溶解之染色浴內,於15~50℃(較佳者為17~40℃)之浴溫下進行延伸。延伸係藉由以2對噴嘴輥固定,使後段之噴嘴輥的搬送速度較前段之搬送速度更快速予以達成。延伸倍率以延伸後/初期狀態之長度比(以下相同)為基準,就上述作用效果而言較佳的延伸倍率為1.2~3.5倍(較佳者為1.5~3.0倍)。然後,於50~90℃中予以乾燥,製得偏光膜。
(b)斜向延伸法此係使用特開2002-86554號公報中記載的朝斜向方向傾斜的方向進行拉伸的拉幅器予以延伸的方法。該延伸為在空氣中進行延伸時,必須預先予以含水、以容易進行延伸。較佳的含水率為5%以上、10%以下,更佳者為10%以上、100%以下。。
延伸時之溫度以40℃以上、90℃以下較佳,更佳者為50℃以上、80℃以下。濕度以50%RH以上、100%RH以下較佳,以70%RH以上、100%RH以下更佳,以80%RH以上、100%RH以下最佳。長度方向之進行速度,以1m/分以上較佳,以3m/分以上更佳。於延伸完成後,在50℃以上、100℃以下(較佳者為60℃以上、90℃以下)進行乾燥0.5分鐘以上、10分鐘以下。更佳者為1分鐘以上、5分鐘以下。
如此所得的偏光膜之吸收軸,以10度~80度較佳,更佳者為30度~60度,最佳者實質上為45度(40度~50度)。
(A-3)貼合調製使上述皂化後之醯化纖維素薄膜、與經延伸調製的偏光層貼合的偏光板。貼合的方向以使醯化纖維素薄膜之流延軸方向與偏光板之延伸軸方向為45度下進行較佳。
貼合的黏合劑,沒有特別的限制,例如PVA系樹脂(包含乙醯基乙醯基、磺酸基、羧基、氧化烷基等之改性PVA)或硼化合物水溶液等,其中,以PVA系樹脂較佳。黏合劑層之厚度,以於乾燥後為0.01~10 μm較佳,以0.05~5 μm更佳。
如此所得的偏光板之光線透過率以高者較佳,偏光度亦以高者較佳。偏光板之透過率,於波長550nm之光中以30~50%之範圍較佳,以35~50%之範圍更佳,以40~50%之範圍最佳。偏光度於波長550nm之光中以90~100%之範圍較佳,以95~100%之範圍更佳,以99~100%之範圍最佳。
另外,如此所得的偏光板,可與λ/4板積層,作成圓偏光。此時使λ/4板之遲相軸與偏光板的吸收軸以45度進行積層。此時,λ/4沒有特別的限制,惟較佳者為具有波長愈低時、阻滯性愈小之波長相關性者。此外,對長度方向而言以使用由具有20度~70度傾斜的吸收軸之偏光膜、及液晶性化合物所成的光學各向異性層形成的λ/4板較佳。
(B)光學補償層之賦予(光學補償片之作成)光學各向異性層係為補償液晶顯示裝置之黑顯示時液晶胞中的液晶化合物者,在醯化纖維素薄膜上形成配向膜,再賦予光學各向異性層予以形成。
(B-1)配向膜在上述經表面處理的醯化纖維素薄膜上設置配向膜。該膜具有規定液晶性分子之配向方向的功能。然而,使液晶性化合物進行配向後,由於使該配向狀態固定時,配向膜可具有該效果,故本發明之構成要素並不一定為必須成分。換言之,亦可僅使於配向狀態經固定的配向膜上之光學各向異性層轉印於偏光子上,製作本發明之偏光板。配向膜可以有機化合物(較佳者為聚合物)之積層處理、無機化合物之斜方蒸熔處理、具有微群之層的形成或藉由Langmuir-Blodgett法(LB法)之有機化合物(例如ω-二十三烷酸、二-十八烷基甲基氯化銨、硬脂酸甲酯之順序方法予以設置)。而且,藉由賦予電場、賦予磁場或光照射,產生配向功能之配向膜,係為已知。
配向膜以藉由聚合物之積層處理予以形成較佳。配向膜中所使用的聚合物,原則上具有使液晶性分子配向的功能之分子構造。
於本發明中,除具有使液晶性分子配向之功能外,以使具有交聯性官能基(例如雙鍵)之側鏈鍵結於主鏈、或具有使液晶性分子進行配向之功能的交聯性官能基導入側鏈較佳。
配向膜中所使用的聚合物,可使用其本身可交聯的聚合物或藉由交聯劑進行交聯的聚合物中任何一種,可使用數種此等之組合。聚合物例如包含特開平8-338913號公報之說明書中段落編號0022中記載的甲基丙烯酸酯系共聚物、苯乙烯系共聚物、聚烯烴、聚乙烯醇及改性聚乙烯醇、聚(N-羥甲基丙烯醯胺)、聚酯、聚醯亞胺、醋酸乙烯酯共聚物、羧基甲基纖維素、聚碳酸酯等。可使用矽烷偶合劑作為聚合物。水溶性聚合物(例如聚(N-羥甲基丙烯醯胺)、羧基甲基纖維素、明膠、聚乙烯醇、改性聚乙烯醇)較佳,以明膠、聚乙烯醇及改性聚乙烯醇更佳,以聚乙烯醇及改性聚乙烯醇最佳。以併用2種聚合度不同的聚乙烯醇或改性聚乙烯醇特佳。聚乙烯醇之皂化度以70~100%較佳,以80~100%更佳。聚乙烯醇之聚合度以100~5000較佳。
具有使液晶性分子配向之功能的側鏈,一般而言具有疏水性基作為官能基。具體的官能基之種類,可視液晶性分子之種類及視其所需之配向狀態予以決定。例如改性聚乙烯醇之改性基,可藉由共聚合改性、連鏈移動改性或嵌段聚合改性予以導入。改性基例如親水性基(羧酸基、磺酸基、磷酸基、胺基、銨基、醯胺基、硫醇基等)、碳數10~100個之烴基、氟原子取代的烴基、硫醚基、聚合性基(不飽和聚合性基、環氧基、吖丙啶基等)、烷氧基甲矽烷基(三烷氧基、二烷氧基、單烷氧基)等。此等之改性聚乙烯醇化合物的具體例如特開2000-155216號公報之說明書中段落編號0022~0145、同2002-62426號公報之說明書中段落編號0018~0022中記載者等。
使具有交聯性官能基之側鏈鍵結於配向膜聚合物之主鏈上、或在具有使液晶性分子配向之功能的側鏈上導入交聯性官能基時,可使配向膜之聚合物與光學各向異性層中所含的多官能單體進行共聚合。結果,不僅在多官能單體與多官能單體之間、且在配向膜聚合物與配向膜聚合物之間、以及在多官能單體與配向膜聚合物之間,皆以共價鍵堅固地鍵結。因此,藉由使交聯性官能基導入配向膜聚合物中,可顯著地改善光學補償片之強度。
配向膜聚合物之交聯性官能基,與多官能單體相同地以含有聚合性基較佳。具體而言,例如特開2000-155216號公報之說明書中段落編號0080~0100中記載者。配向膜聚合物與上述交聯性官能基不同,亦可使用交聯劑進行交聯。
交聯劑包含醛、N-羥甲基化合物、二噁烷衍生物、使羧基活性化作用的化合物、活性乙烯基化合物、活性鹵素化合物、異噁唑及二醛澱粉。亦可2種以上之交聯劑併用。具體而言,例如特開2002-62426號公報之說明書中段落編號0023~0024記載的化合物等。以反應活性高的醛、特別是戊醛較佳。
交聯劑之添加量,對聚合物而言以0.1~20質量%較佳,以0.5~15質量%更佳。於配向膜中所殘留的未反應交聯劑之量,以1.0質量%以下較佳,以0.5質量%以下更佳。藉由該調整,即使配向膜在液晶顯示裝置中長時間使用、或在高溫高濕之氣氛中長時間放置下,仍可得不會產生網狀組織之充分耐久性。
基本上,配向膜可藉由在含有配向膜形成材料之上述聚合物、交聯劑之透明載體上予以塗覆後,進行加熱乾燥(交聯)且進行摩擦處理予以形成。交聯反應係如上所述可於塗覆於透明載體後,在任意時間進行。使用如聚乙烯醇之水溶性聚合物作為配向膜形成材料時,塗覆液以具有消泡作用之有機溶劑(例如甲醇)與水之混合溶劑較佳。其比例以直量比、水:甲醇為0:100~99:1較佳,以0:100~91:9更佳。藉此可抑制氣泡產生,顯著減少配向膜、以及光學各向異性層之層表面的缺陷。
配向膜之塗覆方法,以旋轉塗覆法、浸漬塗覆法、簾幕塗覆法、刮刀塗覆法、棒塗覆法或輥塗覆法較佳。更佳者為棒塗覆法。而且,乾燥後之膜厚以0.1~10 μm較佳。加熱乾燥可在20℃~110℃下進行。為形成充分的交聯時,以60℃~100℃較佳,以80℃~100℃更佳。乾燥時間可在1分鐘~36小時內進行,較佳者為1分鐘~30分鐘。pH值以設定為最適合使用的交聯劑之值較佳,使用戊二醛時,pH值以4.5~5.5較佳,以5.0更佳。
配向膜係設置於透明載體上或上述底塗層上。配向膜可藉由使如上述之聚合物層進行交聯後,使表面進行摩擦處理予以製得。
上述之摩擦處理,可使用廣泛採用作為LCD之液晶配向處理步驟的處理方法。換言之,藉由使配向膜之表面使用紗布、毛毯、橡膠或耐龍、聚酯纖維等朝一定方向擦拭,製得配向的方法。一般而言,藉由使長度及粗細均勻的纖維使用經平均植毛的布等,進行數次摩擦予以實施。
於工業上實施時,對搬送的具有偏光層之薄膜而言,藉由使回轉的摩擦輥接觸予以達成,惟摩擦輥之正圓度、圓筒度、振動(偏芯)皆以30 μm以下較佳。對摩擦輥而言薄膜之摩擦角度以0.1°~90°較佳。惟如特開平8-160430號公報中記載,藉由360°以上捲附,可得安定的摩擦處理。薄膜之搬送速度以1~100m/min較佳。摩擦角度以選自0~60°範圍內適當的摩擦角度較佳。使用於液晶顯示裝置時,以40~50°較佳。以45°更佳。
如此所得的配向膜之膜厚,以0.1~10 μm之範圍較佳。
其次,在配向膜上使光學各向異性層之液晶性分子配向。然後,視其所需使配向膜聚合物與光學各向異性層所含的多官能單體反應,或使用交聯劑以使配向膜聚合物進行交聯。
光學各向異性層中所使用的液晶性分子,包含棒狀液晶性分子及圓盤狀液晶性分子。棒狀液晶性分子及圓盤狀液晶性分子,可以為高分子液晶,亦可以為低分子液晶,而且,低分子液晶液包含不具經交聯的液晶性所成者。
(B-2)棒狀液晶性分子棒狀液晶性分子以使用甲亞胺類、氧化偶氮基類、氰基聯苯類、氰基苯酯類、苯甲酸酯類、環己烷羧酸苯酯類、氰基苯基環己烷類、氰基取代苯基嘧啶類、烷氧基取代苯基嘧啶類、苯基二噁烷、二苯乙炔類及烯基環己基苯腈類較佳。
而且,棒狀液晶性分子亦包含金屬錯體。另外,在重覆單位中含有棒狀液晶性分子之液晶聚合物,可使用作為棒狀液晶性分子。換言之,棒狀液晶性分子亦可與(液晶)聚合物鍵結。
有關棒狀液晶性分子,如季刊化學總說第22卷液晶之化學(1994)日本化學會編第4章、第7章及第11章、及液晶裝置手冊日本學術振興會第142委員會編之第3章中記載。
棒狀液晶性分子之複折射率,以0.001~0.7之範圍較佳。棒狀液晶性分子,為使其配向狀態固定時,以具有聚合性基較佳。聚合性基以游離基聚合性不飽和基或陽離子聚合性基較佳,具體例如特開2002-62427號公報之說明書中段落編號0064~0086中記載的聚合性基、聚合性液晶化合物。
(B-3)圓盤狀液晶性分子圓盤狀(discotic)液晶性分子,包含C.Destrade等人之研究報告、Mol.Cryst.71卷.111頁(1981年)中記載的苯衍生物、C.Destrade等人之研究報告、Mol.Cryst.122卷.141頁(1985年)、Physicslett,A,78卷、82頁(1990)中記載的三亞蘊衍生物、B.Kohne等人之研究報告、Angew.Chem.96卷、70頁(1984年)中記載的環己烷衍生物及J.M.Lehn等人之研究報告、J.Chem.Commun.,1794頁(1985年)、J.Zhang等人之研究報告、J.Am.Chem.Soc.116卷、2655頁(1994年)記載的氮-皇冠系或苯乙炔系大環物(macrocycle)。
圓盤狀液晶性分子,包含對分子中心之母核而言以直鏈烷基、烷氧基、取代苯甲醯氧基作為母核的側鏈、經放射線狀取代的構造之具液晶性的化合物。分子或分子之集合體,以具有回轉對稱性、且可賦予一定配向之化合物較佳。由圓盤狀液晶性分子所形成的光學各向異性層,最終的光學各向異性層中所含的化合物不一定必須為圓盤狀液晶性分子,例如低分子之圓盤狀液晶性分子具有以熱或光反應的基,結果亦包含藉由以熱、光反應進行聚合或交聯,且高分子量化、失去液晶性之化合物。圓盤狀液晶性分子之較佳例如特開平8-50206號公報中記載。而且,有關圓盤狀液晶性分子之聚合,如特開平8-27284號公報中記載。
為使圓盤狀液晶性分子藉由聚合予以固定時,必須在圓盤狀液晶性分子之圓盤狀芯上鍵結作為取代基之聚合性基。以圓盤狀芯與聚合性基經由鍵結基鍵結的化合物較佳,藉此,即使於聚合反應中仍可保持配向狀態。例如特開2000-155216號公報之說明書中段落編號0151~0168中記載的化合物等。
混合型配向係使圓盤狀液晶性分子之長軸(圓盤面)與偏光膜面的角度,隨著在光學各向異性層之深度方向且隨著自偏光膜之面的距離增加時同時增加或減少。角度以距離增加時同時減少者較佳。另外,角度之變化可為連續式增加、連續式減少、間歇式增加、間歇式減少、包含連續式增加與連續式減少之變化、或包含增加及減少之間歇式變化。間歇式變化包含在厚度方向之途中傾斜角沒有變化的範圍。角度亦包含角度沒有變化的範圍,可全體增加或減少。另外,角度以連續式變化較佳。
偏光膜側之圓盤狀液晶性分子的長軸之平均方向,一般而言可藉由選擇圓盤狀液晶性分子或配向膜之材料,或藉由選擇摩擦處理方法,予以調整。此外,表面側(空氣側)之圓盤狀液晶性分子的長軸(圓盤狀)方向,一般而言可藉由選擇圓盤狀液晶性分子或與圓盤狀液晶性分子同時使用的添加劑之種類予以調整。與圓盤狀液晶性分子同時使用的添加劑,例如可塑劑、界面活性劑、聚合性單體及聚合物等。長軸之配向方向的變化程度,與上述相同地可藉由選擇液晶性分子與添加劑予以調整。
(B-4)光學各向異性層之其他組成物與上述之液晶性分子同時併用可塑劑、界面活性劑、聚合性單體等,可提高塗覆膜之均一性、膜之強度、液晶分子之配向性等。以具有與液晶性分子之相溶性,且賦予液晶性分子之傾斜角變化,或不會阻害配向較佳。
聚合性單體例如游離基聚合性或陽離子聚合性之化合物。較佳者為多官能性游離基聚合性單體,以與上述含聚合性基之液晶化合物具共聚合性者較佳。例如特開2002-296423號公報之說明書中段落編號0018-0020記載者。上述化合物之添加量,一般而言對圓盤狀液晶性分子而言為1~50質量%之範圍,較佳者為5~30質量%之範圍。
界面活性劑例如習知的化合物,以氟系化合物更佳。具體而言,例如特開2001-330725號公報之說明書中段落編號0028~0056記載的化合物。
與圓盤狀液晶性分子同時使用的聚合物,以使圓盤狀液晶性分子具有傾斜角變化者較佳。
聚合物之例如纖維素酯。纖維素酯之較佳例如特開2000-155216號公報之說明書中段落編號0178記載者。在不會阻害液晶性分子之配向下,上述聚合物之添加量對液晶性分子而言以0.1~10質量%之範圍較佳,以0.1~8質量%之範圍更佳。
圓盤狀液晶性分子之圓盤狀向列液晶相-固相轉移溫度,以70~300℃較佳,以70~170℃更佳。
(B-5)光學各向異性層之形成光學各向異性層,係使含有液晶性分子及視其所需下述之聚合性起始劑或任意成分之塗覆液塗覆於配向膜上予以形成。
調製塗覆液時所使用的溶劑,以使用有機溶劑較佳。有機溶劑例如醯胺(如N,N-二甲基甲醯胺)、亞碸(如二甲基亞碸)、雜環化合物(如吡啶)、烴(如苯、己烷)、鹵化烷基(如氯仿、二氯甲烷、四氯乙烷)、酯(如醋酸甲酯、醋酸丁酯)、酮(如丙酮、甲基乙酮)、醚(如四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)。以鹵化烷基及酮較佳。亦可併用2種以上之有機溶劑。
塗覆液之塗覆係藉由習知方法(例如線圈棒塗覆法、押出塗覆法、直接照相凹版塗覆法、可逆照相凹版塗覆法、平台塗覆法)予以實施。
光學各向異性層之厚度,以0.1~20 μm較佳,以0.5~15 μm更佳,以1~10 μm最佳。
(B-6)液晶性分子之配向狀態的固定可使經配向的液晶性分子維持配向狀態,予以固定。固定化以藉由聚合反應進行實施較佳。聚合反應包含使用熱聚合起始劑之熱聚合反應、及使用光聚合起始劑之光聚合反應。以光聚合反應較佳。
光聚合起始劑之例,如α-羰基化合物(美國專利2367661號、同2367670號之各說明書記載)、偶因醚(美國專利2448828號說明書記載)、α-烴基取代芳香族偶因化合物(美國專利2722512號說明書記載)、多核醌化合物(美國專利3046127號、同2951758號各說明書記載)、三芳基咪唑二聚物與p-胺基苯酮之組合(美國專利3549367號說明書記載)、吖啶及吩化合物(特開昭60-105667號公報、美國專利4239850號說明書記載)及噁二唑化合物(美國專利4212970號說明書記載)。
光聚合起始劑之使用量,以塗覆液之固成分的0.01~20質量%之範圍較佳,以0.5~5質量%之範圍更佳。
為使液晶性分子聚合時之光照射,以使用紫外線較佳。
照射能量以20mJ/cm2 ~50J/cm2 之範圍較佳,以20~5000mJ/cm2 之範圍更佳,以100~800mJ/cm2 之範圍最佳。而且,為促進光聚合反應時,亦可在加熱條件下實施光照射。
亦可使保護層設置於光學各向異性層上。以組合該光學補償薄膜與偏光層較佳。具體而言,藉由使上述之光學各向異性層用塗覆液塗覆於偏光膜之表面上,以形成光學各向異性層。結果,作成在偏光膜與光學各向異性層之間沒有使用聚合物薄膜下,伴隨偏光膜之尺寸變化產生的應力(變形×截面面積×彈性率)減小且薄的偏光板。使本發明之偏光板裝設於大型的液晶顯示裝置時,不會產生漏光等問題,可顯示顯示品質高的影像。
偏光層與光學補償層之傾斜角度,以使貼合於構成LCD之液晶胞兩側的兩張偏光板之透過軸與液晶胞符合,在縱或橫方向所成的角度下進行延伸較佳。一般的傾斜角度為45°。然而,最近於透過型、反射型及半透過型LCD中開發不一定為45°之裝置,以可在延伸方向符合LCD之設計下任意調整較佳。
(B-7)液晶顯示裝置
說明有關使用該光學補償薄膜之各液晶型。
(TN型液晶顯示裝置)
最多利用作為彩色TFT液晶顯示裝置,於多數文獻中有記載。TN型黑色顯示之液晶胞中的配向狀態,晶胞中央部多為站立的棒狀液晶性分子,晶胞之基板附近多為棒狀液晶性分子躺著的配向狀態。
(OCB型液晶顯示裝置)
使棒狀液晶性分子在液晶胞之上部與下部、實質上朝相反方向(對稱)配向的彎曲狀配向型之液晶胞。使用彎曲狀配向型之液晶胞的液晶顯示裝置,於美國專利4583825號、同5410422號之各說明書中揭示。棒狀液晶性分子由於在液晶胞之上部與下部對稱性配向,故彎曲狀配向型液晶胞,具有自己光學補償功能。因此,該液晶型亦稱為OCB(Optically Compensatory Bend))液晶型。OCB型液晶胞亦與TN型相同地,於黑色顯示時液晶胞中之配向狀態,在晶胞中央部為站立的棒狀液晶性分子,晶胞之基板附近為棒狀液晶性分子躺著的配向狀態。
(VA型液晶顯示裝置)
其特徵係在沒有施加電壓時,棒狀液晶性分子實質上垂直配向,VA型液晶胞,包含(1)使棒狀液晶性分子在沒有施加電壓時實質上為垂直配向,有施加有電壓時實質上朝水平配向之狹義的VA型液晶胞(特開平2-176625號公報中記載);(2)由於視野角擴大,使VA型進行多域相化(MVA型)之液晶胞(SID97、Digest of tech.Papers(預稿集)28(1997)845記載);(3)使棒狀液晶性分子在沒有施加電壓下實質上垂直配向,有施加電壓時為扭轉的經多域相配向型(n-ASM型)之液晶胞(日本液晶討論會之預稿集58~59(1998)記載);及(4)SURVAIVAL型液晶胞(LCD international 98所發表)。
(IPS型液晶顯示裝置)
其特徵為在沒有施加電壓時,棒狀液晶性分子實質上水平配向,該物之特徵係為藉由以是否施加電壓以改變液晶之配向分向予以變換。具體而言,可使用特開2004-365941號公報、特開2004-12731號公報、特開2004-215620號公報、特開2002-221726號公報、特開2002-55341號公報、及特開2003-195333號公報中記載者等。
(其他液晶顯示裝置)
對ECB型及STN型而言,就與上述相同的想法而言可予以光學性補償。
(C)防止反射層之賦予(防止反射薄膜)一般而言,防止反射膜係在透明基質相上設置作為防污性層之低折射率層、及至少具有一層較低折射率層更高折射率之層(即高折射率層、中折射率層)。
使折射率不同的無機化合物(金屬氧化物等)之透明薄膜積層的多層膜,例如以化學蒸熔(CVD)法或物理蒸熔(PVD)法、金屬烷氧化物等金屬化合物之溶膠方法,形成膠體狀金屬氧化物粒子皮膜後,進行後處理(紫外線照射:特開平9-157855號公報、電漿處理:特開2002-327310號公報),以形成薄膜的方法。
另外,各種提案使無機粒子分散於基質相上所成的薄膜進行積層塗覆形成的防止反射膜作為生產性高的防止反射膜。
例如使藉由上述塗覆之防止反射膜賦予最上層表面具有微細凹凸形狀之防眩性的防止反射層所成的防止反射膜。
本發明之醯化纖維素薄膜,可使用上述任何一種方式,惟以藉由塗覆之方式(塗覆型)較佳。
(C-1)塗覆型防止反射薄膜之層構成在基質相上由中折射率層、高折射率層、低折射率層(最外層)順序積層之層構成所成的防止反射膜,以具有滿足下述關係之折射率下進行設計。
以高折射率層之折射率>中折射率層之折射率>透明載體之折射率>低折射率層之折射率順序。而且,亦可在透明載體與中折射率層之間設置硬性塗覆層。另外,亦可由中折射率硬性塗覆層、高折射率層及低折射率層所成。
例如特開平8-122504號公報、同8-110401號公報、同10-300902號公報、特開2002-243906號公報、特開2000-111706號公報等。而且,亦可各層中具有其他功能,例如有防污性低折射率層、抗靜電性之高折射率層(如特開平10-206603號公報、特開2002-243906號公報等)等。
防止反射膜之霧度,以5%以下較佳,以3%以下更佳。而且,膜之強度以JIS K5400為基準的鉛筆硬度試驗為H以上較佳,以2H以上更佳,以3H以上最佳。
(C-2)高折射率層及中折射率層具有防止反射膜高的折射率之層,係由至少含有平均粒徑100nm以下之高折射率的無機化合物超微粒子及基質相黏合劑之硬化性膜所成。
高折射率之無機化合物微粒子,例如折射率1.65以上之無機化合物,較佳者折射率為1.9以上者。例如Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等之氧化物、含有此等金屬原子之複合氧化物等。
為該超微粒子時,使粒子表面以表面處理劑處理(例如矽烷偶合劑等:特開平11-295503號公報、同11-153703號公報、特開2000-9908、陰離子性化合物或有基金屬偶合劑:特開2001-310432號公報等)、以高折射率粒子作為芯之芯殼構造(例如特開2001-166104號公報等)、併用特定的分散劑(例如特開平11-153703號公報、專利編號US6210858B1、特開2002-2776069號公報等)等。
形成基質相之材料,例如習知的熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等。
另外,以至少1種選自至少含有2個以上游離基聚合性及/或陽離子聚合性基之含多官能性化合物的組成物、含有水解性基之有機金屬化合物及其部分縮合物組成物所成的組成物較佳。例如特開2000-47004號公報、同2001-315242號公報、同2001-31871號公報、同2001-296401號公報等記載的化合物。
此外,由金屬烷氧化物之水解縮合物所得的膠體狀金屬氧化物與由金屬烷氧化物組成物所得的硬化性膜亦較佳。例如特開2001-293818號公報等記載。
一般而言,高折射率層之折射率為1.70~2.20。高折射率層之厚度以5nm~10 μm較佳,以10nm~1 μm更佳。
中折射率層之折射率,係視低折射率層之折射率與高折射率層之折射率之間的值予以調整。中折射率層之折射率以1.50~1.70較佳。
(C-3)低折射率層低折射率層係在高折射率層上順序積層所成。低折射率層之折射率為1.20~1.55。以1.30~1.50較佳。
以作為具有耐擦傷性、防污性之最外層結構較佳。為提高耐擦傷性的方法,以賦予表面之平滑性極為有效,可使用由習知的導入聚矽氧烷、導入氟等所成的薄膜層之方法。
含氟之化合物的折射率,以1.35~1.50較佳。更佳者為1.36~1.47。而且,含氟化合物以含有含氟原子為35~80質量%之範圍的交聯性或聚合性官能基的化合物較佳。
例如特開平9-222503號公報之說明書中段落編號0018~0026、同11-38202號公報之說明書中段落編號0019~0030、特開2001-40284號公報之說明書中段落編號0027~0028、特開2000-284102號公報等記載的化合物。
聚矽氧烷化合物係為具有聚矽氧烷構造之化合物,在分子鏈中含有硬化性官能基或聚合性官能基,在膜中具有交聯構造者較佳。例如,反應性聚矽氧烷(如塞拉布雷(譯音)(窒素(股)製等)、在兩末端含有矽烷醇基之聚矽氧烷(特開平11-258403號公報等)等。
具有交聯或聚合性基的含氟及/或矽氧烷之聚合物的交聯或聚合反應,以使為形成含有光聚合起始劑、增感劑等最外層時之塗覆組成物塗覆的同時、或塗覆後,藉由光照射或加熱予以實施較佳。
另外,使矽烷偶合劑等之有機金屬化合物與特定的含有含氟之烴基的矽烷偶合劑,在觸媒共存下進行縮合反應,予以硬化的溶膠凝膠硬化膜較佳。例如含聚氟化烷基之矽烷化合物或其部分水解縮合物(特開昭58-142958號公報、同58-147483號公報、同58-147484號公報、特開平9-157582號公報、同11-106704號公報等記載的化合物)、含氟之長鏈基的含「聚全氟烷醚」基之甲矽烷基化合物(特開2000-117902號公報、同2001-48590號公報、同2002-53804號公報記載的化合物等)等。
低折射率層可含有除上述外作為添加劑之填充劑(例如二氧化矽(二氧化矽)、含氟粒子(氟化鎂、氟化鈣、氟化鋇)等之一次粒子平均粒徑為1~150nm的低折射率無機化合物、特開平11-3820號公報之段落編號[0020]~[0038]記載的有機微粒子等)、矽烷偶合劑、平滑劑、界面活性劑等。
低折射率層位於最外層之下層時,低折射率層,可藉由氣相法(真空蒸熔法、濺射法、離子分布法、電漿CVD法等)予以形成。就可低價製造時,以塗覆法較佳。低折射率層之膜厚,以30~200nm較佳,以50~150nm更佳,以60~120nm最佳。
(C-4)硬性塗覆層硬性塗覆層為使防止反射膜具有物理強度時,設置於透明在體之表面。特別是設置於透明載體與上述高折射率層之間較佳。
硬性塗覆層以藉由光及/或熱之硬化性化合物的交聯反應、或聚合反應予以形成較佳。
硬化性官能基以光聚合性官能基較佳,或含有水解性官能基之有機金屬化合物以有機烷氧基甲矽烷基化合物較佳。
此等之化合物的具體例如以高折射率層例示的相同者。硬性塗覆層之具體構成組成物,例如特開2002-144913號公報、同2000-9908號公報、WO00/46617號公報等記載者。
高折射率層可兼具有硬性塗覆層。此時,使用以高折射率層記載的方法,使微粒子進行微細分散,含於硬性塗覆層中予以形成較佳。硬性塗覆層可兼具含平均粒徑0.2~10 μm之粒子,具有防眩功能(遮光功能)之防眩層(下述)。
硬性塗覆層之膜厚,可視用途而定適當設計。硬性塗覆層之膜厚以0.2~10 μm較佳,以0.5~7 μm更佳。硬性塗覆層之強度,以JIS K5400為基準、鉛筆硬度試驗為H以上較佳,以2H以上更佳,以3H以上最佳。另外,以JIS K5400為基準、錐形試驗,以試驗前後之試驗片的摩擦量愈小時愈佳。
(C-5)前方散射層前方散射層使用於液晶顯示裝置時,朝上下左右方向使視野角傾斜時之視野角改善效果時予以設計。使上述硬性塗覆層中折射率不同的微粒子分散,可兼具有硬性塗覆功能。
例如使上述散射係數特定化的特開11-38208號公報、透明樹脂與微粒子之相對折射率為特定範圍的特開2000-199809號公報、霧度值規定為40%以上之特開2002-107512號公報等。
(C-6)其他層除上述層外,亦可設置主要層、抗靜電層、底塗層或保護層等。
(C-7)塗覆方法防止反射膜之各層可藉由浸漬法、氣刀法、簾幕法、滾筒塗覆法、線圈棒塗覆法、照相凹版塗覆法、微照相凹版塗覆法或刮刀塗覆法(美國專利2681294號說明書),藉由塗覆予以形成。
(C-8)遮光功能防止反射膜亦可具有使外光散射之遮光功能。遮光功能可藉由在防止反射膜之表面上形成凹凸製得。防止反射膜具有遮光功能時,防止反射膜之霧度值以3~30%較佳,以5~20%更佳,以7~20%最佳。
在防止反射膜表面上形成凹凸的方法,可充分保持此等之表面形狀的方法皆可使用。例如在低折射率層中使用微粒子,在膜表面上形成凹凸的方法(例如特開2000-271878號公報等)、低折射率層之下層(高折射率層、中折射率層或硬性塗覆層)中添加少量(0.1~50質量%)的較大粒子(粒徑0.05~2 μm),以形成表面凹凸,且於其上維持此等之形狀,設置低折射率層(例如特開2000-281410號公報、同2000-95893號公報、同2001-100004號公報、同2001-281407號公報等)、塗設最上層(防污性層)後之表面上物理性轉印凹凸形狀的方法(例如壓花加工方法,特開昭63-278839號公報、特開平11-183710號公報、特開2000-275401號公報等記載)等。
於下述中記在有關本發明所使用的測定方法。
[1]Re、Rth測定法使試樣薄膜在溫度25℃、濕度60%RH下調濕3小時以上後,使用自動複折射計(KOBRA-21ADH/PR:王子計測器(股)製),測定於25℃、60%RH中對試樣薄膜表面而言朝垂直方向、及自薄膜面法線傾斜±40°的方向,波長550nm之阻滯值。自垂直方向之面內的阻滯值(Re)、垂直方向、±40°方向之測定值求取厚度方向之阻滯值(Rth)。
[2]Re、Rth、寬度方向、長度方向之Re、Rth變動(1)MD方向採樣朝薄膜之長度方向、以0.5m間隔切出100點、1cm正方形大小尺寸。
(2)TD方向採樣對薄膜之製膜全部寬度而言,以等間隔切出50點之1cm正方形的大小尺寸。
(3)Re、Rth之測定使試樣薄膜在溫度25℃、濕度60%RH下調濕3小時以上後,使用自動複折射計(KOBRA-21ADH/PR:王子計測器(股)製),測定於25℃、60%RH中對試樣薄膜表面而言朝垂直方向、及自薄膜面法線傾斜±40°的方向,波長550nm之阻滯值。自垂直方向之面內的阻滯值(Re)、垂直方向、±40°方向之測定值求取厚度方向之阻滯值(Rth)。上述試樣之全部平均值為Re、Rth。
(4)Re、Rth之變動使此等之上述MD方向100點、TD方向50點之各最大值與最小值的差除以各平均值,以百分率所示者作為Re、Rth變動。
[3]條狀缺點評估以目視檢查所得的醯化纖維素薄膜之外觀,完全不見條狀情形為○,僅見極薄的條狀情形、實質使用時沒有障礙者為△,有極薄的條狀、實質上使用時有問題者為×,條狀情形可一目了然者為××。
[4]醯化纖維素之取代度醯化纖維素之醯基取代基,藉由Carbohydr.Res.273(1995)83-91(手塚等)記載的方法,藉由13C-NMR求取。[5]DSC結晶熔融波峰熱量
使用島津製作所製DSC-50,以昇溫速度10℃/min測定,Tg出現後之吸熱波峰之熱量以J/g求取。同時測定Tg。
[6]霧度
使用日本電色工業(股)製、濁度計NDH-1001DP測定。
[7]變黃指數(YI值)
使用Z-II OPTICAL SENSOR,以(JIS K7105 6.3)為基準,測定變黃情形(YI:黃色指數)。
粒料以反射法測定,薄膜以透過法測定三刺激值X、Y、Z。另外,使用三刺激值X、Y、Z,藉由下述式求取YI值。
YI={(1.28X-1.06Z)/Y}×100
另外,薄膜之YI值係以上述式求取的YI值除以其薄膜之厚度,換算成1mm予以比較。
[8]分子量
使薄膜試樣溶解於二氯甲烷,使用GPC測定。
【實施例】 [醯化纖維素樹脂]
調製表1記載的醯化纖維素。此係添加作為觸媒之硫酸(對100重量份纖維素而言為7.8重量份),且添加作為醯基取代基之原料的羧酸,在40℃下進行醯化反應。此時,醯化後在40℃下進行熟成。如此所得的醯化纖維素之Tg以下述方法測定,且如表1中記載。
(Tg測定)
在DSC之測定鍋中加入20mg試樣。使該物在氮氣氣 流中、以10℃/分、由30℃昇溫至250℃後(1st-run)、直至30℃、以-10℃/分進行冷卻。然後,再由30℃昇溫至250℃(2nd-run)。以2nd-run之基線為自低溫開始偏斜的溫度作為玻璃轉移溫度(Tg),如表1記載。此外,全部水準中添加0.05質量%二氧化矽部粒子(亞耶羅吉魯R972V)。
[熔融製膜]
使經合成的表1之醯化纖維素在120℃下送風乾燥3小時,使含水率為0.1質量%。於其中添加3wt%作為可塑劑之三苯基磷酸酯(TPP),及0.05質量%二氧化矽部粒子(亞耶羅吉魯R972V)、0.20質量%磷化物系安定劑(P-1)、「紫外線吸收劑a」2,4-雙-(正辛基硫代)-6-(4-羥基-3,5-二-第3-丁基苯胺基)-1,3,5-三(0.8質量%)、「紫外線吸收劑b」2(2’-羥基-3’,5’-二-第3-丁基苯基)-5-氯化苯并三唑(0.25質量%),使混合物使用2軸混練押出機,在190℃下進行熔融混練。而且,該2軸混練押出機中設置真空彎管,進行真空排氣(設定為03氣壓)。在水浴中押出成直徑3mm之條狀,且裁斷成長度5mm。
上述混練樹脂使用90℃之脫濕風進行乾燥3小時,形成水分率為0.1wt%後,使用插入有L/D=35、壓縮率3.5、篩網直徑為65mm之全部處理螺旋的單軸押出機,在210℃下熔融後,為提高厚度精度後,使用齒輪幫浦以一定量送出。自齒輪幫浦送出的熔融聚合物,為除去異物時經由4μm之燒結過濾器後,送至具有隙縫狀之隙縫塑模,於押壓用冷卻輥(CR1)中,以押壓輥(DR1)夾住予以冷卻硬化, 再使經硬化的薄片以冷卻輥(CR2)進行冷卻硬化後予以剝取,捲取成輥狀。押壓用冷卻輥(CR1)、冷卻輥(CR2)之表面粗細、及直徑,係使用表1記載者。押壓輥(DR1)使用彈性輥,其表面粗細、直徑及外筒厚度,使用表1記載者。而且,有關此等輥之設定溫度,亦如表1記載。其他有關押壓用冷卻輥(CR1)與押壓輥(DR1)之接觸長度Q、線壓P、及製膜速度、輥間之薄片長度、薄片溫度、及薄片收縮率等之條件,亦如表1記載所示。而且,在捲取前使兩端(全部寬度各3%)進行整理後,在兩端施加寬度10mm、高度50μm之厚度加工(壓花處理)。各水準係寬度為1.5m、以30m/分捲取3000m。而且,表1中之總合評估系所製造的薄膜上有外觀缺點情形且使用上有問題者為×,有外觀缺點情形、惟使用上沒有問題者為△,沒有外觀缺點情形者為○。在沒有外觀缺點情形之薄膜中,沒有細的波紋或皺摺、平滑性優異者為◎。
由表1可知,使冷卻輥(CR2)之溫度對薄片與接觸輥接觸時之薄片溫度而言在±3℃以內,且使該數個冷卻輥之最下游側的冷卻輥(CR2)脫離該熱可塑性樹脂薄片時之溫度,為該熱可塑性樹脂之玻璃轉移溫度Tg(℃)-15℃以下的實施例1~12,可得薄膜外觀幾乎良好的結果。對此而言,使冷卻輥之溫度對薄片與接觸輥接觸時之薄片溫度而言沒有設定於±3℃以內的比較例2~7,會產生皺摺或鬆弛情形。
另外,可知於實施例1~12中,自塑模吐出時之熱可塑性樹脂的零切變黏度沒有滿足2000Pa.sec以下之實施例8,與滿足的實施例1~7相比時,總評估不佳。因此,可知熱可塑性樹脂之玻璃轉移溫度Tg(℃)-彈性輥(DR1)之溫度(℃)為X(℃),線速度為Y(m/min)時,滿足0.0043X2 +0.12X+1.1<Y<0.019X2 +0.73X+24,且押壓用冷卻輥(CR1)與押壓輥(DR1)經由薄片接觸的長度Q(cm)、藉由押壓用冷卻輥與押壓輥夾住薄片作為線壓P(kg/cm)時,沒有滿足3kg/cm2 <P/Q<50kg/cm2 之實施例9~12,與滿足的實施例1~7相比時,總評估不佳。
[偏光板之作成]
1.偏光板之作成(1)表面處理使表1之熱可塑性樹脂薄膜以下述之浸漬法進行皂化處理。而且,實施下述之塗覆皂化處理,可得與浸漬皂化處理相同的結果。
(i)浸漬皂化使用NaOH之1.5規定水溶液作為皂化液。使該物調溫成60℃,且使熱可塑性樹脂薄膜浸漬2分鐘。然後,在0.1N之硫酸水溶液中浸漬30秒後,通過水洗浴。
(ii)塗覆皂化在80重量份異丙醇中加入20重量份水,於其中使KOH以1.5規定溶解,使該液調溫成60℃者使用作為皂化液。使該液以10g/m2 塗覆於60℃之熱可塑性樹脂薄膜上,且皂化1分鐘。然後,使50℃之溫水使用噴霧器以101/m2 .分吹附1分鐘予以洗淨。
(2)偏光層之作成以特開平2001-141926號之實施例1為基準,使2對噴嘴輥間具有周速差,調製朝長度方向延伸的厚度為20 μm之偏光層。而且,同樣地如特開平2002-86554之實施例1所示,作成使延伸軸斜向45度下予以延伸的偏光層,下述之評估結果可得與上述者相同的結果。
(3)貼合處理使用使如此所得的偏光層以上述方法進行製膜、延伸、皂化處理的熱可塑性樹脂薄膜,作成如下述構成之使PVA(可樂麗(股)製PVA-117H)3%水溶液作為黏合劑予以貼合的偏光板。而且,下述記載的富士塔克(譯音)(富士照相軟片製TD80)亦可以上述方法進行皂化處理。
偏光板A:延伸熱可塑性樹脂薄膜/偏光層/富士塔克偏光板B:延伸熱可塑性樹脂薄膜/偏光層/未延伸熱可塑性樹脂薄膜(偏光板B係使用延伸、未延伸熱可塑性樹脂薄膜相同的熱可塑性樹脂)
如此所得的偏光板之新鮮品、與濕熱(60℃、C90%RH、500小時)、乾熱(80℃、C乾式、500小時)c後之偏光板,在液晶側形成延伸醯化纖維素下,設置特開2000-154261號公報之第2~9圖記載的20吋VA型液晶顯示裝置上。使該物與使用新鮮品之偏光板、使用乾、濕熱品之偏光板相比時,以目視評估,就色斑之產生區域佔全部面積之比例而言,可判斷以液晶顯示裝置之色斑,可得良好性能。
2.光學補償薄膜之作成使用本發明之熱可塑性樹脂薄膜取代特開平11-316378號中實施例1之塗覆有液晶層的纖維素乙酸酯薄膜。此時,使用經製膜、延伸者(新鮮品)時,與使用濕熱處理(60℃、90%RH、500小時)、乾熱處理(80℃、C乾式、500小時)後者等兩者相比時,產生色斑之範圍以目視評估,使用本發明者可作成良好的光學補償薄膜。
使用本發明之熱可塑性樹脂薄膜取代特開平7-333433號中實施例1之塗覆有液晶層的纖維素乙酸酯薄膜,製作光學補償過濾膜時,同樣地可作成良好的光學補償薄膜。
3.低反射薄膜之作成使本發明之熱可塑性樹脂薄膜使用以發明協會公開技報(公技編號2001-1745)之實施例47為基準的熱可塑性樹脂薄膜,作成低反射薄膜時,可得良好的光學性能。
4.液晶顯示元件之作成使用日本特開平10-48420號公報中實施例1記載的液晶顯示裝置、特開平9-26572號公報中實施例1記載的含有向列型液晶分子之光學各向異性層、塗覆有聚乙烯醇之配向膜、特開2000-154261號公報中第2~9圖記載的20吋VA型液晶顯示裝置、特開2000-154261號公報中第10~15圖記載的20吋OCB型液晶顯示裝置、特開2004-12731號中第11圖記載的IPS型液晶顯示裝置作為上述本發明熱可塑性樹脂薄膜之偏光板。另外,使用本發明之熱可塑性樹脂薄膜之低反射薄膜貼附於此等液晶顯示裝置之最表層上予以評估時,可得良好的液晶顯示元件。
10‧‧‧薄膜製造裝置
12‧‧‧醯化纖維素薄膜
14‧‧‧製膜步驟部
16‧‧‧縱延伸步驟部
18‧‧‧橫延伸步驟部
20‧‧‧捲取步驟部
22‧‧‧押出機
24‧‧‧塑模
26‧‧‧輥(押壓輥)
27‧‧‧輥(押壓用冷卻輥)
28、29‧‧‧冷卻輥
30、31‧‧‧噴嘴輥
32‧‧‧圓筒
34‧‧‧螺旋軸
36‧‧‧刮板
38‧‧‧單軸螺旋
40‧‧‧供應口
42‧‧‧吐出口
a1‧‧‧供應部A之溝部徑
a2‧‧‧計量部C之溝部徑
d1‧‧‧供應部A之螺旋軸34的外徑
d2‧‧‧計量部C之螺旋軸34的外徑
L‧‧‧圓筒長度
D‧‧‧圓筒內徑
A‧‧‧供應部
B‧‧‧壓縮部
C‧‧‧計量部
44‧‧‧金屬筒
46‧‧‧液狀介質層
48‧‧‧彈性體層
50‧‧‧金屬旋轉軸
Q‧‧‧接觸長度
Y‧‧‧線速度
Z‧‧‧金屬筒之厚度
c1‧‧‧押壓用冷卻輥27與冷卻輥28間之薄膜熱收縮率
c2‧‧‧冷卻輥28與冷卻輥29間之薄膜熱收縮率
r1‧‧‧押壓用冷卻輥27之輥直徑
r2‧‧‧冷卻輥28之輥直徑
r3‧‧‧冷卻輥29之輥直徑
S1‧‧‧押壓用冷卻輥27與冷卻輥28間之薄膜長度
S2‧‧‧押壓用冷卻輥28與冷卻輥29間之薄膜長度
ω 1‧‧‧押壓用冷卻輥27之外周速度
ω 2‧‧‧冷卻輥28之外周速度
ω 3‧‧‧冷卻輥29之外周速度
第1圖係為適用於本發明之薄膜製造裝置的構成之模式圖。
第2圖係為押出機之構成的簡略圖。
第3圖係為製膜步驟部之一對輥的簡略圖。
第4圖係為製膜步驟部之構成的簡略圖。
12...醯化纖維素薄膜
14...製膜步驟部
26...輥(押壓輥)
27...輥(押壓用冷卻輥)
28、29...冷卻輥
S1...押壓用冷卻輥27與冷卻輥28間之薄膜長度
S2...押壓用冷卻輥28與冷卻輥29間之薄膜長度
c1...押壓用冷卻輥27與冷卻輥28間之薄膜熱收縮率
c2...冷卻輥28與冷卻輥29間之薄膜熱收縮率
r1...押壓用冷卻輥27之輥直徑
r2...冷卻輥28之輥直徑
r3...冷卻輥29之輥直徑
ω 1...押壓用冷卻輥27之外周速度
ω 2...冷卻輥28之外周速度
ω 3...冷卻輥29之外周速度

Claims (13)

  1. 一種熱可塑性樹脂薄膜之製法,其係於使經熔融的熱可塑性樹脂自塑模押出成薄片狀,且使該熱可塑性樹脂薄片具有算術平均高度Ra為100nm以下之表面性,以押壓用冷卻輥與押壓輥夾住予以冷卻硬化,再一邊以數個冷卻輥進行搬送一邊冷卻硬化的熱可塑性樹脂薄膜之製法中,其特徵為使該冷卻輥之溫度對該熱可塑性樹脂薄片與該冷卻輥接觸時之薄片溫度而言為±3℃以內,且使該數個冷卻輥之最下游側的冷卻輥脫離該熱可塑性樹脂薄片時之薄片溫度,為該熱可塑性樹脂之玻璃轉移溫度Tg(℃)-15℃以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之熱可塑性樹脂薄膜的製法,其中該押壓用冷卻輥與該冷卻輥中,相鄰的該輥之輥外周速度比例滿足下述(1)式,且該相鄰的輥間之薄片長度滿足下述(2)式,自上游側數來第n個輥之輥直徑為rn (cm),第n個輥與第(n+1)個之輥間的薄片長度為sn (cm),第n個輥與第(n+1)個之輥間的薄片熱收縮率為cn (%),第n個輥之外周速度為ωn 時,0.98 x(1-cn /100)<[(輥外周速度比例)=ωn+1n ]<1.02 x(1-cn /100)..... (1)式 sn /rn >0.3..... (2)式。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之熱可塑性樹脂薄膜的製法,其中該押壓用冷卻輥與該押壓輥中至少一個為金屬製彈性輥。
  4. 如申請專利範圍第3項之熱可塑性樹脂薄膜的製法,其中該押壓用冷卻輥與該押壓輥滿足下述(3)、(4)、(5)中之任一式,熱可塑性樹脂之玻璃轉移溫度Tg(℃)-彈性輥之溫度(℃)為X(℃),線速度為Y(m/min),0.0043X2 +0.12X+1.1<Y<0.019X2 +0.73X+24..... (3)式彈性輥之外筒厚度Z為0.05mm<Z<7.0mm..... (4)式該押壓用冷卻輥與該押壓輥經由該熱可塑性樹脂薄片進行接觸之長度為Qcm,以該押壓用冷卻輥與該押壓輥夾住該熱可塑性樹脂薄片之線壓為Pkg/cm時,3kg/cm2 <P/Q<50kg/cm2..... (5)式。
  5. 如申請專利範圍第1項之熱可塑性樹脂薄膜的製法,其中該數個冷卻輥具有算術平均高度Ra為100nm以下之表面性。
  6. 如申請專利範圍第1項之熱可塑性樹脂薄膜的製法,其中自該塑模吐出時之熱可塑性樹脂之零切變黏度為 2000Pa. sec以下。
  7. 如申請專利範圍第1項之熱可塑性樹脂薄膜的製法,其中薄膜厚度為20~300μm、面內之阻滯值Re為20nm以下、厚度方向之阻滯值Rth為20nm以下。
  8. 如申請專利範圍第1項之熱可塑性樹脂薄膜的製法,其係在該數個冷卻輥的相鄰的該冷卻輥間,以大於10℃的溫度將該熱可塑性樹脂薄膜氣冷。
  9. 一種熱可塑性樹脂薄膜,其特徵為以如申請專利範圍第1至8項中任一項之製法所製造。
  10. 如申請專利範圍第9項之熱可塑性樹脂薄膜,其中該熱可塑性樹脂為醯化纖維素樹脂。
  11. 如申請專利範圍第10項之熱可塑性樹脂薄膜,其中該醯化纖維素樹脂之數平均分子量為2萬~8萬,且A為乙醯基之取代度,B為碳數3~7之醯基的取代度總和,醯基為下述之取代度,滿足2.0≦A+B≦3.0、0≦A≦2.0、1.2≦B≦2.9。
  12. 一種液晶顯示板用光學補償薄膜,其特徵為使用如申請專利範圍第9至11項中任一項之熱可塑性樹脂薄膜作為基材。
  13. 一種偏光板,其特徵為至少使用一張如申請專利範圍第9至11項中任一項之熱可塑性樹脂薄膜作為偏光膜之保護膜。
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