TWI409170B - Anti - reflective multilayer laminated film - Google Patents

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TWI409170B
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Masato Asai
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Teijin Dupont Films Japan Ltd
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Description

防反射多層層合薄膜
本發明係有關將低液晶顯示層與高折射率層交替規則的配置，且藉由拉伸控制其折射率，以在特定之偏光成份的層間折射率差及各層之厚度，選擇性的將隨意的波長帶之光反射的單軸拉伸層合薄膜，與設置於其單面或雙面之防反射膜，使用於反射型偏光板之單軸拉伸多層層合薄膜以及液晶顯示用提升亮度之薄膜者。
多層層合薄膜係將低折射率層與高折射率層交替多層層合者，藉由層間之結構的光干擾，可使用於將特定波長之光選擇性的反射或穿透之光學干擾薄膜。又，如此之多層層合薄膜，將膜厚緩慢改變，將具有相異之反射尖峰的薄膜膠黏，可獲得與使用金屬之薄膜相同的高反射率，能使用為金屬光澤薄膜及反射鏡。進而，將如此之多層層合薄膜僅在一個方向拉伸，亦可使用為僅將特定之偏光成份反射的偏光反射薄膜；將其使用於液晶顯示等亦可做為液晶顯示等之提升亮度薄膜。
一般而言，在以具有層厚為0.05~0.5μm的不同折射率之層構成的多層光學薄膜中，藉由構成一方之層與構成他方之層的折射率差與膜厚及層合數，可發現將特定波長之光反射的所謂增反射現象。一般上，其反射波長以下述式(1)表示。
λ＝2x((n1)x(d1)＋(n2)x(d2))………(1)式中，λ為反射波長(nm)，n1、n2為分別之層的折射率，d1、d2為分別之層的厚度(nm)。
如特開平04－268505號公報上之揭示，於一方之層使用具有正的應力光學係數之樹脂，藉由單軸拉伸可僅將雙折射中具有各向異性之特定偏光成份反射。使用此原理能設計例如將P偏光反射，使S偏光穿透之反射偏光薄膜。其時之適合的雙折射以下述式(2)表示。
n1x>n2x、n1y＝n2y………(2)式中，n1x、n2x為分別之層的拉伸方向之折射率，n1y、n2y為分別之層的垂直於拉伸方向之折射率。
特表平9－506837號公報及WO－01/47711號公報上有高折射率層使用聚2,6－萘二羧酸乙二醇酯（以下亦簡稱為PEN）、低折射率層使用熱塑性彈性體之雙軸拉伸薄膜、及高折射率層使用PEN、低折射率層使用將異苯二甲酸30莫耳%共聚合之PEN的單軸拉伸多層層合薄膜之例示。此等薄膜係一方之層使用具有正的應力光學係數之樹脂、他方之層為應力光學係數非常小的樹脂；即，使用藉由拉伸顯現極小之雙折射的樹脂，僅將特定之偏光反射的反射偏光薄膜。如此的反射偏光薄膜可使用為液晶顯示之提升亮度薄膜。
一般而言，單軸拉伸多層層合薄膜之反射偏光薄膜使用為液晶顯示之提升亮度薄膜時，以包含拉伸方向與垂直於薄膜面之方向的兩方向，在平面平行的偏光成份之P偏光的可見光線反射率較接近於100%，在同平面垂直的偏光成份之S偏光較接近於0%，更適合。不過，已往之反射偏光薄膜，對上述平面之P偏光，雖可達成90%以上之反射率，但對S偏光具有約10~15%的反射率之故，藉此在液晶顯示內造成反射損耗，導致亮度降低。
如上所述，使用單軸拉伸多層層合薄膜之反射偏光薄膜，對拉伸方向與垂直方向為基準之平面S偏光之可見光線的光線反射率為10~15%左右。此主要為由於薄膜基材與空氣界面之折射率差的界面反射所致。減低如此之界面反射的方法，有防反射加工等。
一般上顯示器等所使用之防反射塗佈，僅一層之塗佈並不能使遍及可見光全域之反射率降低，可使用基材/高折射率層/低折射率層之兩層塗佈，或基層/中折射率層/高折射率層/低折射率層等之三層塗佈等。
形成上述之防反射薄膜的方法有將溶液塗佈於薄膜一後經乾燥、層合之濕式塗佈法，與藉由濺鍍、蒸鍍等之乾式法；前者難以精確度優越之塗膜厚度重現而層合，後者之方法係採用精確度高的真空之故生產成本升高、生產性低，均有製造上的問題。
由於上述之理由，到目前為止並無適合使用於反射偏光薄膜表面之防反射加工。
 [發明之揭示]
本發明之目的係解決已往多層層合薄膜所具有之上述問題，提供提升亮度效果跳躍似的增加、可使用於反射型偏光板之單軸拉伸多層層合薄膜。
本發明之另一目的係提供由本發明之上述單軸拉伸多層層合薄膜所成的液晶顯示用提升亮度薄膜。
本發明之又一目的係提供構成本發明之上述單軸拉伸多層層合薄膜的單軸拉伸層合薄膜之製造方法。
本發明之其他目的及優點可由下述之說明瞭解。
依本發明，本發明之上述目的及優點為，第一以(A)將由具有正的應力光學係數之第一熱塑性樹脂所成且厚度為0.05~0.5μm的第一層，及由與第一熱塑性樹脂相異之第二熱塑性樹脂所成且厚度為0.05~0.5μm的第二層，交替合計501層以上而存在之單軸拉伸層合薄膜，及在該單軸拉伸層合薄膜之至少單面上，具有由射入側測定表面之反射率為3%以下之低反射率層；(B)對含該單軸拉伸層合薄膜之拉伸方向與垂直於薄膜面之方向的兩方向之面，平行的偏光成份之平均反射率在波長400~800nm的範圍為90%以上，且對含薄膜之拉伸方向與垂直於薄膜面之方向的兩方向之面，垂直的偏光成份之平均反射率在波長400~800nm的範圍為10%以下；然後，(C)適合使用於反射型偏光板；為特徵，藉由單軸拉伸多層層合薄膜而達成。
依本發明，本發明之上述目的及優點為，第二，提供由本發明之上述單軸拉伸多層層合薄膜所成的液晶顯示用提升亮度薄膜。
依本發明，本發明之上述目的及優點為，第三以(A)將由具有正的應力光學係數之第一熱塑性樹脂所成且厚度為0.05~0.5μm的第一層，及由與第一熱塑性樹脂相異之第二熱塑性樹脂所成且厚度為0.05~0.5μm的第二層，交替合計501層以上而存在之單軸拉伸層合薄膜，及在該單軸拉伸層合薄膜之至少單面上具有折射率1.1~1.45的低折射率層；(B)對含該單軸拉伸層合薄膜之拉伸方向與垂直於薄膜面之方向的兩方向之面，平行的偏光成份之平均反射率在波長400~800nm的範圍為90%以上，且對含薄膜之拉伸方向與垂直於薄膜面之方向的兩方向之面，垂直的偏光成份之平均反射率在波長400~800nm的範圍為10%以下；然後，(C)適合使用於偏光板；為特徵，藉由單軸拉伸多層層合薄膜而達成。
進而依本發明，本發明之上述目的及優點為，第四以由將熔點為260~270℃之第一熱塑性樹脂與比第一熱塑性樹脂之熔點低15~60℃的熔點之第二熱塑性樹脂交替層合501層以上形成薄片的第一步驟；將所得薄片在拉取方向或寬度方向之任一方向拉伸2~10倍的第二步驟；及將所得拉伸薄片在比第二熱塑性樹脂之熔點低10℃的溫度與比第一熱塑性樹脂之熔點低15℃的溫度之間的溫度進行熱處理之第三步驟所成，為特徵，藉由單軸拉伸多層層合薄膜之製造方法而達成。
[用以實施發明之最佳型態]
就本發明詳細說明如下。
＜單軸拉伸層合薄膜＞
本發明中，構成第一層之樹脂必要為具有正的應力雙折射（與應力光學係數同義）之第一熱塑性樹脂。具有正的應力雙折射之第一熱塑性樹脂有例如聚2,6－案二羧酸乙二醇酯（以下稱為2,6－PEN）及其同分異構物（例如1,4－、1,5－、2,7－及2,3－PEN）、聚對苯二甲酸烷基酯（例如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、及聚對苯二甲酸1,4－環己烷二亞甲基酯）聚異苯二甲酸乙二醇酯、聚醯亞胺（例如聚丙烯醯亞胺）、聚醚醯亞胺、聚烷烯聚合物（例如聚乙烯、聚丙烯、聚丁烯、聚異丁烯及聚（4－甲基）戊烯）、氟化聚合物（例如全氟烷氧基樹脂、聚四氟乙烯、氟化乙烯－丙烯共聚物、聚偏氟乙烯及聚氯三氟乙烯）、氯化聚合物（例如聚偏氯乙烯及聚氯乙烯）、聚碸、聚醚碸、聚丙烯腈、聚醯胺、矽氧樹脂、環氧樹脂、聚乙酸乙烯、聚醚醯胺、離子鍵聚合物、彈性體（例如聚丁二烯、聚異戊二烯及氯丁二烯橡膠）、以及聚胺基甲酸乙酯等等。
其中以應力雙折射大的聚2,6－萘二羧酸乙二醇酯(2,6－PEN)及其同分異構物（例如1,4－、1,5－、2,7－及2,3－PEN）、聚對苯二甲酸烷基酯（例如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、及聚對苯二甲酸1,4－環己烷二亞甲基酯）等較為適合。特別以2,6－、1,4－、1,5－、2,7－、及2,3－PEN更適合。
還有，上述所謂聚2,6－萘二羧酸乙二酯係指以2,6－萘二羧酸乙二醇酯為主要重覆單位，例如2,6－萘二羧酸乙二醇酯為全重覆單位之80~100莫耳%，以佔90~100莫耳%更適合，包含均聚物及共聚物之意；其他之同分異構物亦相同。同樣的，所謂聚對苯二甲酸乙二醇酯係指以對苯二甲酸乙二醇酯為主要重覆單位，例如對苯二甲酸乙二醇酯為當重覆單位之80~100莫耳%，以佔90~100莫耳%更適合，包含均聚物及共聚物之意。
構成第二層之第二熱塑性樹脂，有做為第一熱塑性樹脂之上述列舉的熱塑性樹脂以外之例如無規之構聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸酯（例如聚甲基丙烯酸異丁酯、聚甲基丙烯酸丙酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸甲酯）、聚丙烯酸酯（例如聚丙烯酸丁酯及聚丙烯酸甲酯）、間規之構聚苯乙烯(sPS)、間規主構聚－α－甲基苯乙烯、間規主構聚二氯苯乙烯，由此等隨意之聚苯乙烯所成的共聚物及摻合物、纖維素衍生物（例如乙基纖維素、乙酸纖維素、丙酸纖維素、乙酸丁酸纖維素、及硝基纖維素）等等。
第二熱塑性樹脂必要與第一熱塑性樹脂相異，但不一定必要具有正的應力雙折射（與應力光學係數同義）。不過，使用具有正的應力雙折射率之第二熱塑性樹脂時，以低於第一熱塑性樹脂之熔點15~60℃較適合；其中從層間密著性之觀點而言，以使用低於第一熱塑性樹脂之特別適合的2,6－、1,4－、1,5－、2,7－或2,3－PEN之熔點15~60℃的共聚物更為適合。如此之共聚物有PEN之共聚物，例如2,6－、1,4－、1,5－、2,7－、及/或2,3－萘二羧酸或其酯與，(a)對苯二甲酸或其酯，(b)異苯二甲酸或其酯，(c)苯二甲酸或其酯，(d)烷二醇，(e)環烷二醇，例如環己烷二甲酸，(f)烷二羧酸及/或(g)環烷二羧酸，例如環己烷二羧酸之共聚物；聚苯苯二甲酸烷基酯之共聚物，例如對苯二甲酸或其酯與，(a)萘二羧酸或其酯，(b)異苯二甲酸或其酯，(c)苯二甲酸或其酯，(d)烷二醇，(e)環烷二醇，例如環己烷二甲酸，(f)烷二羧酸及/或(g)環烷二羧酸，例如環己烷二羧酸之共聚物；苯乙烯共聚物，例如苯乙烯－丁二烯共聚物及苯乙烯－丙烯腈共聚物；以及4,4’－二安息香酸與乙二醇之共聚物等等。
就本發明中單軸拉伸層合薄膜之適合例更詳細說明如下。
在本發明的最適合之例中，構成第一層之第一熱塑性樹脂為由以2,6－萘二羧酸乙二醇酯成份為主要重覆單位所成之聚酯。適合的是，能維持比構成後述之第二層的聚酯高之熔點的均聚2,6－萘二羧酸乙二醇酯或重覆單位之95莫耳%以為由2,6－萘二羧酸乙二醇酯成份所成之共聚2,6－萘二羧酸乙二醇酯。2,6－萘二羧酸乙二醇酯成份之莫耳數低於重覆單位的95莫耳%時，熔點降低不能獲得與構成後述之第二層的聚酯之熔點差，結果不能賦予拉伸層合薄膜充分之折射率差。其中以能維持高熔點之均聚2,6－萘二羧酸乙二醇酯較為適合。2,6－萘二羧酸乙二醇酯成份以外之共聚合成份，適合的有異苯二甲、2,7－萘二羧酸等其他之芳香族羧酸；己二酸、壬二酸、癸二酸、癸烷二羧酸等脂肪族二羧酸；環己烷二羧酸等脂環族二羧酸等酸成份、丁烷二醇、己烷二醇等脂肪族二醇；環己烷二甲醇等脂環族二醇等二醇成份。
可是，構成第一層之樹脂的熔點為260~270℃之範圍，以能增大與構成後述之第二層的樹脂之熔點差為佳。構成第一層之樹脂的熔點低於下限時，與構成第二層之樹脂的熔點差減小，結果難以賦予所得單軸拉伸薄膜充分之折射率差。還有，均聚2,6－萘二羧酸乙二醇酯之熔點為267℃左右。
本發明的最適合之例中，構成第二層之第二熱塑性樹脂係由熔點為210~255℃之主要重覆單位的2,6－萘二羧酸乙二醇酯成份所成的聚酯。尤其從單軸拉伸中製膜性之觀點而言，以結晶性聚酯較適合。又，能使熔點比構成上述之第一層的聚酯低之重覆單位的40~98.5莫耳%，以75~97莫耳%更適合，為由2,6－萘二羧酸乙二醇酯成份所成；1.5~60莫耳%，以3~25莫耳%更適合，為由其以外之共聚合成份，例如對苯二甲酸乙二醇酯及/或異對苯二甲酸乙二醇酯所成之共2,6－萘二羧酸乙二醇酯。2,6－萘二羧酸乙二醇酯成份之莫耳數低於重覆單位的75莫耳%而共聚合成份之莫耳數超過25莫耳%時，實質上聚合物為非晶質，於單軸拉伸之製膜性下降，且與構成上述之第一層的聚酯之組成大為不同，層間之密著性容易降低。另一方面，2,6－萘二羧酸乙二醇酯成份之莫耳數超過重覆單位的97莫耳%而共聚合成份之莫耳數低於3莫耳%時，與構成上述之第一層的聚酯之熔點差減小，結果難以賦予拉伸層合薄膜充分之反射率。2,6－萘二羧酸乙二醇酯成份以外之共聚合成份，適合的有異苯二甲酸、2,7－萘二羧酸等其他之芳香族羧酸；己二酸、壬二酸、癸二酸、癸烷二羧酸等脂肪族二羧酸；環己烷二羧酸等脂環族二羧酸等酸成份、丁烷二醇、己烷二醇等脂肪族二醇；環己烷二甲醇等脂環族二醇等二醇成份。其中尤其從比較上維持拉伸性同時容易使熔點降低而言，以對苯二甲酸或異苯二甲酸為佳。
可是，構成第二層之第二熱塑性樹脂的熔點為210~255℃之範圍，以能增大與構成上述第一層之第一熱塑性樹脂的熔點差為佳。構成第二層之第二熱塑性樹脂的熔點高於上限時，與構成第一層之第一熱塑性樹脂的熔點差減小，結果難以賦予所得拉伸層合薄膜充分之折射率差。另一方面，構成第二層之第二熱塑性樹脂的熔點低於下限時，與構成第一層之第一熱塑性樹脂的組成大為改變，難以賦予所得單軸拉伸層合薄膜充分之層間的密著性。還有，構成第二層之第二熱塑性樹脂的熔點，沒必要自形成薄膜前之階段就低，在拉伸處理後降低即可。例如，準備均聚2,6－萘二羧酸乙二醇酯與其以外之其他的聚酯，將此等熔融混煉，其時進行酯交換者亦可。
第一層及第二層為藉由層間之光干擾，選擇性將光反射，第一層及第二層中各別一層之厚度為0.05~0.5μm的範圍。多層光學薄膜之反射特性，以層數、折射率差、層之厚度而決定。本發明中單軸拉伸層合薄膜所示之反射波長帶，自可見光區域至近紅外線區域之故必要在上述層厚的範圍。層厚超過0.5μm時反射帶域成為紅外線區域，不能獲得適合之反射偏光薄膜。另一方面低於0.05μm時，光射光之反射帶域成為紫外線區域，不能獲得實質性能。
本發明中之單軸拉伸層合薄膜，層合數必要為至少501層。層數低於501層時，在波長400~800nm之範圍不能滿足以上述為目的的光學特性。層合數之上限，從生產性及薄膜之處理性等觀點而言，以2001層為最高較適合。
此單軸拉伸層合薄膜中，對第一層之平均厚度，第二層的平均厚度之比，以0.5~5.0為宜，以1.0~4.0更適合，以1.5~3.5最理想。藉由改變第一層與第二層之厚度比可維持層間的密著性；又，不改變使用之樹脂能調整單軸拉伸層合薄膜的機械特性。對第一層平均厚度，第二層平均厚度之比低於0.5時，在單軸拉伸層合薄膜之拉伸方向容易撕裂；另一方面超過5.0時，經處理於定向緩和之差異單軸拉伸層合薄膜的厚度之改變容易增大。
又，光學多層薄膜係依上述式(1)，藉由折射率、層數、層的厚度而決定反射之波長，層合之第一層及第二層分別為一定之厚度時，僅能反射特定之波長。
本發明之單軸拉伸層合薄膜中，第一層及第二層分別的最大厚度與最小厚度之比，以1.5~5.0為宜，以2.0~4.0更適合，以2.5~3.5最理想。第一層及第二層為階段式改變亦可，連續式改變亦可。以如此層合之第一層及第二層的分別改變，能將更廣濶波長區域之光反射。第一層及第二層分別的最大厚度與最小厚度之比低於1.5時，難以覆蓋400~800nm之波長區域的範圍之做為上述目的的反射特性。另一方面，超過5.0時，反射帶域過於廣闊反射率降低，難以獲得上述目的之反射特性。又，此時層合結構為階段式或連續式改變之多層結構的表層，或於內部存在一層以上的0.5μm以上之層亦可。
本發明中單軸拉伸層合薄膜，對含該單軸拉伸薄膜之拉伸方向與垂直於薄膜面之方向的兩方向之平面，平行的偏光成份之平均反射率在波長400~800的範圍為90%以上，以95%以上更適合，以98%以上最理想；對同平面垂直的偏光成份之平均反射率在波長400~800的範圍為10%以下，以5%以下較適合，以3%以下更佳，以1%以下最理想。對含單軸拉伸薄膜之拉伸方向與垂直於薄膜面之方向的兩方向之平面，平行的偏光成份之平均反射率在波長400~800nm的範圍低於90%時，做為反射型偏光薄膜之偏光反射性能不足，做為液晶顯示等之提升亮度薄膜不能顯現充分的性能。又，對同平面垂直的偏光成份之平均反射率超過10%時，在波長400~800nm之範圍，做為反射型偏光薄膜的偏光穿透率降低之故，做為液晶顯示等之提升亮度薄膜的性能劣化。
此單軸拉伸層合薄膜中，對含單軸拉伸薄膜之拉伸方向與垂直於薄膜面之方向的兩方向之平面，平行的偏光成份之於波長400~800nm的範圍，最大反射率與最小反射率之差為10%以內，且對同平面垂直的偏光成份之於波長400~800nm的範圍，最大反射率與最小反射率之差以在10%以內較適合。上述偏光成份的最大反射率與最小反射率之差超過10%時，產生反射或穿透之光色相的任一種之故，使用於液晶顯示等有產生問題之情況。
圖1為表示本發明之單軸拉伸層合薄膜的反射率曲線之一例。P偏光為在含薄膜之拉伸方向與垂直於薄膜面之方向的兩方向之平面的平行之偏光成份，S偏光為在含薄膜之拉伸方向與垂直於薄膜面之方向的兩方向之平面的垂直之偏光成份。
本發明之單軸拉伸層合薄膜中，層合多層結構之方法沒有特別的限制，例如有將做為第一層之聚酯支化為251層，將做為第二層之聚酯支化為250層，然後將第一層與第二層交替層合，採用使其流路連續改變1~3倍之多層進料單元裝置的方法；藉由多層進料單元裝置，將201層之均勻層層合，將其層合的流動體更以1.0：1.3：2.0之比，垂直於層合之面支化為3後再層合為601層的方面。將此等兩者組合使用亦可。
本發明之單軸拉伸層合薄膜，係將上述之第一層及第二層交替至少合計501層層合者。還有，本發明之單軸拉伸層合薄膜，如上所述，為滿足目的之做為反射偏光薄膜的光學特性，於單軸方向拉伸。此時之拉伸方向為縱方向，於橫方向拉伸亦可。又，在滿足光學特性的範圍賦予多段拉伸亦可。又，拉伸方法可使用藉由棒狀加熱器之加熱拉伸、滾筒加熱拉伸、拉幅器拉伸等眾所周知的拉伸方法，從藉由與滾筒接觸減低缺陷及拉伸速度之觀點而言，以拉幅器拉伸較為適合。還有，所謂單軸拉伸，並非指在垂直於單軸拉伸方向的方向完全不拉伸之意，包含於直角方向例如1.2倍以下，以1.1倍以下更適合的拉伸之意。
尤其從確保層間之密著性及拉伸加工之製膜性而言，本發明之單軸拉伸層合薄膜的第一層及第二層同時由顯示正的應力光學係數之結晶性樹脂所成，且第二層之第二熱塑性樹脂於拉伸後，至少一部份熔融緩和定向極為適合。以DSC（差示掃描熱量計）測定如此而得之單軸拉伸層合薄膜有兩個以上之熔點存在，且此等之熔點有5℃以上之差異，甚為適合。於此比測定高之熔點為顯示高折射率之第一層的第一熱塑性樹脂，較低之熔點為顯示低反射率之第二層的第二熱塑性樹脂。又，拉伸後第二層的至少一部份熔融之故，以DSC測定之結晶化尖峰存在於150~220℃的範圍，非常適合。結晶化尖峰為150℃以下時，在薄膜拉伸之際，一方之層激烈結晶化使製膜時的製膜性降低，膜質之均勻性容易下降，結果有產生色相之斑點等的情況。另一方面，結晶化尖峰為220℃以上時，在後述的製造方法中以熱固定處理將第二層熔融之際同引起結晶化，難以顯現充分之折射率差。
如上所述，本發明之單軸拉伸層合薄膜藉由將同時顯示結晶性之第一層的第一熱塑性樹脂與第二層之第二熱塑性樹脂拉伸，可得均勻之膜質的薄膜；且於拉伸步驟後將第二層熔融，能提高層間密著性同時提升反射性能。因此，本發明之單軸拉伸層合薄膜中，藉由DSC觀測到結晶尖峰存在於150~220℃，熔點差為5℃以上之不同的兩個以上之熔融尖峰的單軸拉伸層合薄膜，極為適合又，本發明之單軸拉伸層合薄膜，拉伸處理之方向的斷裂強度分別以100MPa較適合。斷裂強度低於100MPa時，單軸拉伸層合薄膜於加工之際的處理性降低，製成產品時之耐久性下降。又，斷裂強度為100MPa以上時，薄膜強硬有提升捲取性之優點。適合之斷裂強度，縱方向為150MPa以上，以200MPa以上更佳；橫方向為150MPa以上，以200MPa以上更佳。又，縱方向與橫方向之強度比，為3以下時具備充分的耐撕裂性之故較為適合。尤其縱方向與橫方向之強度比為2以下時，更能提升耐撕裂性，甚為適合。斷裂強度之上限沒有特別的限制，從維持拉伸步驟之穩定性的觀點而言，以最高為500MPa較適合。
又，本發明之單軸拉伸層合薄膜之特徵係，第一熱塑性樹脂為聚2,6－萘二羧酸乙二醇酯時，熱尺寸穩定性甚高，特別在加工製程中必要160℃以上之高溫時能充分對應。本薄膜之拉伸處理方向（製膜方向及寬度方向之任一種）的150℃30分鐘處理時之熱收縮率以5.0%以下較為適合，以1.5%以下更佳，以1.0%以下最理想。又，本發明之單軸拉伸層合薄膜於200℃10分鐘處理時之製膜方向及寬度方向的任一種之熱收縮率以3.0%以下較適合，以20%以下更佳，以1.5%以下最理想。
又，本發明之單軸拉伸層合薄膜中，構成第一層及第二層之樹脂，如上所述以同時為結晶性樹脂較適合。構成第一層及第二層之樹脂同時為結晶性樹脂時，拉伸等處理不會有不均勻之情況，結果能使薄膜之厚斑減小。厚斑之範圍，以下述式(3)所示之厚度變動率為10%以下較適合，以5%以下更佳，以3.0%以下最理想。薄膜厚度之變動率達10%以上時，光學特性之任一項均增大，不得獲得以色相分歧為目的之光學特性。
厚度變動率(%)＝(Tm a x －Tm i n )/(TA v e )………(3)上述式中之Tm a x 為最大厚度、Tm i n 為最小厚度、及TA v e 為平均厚度。
本發明之單軸拉伸層合薄膜，為提升薄膜之捲取性，以在第一層或第二層之一方含有對單軸拉伸層合薄膜之重量為0.001~0.5重量%較適合，以0.005~0.2重量%更佳之惰性微粒為宜。惰性微粒之平均粒徑以0.01~2μm較適合，以0.05~1μm更佳，以0.1~0.3μm最理想。平均粒徑小於下限，含量亦少時下限時，容易使單軸拉伸層合薄膜之提升捲取性的效果不足；另一方面，惰性微粒之含量超過上限，平均粒徑亦超過上限時，由於微粒使多層拉伸薄膜之光學特性顯著惡化，極不適合。
＜單軸拉伸層合薄膜之製造方法＞
就最適合之例詳述如下。
本發明之單軸拉伸層合薄膜，係將熔點為260~270℃之第一熱塑性樹脂，例如以2,6－萘二羧酸乙二醇酯成份為主要重覆單位之聚酯（第一層用），與拉伸處理後之熔點至少比該第一熱塑性樹脂低10℃以上的第二熱塑性樹脂，例如以2,6－萘二羧酸乙二醇酯成份為主要重覆單位之聚酯（第二層用），於熔融狀態交替至少501層以上以重疊狀態擠壓形成多層未拉伸薄膜（形成薄片狀物之步驟）。此時層合501層以上之層合物，其層厚為階段式或連續式於1.5倍~5.0倍之範圍改變而層合。還有，第一熱塑性樹脂及第二熱塑性樹脂之聚酯係與上述的第一層及第二層之說明相同。第一熱塑性樹脂之聚酯的熔點低於260℃時，不能獲得充分之與第二熱塑性樹脂的聚酯之熔點差，結果難以賦予所得單軸拉伸層合薄膜之層間充分的折射率差。另一方面，均聚2,6－萘二羧酸乙二醇酯的熔點為267℃左右之故，第一層用之第一聚酯的熔點上限最高為270℃。又，第二層用之第二聚酯的熔點，不比第一聚酯低15℃以上時不能獲得充分之與第二聚酯的熔點差，結果不能賦予所得單軸拉伸層合薄膜之層間充分的折射率差。第一聚酯之熔點與第二聚酯之熔點差的上限，從維持兩者之密著性的觀點而言，以最高50℃較適合。
如此而得之未拉伸層合薄膜於製膜方向，或與其直交的寬度方向的任一種之單軸方向（沿薄膜面之方向）拉伸。拉伸溫度以第一熱塑性樹脂，例如聚酯之玻璃轉移點溫度(Tg)~(Tg＋50℃)之範圍較適合。此時之面積倍率以2~10倍較適合。拉伸倍率愈大，第一層及第二層中之各層的面方向之偏差，藉由拉伸薄層化而減小，即單軸拉伸層合薄膜的光干擾於面方向為均勻之故，甚為適合。此時之拉伸方法可採用藉由棒狀加熱器之加熱拉伸、滾筒加熱拉伸、拉幅器拉伸等眾所周知的拉伸方法，從藉由與滾筒接觸缺陷之減少及拉伸速度等的觀點而言，以拉幅器拉伸較適合。
此最適合之方法的最大特徵為，將如此拉伸之層合薄膜於第二熱塑性樹脂例如比聚酯之熔點低10℃的溫度，與第一熱塑性樹脂例如比聚酯之熔點低15℃的溫度之間進行熱處理，緩和第二層內之分子鏈的定向，使第二層之折射率降低。熱處理之溫度，低於第二熱塑性樹脂之熔點超過10℃時，緩和第二層內之分子鏈的定向使折射率降低之效果不足，不能賦予所得單軸拉伸層合薄膜充分之折射率差。另一方面，熱處理之溫度，未低於第一熱塑性樹脂之熔點10℃以上的溫度時，亦緩和第一層內之分子鏈的定向使折射率下降，不能獲得賦予所得單軸拉伸層合薄膜充分之折射率差。適合之處理溫度為低於第二熱塑性樹脂的熔點6℃之溫度，與低於第一熱塑性樹脂之熔點16℃的溫度之間的溫度；以低於第二熱塑性樹脂之熔點2℃的溫度，與低於第一熱塑性樹脂之熔點18℃的溫度之間的溫度更為適合。還有，熱處理之時間以1~60秒較適合。
又，藉由改變此熱處理之溫度及時間，不改變樹脂之組成能調整第二層的折射率；即樹脂之組成不改變能改變單軸拉伸層合薄膜的反射特性。
＜低反射率層＞
本發明之單軸拉伸多層層合薄膜，對在上述單軸拉伸層合薄膜之至少一方的面上射入之光，具有表面反射率為3%以下之低反射率層。低反射率層（以下亦為防反射層合層）之表面反射率大於3%時，單軸拉伸層合薄膜之穿透軸側的表面反射之防止效果不足，不能獲得充分之提升亮度的效果。以2%以下為佳，以1%以下更適合。
本發明中使用之防反射層，不損及單軸拉伸層合薄膜之上述的光學特性時，沒有特別的限制。具體的防反射層有，(1)由厚度0.1μm左右之MgF2 等極薄膜所成的防反射層，(2)藉由形成金屬蒸鍍膜之防反射層，(3)將由光之折射率低的材料所成之低折射率層設置於單軸拉伸層合薄膜之上的防反射層，(4)將折射率高之高折射率層設置單軸拉伸層合薄膜之上，於該折射率層之上設置比該高折射率層之折射率低的低折射率層之防反射層（例如在防反射層中連接於單軸拉伸層合薄膜之部位使具有高折射率的金屬氧化物之超微粒層散佈存在者），(5)重覆上述(4)之層構成而層合的防反射層，(6)在折射率高之高折射率層的內側（膠黏於顯示面之際的顯示面側）設置折射率比該高折射率層之折射率低的中折射率層，在該折射率高之高折射率層的外側（膠黏於顯示面之際的與顯示面相異之側）設置折射率比中折射率層之折射率低的低折射率層之防反射層。
其中從能進行更具效果之防反射的觀點而言，以(4)之低折射率層及(6)之防反射層更為適合。尤其在單軸拉伸層合薄膜上以中折射率層、高折射率層、低折射率層之順序形成者更佳。進而低折射率層、中折射率層及高折射率層為由SiOx 所成，低折射率層之折射率大於1.4、高折射率層之折射率低於2.2，具有低折射率層為80~110nm之厚度、高折射率層為30~110nm之厚度及中折射率層為50~100nm之厚度，且各別之層的光學膜厚D（D＝n．d，n：中折射率層之折射率，d：中折射率層之厚度）為可見光之波長以下的防反射層，較為適合。
又，上述低折射率層以具有1.1~1.45之折射率較適合，以1.1~1.4之折射率更佳。折射率低於1.1時，難以獲得防反射之效果，折射率超過1.45時防反射之效果減弱。
低折射率層可藉由將由下述特定之組成所成的塗液首先塗佈於單軸拉伸層合薄膜之至少單面上而得。
此塗液係由(a)由至少一種選自Si、Al、Ti及Zr所成群之元素的氧化物實質所成之無機微粒及由將其表面被覆之有機聚合物而成的被覆微粒，(b)黏合劑樹脂，及(c)沸點為100℃以上之有機溶劑所成。
上述無機微粒以由Si之氧化物實質所成者較適合。
此等無機微粒以烷氧基金屬之部份水解物或經水解物之縮合形成者為佳。此時所謂烷氧基金屬係指上述元素結合烷氧基（－OR基）的物質之意。此時R為低級烷基，例如以甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基較適合。如此之無機微粒以一部份含有羥基、烷氧基較為適合。烷氧基能使無機微粒與後述之將無機微粒改性的目的之有機聚合物或黏合劑樹脂的親和提升，於兩者之間形成化學鍵。又，在有機溶劑中有提升該無機微粒之分散性的作用。烷氧基金屬具有因應其中心元素之價數的烷氧基，本發明中以含有烷氧基3~4個烷氧基金屬較為適合。
上述無機微粒之粒徑以5~200nm的範圍較為適合。
將無機微粒之表面被覆的有機聚合物有例如烷基系聚合物，具有胺基甲酸酯鍵之聚合物，具有酯鍵之聚合物，具有醚鍵之聚合物，丙烯酸系聚合物等。其中從折射率之調整容易，透明性優越的觀點而言，以丙烯酸系聚合物較為適合。又，有機聚合物具有至少一個之聚矽氧烷基，且該聚矽氧烷基中含有一個以上之烷氧基，從分散性等的觀點而言極為適合。烷氧基之例為與上述相同之基。又，如此之有機聚合物以含有氟元素為佳。
本發明中上述被覆微粒之粒徑以5~200nm的範圍較適合。低於5μm時微粒的表面能量增高之故容易在塗液中凝聚，超過200nm時所得塗膜之透明性不足。
黏合劑樹脂(b)沒有特別的限制，有烷基系聚合物，具有胺基甲酸酯鍵之聚合物，具有酯鍵之聚合物，聚有醚鍵之聚合物，丙烯酸系聚合物等。其中，從透明性優越之點而言以丙烯酸系聚合物更為適合。丙烯酸系聚合物沒有特別的限制，有例如由（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸異丙酯、（甲基）丙烯酸異丁酯、（甲基）丙烯酸叔丁酯、（甲基）丙烯酸3－羥基乙基酯等單官能丙烯酸酯、二（甲基）丙烯酸乙二醇酯、二（甲基）丙烯酸丙二醇酯、（甲基）丙烯酸丁二醇酯等二官能丙烯酯等具有丙烯基之單體聚合的聚合物等等。又，至少一方之末端具有丙烯基之烷基聚合、醚聚合物等，進而此等聚合物之支鏈具有反應性的官能基：例如羥基、羧基、胺基、環氧基、巰基、噁唑啉基等之聚合物亦適合使用。本發明中具有如此等之丙烯基的聚合物亦稱為丙烯基系聚合物。此等之中，從與後述之硬化劑的反應考慮時，以結構之一部份中含有羥基的丙烯酸系聚合物較為適合。
沸點為100℃以上之可與水混合的有機溶劑(c)有丙二醇單甲醚（PGM、沸點121℃）、丙二醇單甲醚乙酸酯（PGMA、沸點146℃）、乙二醇單丁醚（EGB、沸點171℃）、甲異丁酮（MIBK、沸點115℃）、乙酸異丁酯（IBAc、沸點127℃）、甲正丁酮（MNBK、沸點128℃）等等。其中以甲異丁酮、乙酸異丁酯、甲正丁酮較為適合，以甲異丁酮最適合。在如甲苯、甲乙酮等沸點低於100℃不能與水混合之溶劑中，即使改變固形份濃度，所得低折射率層之折射率亦幾乎完全沒改變。使用沸點為100℃以上，以100~150℃更佳，以100~130℃最適合之有機溶劑時，構成低折射率之固形份的組成即使相同，藉由改變固形份濃度等塗液之組成有能調整所得低折射率層之折射率的優點。溶劑之沸點低於下限時，不能實現本發明之低折射率；高於上限時，生產之際使線上速度遲緩，必要將烘箱之溫度提高設定，甚不適合。又，上述有機溶劑必要能與水混合，於此所謂能與水混合係指具有羥基、羰基等極性基之意，例如對該有機溶劑將1重量%以上，以5重量%更適合之水均勻混合的狀態之意。具有不必改變構成低折射率之固形份的組成，即可調整折射率之優點，能對應單一組成之各式各樣的折射率。即，低折射率不僅折射率低，為能因應形成之基材薄膜的折射率，滿足各別振幅條件的最適折射率之故，對複數之基材薄膜，即使不準備形成複數之低折射率層的材料，以單一之組成可獲得接近最適的折射率之層的優點極大。有機溶劑之沸點低於100℃時，在塗佈後的乾燥之際溶劑急激揮發，不能獲得均勻的空隙之故，看不到折射率的改變。又，在塗佈後的乾燥之際，藉由以氣化熱使塗液溫度下降將空氣中之水份一度捲入塗液中後揮發時，形成溶劑與水之揮發速度的梯度以致乾燥不均勻，塗膜內形成大的空隙使塗膜之透明度降低，必要使用能與水混合，且混合後之溶劑的揮發速度差小的高沸點溶劑。
可是，如上所述，低折射率層不僅折射率愈低愈佳因應所使用之薄膜基材的折射率，為滿足各別振幅條件之最適折射率。例如薄膜基材為聚萘二羧酸乙二醇酯薄膜時，可獲得如上述特開2003－292805號公報所提案之折射率，即折射率為1.3以上之低折射率層時亦具良好的防反射性能；如聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜或三乙醯基纖維素之薄膜基材時，折射率為1.3以上之低折射率層時不能獲得良好的防反射性能。不過，依本發明之方法，成功的在薄膜基材之表面形成折射率如1.10~1.29之低折射率的低折射率層。
獲得如此之特別低的折射率之方法有例如使塗液中之固形份濃度降低，可與水混合且沸點為100℃以上之有機溶劑的比例增加，或選擇塗佈後的乾燥之際容易餘留在塗佈膜內的有機溶劑等。從如此之觀點而言，可與水混合且沸點為100℃以上之有機溶劑，在塗液中之含量為70重量%以上，以80重量%以上更適合，以90重量%以上更佳，以使用95重量%以上最理想。使用量少於此範圍時，於乾燥之際難以在低折射率層形成空隙，經存在於塗液中之其他溶劑的揮發時之對流，在乾燥時低折射率層有霧白之可能。又，塗刷時形成低折射率層之固形份濃度為0.5~10重量%之範圍，進而於0.5~5重量之範圍容易實施折射率的調整之故，極為適合。又，從更降低折射率之觀點而言，固形份成份濃度以0.5~2重量%更適合，以0.5~1.8重量%最理想。於此範圍以外，為使所得低折射率層之厚度達到具有充分的反射特性之必要的厚度，極為困難。
薄膜基材之厚度沒有特別的限制，以200μm以下較適合。比200μm厚時剛性過強，所得防反射薄膜膠黏於顯示器時之處理困難。
本發明中所使用之上述塗液，以另含有下述式所示之烷氧基化合物更為適合。
(R1 O)n MR2 m － n 式中，R1 及R2 為互相獨立之碳數1~4的烷基，M為Al、Si、Ti或Zr，m為相等於M的原子價之數，n為2~m之數。
如此之烷氧基化合物，具有將被覆微粒固定於低折射率層內之功能。
以上述式表示之化合物中，以可水解之物質較適合，具體的以甲基三乙醯氧基矽烷、二甲基二乙醯氧基矽烷、三甲乙醯氧基矽烷、四乙醯氧基矽烷、四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四異丙氧基矽烷、四異丁氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、三甲基乙氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷等較為適合。又，為有效進行形成上述低折射率層之黏合劑樹脂與將被覆微粒表面被覆之有機聚合物的水解縮合，亦可含有催化劑。催化劑可使用酸性催化劑或鹼性催化劑。酸性催化劑以例如鹽酸、硝酸等無機酸、乙酸、檸檬酸、丙酸、草酸、對－苯磺酸等有機酸較適合。鹼性催化劑以例如氨、三乙胺、三丙胺等有機胺化合物、甲氧基鈉、甲氧基鉀、乙氧基鉀、氫氧化鈉、氫氧化鉀等鹼金屬化合物較適合。
為進行充分之水解必要的塗液之熟化時間，依存於塗液之pH、環境溫濕度，以1小時以上之熟化較為適合。
本發明中之塗液，可另含有黏合劑樹脂(b)之交聯劑。此交聯劑於塗膜乾燥時，使黏合劑樹脂交聯而硬化。
如此之交聯劑有多官能異氰酸酯化合物、三聚氰胺化合物、胺基塑料樹脂等，其中從處理容易之點而言以多官能異氰酸酯系化合物更為適合。如此之多官能異氰酸酯系化合物有例如甲苯烯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、1,6－六亞甲基二異氰酸酯之二聚物、三聚異氰酸酯等之三聚物等等。又，尚有此等多官能異氰酸酯類與多價醇反應生成之餘留兩個以上異氰酸酯基的化合物、肟類、內醯胺類等以封閉劑封閉之封端基多官能異氰酸酯化合物等等。
本發明中低折射率膜可藉由塗佈於單軸拉伸層合薄膜之上而設置。塗佈方法可使用隨意之眾周知的方法。有例如唇型直接法、小點塗佈法、狹縫逆塗法、模頭塗佈法、凹版滾筒塗佈法、刮板塗佈法、噴霧塗佈法、氣動刮塗法、浸漬塗佈法、棒桿塗佈法等等。使用熱固性樹脂為黏合劑時，低折射化合物之塗設係將含有形成各別之成份的塗液塗佈於基材，經加熱乾燥形成塗膜。加熱條件為80~160℃下10~120秒，以100~150℃下20~60秒更適合。使用UV硬化性樹脂或EB硬化性樹脂為黏合劑時，一般上在進行預備乾燥後，施行紫外線照射或電子線照射。
 [實施例]
以實施例更詳細說明本發明如下。還有，實施例中之物性及特性係以下述的方法測定或評估。
(1)聚酯樹脂之熔點及玻璃轉點(Tg)採取聚酯樹脂試料10mg，使用DSC（TA儀器公司製，商品名：DSC 2920），以20℃/分鐘之升溫速度測定熔點。
(2)各層之厚度將試料切成三角形，固定於收納膠囊後之環氧樹脂包埋。然後將收納之試料以切薄片機（烏魯多拉卡多－S，萊里魯多公司製）沿製膜方向與厚度方向剪切成厚度50nm之薄膜切片。使用穿透型電子顯微鏡（日本電子股份有限公司製，商品名：JEM2010）將所得薄膜切片以加速電壓100kV觀察並攝影，由照相測定各層之厚度。表1中所示之層厚的定義如下述所示層厚比：第一層之中0.05~0.5的範圍之層的平均厚度(3)藉由DSC測定薄膜之熔點，結晶化尖峰採取10mg之試料薄膜，使用DSC（TA儀器公司製，商品名：DSC2920），以20℃/分鐘之升溫速度測定結晶化溫度及熔點。
(4)反射率、反射波長使用分光光度計（島津製作所股份有限公司製，MPC－3100），在光源側安裝偏光過濾片，於波長400~800nm之範圍測定於各波長之與鋁蒸鍍鏡面的相對鏡面反射率。此時，將偏光過濾片之穿透軸與薄膜之拉伸方向吻合配置時之測定值做為P偏光，將偏光過濾片之穿透軸與薄膜之拉伸方向成直交配置時之測定值做為S偏光。就分別之偏光成份於400~800nm的範圍之反射率的平均值為平均反射率，將測定之反射率中的最大為最大反射率，最小者為最小反射率。表3中的最大反射率差以下述之式表示。
最大反射率(%)＝最大反射率(%)－最小反射率(%)(5)低折射率膜之厚度及折射率低折射率膜之膜厚及折射率係藉由反射分光膜厚計（大塚電子公司製，商品名：FE－3000），測定300~800nm之反射率，引用n－k科希之分散公式做為代表折射率的波長分散之近似式，藉由與光譜之實測值固定求出膜厚與折射率。
(5)斷裂強度製膜方向之斷裂強度係將試料薄膜切成試料寬（寬度方向010mm、長度（製膜方向）150mm、以夾盤間100mm、拉伸速度100mm/分鐘、圖表速度500m/分鐘之條件，使用因斯多龍型之萬能拉伸試驗裝置將試料拉伸。然後由所得載重－延伸曲線測定斷裂強度。
又，寬度方向之斷裂強度，除將試料薄膜切成試料寬（製膜方向）10mm、長度（寬度方向）150mm以外，與測定製膜方向之斷裂強度同樣的進行。
(7)熱收縮率於150℃處理30分鐘時之熱收縮率，係在溫度設定於150℃之烘箱中無拉伸狀態下將薄膜保持30分鐘，以加熱處理前後之尺寸改變做為熱收縮率，藉由下述式算出。
熱收縮率%＝[(L0－L)/L0]×100 L0：熱處理前之標記間距離L：熱處理後之標記間距離又，於200℃處理10分鐘時之熱收縮率，係在溫度設定於200℃之烘箱中無拉伸狀態下將薄膜保持10分鐘，以加熱處理前後之尺寸改變做為熱收縮率，藉由上述式算出。
(8)厚度變動率將切成製膜方向及寬度方向分別為1m×1m之薄膜試料，再剪切成沿縱方向及橫方向分別為2cm寬之25片，使用電子測微計及記錄器（安立電氣股份有限公司製K－312A、K－310B）連續測定各試料之厚度。由全測定值算出平均厚度，進而將測定值細分為每200mm，讀取其中之最大值與最小值，藉由下式算出對平均厚度之厚度變動率。
厚度之變動率(%)＝(Tm a x －Tm i n )/Ta v e 於此，上述式中之Tm a x 為厚度之最大值，Tm i n 為厚度之最小值，及Ta v e 為平均厚度。
(9)層間之密著性將24mm寬之黏著膠帶（尼吉邦公司製，商品名：榭洛鐵布）100mm膠粘於試料薄膜(10mm×50mm)，以180度之剝離角剝離後，觀察剝離面。將各10個試料進行試驗，算出產生層間剝離之次數。
(10)色相之分歧對標準光源C，由試料薄膜之穿透光譜，以JISZ8729為基準在L＊ a＊ b＊ 表色系中求出L＊ 、a＊ 、及b＊ 。藉由下述式求出ab色品(c＊ ab)，並評估與無彩色之彩度的分歧。
C＊ ab＝{(a＊ )2 ＋(b＊ )2 }1 / 2 ○：C＊ ab低於5，極為優異△：C＊ ab為5以上10以下，可實用×：C＊ ab為10以上，不能實用(11)提升亮度效果將試料薄膜插入LCD面板（奇美公司製CMV CT－529A）中之偏光板與擴散薄膜之間，以多普空公司製之亮度計(BM7)測定分離500mm處之以PC表示白色時的正面亮度，算出對試料薄膜插入前之試料薄膜插入後的亮度上升率，評估亮度之提升效果。
◎：亮度上升率為150%以上○：亮度上升率為140%以上150%以下×：亮度上升率低於140%(12)表面反射率使用島津製作所股份有限公司製之UV－3101PC型，於光源側設置吸收型偏光過濾片，在不形成防反射薄膜之防反射層側塗佈黑色塗料，在形成防反射層側照射光線，測定P偏光及S偏光分別於300~800nm之範圍的反射率，將可見度高之500~600nm的反射率之平均值做為表面反射率
[實施例1]
在特性黏度（鄰－氯苯酚，35℃）0.62之聚2,6－萘二羧酸乙二醇酯(PEN)中，加入真球狀二氧化矽微粒（平徑粒徑：0.3μm，長徑與短徑之比：1.02，粒徑之平均偏差：0.1）0.15重量%做為第一層用聚酯；準備特性黏度（鄰－氯苯酚，35℃）0.62之對苯二甲酸10莫耳%共聚合之聚2,6－萘二羧酸乙二醇酯(TA10PEN)做為第二層用聚酯。然後將第一層用聚酯及第二層用聚酯分別於170℃乾燥5小時後，供應於擠壓機，加熱至300℃使為熔融狀態，將第一層用聚酯分歧為301層，第二層用聚酯分歧為300層後，第一層與第二層交替層合，且層厚採用以最大/最小3倍為止連續改變之多層進料單元裝置，保持其層合狀態直接導入模頭，於鑄造鼓上將第一層與第二層之各層的厚度調整為1.0：2.0進行鑄造，即製成第一層與第二層交替層合總數601層之未拉伸層合薄膜。將此未拉伸層合薄膜於135℃之溫度進行寬度方向5.2倍拉伸，於245℃施行3秒鐘之熱固定處理。所得單軸拉伸層合薄膜之厚度為55μm。
將含有以氟化有機化合物潤飾之中空二氧化矽微粒，以矽烷偶合劑與丙烯酸樹脂為主成份之市售的低折射率形成用塗佈材料（日本催化劑股份有限公司製，商品名PX2－LR7）5g，與MIBK66.2g，異氰酸酯系硬化劑0.12g混合攪拌10分鐘，即調製成塗佈液。將此塗佈液以邁耶棒塗佈於單軸拉伸層合薄膜之單面上，於150℃之溫度下乾燥。進行硬化反應1分鐘，即得低折射率層。以邁耶棒之順序將塗膜厚度調整於110nm。所得單軸拉伸多層層合薄膜之物性如表3及表4所示。
此單軸拉伸多層層合薄膜之低折射率層的反射率為1.24。
[實施例2]
除賦予雙面塗佈以外，與實施例1同樣的進行，即得單軸拉伸多層層合薄膜。所得單軸拉伸多層層合薄膜之物性如表3及表4所示。此單軸拉伸多層層合薄膜之低折射率層的反射率為1.24。
[比較例1]
除不賦予雙面塗佈以外，與實施例1同樣的進行，即得單軸拉伸多層層合薄膜。所得單軸拉伸多層層合薄膜之物性如表3及表4所示。
[實施例3]
在比較例1所得之單軸拉伸層合薄膜的單面上，藉由微凹版塗佈法將在四丁基鈦酸酯之四聚物（日本曹達股份有限公司製，商品名：TBT B－4）之石油英/正丁醇(3/1)溶液中添加對烷氧基金屬為0.5重量%之SiO2 微粒（日本耶阿洛吉魯股份有限公司製，R972，平均粒徑20nm），添加對烷氧基金屬為15莫耳%之γ－環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷之添加分散物塗佈之；於150℃乾燥2分鐘，形成厚度約80nm之膜（折射率1.75）。更於其上藉由濺鍍形成65nm之SnO2 層（折射率2.05）。最後將四乙基矽酸酯溶解於乙醇，將加入水及鹽酸水解而得之SiO2 溶膠塗佈，於100℃熱處理2分鐘形成凝膠膜（折射率1.45），即得單軸拉伸多層層合薄膜。所得薄膜之物性如表3所示。
圖1為本發明之單軸拉伸多層層合薄膜對光的偏光成份之波長的反射率之圖表的一例。

Claims (6)

  1. 一種單軸拉伸多層層合薄膜，其特徵為(A)將由具有正的應力光學係數之第一熱塑性樹脂所成且厚度為0.05~0.5 μm的第一層，及由與第一熱塑性樹脂相異之第二熱塑性樹脂所成之以DSC測定之結晶化尖峰存在於150~220℃之範圍且厚度為0.05~0.5 μm的第二層，交替合計501層以上而存在之單軸拉伸層合薄膜，及在該單軸拉伸層合薄膜之至少單面上，具有由射入側測定表面之反射率為3%以下之低反射率層；其中上述第一熱塑性樹脂係以全重複單位之95莫耳%以上之量含有2,6-萘二羧酸乙二醇酯(ethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate)且熔點為260~270℃之聚酯，而上述第二熱塑性樹脂係相對於全重複單位由75~97莫耳%之2,6-萘二羧酸乙二醇酯與25~3莫耳%之對苯二甲酸乙二醇酯(ethylene terephthalate)及/或異苯二甲酸乙二醇酯(ethylene isophthalate)單位所成且熔點為210~255℃並且比上述第一熱塑性樹脂之熔點還低15~60℃之聚酯，(B)對含該單軸拉伸層合薄膜之拉伸方向與垂直於薄膜面之方向的兩方向之面，平行的偏光成份之平均反射率在波長400~800nm的範圍為90%以上，且對含薄膜之拉伸方向與垂直於薄膜面之方向的兩方向之面，垂直的偏光成份之平均反射率在波長400~800nm的範圍為10%以下； 然後，(C)厚度變動率未滿5%且可使用於反射型偏光板。
  2. 如申請專利範圍第1項之單軸拉伸多層層合薄膜，其中對含薄膜之拉伸方向且垂直於薄膜面的方向之面，平行的偏光成份在波長400~800nm之範圍的最大反射率與最小反射率之差為10%以下。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之單軸拉伸多層層合薄膜，其中對含薄膜之拉伸方向且垂直於薄膜面的方向之面，垂直的偏光成份在波長400~800nm之範圍的最大反射率與最小反射率之差為10%以下。
  4. 一種液晶顯示用提升亮度薄膜，其特徵為由如申請專利範圍第1項之單軸拉伸多層層合薄膜所成。
  5. 一種單軸拉伸多層層合薄膜，其特徵為，(A)將由具有正的應力光學係數之第一熱塑性樹脂所成且厚度為0.05~0.5 μm的第一層，及由與第一熱塑性樹脂相異之第二熱塑性樹脂所成之以DSC測定之結晶化尖峰存在於150~220℃之範圍且厚度為0.05~0.5 μm的第二層，交替合計501層以上而存在之單軸拉伸層合薄膜，及在該單軸拉伸層合薄膜之至少單面上具有折射率1.1~1.45的低折射率層；其中上述第一熱塑性樹脂係以全重複單位之95莫耳%以上之量含有2,6-萘二羧酸乙二醇酯且熔點為260~270℃之聚酯，而上述第二熱塑性樹脂係相對於全重複單位由75~97莫耳%之2,6-萘二羧酸乙二醇酯與25~3莫耳%之對苯 二甲酸乙二醇酯及/或異苯二甲酸乙二醇酯單位所成且熔點為210~255℃並且比上述第一熱塑性樹脂之熔點還低15~60℃；(B)對含該單軸拉伸層合薄膜之拉伸方向且垂直於薄膜面的方向之面，平行的偏光成份之平均反射率在波長400~800nm的範圍為90%以上，對含薄膜之拉伸方向且垂直於薄膜面的方向之面，垂直的偏光成份之平均反射率在波長400~800nm的範圍為10%以下；然後，(C)厚度變動率未滿5%且可使用於反射型偏光板。
  6. 一種單軸拉伸多層層合薄膜的製造方法，其特徵為由以下步驟所成：由將熔點為260~270℃之第一熱塑性樹脂與比第一熱塑性樹脂之熔點低15~60℃且為210~255℃的熔點之第二熱塑性樹脂交替層合501層以上形成薄片的第一步驟，其中上述第一熱塑性樹脂係以全重複單位之95莫耳%以上之量含有2,6-萘二羧酸乙二醇酯且熔點為260~270℃之聚酯，而上述第二熱塑性樹脂係相對於全重複單位由75~97莫耳%之2,6-萘二羧酸乙二醇酯與25~3莫耳%之對苯二甲酸乙二醇酯及/或異苯二甲酸乙二醇酯單位所成且熔點為210~255℃並且比上述第一熱塑性樹脂之熔點還低15~60℃；將所得薄片在拉取方向或寬度方向之任一方向拉伸2~10倍的第二步驟；及將所得拉伸薄片在比第二熱塑性樹脂之熔點低10℃的 溫度與比第一熱塑性樹脂之熔點低15℃的溫度之間的溫度下進行熱處理之第三步驟。
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