TWI354708B - Working-parts with alcr-containing hard-material l - Google Patents

Working-parts with alcr-containing hard-material l Download PDF

Info

Publication number
TWI354708B
TWI354708B TW093111341A TW93111341A TWI354708B TW I354708 B TWI354708 B TW I354708B TW 093111341 A TW093111341 A TW 093111341A TW 93111341 A TW93111341 A TW 93111341A TW I354708 B TWI354708 B TW I354708B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
layer
workpiece
film
tool
alycri
Prior art date
Application number
TW093111341A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200500483A (en
Inventor
Volker Derflinger
Andreas Reiter
Christoph Gey
Original Assignee
Oerlikon Trading Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=34956966&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=TWI354708(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Oerlikon Trading Ag filed Critical Oerlikon Trading Ag
Publication of TW200500483A publication Critical patent/TW200500483A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI354708B publication Critical patent/TWI354708B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641—Nitrides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325—Electric arc evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58—After-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/044—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/048—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material with layers graded in composition or physical properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C30/00—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process
    • C23C30/005—Coating with metallic material characterised only by the composition of the metallic material, i.e. not characterised by the coating process on hard metal substrates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
  • Drilling Tools (AREA)
  • Milling Processes (AREA)
  • Milling, Broaching, Filing, Reaming, And Others (AREA)
  • Gear Processing (AREA)
  • Molds, Cores, And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)

Description

1354708 修正本 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明所涉及之一種技術領域是工件，其塗佈一種層系 統，該層系統含有至少一依據申請專利範圍第1，2項之 成份（AlyCri.y) ‘X所形成之層。本發明另涉及一種依據申請 專利範圍第16項之PVD·方法，以便在一工件上沈積至少 — (AlyCl^.y) X-層。 詳言之，本發明包含： -以硬材料塗佈之工件，具有一種或一系列之多種不同之 鋁氮化鉻層（薄膜）或氮化碳層（薄膜）。 -塗佈有鋁氮化鉻層或氮化碳層之工具，特別是切割工具 和機製工具（鑽頭，銑具，可索引嵌入件，螺紋鑽孔，-形 成器，滾齒刀（hobs)’模，下型站 （swages)’拉伸模（drawingpunches)， 等等）以及此種工具的使用。 -塗佈有AlCrN-層（薄膜）或AlCrCN-層（薄膜）之構件， 特別是機械工程/機械營造範疇內之構件，例如，齒輪，泵， 杯形衝頭（cup rams)，活塞環，注射器針，完整之軸承 組或其各別之組件和這些構件之應用。 -一種製造具有已界定之層結構的鋁氮化鉻薄膜或氮化碳 薄膜之方法。 【先前技術】
由目前之先前技術中已知各種不同之 AlCrN-層》例如， JP 09-041 127描述一種由以下之成份所構成之耐磨損之硬 化層：（AlbyXy) Z, X = Cr，V 或 Mg，Z = N，C，B，CN，BN 或 CBN 1354708 修正本 且0<YS 0.3。此種層可有利地用於提高各翻轉切割板上 之保溫時間。 D. Schulz and R. Wilberg 在“Multicomponent hard thin films...”，Thin films (Proc. 4th int. Sympos. Trends & New Applications of Thin Films 1 993) DGM Info. Gesellschaft Oberursel，1 993，S. 73中描述一種CrAIN層，其在鑽孔測 試中可使已塗佈TiA1N層之鑽孔達成雙倍之保溫時間。該 層之沈積以中空陰極過程來達成，但其會由於不連續之蒸 發過程而在（CrAl)N-層中造成一種變動強烈之鉻/鋁分佈。 M. Kawate et al.在 “Oxidation resistance of Cr^AlxN & TDUN films”，Surf. & Coat. Tech·，Vol. 165，2，（2003)， P 1 63 - 1 67中描述一種Cri.xAlxN層，其在高的Al-含量和纖 鋅礦結構時具有一種較傳統之TiAIN-層還優良之耐氧化 性。 E. Lugscheider, K. Bobzin, K. Lackner 在 ”Investigations of Mechanical & Tribol Properties of CrAlN + C Thin Coatings Deposited on Cutting Tools”中比較已成弧形之CrAIN-層和 CrAIN-層，其另外設有一更硬之含碳之覆蓋層。全部之這 些層都具有一種快速升至一種高値之摩擦係數。 【發明內容】 本發明之目的是提供一種設有（AlyCri_y) X層之工件（例 如，切削工具），切割-&成形工具或機器-&成形構造用 之構件。本發明另提供一種在該工件上切割上述各層所用 之方法且因此防止先前技術之缺點。 1354708 修正本 本發明包含各種工件，其至少對該Al/Cr-比（ratio)而言 具有一種可調之均勻-或可改變之層成份，且至少在指定 之應用中具有一較目前設有已知之層之工件還高的磨損強 度。 爲了在各種不同之工具上硏究（AlyCqJN或-CN層之耐 磨損性，則須以Balzers公司之RCS型之工業上之塗層設 備（例如，EP 1 1 8668 1第3至6圖，說明書第12頁，第26 行至第14頁第9行所述者）來沈積該具有不同之鋁含量之 Cr-層。上述之文件用來公開宣稱本申請案之整個組成。已 淨化之工件依據直徑而固定在二倍大-或在直徑小於50 mm 時固定在三倍大之可旋轉之基板載體上且由不同之 AlCr-合金所構成之二個鈦冶金-和四個粉末冶金所製成之靶安裝 在6個配置在該塗層設備之壁上之陰極弧光源中。然後該 工件藉由同樣安裝在該設備中之輻射加熱件而到達500°C 之溫度且該表面藉由施加一種-100至- 200V之偏壓而在0.2 Pa之 Ar-大氣壓力下受到一種由 Ar-離子所造成之蝕刻淨 化作用。 以下將藉由操作二種功率是3.5 kW (140 A)之Ti-源，在 純氮大氣中在壓力是3 Pa且基板電壓是-50 V時在5分鐘 期間沈積一種大約0.2 um厚之TiN黏合層，且然後藉由操 作4種功率是3kW之AlCr-源約120分鐘之久以沈積AlCrN-層。爲了達成最佳化之層接面，則各源在2分鐘期間須一 起被操作。然後同樣是在3 Pa壓力和-50V之基板壓力下 在純氮之大氣中沈積一種以AlCr爲主之氮化物層。在上述 1354708 修正本 每一步驟中基本上該程序壓力可在〇·5至8 Pa之範圍中調 整，較佳是在2.5至5 Pa中調整，其中使用一種純氮大氣 或氮與稀有氣體（例如，氬）之混合物於該氮化物層中，或 使用一由氮與含碳之氣體（其在需要時需與一種稀有氣體相 混合）所形成之混合物於該氮化碳層中。因此，就含氧-或 含硼之層之沈積而言就像習知者一樣可添加氧或含硼之氣 體。 層特性（例如，層之晶體結構），層厚度，層硬度，損耗 阻力和AlCrN-層之黏合性等等之與化學成份和晶體結構· 以及所使用之靶之成份之間之關係如表1所示。程序參數， 例如，靶功率，基板偏壓，程序壓力和溫度則總結在表2 〇 表3中則顯示一系列之測量，其中 AlCrN-層是在使用 Al/Cr-比等於3之靶且施加不同之基板電壓時沈積而成。 因此，以 Fraunhoferinstituts-IST/Braunschweig 之精確損耗 測試器來測得該損耗阻力，其中使用一種由DIN EN 1071-2而來之已修改之截球形硏磨方法以測得該損耗速率。該 方法之細節描述在1^(：11161：，511义&(：〇&1.丁6(；11.，¥〇1.163-1 64 (2003)，Page 547，Column 1 AND Fig. 1 中。上述之文 章將作爲本案之一部份來說明。 【實施方式】 本發明以下將依據圖式來說明。 由表 1 和第 1 圖以及由 Kawate, “Micro-hardness and lattice parameter of Cri-XA1XN films” J. Vac. Sci. Technol. A 20(2)， 1354708 修正本
Mar/Apr 2002; p 569-57 1中已知：在該層之金屬含量中就 Α1-濃度大於70 at %之成份時可確定一種六角形（Β 4)之層結 構且就較小之A1-濃度時可確定一種立方體（B1)之層結構。 就六角形之層結構而言，所測得之HV -値大約是2100 HVfl.Q3，但立方體之層結構有較高之HV-値2800-3 100 HVu3 (請參閱表1)。在Cr-含量較高（試樣D)時，硬度大約是2300 HV〇.〇3°因此’如第2A圖所不’爲了區別銘含量較局之層 之A1N -晶格’須存在一種如第2D圖所不之CrN -晶格。 然後，依據以下之例1，在向前推0.12 mm且切割速率 是35 m/min時，在硬度是230 HB之鋼材料DIN 1.2080上 測得以AlCrN所塗佈之6 mm HSS-鑽孔機之保溫時間。於 是顯示：相對於JP 09-04 1 1 27中所述之特別有利之範圍 AlyCri.yN l<y$0.7而言，鉻含量大於0.3時已顯示是有 利的。在鉻含量大於或等於0.8時，由於該應用領域之現 有之CrN-晶格而使效率更下降。在此種測試中該立方體-相對於六角形之AlCrN-層之保溫時間已提高235%。 就A1-含量介於60%和75at%之間之接面區中之層而言， 不只可藉由程序參數來調整該晶體晶格之較佳方位，而且 亦可調整其基本結構。因此，如硏究B(表2)所示，在較小 之壓力1 Pa和基板偏壓- 50V時可產生一種六角形之結構’ 在壓力3Pa和基板偏壓- 50V時可產生一種立方體之結構。 六角形之結構因此在較小之偏壓和較小之壓力時沈積而 成，較有利之立方體結構則在較大之壓力或在較大之偏壓 時沈積而成。在含量較高時’不可能產生立方體之層 -10 - 1354708 修正本 結構。 本發明之工件之特徵是立方體之（AlyCr|.y) X塗層，其具 有以下之成份：X = N或CN(但較佳是N)，且l$y<0.7, 較佳是0.40SyS0.68»該層結構是一種平均顆粒大小是 20-120 nm之微結晶。 本發明之方法之特徵是：以上述所定義之成份來沈積立 方體之（AlyCri.y) X層。就上述之陰極電弧方法而言，可有 利地使用75%至15%鋁含量之靶成份。在鋁含量較高時可 如上所述地調整各程序參數，以產生立方體之晶體結構。 可有利地使用粉末冶金靶（特別是由冷壓製所製成者）， 其強度較熔化-或燒結冶金法所製成之 AlCr-靶還高，其在 高的A1-含量時大都含有易碎之相位》 這些靶藉由混合粉末形式之原始材料而進行冷壓製且然 後藉由多次變換，例如，在锻造壓製機中在溫度小於660°C 時以流淌法和冷焊接，而被壓縮且在最後狀態中達成理論 上之比重96-100%。 另外可確定的是：在AlCrN-層（其例如以成份Al/Cr = 3之 靶沈積而成）中可藉由基板偏壓來影響該損耗阻力。相對於 剝離損耗之阻力隨著基板偏壓之增高而變小（表3)。在很小 之只有數伏特（3- 10 V及任意之中間値）之負的基板偏壓（表 中未明顯地表示）時，可對浮動基板達成一種明顯之改善作 用（不需由外部供應電壓）。在大約-20 V時在Al/Cr = 3之情 況下可達成一種最大値且在電壓增大時又下降。由對該損 耗特性作測定而得之硏究得知：基板偏壓之最佳範圍是在 1354708 修正本 3至150 V之間，特別是在5至40 V之間，此時可測得一 種很小之介於0.4和1.〇 m3m·1N 11 0 —15之間（特別是介於〇·4 和0.8 ιη3!!!·1!^1^15之間）之損耗速率。類似之情況亦適用 於本發明不同 Al/Cr-成份之立方體層，其中未測得較1.5 瓜3!!!·%·1 10·15還大之損耗速率。當然須注意：以較高之基 板偏壓沈積而成之浮動層之損耗阻力較習知之ΉΑ1Ν-層之 損耗阻力大很多，即，其損耗係數大很多。例如，就類似 於AlCrN-層沈積而成之TiAIN-層（實驗2，A1 47 at%，Ti 53 at%)而言，所測得之損耗速率是3.47 n^m^N·1 ΙΟ·15。 藉由上述之方法，特別是藉由使用以粉末冶金所製成之 TiAl-靶，則可沈積粗糙度較小之層。所測得之Ra-値是在 0.1和0.2 um之間且其變動範圍是與可相比擬之CrN-層者 相同。各層之進一步整平是藉由使用一種磁場產生裝置（其 包含二個極性相反之磁鐵系統）來達成。該磁場產生裝置使 所產生之磁場之垂直於表面之成份B±在該表面之大部份 上具有小的固定値或具有〇値。該垂直之磁場成份因此可 調整成小於30高斯，較佳是小於20高斯，特別是小於1 〇 高斯。所沈積之（AlyCr丨.y)X層之Ra-値是在0.05和0.15um 之範圍中°磁場藉由二個極性相反之配置於靶之後之共軸 之繞組所產生。 在沈積（A“Cri.y) X層時亦可使用其它較佳之導電性良好 之氮化物-或金屬黏合層或就特定之應用而言亦可不必使用 此種黏合層。例如’爲了達成特別高之生產率，則可施加 —種AlCr-/AlCrN-以取代TiN-黏合層，這樣可使塗層設備 -12· 1354708 修正本 之全部之電弧源都設有AlCr-靶且提高該塗層速率。 同樣可沈積各梯度（gradient)層，其鋁含量例如相對於表 面而逐漸增加，當使用二個具有不同Al/Cr-比之靶型式時 或由Cr-及/或CrN-黏合層開始藉由設有Cr-和AlCr-靶之塗 層室之相對應之靶功率之連續式·或步級式之調整而使層成 份改變時。就此種層系統之工業上之應用而言，可在整個 塗層外形上和整個層厚度上以再生方式調整各程序參數是 重要的。成份中最小之變動（就像其藉由基板移動而作用在 一個或多個可旋轉之基板載體一樣）另外可用在一部份厚度 上·或整個層厚度上所形成之奈米結構（即，奈米-或微米範 圍中之薄片）上。本方法中在使用未合金化之鉻-和鋁靶時 沈積一種較使用已合金化之AlCr-靶時還粗之已合金化之 AlCr-靶。 但由先前技術中已知之過程是較不適當的，其中例如在 蒸發過程中至少一種成份是不易控制的或是不連續的，此 乃因不能達成一種可再生之層品質。 當然亦可在其它真空塗層設備中形成各種層或例如藉由 濺鍍法來形成，但在濺鍍過程中原則上該程序氣體之較小 之離子化可藉由習知之措施（例如，特殊之黏合層，額外之 離子化等等）來補償，以達成一種可相比擬之層黏合作用。 此種具有立方體結構之AlxCri.xN 薄膜可有利地塗佈各 種不同之工件，例如切割工具如銑具、滾齒刀、球形刀具、 平面刀具及靠模刀具（profiling cutter )、和鑽頭、絲錐 (taps)淸除工具（clearing tools)鉸刀及車床和銑床用 1354708 修正本 之可索引嵌入件（indexable inserts)或成形工具如模、下 型砧（swages)、拉伸模、射出器芯或螺紋形成器。此種保護 層的其他有利用途範例包括例如供射出成型金屬合金、合 成樹脂或熱塑性塑料等所用之射出成型工具，特別是用來 製成塑膠構件或資料儲存媒介（例如，CDs，DVDs)的射出成 型工具。其它之應用領域是各種構件，其中對耐損耗有大 的需求，可能亦需高的耐氧化性。泵和引擎產業中的範例 包括：密封墊圈、活塞，柱塞，齒輪和閥驅動器、杯形衝 頭（cup rams )和搖桿、或注射噴嘴閥、壓縮機軸、泵心 軸或多個構件（其上可施加一種或多種齒元件）。 又，由於原理上類似之方法，則由AlyCq.y X層亦可使 損耗特性改良，當在以下之層系統中選取靶成份和各塗層 參數以達成一種立方體之層結構時。 (AlyCri.y) X-層，其中 X = N，C，B，CN，BN，CBN, NO, CO，BO, CNO, BNO, CBN◦，但較佳是N或CN且0.2盔y<0.7，特別 是 0.40 S y ‘ 0.68。 因此沈積（Al66Cr34) NO層（其具有不同之N/O-比）且測試 其層特性。以類似於上述之方式來選取層參數。在氧流量 介於20和60 seem (其餘的是氮）時總壓力介於1至5 Pa之 間，基板偏壓介於-40至_150 V之間，溫度調整至450°C且 源功率在電流是140 A時調整至3.5 kW。因此可製成0/N-比是0.2，0.6和2.2之各種層，在不同之銑切測試中考慮 氧含量較少之各層。其結果是較以傳統之TiN或TiCN來 達成之保溫時間長很多。 藉由上述（AlyCrh) X-層之較習知之TiAIN-層還好之滑動 -14- 1354708 修正本 特性，則在生態學和經濟學觀點下在操作各工具（特別是切 割工具和變形工具）時會形成一令人感興趣之可能性：不需 潤滑劑或只需使用最少之潤滑劑量。所謂經濟之觀點是指 須考慮：特別是在各種切割工具中冷卻用之潤滑劑之成本 可較工具本身之成本稍高。 使本發明之含有（AlyCri.y) X層之層系統之滑動特性改良 所用之另一種可能方式是當另外施加一種滑動層以作爲最 外部之層時達成。因此，有利的是：當該滑動層所具有之 硬度較該（AlyCri.y) X層還小且具有各種進流特性時。 該層系統可由至少一金屬或至少一金屬之碳化物和分散 式之碳（MeC/C)所構成，其中該金屬是一種由族IVb,Vb及/ 或Vib及/或矽中所選取之金屬。例如，特別是硬度可在1000 和1 500 HV之間調整之WC/C-覆蓋層特別適用於此處，其 具有明顯之進流特性。CrC/C-層顯示類似之特性，其中當 然摩擦係數較高。 在上述之深孔鑽孔機中，在製成一種總共3個鑽孔之後 可對區段面決定一種明顯之進流滑動性，其至目前爲止只 能藉由一種昂貴之機械加工來達成。令人感興趣的是上述 之特性亦特別適用於需要滑動-，摩擦-或滾動應用之各種 構件，特別是在無潤滑時或乾燥運行時’或當同時須保護 一種未塗層之對立體時。 形成最後所述之滑動層之另一種可能方式是：無金屬之 類似於鑽石之碳層或 MoSx-，WSx-層或含鈦之 MoSx-或 MoWx-層。 如上所述，該滑動層可直接施加在該（Al,Cri.y) X層上或 -15- 1354708 修正本 在施加另一黏合層（其以金屬，氮化物，碳化物，氮碳化物 來形成或亦可爲梯度層，其例如在（AlyCrH) X層和滑動層 之間具有連續之接面）之後施加而成，以便使層複合物達成 —種儘可能良好之黏合作用。 例如，WC/C-或CrC/C-層可在施加一已濺鍍-或已受弧光 之Cr-或Ti-黏合層而有利地藉由WC-靶之濺鍍在添加一種 含碳之氣體時製成。該含碳之氣體之成份隨著時間而增 高，以便在該層中使無碳之成份較高》 以下將在不同之切割操作時顯示不同之（AlyCri_y) X硬塗 層之工具之有利之各種應用》 例1 :結構鋼之銑切 工具：硬金屬端銑刀 直徑D = 8 m m,齒數z = 3 材料：結構鋼 Ck45, DIN 1. 1191 銑切參數： 切割速率：ve = 200/400 m/min 進刀速率：vf=23 88/4776 mm/min 徑向侵入寬度：a e = 0.5 m m 軸向侵入寬度：ap=l 0 mm 冷卻：乳膠5 % 過程：同步運行銑切 損耗準則：空面積損耗VB = 0.12 mm _ 實驗編號 金屬成份[At%]層 在VB=0.12 mm時之保溫時間t (分鐘） Ti A1 Cr vc=200 m/min vc=400 m/min -16 - 1354708 修正本 1 (TiCN) 100 71 9 2 (TiAIN) 53 47 42 15 3 (AlCrN)Bl 69.5 30.5 167 40 4 (AlCrN)B4 72 28 41 7 5 (AlCrN)Bl 41.5 58.5 150 12 6 (AlCrN)Bl • 19 81 17 4 例1顯示已塗層之HM -銑刀之保溫時間之比較’其在不 同之切割參數中測試。 明顯可辨認的是：在與目前工業上所使用之層系統（例 如，TiCN和TiAIN)相比較時，上述之AlCrN-層具有較高 之保溫時間。由表中又可得知：如上所述在例1中隨著A1-含量之提高，只要該立方體之B1-結構仍保持著’則該保 溫時間特性可改良（比較該實驗編號3，5，6)。這主要是歸 因於隨著A1-含量之提高而可確定之已改良之耐氧化性和 硬度（請參閱表1)。該AlCrN-層之很好之耐氧化性記載在 乾燥-和高速加工（例如，ve = 400 m/min)之區域中。此外， 在該測試中可確定：在晶體柵格由B1折疊成B4結構時該 損耗特性會惡化（請比較該實驗3和4)。 例2:奧斯汀鋼之銑切 工具：硬金屬端銑刀 直徑D = 8 m m,齒數z = 3 材料：奧斯汀鋼 X6 CrNiMoTi 17 12 2, DIN 1.4571 銑切參數： 切割速率：ve = 240 m/min 齒推進値fz = 0.08 mm -17- 1354708 修正本 徑向侵入寬度：ae = 0.5 mm 軸向侵入寬度：ap=10 mm 冷卻：乳膠5 % 過程：同步運行銑切 損耗準則：空面積損耗VB = 0.1 2 mm 實驗編號 金屬成份[At%]層 在VB=0.1 mm時之保溫路徑 Ti A1 Cr lf(米） 7 (TiCN) 100 _ • 33 8 (TiAIN) 35 65 • 45 9 (AlCrN)Bl - 69.5 30.5 54 例2顯示已塗層之HM-銑刀之保溫時間之比較。此處同 樣能以AlCrN-層來對工業上所使用之硬材層層達成一種損 耗上之改良。在AlCrN中該保溫時間之改良一方面是由第 二合金元素Cr之目前仍未証實之較TiAIN-層中之Ti還小 之對材料潤滑之傾向性來達成，且另一方面藉由表1中明 顯較良好之本發明之AlCrN-層（A, B，D)之損耗阻力（同時有 較高之硬度）來達成。 例3:已硬化之鋼之銑切 工具：硬金屬球形頭（ball-head)銳刀 直徑D=10 mm，齒數z = 2 材料：K340 (62HRC)對應於 C 1 _ 1 % , Si 0.9%，Μη 0·4%，Cr 8.3%, Mo 2.1%, V 0.5%. 銑切參數： 切割速率：νε = 0-120 m/min 齒推進値
0.1 mm -18- 1354708 修正本 徑向侵入寬度：ae = 0.2 mm 軸向侵入寬度：ap = 0.2 mm 冷卻：乾燥 實驗編號 金屬成份[At%l層 在VB=0.3 mm時之保溫路徑 Ti A1 Cr lf(米） 10 (ΤΪΑ1Ν) 53 47 70 11 (AlCrN) B1 - 69.5 30.5 90 過程：同步運行-和反向運行銑切，拋光 損耗準則：空面積損耗VB = 0.3 mm 例4:工具鋼之粗加工式銖切 工具：硬金屬端銑刀 直徑D=10mm,齒數z = 4 材料：工具鋼 X 38 CrMoV 5 1, DIN 1.2343 (50HRC) 銑切參數： 切割速率：ve = 60 m/min 齒推進値fz = 0.02 mm 徑向侵入寬度：ae = 2 mm 軸向侵入寬度.ap=l〇 mm 冷卻：乾燥 實驗編號 金屬 成份[At%l層 在VB=0.1 mm時之保溫路徑 lf(米） Ti A1 Cr 12 (AlTiN) 35 65 90 13 (AlCrN) B1 - 69.5 30.5 130 過程：同步運行銳切，粗加工 損耗準則:空面積損耗VB = 0.1 mm 1354708 修正本 例3和例4顯示該AlCrN-層較工業上所用之TiA1N-層更 佳之保溫路徑。即，AlCrN特別適用於乾燥處理，其對耐 氧化性和損耗阻力有較高之需求。 例5 :工具鋼中之鑽孔 工具：HSS鑽頭（S 6-5-2),直徑D = 6 mm 材料：工具鋼 X 210 Cr 12，DIN 1.2080 (230HB) 鑽孔參數： 切割速率：V(； = 35 m/min 進刀 f=0.12 mm 鑽孔深度：z=15 mm，基孔 冷卻：乳膠5% 損耗準則：旋轉瞬間斷開（對應於一種角隅損耗2 0.3 mm) 實驗編號 金屬成份[At%]層 保溫路徑[孔數/um層 A1 Cr 厚度] 14 (AlCrN) B1 19 81 21 15 (AlCrN) B1 41.5 58.5 52 16 (AlCrCN) B1 41.5 58.5 65 17 (AlCrN) B1 69.5 30.5 108 18 (AlCrN) B4 72 28 46 例5顯示具有不同之A卜含量之（AlyCnJN/CAlyCn.JCN 層之HSS-鑽孔之已經由層厚度而正規化之孔數之比較情 況。 各層以對應於各參數之表2來形成。隨著鋁含量之逐漸 增加使保溫時間增加直至金屬含量中鋁成份接近70%爲 止。在進一步升高且因此會沈積一種具有六角形晶體結構 -20- 1354708 修正本 之層時，效率當然大大地下降。在鋁含量介於41.5和 69 ·5 % (實驗15，17)之範圍中時，可確定此種應用相對於先 前技術而言可使效率大大地升高6 例6 :深孔鑽孔5XD in Ck45 工具：硬金屬鑽頭，直徑D = 6.8 mm 材料：結構鋼 1.1191 (CK45) 鑽孔參數： 切割速率：v«；=120 m/min 進刀値f = 〇. 2 mm 鎮孔深度：z = 34 mm，基孔 冷卻：乳膠5 % 損耗 隅 _ 耗 VB = 0.3 mm 實驗編號 金屬 成份[At%]層 在VB=0.1 mm時鑽孔 Ti A1 Cr 數之保溫時間t 18 (TiAIN) 70 30 890 19 (TiAIN) 53 47 1135 20 (AlCrN) R1 - 69.5 30.5 2128 例6顯示一種鑽孔應用中AlCrN-層之相對於工業上所使 -21- 1354708 修正本 用之TiAIN-層之已改進之保溫路徑。此處已記載本發明之
AlCrN-層之已改進之剝離-損耗阻力。 又，實驗20中已塗層之鑽孔在施加一種Cr-黏合層之後 設有一種WC/碳-滑動層，其中在相同之測試條件下一部份 可達成已改良很多之保溫時間。同時進行之旋轉動量測量 已顯示一較未設有該滑動層者小很多之旋轉動量。又，在 鑽孔上已可確定一種較佳之表面品質且直至保溫時間結束 之前都不會由於過多之溫度負載而造成污染現象。 例7 :奧斯汀鋼中之螺紋鑽孔2xD 工具：螺紋鑽孔機 HSS,螺紋尺寸 M8 材料：奧斯汀鋼 1.457 1 (X6CrNiMoTil7/12/2) 切割參數： 切割速率：Ve=3 m/min 螺紋深度：2Xd 螺紋形式：袋孔 螺紋數：64 冷卻：乳膠5% 損耗準則：與螺紋數相關之旋轉動量，依據64個螺紋所 作之光學損耗判定。 -22· 1354708 修正本 實驗編號 金屬成份[At%]層 Ti A1 Cr 0 max.切割動量 光學損耗 [Nm] (1) 21 (TiCN) 100 一 _ 4.72 + 22 (AlCrN) B1 • 69.5 30.5 4.05 + + 23 (AlCrN) B1 _ 41.5 58.5 4.23 + + + 24 (AlCrN) B1 - 19 81 4.27 + 對（1)之說明 + 在螺紋鑽孔中令人滿意之損耗特性 ++ 在螺紋鑽孔中良好之損耗特性 +++ 在螺紋鑽孔中很好之損耗特性 相對於先前技術（TiCN)而言在整個 AlCrN-層中可使平均 的最大切割動量下降。又，由於較高之鋁含量之層之很好 之損耗阻力而可對TiCN達成一種較佳之損耗特性。當然 本例子中可能由於鋁之黏著傾向（其會造成材料潤滑且另又 造成層之脫離）而使實驗編號23之層顯示一種較實驗編號 2 2還好之損耗圖樣。 另外如實驗編號22和23中所塗佈之螺紋孔在施加AlCr-黏合層之後設有一種WC/碳-滑動層或在施加一種Ti-黏合 層之後設有一種含有Ti之MoS2-層，其中同樣在相同之測 試條件下可使保溫時間改良且可使已加工之材料達成較佳 之表面品質。 -23- 1354708 修正本 例8 :在Cr-Mo鋼上之滾動銑切 工具：滾動銑刀 材料：DIN S6-7-7-10 (ASP60) 直徑 D = 80 mm,長度 L = 240 mm,模數 m=1.5 25區段導槽 侵入角度 α =200， 參考外形 2，齒數50，通道寬度25 mm 材料：Cr-Mo 鋼 DIN 34CrMo4 切割參數： 切割速率：ve = 260 m/min 進刀値：2mm/U 件數：300 冷卻：乾燥切割，去除該區段所需之壓擠空氣 實驗編號 金屬 成份[At%]層 損耗標不寬度[mm] Ti A1 Cr 空面積比 鍋穴損耗 25 (TiCN) 100 0.32 0.062 26 (TiAIN) 53 47 0.25 0.042 27 (AlCrN) B4 72 28 0.29 0.053 28 (AlCrN) B1 19 81 0.26 0.051 29 (AlCrN) B1 41.5 58.5 0.13 0.022 30 (AlCrN) B1 _ 69.5 30.5 0.14 0.018 在實驗25至30中測試各種不同之由粉末金屬所製成之 高速鋼（HSS)之滾動銑刀，其在已乾燥之層中具有不同之層 系統。利用本發明之已塗層之工具（實驗29和30)，則相對 -24- 1354708 修正本 於塗佈一種習知之TiCN或TiAIN層之銑刀而言可達成一 種好很多之改良作用。同樣可辨認的是：在存在一種六角 形之晶體結構（編號27)時鋁含量較少（編號28)-或太多之 AlCrN提供一種對該損耗較小之保護作用。 以下之例子31至33顯示本發明之具有立方體晶體柵格 之AlCrN-層（化學計量之氮成份和66%之鋁成份）之明顯之 優越處。因此，由PM HSS或硬金屬所製成之滾動銑刀可 在乾燥切面或以乳膠潤滑之切面中測試。 實 驗 編號 31 : 滾動銑切 工 具 ：PM HSS 直 徑 D = 80 | mm, ，長度 L = 240 mm 材 料 ：16 Μη Cr 5 切 割 速率 : 180 m/min, 乾燥 (Al〇., 4 2 T i 〇 , 58)N, Balinit NANO: 1 8 09 件 (Al〇, 5 3 T i 〇 · 37 ) N， Balinit X. .CEED: 29 85 件 (Al〇_66Ti〇· 34)N 5370 實 驗 編號 32 : 滾動銑切 工 具 :硬金屬 (HM) 直 徑 D = 60 mm, ，長度.L = 245 mm 模 數 ：1.5 侵 入 角度 □= 20° 材 料 ：42 CrMo4 切 割 速率 :350 m/min, 乾燥 -25- 1354708 修正本 (Al〇.4iTi〇.59)N, Balinit X.TREME: 1 722 件 (Al〇.63Ti〇.37)N, Balinit X.CEED: 279 1 件. (Al〇.66Ti〇.34)N > 3400 件 實驗編號33:滾齒切削（hob cutting)
工具：PM HSS 模數：2.5 材料：16 Μη Cr 5 切割速率：140m/min，乳膠 TICN, BALINIT B: 1406 件 (Al〇.42Ti〇.58)N，Balinit ΝΑΝΟ: 2985 件 (Al〇.66Cr〇.34)N 1 969 件 其它此處未顯示之硏究亦可在較高之切割速率（直至 vc = 450 m/min)達成一種好的穩固性。已塗層之硬金屬-滾動 銑刀之保溫時間亦可在濕處理（但特別是在乾處理）中大大 地提升。 例9:工具鋼之粗加工式銑切 工具：HSS端銑刀 直徑D=10 mm,齒數z = 4 材料：工具鋼 X 40 CrMoV 5 1，DIN 1.2344 (36HRC) 銑切參數： 切割速率：ve=60 m/min -26- 1354708 修正本 齒推進値fz = 0.05 mm 徑向侵入寬度：ae = 3 mm 軸向侵入寬度：ap = 5 mm 冷卻：乳膠5% 過程：同步運行銳切，粗加工 損耗準則：空面積損耗VB = 0.1 mm 實驗編號 金屬成份[At%]層 在VB=0.1 mm時之保 Ti A1 Cr 溫路徑U(米） 34 (AlTi)N 35 65 • 6-8 35 (AlTi)N 58 42 3,4 36 (AlTi)CN 50 50 . 3-4 37 TiCN 100 8-11 38 (AlCr)N HS 64 36 12-21 39 (AlCr)N puls 66 34 21-28 40 (AlCr)N - 66 34 12-18 HS 由TiN構成之黏合層
Puls 脈波式偏壓 例10 :表面硬化鋼之外徑的縱向車削 工具：具有已焊接之CBN-嵌入件之車刀 材料：表面硬化鋼 16 MnCr 5, DIN 1.7131 (49-62 HRC) 旋轉參數：硬-軟加工，包含受中斷之切割和一部份較薄 之壁厚 冷卻：乾燥 -27- 1354708 修正本 損耗準則：直至達到空面積損耗VB = 0.1 mm爲止之件數 實驗編號 金屬成份[At%]層 在VB=0.1 mm時之保 Ti A1 Cr 溫數量 41 (AlTi)N 35 65 90 42 (AlCr)N m 66 34 144 類似之結果亦能以粉末冶金製成之Cermets (由TiN, TiC 或Ti(CN)-硬相位所構成，在特別情況下可添加鉬及/或鉅） 來達成。可使用Ni或Ni/Co作爲結合（Binder)相位。 例11:在已鍍鋅之板中形成螺紋 實驗編號4 3 : 工具：HSS M9螺紋形成器
材料：DC01 對應於 DIN 1.03 3 0, St 1.2 ZE 核心孔直徑·· 8.3 4 m m 切割參數：55ms 切割轉數：2000U/min 反向轉數：3600U/min
潤滑： S26 CA
TiN: 3200 螺紋
TiCN: 3200 螺紋
TiAlCN ： 3 500 螺紋 (Al〇.65Cr〇.34)N ： 8800 螺紋 以已塗層之 C B N (C u b i c B 〇 r n i t r i d e)或 Cermet工具來硏 -28- 1354708 修正本 究：由不同之CBN-燒結材料所構成之翻轉切割板，其具有 之CBN-含量介於30-99 Vol%之間，其餘之結合劑一方面以 實驗8中習知之TiAIN-層來塗佈且另一方面以本發明中之 實驗3，5和6中之AlCrN-層來塗佈。當然由於在蝕刻和 塗層過程中該CBN-燒結材料之不導電之特性而需施加一種 位於中頻區（較佳是在20至25 0 kHz之頻率範圍中）之脈波 式基板偏壓。 因此使用一種結合劑粉末於CBN-含量直至90%之材料 中，該粉末由以下之組中之至少一元素所構成：Ti-，V-或 Cr-此組之氮化物，碳化物，硼化物和氧化物，即，IVa-，Va-VI a -元素和鋁或銘化合物。 因此使用一種結合劑粉末於CBN-含量直至95%之材料 中，該粉末由氮化鈦和以下之組中之至少一元素所構成： 鈷，鎳，碳化鎢，鋁或鋁化合物。 因此使用一種結合劑粉末於CBN-含量大於95%之材料 中，該粉末由氮化鈦和以下之組中之至少一元素所構成： 硼或鹼金屬-或鹼土金屬之氮化硼。 在隨後進行之旋轉·和銑切硏究中，在大部份之情況下都 可決定一種相對於TiAIN-層已改良很多之損耗特性。同樣 在特別貴之外縱向旋轉硏究中一種較複雜之幾何形式之只 有一部份已硬化之軸是在中斷之切面中加工。 例12 :熱鍛造 工具：锻造烘烤4 St，220x43 x30 mm，鑽孔機W3 60，硬 -29- 1354708 修正本 度54 HRC, 4工具同時在接合狀態中 工件：圓形材料直徑22 mm,材料42CrMo4 方法：工件在變形之前之溫度l，050oC 壓力57 t/每次烘烤 冷卻：Μ ο 1 i c 〇 te + 石墨 實驗編號 — 金屬成1 分[At%]層 ------- 保溫數量(件數） Ti A1 Cr Nb/Si v/w 43無限制 - - - - ---— 500 ii.TiAIN 58 42 - • 900 45 AlCrN - 64 36 • 1900 46 AlCrVN - 63 31 6 1500 47 AlCrSiN HS 65 26 9 1800 ii AlCrNbN 62 31 7 ------ 1550 49 AlCrWN • 65 26 9 ---- 1630 l〇_AlCrYN - 62 31 7 1730 11 AlCrMoN - 62 31 7 1460 HS 由TiN構成之黏合層 例13 :熱捲邊 工具：HM流動鑽，直徑10 mm 工件：1.03 3 8 方法：以大約2800 U/min，3000N相對於工件來旋轉而對 工具擠壓。藉由動能使該工件成爲赤熱，即，大約l〇〇〇°C， -30- 1354708 修正本 且變形。 實驗編號 金屬成1 [分[At%] 層 保溫數量（件數） Ti A1 Cr Nb/Si V/W 52無限制 . • 500 53 TiAIN 58 42 • . 900 54 AlCrN • 64 36 _ 1700 55 AlCrVN 63 31 6 1530 56 AlCrSiN HS 65 26 9 1650 57 AlCrNbN 62 31 7 1450 58 AlCrWN • 65 26 9 1390 59 AlCrYN 62 31 7 1660 60 AlCrMoN _ 62 31 7 1340 HS 由TiN構成之黏合層 例14 :沖製 工具：1.2379 長孔柱塞20mm X 10mm 工件：TRIP 700，1 .2 mm 厚 方法：剪切，切割間隙 10%，500 Hub/min， 切割力20Kn -31 - 1354708 修正本 實驗編號 金屬成份[At%] 層 保溫數量（件數） Ti A1 Cr Nb/Si V/W 61無限制 • . 100000 62 TiAIN 58 42 . . 200000 63 AlCrN . 64 36 . 350000 64 AlCrVN 63 31 6 370000 65 AlCrSiN HS 65 26 9 280000 66 AlCrNbN • 62 31 7 300000 67 AlCrWN 65 26 9 340000 68 AlCrYN 62 31 7 320000 69 AlCrMoN 62 31 7 290000 HS 由TiN構成之黏合層 【圖式簡單說明】 第1圖 具有B1和B4結構之AlCrN之XRD-光譜。 第2圖 AlCrN-層之XRD-光譜與化學成份Al/Cr: A = 7 5/25, C = 5 0/50, D = 25/75 之間之關係。 -32- 1354708 4τ^
i撇 黏合性 HF1 HF1 HFl HFl AV [π^π^Ν·1!。·15] 〇〇 〇 o l〇 CN HV 0.03 3100 2100 2800 2300 層厚度 [Ai m] CN CO Csl 一 OO CO 寸 Cr At% 30.5 oo 58.5 A1 At% 69.5 CN 41.5 〇\ 晶體結構 PQ s 靶中之Al/Cr-比 CO cn 0.33 實驗編號 < m o Q e谳 AV [m^-'N^lO'15] η cvj 1~I r- ο VD Γ- 〇 n 00 o o rH y〇 00 rH 基板偏壓 [V] ο 〇 C\J 1 〇 1 -100 -150 -200
溫度 rc] 450 450 450 450 S g CO CO CO u基板 [V] ο ν〇 1 o 1 o 1 〇 1 P靶 [KW] CO cn CO CO 靶中之Al/Cr-比 CO cn »—H 0.33 實驗編號 < CQ u Q

Claims (1)

1354708 θ A 修正本 第93111341號「具有含AlCr之硬材料層之工件及其製造 方法j專利案 (201 1年1 0月1 3日修正） 拾、申請專利範圍： 1.一種塗佈有一薄膜層系統的工件，該等薄膜層包含至少 —由（Alycri-y) X所構成的薄膜，其中X = N、c、B、CN、 BN、CBN、NO、CO、BO、CNO、BNO 或 CBNO，且 〇·66$ 0.695,在該（AlyCr|-y) X薄膜內的組成成份是 不變的’或沿（AlyCri_y) χ薄膜的厚度連續性或階段性 的改變’該（AlyCri_y) X薄膜具有—· 方晶體結構，且 該工件包含下列任一工具：銑具、滾齒刀、球形鼻銑刀、 平面或靠模切削刀具、清除工具、鉸刀、車削及銑切用 之嵌入件、塑模或射出成型模具。 2 ·如申請專利範圍第1項之工件，其中該工具是上模、下 型站、拉伸模、射出器芯或螺紋形成器的成型工具。 3 ·如申請專利範圍第1項之工件，其中該工具是一射出成 型工具，用以製成一模塑的塑膠元件或資料儲存媒介。 4.如申g靑專利範圍第1項之工件，其中該工具包含一 CBN 或金屬陶瓷（Cermet)基體’或該工具是—CBN或金屬陶 瓷嵌入件。 5 .如申g靑專利範圍第1至4項中任一項之工件，其中該 (AlyCri_y) X薄膜之損耗速率係小於或等於ι.5 m3 πΓ 1 N -1 1 0 -15。 6 ·如申請專利範圍第1至4項中任一項之工件，其中該 135470¾^^^_ 修正本 替換頁 UlyCri_y). X薄膜之維氏硬度是2300至3100之間》 7·如申請專利範圍第1至4項中任一項之工件，其中該 (AlyCr^y) X薄膜之一層結構是微晶，且其平均顆粒大 小是20 - 1 20 nm之間。 8. 如申請專利範圍第1至4項中任—項之工件，其中在該 工件和（AlyCn-y) X薄膜之間施加一黏合層。 9. 如申請專利範圍第8項之工件，其中該黏合層包含iv、 V或VI族之至少一金屬或鋁。 10·如申請專利範圍第8項之工件，其中該黏合層包含IV、 V或VI族之一或多種金屬之至少一氮化物，碳化物或 碳氮化物。 11·如申請專利範圍第8項之工件，其中在至少一（Aiycn_y) X薄膜上另塗佈一滑動層。 1 2 .如申請專利範圍第1 1項之工件，其中該滑動層包含： 具有分散碳的至少一個金屬之碳化物；類似金剛石之碳 層；一類似s i—金剛石之碳層；一類似金剛石之金屬碳 層；硫化鉬層；硫化鎢層；含鈦之硫化鉬層；或鎢化鉬 合金層，其中該至少一個金屬之碳化物是選擇自IVb、 Vb及VIb族之金屬及矽之MeC/C。 13. —種塗佈有一薄膜層系統的工件，該等薄膜層包含至少 —由（AlyCr丨-y) X所構成的薄膜，其中X = N、C、B、CN、 BN、CBN、NO、CO、BO、CNO、BNO 或 CBNO，且 0.66S 0.695,在該（AlyCn.y) X薄膜內的組成成份是 不變的，或沿（A 1 y C r ^ y) X薄膜的厚度連續性或階段性 1354708 -------—:二 的改變，該（AlyCr丨-y) 修正本 X薄膜具有一立方晶體結構’且 該工件包含一機械構件。 1 4 .如申請專利範圍第1 3項之工件，其中該構件是一密封 墊圈、齒輪 '活塞、閥驅動器之部份元件或注射噴嘴的 針、或是具有齒的構件。 15·—種加工方法，包含使用申請專利範圍第1項所述的工 具來機製一材料的步驟，其中使用該工具來機製的加工 是在沒有添加潤滑劑或冷卻劑的情形下執行的。 16. 如申請專利範圍第15項之方法，其中該工具是一硬金 屬滾齒刀，且切割速率是60至45 0 m/mi η。 17. 如申請專利範圍第15項之方法，其中該工具是一端銑 刀、球形鼻銑刀或粗削刀具。 18.—種PVD加工方法，用以將至少一（AlyCri-y)X薄膜澱 積於一工件上，其中 X = N、C、B、CN、BN、CBN、NO ' CO、BO、CNO、BNO 或 CBNO，且 0.6 6 S y S 0.6 9 5，包 含下列步驟： 將至少一工件安裝在具有至少一 AlzCri-z靶之真空 塗佈系統中，其中〇.25Sz<0.75; 在0.5至8 Pa之壓力下運轉該系統，添加含氮、碳、 硼或氧之反應氣體，且對該工件施加介於-3至-150V之 間的基板電壓，充當電弧或濺鍍源，其中在該至少一 (AlyCri-y) X薄膜內的成份組成是不變的，或沿該薄膜 的厚度連續性或階段性的改變，該至少一（AlyCri-y) X 薄膜具有一立方晶體結構，且該工件係如申請專利範圍 1354708 修正本 第1或13項-所'的工件。 19. 如申請專利範圍第18項之PVD加工方法，其中X = N， 且該反應氣體是氮或氧。 20. 如申請專利範圍第18或19項之PVD加工方法，其中該 基板電壓是脈衝的。 21. 如申請專利範圍第18或19項之PVD加工方法，其中該 AlzCri.z靶是一以粉末冶金製成之靶。 22. 如申請專利範圍第21項之PVD加工方法，其中該靶是 藉下列步驟製造： 在低於66 0°C的溫度下，藉對粉末形式之原始材料 施以冷壓及重複多次的再變形； 藉熔解及冷融合來密實化；及 乾燥的轉化成其理論密度大約是96至100%之間的 最終狀態。
TW093111341A 2003-04-28 2004-04-23 Working-parts with alcr-containing hard-material l TWI354708B (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US46599503P 2003-04-28 2003-04-28
US51259003P 2003-10-17 2003-10-17
CH0300746 2003-11-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200500483A TW200500483A (en) 2005-01-01
TWI354708B true TWI354708B (en) 2011-12-21

Family

ID=34956966

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW093111341A TWI354708B (en) 2003-04-28 2004-04-23 Working-parts with alcr-containing hard-material l

Country Status (11)

Country Link
EP (2) EP1627094B1 (zh)
JP (5) JP2006524748A (zh)
KR (1) KR101047630B1 (zh)
BR (1) BRPI0409913B1 (zh)
CA (1) CA2523882C (zh)
IL (1) IL171467A (zh)
MX (1) MXPA05011608A (zh)
PL (1) PL1627094T3 (zh)
SI (1) SI1627094T1 (zh)
TW (1) TWI354708B (zh)
WO (1) WO2004059030A2 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI411696B (zh) * 2006-07-19 2013-10-11 Oerlikon Trading Ag 沉積電絕緣層之方法

Families Citing this family (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9607328B2 (en) 1999-03-30 2017-03-28 Tivo Solutions Inc. Electronic content distribution and exchange system
JP2005330539A (ja) * 2004-05-20 2005-12-02 Tungaloy Corp 耐摩耗性被覆部材
MX2007000405A (es) 2004-07-15 2007-06-25 Oc Oerlikon Balzers Ag Recubrimiento duro altamente resistente a la oxidacion para herramientas de corte.
JP5443403B2 (ja) * 2004-09-30 2014-03-19 株式会社神戸製鋼所 高温潤滑性と耐摩耗性に優れた硬質皮膜および該硬質皮膜形成用ターゲット
JP5060714B2 (ja) * 2004-09-30 2012-10-31 株式会社神戸製鋼所 耐摩耗性および耐酸化性に優れた硬質皮膜、並びに該硬質皮膜形成用ターゲット
EP2408202B1 (en) 2004-11-19 2017-05-17 TiVo Solutions Inc. Method and apparatus for secure transfer and playback of multimedia content
EP1851361B8 (en) * 2005-02-10 2016-06-15 Oerlikon Surface Solutions AG, Pfäffikon High wear resistant triplex coating for cutting tools
JP4627201B2 (ja) * 2005-03-11 2011-02-09 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜
ATE527392T1 (de) 2005-03-24 2011-10-15 Oerlikon Trading Ag Hartstoffschicht
US7348074B2 (en) * 2005-04-01 2008-03-25 Oc Oerlikon Balzers Ag Multilayer hard coating for tools
AT8346U1 (de) * 2005-04-29 2006-06-15 Ceratitzit Austria Ges M B H Beschichtetes werkzeug
JP4578382B2 (ja) * 2005-10-25 2010-11-10 日立ツール株式会社 硬質皮膜及び硬質皮膜被覆工具
JP5138892B2 (ja) 2006-01-20 2013-02-06 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜
DE102006027139A1 (de) * 2006-06-06 2007-12-13 Fette Gmbh Beschichtetes Werkzeug mit geometrisch bestimmter Schneide
JP5096715B2 (ja) * 2006-09-21 2012-12-12 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜および硬質皮膜被覆工具
ES2945897T3 (es) * 2006-09-26 2023-07-10 Oerlikon Surface Solutions Ag Pfaeffikon Pieza de trabajo con recubrimiento duro
EP2156912B1 (en) 2007-05-30 2011-08-17 Sumitomo Electric Hardmetal Corp. Surface-coated cutting tool
EP2022870B1 (de) 2007-06-25 2014-07-23 Sulzer Metaplas GmbH Schichtsystem zur Bildung einer Oberflächenschicht auf einer Oberfläche eines Substrats, sowie Verdampfungsquelle zur Herstellung eines Schichtsystems
IL191822A0 (en) 2007-06-25 2009-02-11 Sulzer Metaplas Gmbh Layer system for the formation of a surface layer on a surface of a substrate and also are vaporization source for the manufacture of a layer system
JP5041222B2 (ja) * 2007-07-24 2012-10-03 三菱マテリアル株式会社 表面被覆切削工具
DE102007035502A1 (de) * 2007-07-28 2009-02-05 Federal-Mogul Burscheid Gmbh Kolbenring
KR101046520B1 (ko) 2007-09-07 2011-07-04 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 내부 챔버 상의 부산물 막 증착을 제어하기 위한 ｐｅｃｖｄ 시스템에서의 소스 가스 흐름 경로 제어
JP5537782B2 (ja) * 2007-09-14 2014-07-02 スルザー メタプラス ゲーエムベーハー 切削工具及び切削工具の製造方法
JP5240498B2 (ja) * 2008-02-29 2013-07-17 三菱マテリアル株式会社 硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具
JP5287019B2 (ja) * 2008-08-08 2013-09-11 三菱マテリアル株式会社 硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具
ES2388899T3 (es) 2008-09-05 2012-10-19 Lmt Fette Werkzeugtechnik Gmbh & Co. Kg Herramienta de fresado por generación con un revistimiento y procedimiento para el nuevo revestimiento de una herramienta de fresado por generación
JP2012505308A (ja) * 2008-10-10 2012-03-01 エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト，トリュープバッハ 非ガンマ相立方晶ＡｌＣｒＯ
JP5407432B2 (ja) * 2009-03-04 2014-02-05 三菱マテリアル株式会社 硬質被覆層がすぐれた耐欠損性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具
JP5531178B2 (ja) * 2010-01-29 2014-06-25 国立大学法人富山大学 鋳造金型表面用保護膜
DE102010011694B4 (de) * 2010-03-17 2013-09-19 Karlsruher Institut für Technologie Hexagonaler Mischkristall aus einem Al-Cr-O-N Stoffsystem
DE102010052687A1 (de) * 2010-11-26 2012-05-31 GFE Gesellschaft für Fertigungstechnik u. Entwicklung Schmalkalden e.V. Hartstoff-Beschichtung für Maschinenteile und Werkzeuge zum Verschleißschutz und zur Wärmedämmung
JP6064549B2 (ja) * 2012-11-28 2017-01-25 住友電気工業株式会社 焼結体および焼結体の製造方法
DE102012024638A1 (de) 2012-12-17 2014-06-18 Kennametal Inc. Werkzeug zur spanenden Bearbeitung von Werkstücken und Verfahren zum Beschichten von Substratkörpern
CN103866252A (zh) * 2012-12-18 2014-06-18 中国科学院兰州化学物理研究所 在活塞表面制备复合薄膜技术
DE102013006633A1 (de) * 2013-04-18 2014-10-23 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Funkenverdampfen von metallischen, intermetallischen und keramischen Targetmaterialien um Al-Cr-N Beschichtungen herzustellen
DE102013007305A1 (de) * 2013-04-29 2014-10-30 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Reaktives Sputtern mit intermetallischem oder keramischem Target
JP6590213B2 (ja) * 2013-05-30 2019-10-16 日立金属株式会社 冷間加工用金型の製造方法
JP6399353B2 (ja) * 2015-01-27 2018-10-03 三菱マテリアル株式会社 耐チッピング性、耐摩耗性にすぐれた表面被覆切削工具
JP6471546B2 (ja) * 2015-03-10 2019-02-20 三菱マテリアル株式会社 表面被覆切削工具
WO2017163972A1 (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜、硬質皮膜被覆部材及び硬質皮膜の製造方法
JP6789055B2 (ja) * 2016-10-04 2020-11-25 株式会社神戸製鋼所 硬質皮膜、硬質皮膜被覆部材及び硬質皮膜の製造方法
CN111132787B (zh) * 2017-08-04 2023-05-30 欧瑞康表面处理解决方案股份公司普费菲孔 具有增强性能的螺孔钻及用于制造螺孔钻的方法
CN108866491A (zh) * 2018-07-24 2018-11-23 山东大学 TiAlN/CrAlSiN纳米复合多层涂层及其制备方法
JP6798534B2 (ja) * 2018-09-11 2020-12-09 株式会社タンガロイ 被覆切削工具
DE102018216658A1 (de) * 2018-09-27 2020-04-02 MTU Aero Engines AG Verfahren zur Herstellung einer mehrlagigen Erosions- und Korrosionsschutzschicht und Bauteil mit einer entsprechenden Schutzschicht
CN110863182A (zh) * 2019-11-12 2020-03-06 东风商用车有限公司 一种齿轮冷挤压模具表面涂层强化方法
CN113667929B (zh) * 2021-07-02 2023-04-07 株洲钻石切削刀具股份有限公司 周期性多层涂层刀具及其制备方法
CN114703454B (zh) * 2022-04-08 2023-04-25 中国科学院兰州化学物理研究所 宽温域耐磨自润滑CrVN/Ag复合涂层及其制备方法
CN114959571B (zh) * 2022-05-09 2023-07-14 岭南师范学院 一种纳米复合耐腐蚀涂层及其制备方法与应用

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH680369A5 (zh) * 1989-11-22 1992-08-14 Balzers Hochvakuum
DE4421144C2 (de) * 1993-07-21 2003-02-13 Unaxis Balzers Ag Beschichtetes Werkzeug mit erhöhter Standzeit
ES2298177T3 (es) * 1995-03-30 2008-05-16 Jorg Dr. Guhring Herramienta de corte.
JPH0941127A (ja) * 1995-08-03 1997-02-10 Kobe Steel Ltd 硬質皮膜
JP3039381B2 (ja) * 1996-07-12 2000-05-08 山口県 耐高温酸化特性に優れた複合硬質皮膜の形成法
DE19725930C2 (de) * 1997-06-16 2002-07-18 Eberhard Moll Gmbh Dr Verfahren und Anlage zum Behandeln von Substraten mittels Ionen aus einer Niedervoltbogenentladung
US6827976B2 (en) * 1998-04-29 2004-12-07 Unaxis Trading Ag Method to increase wear resistance of a tool or other machine component
JPH11335813A (ja) 1998-05-21 1999-12-07 Sumitomo Electric Ind Ltd 硬質被膜及び積層硬質被膜
JP2000001768A (ja) * 1998-06-16 2000-01-07 Nippon Coating Center Kk 固体潤滑性を有する複合耐磨耗性硬質皮膜、並びに皮膜付き物品
DE19833056A1 (de) * 1998-07-22 2000-01-27 Sheffield Hallam University Sh Verfahren zum Beschichten von metallischen Substraten
JP3918895B2 (ja) * 1998-11-05 2007-05-23 山口県 低摩擦係数の複合硬質皮膜の形成法及び複合硬質皮膜
JP2000144376A (ja) * 1998-11-18 2000-05-26 Sumitomo Electric Ind Ltd 摺動特性の良好な皮膜
JP4311803B2 (ja) * 1999-03-23 2009-08-12 住友電気工業株式会社 表面被覆成形型およびその製造方法
CA2327031C (en) * 1999-11-29 2007-07-03 Vladimir Gorokhovsky Composite vapour deposited coatings and process therefor
JP2002113604A (ja) * 2000-08-03 2002-04-16 Sumitomo Electric Ind Ltd 切削工具
EP1186681B1 (de) 2000-09-05 2010-03-31 Oerlikon Trading AG, Trübbach Vakuumanlage mit koppelbarem Werkstückträger
JP2002160129A (ja) * 2000-11-24 2002-06-04 Toyo Advanced Technologies Co Ltd 工具の表面処理方法
JP2002307128A (ja) * 2001-04-10 2002-10-22 Hitachi Metals Ltd 耐焼付き性および耐摩耗性に優れた温熱間加工用被覆工具
JP3969230B2 (ja) * 2002-07-24 2007-09-05 三菱マテリアル株式会社 重切削加工条件で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具
EP1422311B1 (en) * 2002-11-19 2007-02-28 Hitachi Tool Engineering Ltd. Hard film and hard film coated tool

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI411696B (zh) * 2006-07-19 2013-10-11 Oerlikon Trading Ag 沉積電絕緣層之方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR101047630B1 (ko) 2011-07-07
JP2010275639A (ja) 2010-12-09
EP1627094B1 (de) 2018-10-24
EP1627094A2 (de) 2006-02-22
TW200500483A (en) 2005-01-01
WO2004059030A3 (de) 2006-02-02
WO2004059030A2 (de) 2004-07-15
EP2275585A1 (de) 2011-01-19
BRPI0409913A (pt) 2006-04-25
SI1627094T1 (sl) 2019-02-28
BRPI0409913B1 (pt) 2015-08-04
MXPA05011608A (es) 2005-12-15
CA2523882A1 (en) 2004-07-15
JP6383333B2 (ja) 2018-08-29
JP2006524748A (ja) 2006-11-02
PL1627094T3 (pl) 2019-04-30
CA2523882C (en) 2014-02-11
JP2011126009A (ja) 2011-06-30
IL171467A (en) 2012-08-30
KR20060005397A (ko) 2006-01-17
JP2014076540A (ja) 2014-05-01
JP2015214021A (ja) 2015-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI354708B (en) Working-parts with alcr-containing hard-material l
CA2569860C (en) High oxidation resistant hard coating for cutting tools
US7851075B2 (en) Work piece with a hard film of ALCR-containing material, and process for its production
EP1382709B1 (en) Coated tool
JP5648078B2 (ja) 工具のための多層硬物質被覆
MX2010006339A (es) Articulo revestido con esquema de revestimiento nanoestratificado.
Yuan et al. Relationship of microstructure, mechanical properties and hardened steel cutting performance of TiSiN-based nanocomposite coated tool
CN107190233A (zh) 一种具有超高硬度的Si掺杂纳米复合涂层的制备工艺
JP3460288B2 (ja) 耐摩耗性に優れた表面被覆部材
EP3661685B1 (en) Tap drill with enhanced performance
CN1813078B (zh) 具有含铝铬硬质材料层的工件及其制备方法
JP2006175569A (ja) 硬質皮膜被覆工具
Liu et al. Properties of TiN–Al2O3–TiCN–TiN, TiAlN, and DLC‐coated Ti (C, N)‐based cermets and their wear behaviors during dry cutting of 7075 aluminum alloys
JP2005177952A (ja) 複合硬質皮膜被覆工具及びその製造方法
DK1627094T3 (en) TOPIC WITH AL / CR-CONTAINED HARD MATERIAL LAYER
CN106676523B (zh) 一种具有自润滑性能的纳米复合涂层硬质合金刀具
WO2022129644A1 (en) Hard alcr-based multilayer coating system, coated article and method for manufacturing the same
Czechowski et al. of article:„Nanostructured multilayer coatings on cemented carbide and high speed steel cutting tools”
Jadhav et al. Applications (IJEBEA) www. iasir. net