TWI342303B - Molten glass supply device, glass formed product, and method of producing the glass formed product - Google Patents
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Description
-1342303 爲第931〇i925號中文說明書無劃線修正本修正曰期:99年12月9日 六、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種熔融玻璃之供給技術,且特別是 有關於一種改良的熔融玻璃供給裝置(molten glass supply device) ’以生產液晶顯示用之高黏度的平板玻璃(sheet glass)由溶爐(melting furnace)到成形裝置(forming device) ’並改善生產玻璃產品之技術,以供給液晶顯示 用之熔融玻璃。 【先前技術】 近年來’玻璃基材(glass substrate)的需求量快速增 加’其可應用於平面顯示器(flat panel display)如液晶顯 示器(LCD)、電致發光顯示器(eiectr〇iuininescent display, ELD ),或應用於各種影像感測器如電荷耦合元件(c C d )、 實體放大器(life-size magnification)、固態接觸影像感測 器(solid-state contact image sensor, CIS)以及 COMS 影像 感測器等之覆蓋玻璃(cover glass),以及應用於硬碟(hard disk)與濾波器(filter)之玻璃基材。 上述所應用的玻璃可稱為向黏度玻璃(high viscosity glass),而應用在平面玻璃或陰極射線管的漏斗狀玻璃 (glass funnel for a cathode ray tube)、窗戶平板玻璃、花 瓶以及餐具(tableware )則可稱為低黏度玻璃(1〇w visc〇sity glass),且高/低黏度玻璃在特性上差異是非常大β 接下來,讓我們來討論液晶顯示用之高黏度玻璃、無 鹼玻璃(non-alkali glass)與一般容器用之低黏度玻璃、蘇 1 3023pifl 修正曰期:99年12月9日 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 打-石灰玻璃(soda-lime glass)作個範例。請參考圖5,由 圖可知液晶顯示用之玻璃的曲線A特性,當溫度高於14〇〇 度或更南時’玻璃的黏度過低,而炫融玻璃供給裝置中的 炫融玻璃的滑動性將無法維持。此外,當溫度在12〇〇度左 右或更低時,蘇打·石灰玻璃的曲線B特性其黏度將過低。 特別是’當溫度高於1460度時,液晶顯示用之玻璃(曲線 A)其黏度將小於1000泊(poise),而當溫度高於丨18〇 度時,蘇打·石灰玻璃(曲線B)其黏度將小於1〇〇〇泊。 一般而言’當高黏度玻璃的黏度在1〇〇〇泊時,相對 應的溫度至少為1350度。高於1420度主要作為特高黏度 (particularly high viscosity)玻璃之用。當低黏度玻璃的 黏度在1000泊時’相對應的溫度要低於ι25〇度。低於 1200度主要作為特低黏度玻璃之用。因此,高/低黏度玻 璃相對於溫度與黏度之間的關係是有所區別的。 此外,在生產上述之高黏度玻璃時,形成熔融玻璃之 高黏度玻璃被供給至一成型裝置(formingdevice)中,並 形成一平板狀之玻璃基材於此裝置中。因此,當生產上述 之高黏度玻璃時,必須具有—雜(meltingfuniaee)以作 為熔融玻璃之供給來源,以及供給熔融玻璃用之供給路徑 (supply path)由熔爐傳送到成型裝置則包含在一熔融 璃供給裝置中。 在溶融玻璃供給裝置中,溶融玻璃的黏度必須減低, 以使溶融玻魏平概由溶舰過供給路徑㈣達成型裝 置。由先前圖5嶋之曲線A與曲線㈣特性比較可知, 1342303 13023pifl 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 修正日期:99年12月9曰 高/低黏度玻璃要具有相同低勒度的特性時,高黏度玻璃的 溫度必須高於低黏度玻璃的溫度。 據此’提供rfj黏度玻璃之溶融破璃供給裝置其溶融玻 "璃㈣動性由則、於提供低純_之㈣玻璃供給裝 )置,在製作上是非常困難的,也因此成型裝置應盡可能減 ‘ 少阻礙熔融玻璃之流動性(fluidity)。在日本專利早期公 開第2000-185923號(圖2)揭示一種熔融玻璃供給裝置, 其熔融玻璃由熔爐通過一單供給路徑(以下簡稱為單饋式 攀 single feeder)而到達成型裝置。 此外,在日本專利公告第昭48-17845號以及曰本專利 早期公開第昭 62-176927、平 6-24752 與 2000-313623 號 中,均揭示一種供給熔融玻璃由熔爐通過一分配管路 (distribution chamber )(以下簡稱為多饋式 multi_feeder ) 而到達多數個分叉路徑(branch path)的裝置。然而,多 饋式僅適用於低黏度玻璃而不適用於高黏度玻璃。特別 是,日本專利公告第昭48-17845號揭示一種窗戶玻璃,而 攀 曰本專利早期公開第昭62-176927號揭示一種玻璃球 (glass gob )以及容器用玻璃(glass for container )。曰本 專利早期公開第平6-24752號揭示一種玻璃瓶(glass ^ bottle )以及一種玻璃合成物桌子(glass composition in * table),其清楚揭露低黏度玻璃。日本專利早期公開第 I 2000-313623號揭示一種玻璃瓶以及玻璃器皿(giass ware)。因此,多饋式運用於低黏度玻璃已清楚揭示於上 述每一文案中。 1342303 1 3023pifi · 爲第娜中文說明獅腑本粧曰期爾丨池日 高黏度玻璃用之熔融玻璃供給裝置必須使用加熱器 (heating means)以維持熔爐中的熔融玻璃在極高的^ (1500度或更高然而,習知裝置具有一對一的炼^ •供給路徑,當熔融玻璃通過多數個供給路徑而供給至^數 、個成型裝置時,熱能將由這些熔爐的四周周圍輻射出去, 、 且單位面積所輻射的熱量無可避免地增加,若熱輕射的面 積增加,也就表示總輻射的熱量也會增加,同樣熱處理 需要的費用高度增加。 熔爐所用的耐火材質(refractory material)(例如耐 火碑firebrick)在高溫接觸熔融玻璃時會被腐蝕。請參考 下列的理由:在低溫的情狀下,可使用不同種類的耐火材 質,並選擇對腐蚀敏感度較低(|esssusceptiblet〇er〇si〇n) 的耐火材質來接觸熔融玻璃。反之,接觸高溫的熔融玻璃 的耐火材質容易被腐蝕,且在高溫的情狀下,能阻隔高溫 的耐火材質應限制於内含高氧化锆的材質(high zirconia content material)。由此可知,選擇的彈性受到限制,或 選擇對腐#敏感度較低的财火材質是不可能的。 因此’在習知裝置中’若高黏度熔融玻璃用之熔融玻 璃供給裝置中的每一個供給路徑是由熔爐所提供的話,這 些炫爐的全部内壁表面的大部分將與熔融玻璃相接觸,以 使熔融玻璃通過這些供給路徑而供給至這些成型裝置中。 也因此熔融玻璃中外來的腐蝕物質 (erosion foreign material)進入到供給路徑,或不同玻璃成分(heter〇geneous glass)產生也隨著腐蝕而增加。外來的腐钱物質或不同玻 7 1342303 1 3023pifl 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 修正曰期..99年12月9曰 璃成分會降低玻璃之成型裝置所生產的品質,並降低生產 的良率。 此外,低黏度玻璃用之熔融玻璃供給裝置僅需維持溶 爐中的熔融玻璃在較低的溫度下,其所需的溫度與上述高 黏度玻璃所需的溫度相差甚大。因此,即使熱輕射的面積 增加’但單位面積所輻射的熱量較少,且總輻射的熱量不 至於超過或熱處理的費用不至於增加太多。當溶融玻璃由 熔爐傳送到成型裝置時’低黏度玻璃的溫度不會遠離低溫 的範圍’也因此熔爐的腐蝕現象可加以避免。此外,若溶 爐内壁表面與熔融玻璃之間的接觸面積很大時,外來的腐 钱物質也不至於降低生產的品質與生產的良率。 針對熱輻射過量以及外來的腐蝕物質等相關問題,習 知使用多饋式以使低黏度玻璃由熔爐而供給至成型裝置為 其缺點。然而,其優點為,在大量生產或其他因素下,使 用多饋式可使低黏度玻璃的流動性遠高出高黏度玻璃的流 動性。 特別是,熱輻射過量或外來的腐蝕物質等問題的缺 點’乃針對高黏度玻璃用之熔融玻璃供給裝置。然而,在 ,產,黏度玻璃之產品領域中,熱輻射或外來的腐蝕物質 等問題在現今仍未被視為問題來解決,這是由於在高黏度 玻璃的領域中,普遍相信-旦使用了單饋式作為必要的構 件( essential configuration)’熔融玻璃的流動性將會降低, ,成型的過程中使用成型裝置將無法平滑流動並導致產 。。具有許多明顯的缺陷。因此,盡可能的改善之道是修改 8 1 3023pifl . 爲第鶴925 _翅赌_細紐本 赃日期:99年12月9日 習知單饋式的方法以供給熔融玻璃至成型裝置,最為妥當。 基於上述的理由,習知高黏度玻璃用之熔融玻璃供給 裝置’無法提供㈣的對策祕触财純射以及外來 ‘的腐蝕物質的問題。 【發明内容】 因此,本發明疋解決上述的缺點,其目的就是在避免 咼黏度玻璃因熔爐的熱輻射過量而造成不當的熱消耗增 加,並減少因外來的腐蝕物質過量而降低產品的品質與產 〇〇的良率’以改善習知高黏度玻璃之熔融玻璃的供給技術。 仏為達本發明之上述目的,本發明提出一種熔融玻璃供 、’、口裝置主要包括一溶爐以及一供給路徑。溶爐係作為熔 融玻璃之供給來源’而供給路徑係祕融玻璃由熔爐供給 至一玻璃產品的成型裝置中。熔爐的特點在於熔融玻璃的 點度為1000、泊時’賴内的溫度為135〇度或更高而供 給路徑包括一分配部(distribution portion),其連接於熔 爐之出口(flow outlet),且多數個分又路徑(bmnchpath) 由分配部分又出去,並延伸至多數個成型裝置。重要的是, 分配部能作為流動的熔融玻璃之暫時停留的空間,但 承上,供給熔融玻璃之裝置的特點在於熔融玻璃的黏 度為1_泊時,熔爐内的溫度為⑽度或更高,因此上 述的考量可清楚綱細於高黏度朗而非低減玻璃。 重要的是,熔融玻璃的特點在於其黏度為1〇〇〇泊時,溫 度至少1420度,此優點非低黏度破璃所有的。高黏度玻璃 内含無鹼玻璃(其鹼性物的含量小於等於〇1%,特別是小 1 3〇23pifl 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 修正日期..99年12月9日 於等於0.05%) 在本發明中’多數個分叉路徑由熔爐延伸至分配部1 而炫爐中的熔融玻璃沿著相對應的分又路徑而供給至成型 裝置。因此’炼爐之熱輻射面積藉由這些分叉的路徑而區 分開來’也就是說,每一分叉路徑之熔爐熱輻射的面積遠 小於每一單饋式供給路徑之熔爐的熱輻射面積,且單饋式 具有多數個熔爐’其總體積係等於本發明之熔爐的體積。 不同的是’假設本發明之熔爐體積是習知多數個單饋式的 體積時’每一分又路徑之熔爐熱輻射的面積遠小於習知每 一單饋式供給路徑之熔爐的熱輻射面積。由此可知,每一 分叉路徑之熔爐熱輻射的面積將遠小於習知單饋式裝置, 且每一分叉路徑之熱輻射量不會超過,且玻璃成型所需要 的熱消耗量不至於過高,因此可減少製程成本。 此外’在本發明中,熔爐内壁表面接觸於熔融玻璃的 面積藉由這些分又路徑區分開來,也就是說’每一分又路 徑之熔爐的腐餘面積遠小於每一單镇式供給路徑之溶爐的 腐姓面積。由此可知,熔融玻璃通過相對應的分叉路徑而 到達成型裝置時’其内部的外來的腐蝕物質或不同玻璃成 分的含量不會超過,以避免熔融玻璃的内含雜質影響到最 終產品的品質,因而降低產品的良率。 在本發明中,分叉路徑可自分配部呈輻射狀(radially) 或相互平行(parallel)延伸至成型裝置,但為了降低可能 發生的事情如熔融玻璃黏度不均等(inequality)或流動性 減低的問題’最好是一致用直條狀(俯視圖)的分叉路徑 13023pifl 修正日期:99年12月9日 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 為宜。 相關於本案之先前技術中,日本專利公告第p 48-17845號以及日本專利早期公開第昭62-176927、平 6-24752與2000-313623號揭示一種多饋式裝置,其供給熔 融玻璃由熔爐通過一分配管而到達多數個分又路徑。然 而,在上開專利中多饋式裝置乃是供給低黏度玻璃用之= 融玻璃。如上所述,低黏度玻璃用之多饋式裝置僅需供給 遠低於尚黏度玻璃之溫度。因此,如果熔爐的熱輻射面積 很大,而每單位面積的熱輻射量很小,也就不會因熱輻射 過量而造成熱量消耗增加或製程成本增加。 、 此外,在低溫情狀下,上述已說明可避免熔爐之腐蝕, 且不會因外來的腐蝕物質或不同玻璃成分的問題而降低產 品的良率。因此,對於低黏度玻璃而言,針對熔爐中熱輻 射過量以及外來的腐飯物質等問題,不論使用的是單饋式 或多饋式均無太大的差別。同樣地,使用多饋式不僅無法 避免不當的熱能消耗增加,且製程成本的減少、玻璃^品 的品質改善或良率改善也不會因外來的腐蝕物質減少而有 所助益。由上述的考量可知,低黏度玻璃用之多饋式裝置 與本發明所揭露的技術、構想完全不同。 另外,依據本發明之構想,溶融玻璃可由相同的供給 用溶爐一起分配,並形成不同種類的玻璃產品。再者,使 用者若想改變玻璃產品的雜時,不需要停止供給炼融玻 璃通所有的分又路徑,只需要停止欲改變之分又路徑即 可,當對應於分又路徑的成型裝置在置換時,其他的成型 1342303 1 3023pjfl 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 修正日期·· 99年12月9曰 裝置仍可繼續操作,以提高生產的效率。 在本心明中’提供分配阻力(distribution resistance) 至、溶融玻璃的阻力分配部可讓通過分叉路徑的熔融玻璃分 別進入分叉路徑中。在本發明中,阻力分配部最好位於各 自的刀叉路從之鄰近下游處(immediateiy downstream side) ’也就是說’在各自的分叉路徑之上游末端(upstream end)。 _ 在本發明中’揭示以下的優點:假設正向的分配阻力 未月t使嫁融玻璃通過分叉路徑時,相對黏度較低之熔融玻 璃的部分將以較高的速度通過分又路徑。同時,相對黏度 較向之炫融玻璃的部分將以較低的速度通過分叉路徑。據 此’炼融玻璃由分配部供給至各自的分叉路徑的壓力是不 相等的。同時,通過分叉路徑而分配到熔融玻璃的阻力會 導致黏度高與黏度低的熔融玻璃的兩部分,在速度上均明 顯地降低,以致於兩者的速度不相上下。不同的是,分配 φ 阻力對於每一分又路徑的流速相等。由此可知,熔融玻璃 由分配部供給至分又路徑的壓力能夠不相上下。因此,在 無阻力困難下,產品可順利成型,也可避免玻璃產品在品 質上變差或產品的良率變低。 ,曰特別近幾年來,液晶顯示器廣泛的使用,大平面的液 • 晶顯示器出現,使得液晶顯示用之平板玻璃的需求量大 .增。當利用到大尺寸平面玻璃時,二平板玻璃之間的成分 或材料特性有些微差異(slight difference),且二平板玻 璃之間具有液晶分子(liquid cryStal )時,在生產面板 12 13023pifl 修正日期:99年12月9日 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 (Pand)時易導致傾斜位移(Pitch shift)。因此,且有特 =分與特定材質的玻魏4,_是這種平板玻璃的需 、、里增加之際,藉由增加習知㈣麵供給裝置(單饋式) 的數量足以應付。然而’不同單饋式裝置所生產的平板玻 璃’即使麵-樣,但德以具杨_齡以及相同的 材質特性’目為操作鮮制條件^騎致。其中,本發 明之熔融玻賴給裝置的雜可由賴分配❹數個供給 路徑(分X路徑),也因此需求量增加的情況足以應付, 即使平板玻璃是由不同的分叉路徑所形成的,但因操作與 準備的條件均相同,成分與材質特性將可達到一致。因此, 具有特定成分與特定材質的平板玻璃的數量可供應無虞。 此外,在上述方式中,熔融玻璃由分配部供給至各別 的分又路徑的壓力最佳時是均等的。 其中’均等的供給壓力(equalization of the supply pressure)是表示熔融玻璃分配到分叉路徑的數量無不當的 改變(no improper variation),且熔融玻璃通過分叉路徑 的流動性是相等的。因此,熔融玻璃不斷由熔爐進入到分 配部再到達成型裝置時,其通過分叉路徑的數量不會有太 大的差異,且成型裝置的步驟在執行時也能在同質條件 (homogeneous condition)下適當地運作。由此可知,充 分的成型操作,將可避免成型產品的品質變差以及產品良 率降低。 在本發明中,阻力分配部的内壁表面與熔融玻璃接觸 的部分至少有白金(platinum )、翻(molybdenum )、把 1342303 1 3 023pm 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 修tf 口如η 胗止日期_·99年12月9日 (palladium)、铑(rhodium)或其合金(以下稱為白金同 族,platiimmorlike),特別是白金或白金合金最為適宜: 由此可知,當熔融玻璃為高黏度玻璃時,阻力分^ 可獲得足夠的耐久性(durability)。特別是;白金同族具 :有尚熱阻值(high heat resistance)以及高抗腐餘(high erosionresistance)的特性,因而當白金同族接觸到極高 1 之熔融玻璃所製成的高黏度玻璃時不會產生熱變形 鲁 (thermally distorted )或熱腐蝕,也因此阻力分配^具^ 較長的使用壽命。如此,阻力分配部的内壁表面不會因接 觸到尚黏度熔融玻璃而腐姓,也因此外部的腐姓材料不合 混入(mix)或融化(dissolve)於熔融玻璃之中,以避^ 成型產品的品質或良率下降等。在本發明中,阻力分配部 之内壁接觸部分雖可以白金同族的材質製成,然而白金同 族的成本昂貴’因而分配部的本體(main body)主要是由 耐熱材質(耐熱碑)所組成的,而其内壁表面與熔融玻璃 ^ 接觸的部分至少覆蓋一層白金同族,因為白金同族可耐高 溫至少1350度(最好是1420度以上),並可抵抗腐蝕與 高溫,以減少腐蝕處理所需要的人力與繁瑣。 此外’最好是以加熱炼融玻璃用之電熱裝置 , (energizing heating means)(直流供電)來供給電流通過 白金同族。 ,如此,利用電熱裝置來供給電流至白金同族,以使阻 力为配部内的溶融玻璃得以加熱。由於炼融玻璃藉由阻力 分配部之直接接觸部份得以加熱,因此相對於使用火爐 1 3023pifl 修正曰期:99年12月9日 爲第931019¾號中文說明書無劃線修正本 (burner)來加熱,本發明之加熱效能可改善,且熔融玻 璃可獲得均勻的加熱。當以電能直接加熱並配合火爐加熱 時,相對於僅使用火爐加熱而言,對熔融玻璃的加熱更具 效能與均勻度(uniformly )。 在本發明中,溫度偵測裝置(temperature detection means)可用以偵測在每一阻力分配部中熔融玻璃的溫 度,以控制通過白金同族之電流變化,其相對於溫度偵測 裝置所得到的訊號,因而在每一阻力分配部内之熔融玻璃 的溫度可保持在最佳的狀態。因此,阻力分配部也可作為 控制熔融玻璃之溫度的溫度控制部(temperature c〇ntr〇l portion)。 在上述之結構中,每一阻力分配部最好是由分叉路徑 用之一擋片(baffle plate)所組成。重要的是,每一阻力 分配部最好具有多數個擋片,由上游處到下游處。相對於 這些擋片位置的不同,熔融玻璃的移動路徑及/或形狀也隨 之改變。 如此,在阻力分配部中,擋片可用以固定於分叉路徑 中,最好是在分配管路之鄰近下游處,以減少製造所需之 人力與繁瑣,且分配至熔融玻璃之阻力可確切獲得。擋板 月匕改變熔融玻璃之流向或限縮其流向,以使不同黏度之溶 融玻璃之間的熱傳導(heat transfer)獲得改善。在阻力分 配部中之熔融玻璃能改變其流速並使其黏度均等。因此, 阻力分配部也可作為炼融玻璃用之黏度均等部(visc〇sity equalizing portion )。 1342303 1 3023pifi 修正日期:99年12月9曰 胃H 93101925號中文說明書無劃線修正本 在本發明中,擋片與熔融玻璃接觸之表面至少是由白 金同族所製成的。其中,使用白金同族,特別是白金或白 金合金均可耐高溫至135〇度以上(最好142〇度以上)’ 且耐腐蝕性佳。擋片的本體可用其他耐熱材質製成,但其 ,熔融玻璃接觸之表面則覆蓋一層白金同族。擋片不需用 N硬度的材質製成或面積很大,也因此擋片最佳是以白金 同族的材質製成。 • 由此可知,擋片具有可耐高溫熔融玻璃的耐久性,以 確保長期使用,並可避免因接觸高溫熔融玻璃而產生外來 的腐姓物質’且可避免外來的腐蝕物質溶入於熔融玻璃之 中而降低產品的良率。 在上述的結構中,分配部最好具有底部較淺(bottom shallower)於熔爐的設計。 特別是’熔融玻璃由熔爐傳送到分配部時在較低部 位(lower part)的黏度相對高於較高部位(higher part) 鲁的黏度,其原因為低部位的溫度較低。考量到維持炫融玻 璃在極咼溫度(例如15〇〇度或更高)的困難性,這對於比 重(specific gravity)與溫度之間的關係性無可避免的重 要,並且當加熱裝置中火爐、火爐所喷出的火焰必須對準 熔爐中熔融玻璃上方所在之空間。因此,熔融玻璃之上層 部位(upperpart)與下層部位(i〇werpart)之間的溫度差 異與黏度差異,會因溫度差異而差別極大。也因此,當分 配部份具有底部較淺於熔爐之設計時,較低部位之高黏度 熔融玻璃可停留於熔爐中,而僅有較高部位之低黏度熔融 16 1342303 1 3023pifl 爲第931難5财文麵書細雜正本 赃赚料12月9日 玻璃進入到分配部中。由此可知,熔融玻璃之低黏度部分 可有效地使用而不會浪費,而熔融玻璃在熔爐中可具有黏 度均勻之上層部位與下層部位,且熔融玻璃令之氣泡可輕 易地釋放。值得注意的是,加熱裝置可以是電氣熔融方式 及/或以火爐加熱,因此熔融玻璃之上層部位與下層部位之 間的溫度差異可稍微低於僅靠火爐所得到的溫度差異。然 而,熔融玻璃必須加熱至極高溫度,也因此要減少溫度差 異至一適當的溫度是有困難的。因此,當使用的是電氣熔 融方式時,其優點在於分配部的底部自然可淺於熔爐的底 部。 此外,當熔爐是以内含高氧化鍅之耐火材質製成時, 外來的蝕刻物質例如氧化鉛會混合於熔爐中之熔融玻璃。 氧化鍅之比重大於熔融玻璃之比重,並沈澱㈦叩沉⑴於 熔融玻璃之底部,或溶入於熔融玻璃之中而降低玻璃的品 質並沈贏於底部。在本發明中,分配部之底部較淺於溶爐 之底部,因而僅有上層部位的熔融玻璃可具有較低含量之 外來的腐钱物質或不同玻璃成分進入到分配部。假設僅有 部分的分配部具有較淺的底部,並位在炫爐中,但仍有上 述的優點。值得注意的是,部分淺的底部部位可位於分配 部與熔爐(包括熔爐的一部份)之間的交界處(b〇undary)。 在本發明中,分配部的深度最好等於或小於熔爐深度 的4/5 ’其中“分配部的深度,,與“熔爐的深度,,指的是當熔融 玻璃由溶爐流向分配部時,熔融玻璃從底部到頂部的液位 (liquid level)高度,也因此在成型過程中,流體的液位 1342303 13023pifl 爲第93101925號中文翻書無劃線修正本 修正曰期:99年12月9日 與流體由熔爐流向分配部之液位一樣。 由此可知’當分配部之深度等於或小於熔爐深度的4/5 時’至少有1/5量的熔融玻璃其包含最高黏度的底部部分 • 與具有外來的腐姓物質之污染物將不允許進入分配部。換 - 句活說,至少有4/5量的熔融玻璃其包含最低黏度的部分 • 且不包含外來的腐蝕物質將可進入到分配部。因此,僅有 乾淨的熔融玻璃與低黏度的部分可進入到分配部,以使熔 φ 爐中較佳特性的熔融玻璃可有效地被利用。此外,在分配 部中熔融玻璃的黏度可達到均等化,以使内含於熔融玻璃 中的氣泡可有效的被釋放。其中,假設上述所設的比值超 過4/5時,部分污染物,停留於熔融玻璃之底部部位的高 黏度玻璃也會進入分配部。為避免分配部中的熔融玻璃之 黏度不均等或變形,以確保其優點,分配部的深度最好等 於或小於熔爐深度的3/5,或小於熔爐深度的1/2。但對於 上述的設定,分配部的深度最好小於熔爐深度的1/2〇,以 _ 使熔爐中熔融玻璃用之熱消耗的數量不至於浪費。 一外來的物質例如二氧化矽(silica)會漂浮在熔爐中熔 融玻璃的表面如同一層膜,而二個或多個熔爐可串連在一 起=由上游處連通道下游處,以方便移除膜狀(fihn_like) ‘ 的你浮物質(floatlng substance)。在熔爐與分配部之間, 》配部的深度最好等於或小於熔爐深度的4/5 (或小於等 . 於3/5 < 1/2),I底部較淺於溶爐之分配部的鄰近區域 (vicinity )。 在上述的結構中,分配部的底部最好是等於或小於 1342303 13023pif| 修正曰期:99年12月9日 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 5 00mm。 當分配部的深度等於或小於500mm時,其底部到液 面的距離不適宜過長,以使熔融玻璃之上層部位與下層部 位之間進入熔爐時的溫度差異能盡量減少,也能使分g曰己部 中之熔融玻璃的黏度均等化。此外,當分配部的深度超過 500mm時,其底部到液面的距離不適宜過長,以避免分配 邻中之溶融玻璃的黏度無法均等化。在本發明中,為了切 確達到上述的優點,分配部的深度應等於或小K4〇〇mme 重要的是,當平面騎用(如液晶顯示)之_基材是用 成型裝置製成之大型玻璃產品時,相對地必須供給大量的 炫融玻璃由分g己部到分叉路徑,也因此分配部的深度最好 不要小於50mm。 在本發明中’加熱裝置可加熱分配部中之溶融玻璃, 以使熔融玻璃的黏度最好在1〇〇〇泊以下。 特別是’溶融玻璃可平順地由分配部之分配並供給至 分又路控。然而’縣玻璃由_進人到分配部且未進入 路徑之前,其黏度因溫度降低而變高,以致於無法 與分配。因此,利用加熱裝置來加熱分配部中 :玻Si?由分配部之分配而供給至分叉路徑I :玻璃抓動的路徑為一_狀時,熔融 1=於誦泊,但其移動性不會受到阻礙。然而,對於 々IL向複雜的分配部而言,溶融. ‘、、、 、 仏^ 洛蛐坡璃的黏度還是要等於或小 於1000泊,以維持其流動性。 1342303 I3023pif) 修正日期:99年12月9日 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 在本發明中’在分配部内加熱溶融玻璃用之加熱裝 置,以及熔爐内加熱熔融玻璃用之加熱裝置,可使分配部 内熔融玻璃的黏度低於熔爐内熔融玻璃的點度。特別是, 分配部内熔融玻璃的溫度最好高於熔爐内熔融玻璃的溫 度。如此,對於分配部内熔融玻璃的流動複雜於熔爐内熔 融玻璃的流動而言,此方式將足以應付。此外,由於分配 部的體積遠小於炼爐的體積’因此用加熱裝置可輕易地加 熱熔融玻璃且成本較低。
重要的是,分配部内熔融玻璃的黏度最好低於阻力分 配部内熔融朗_度,其介於分配部内㈣玻璃的黏度 與溶爐㈣融玻璃的減H分配部_融玻璃的黏 度最好在最低值。用火爐之加熱裝置來加熱熔爐的内部以 及分配部的内部最好是用氧氣闕燃燒Uxygen fuel combustion),以提高加熱溫度(大約加熱至i7⑻度)。 在^發财,絲敎_表面魏财璃接二部 分最好是由白金同族所製成。 在本發明中,白金同族可耐高溫至少1350度(最好是 1 二0^二上二並可抵抗舰與高溫’以減少腐域理所 分可用白金_製成,但自金_的成本昂# ^ 部之本體可料㈣歸質(如敎磚)製成,其續 融玻璃接觸之表面則最好覆蓋—層白金_。 … =月中:_處理與抗腐錢理可應用在分配部 抗熱、耐久性南的分配部亦可提高其使用壽命。此 20 13023pifl 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 修正曰期:99年12月9曰 外,分配部内所產生的外來的腐蝕物質或不同玻璃成分的 含量可降低,以避免熔融玻璃的内含雜質影響到產品的品 質,因而降低產品的良率。重要的是,以耐火材質製成之 熔爐同樣具有相同的耐火處理,但熔爐的體積遠大於分配 部與阻力分配部的體積,也因此在處理的費用不見得有 益。此外,採用上述的方法可避免外來的腐蝕物質或其他 物質,因此建議使用。 上述結構中,成型裝置最好是平板玻璃用之成型裝 置。供給熔融玻璃用之熔融玻璃供給裝置若具有上述的結 構則可生產高級的玻璃產品,包括平板玻璃。 在本發明中,平板玻璃用之成型裝置可以是下拉式 (downdraw)成型裝置,或上拉式(updraw)成型裝置, 或浮動式(float)成型裝置。下拉式成型裝置可以是溢流 式(overflow)成型裝置以及下插式(sl〇t d〇wn)成型裝 置。其中,溢流成型裝置最好是生產不需要表面拋光的平 板玻璃。成型裝置所生產的平板玻璃包括平面顯示用之玻 璃基板,例如液晶顯示器及電致發光顯示器、或應用於各 種影像感測器如電荷耦合元件(CCD )、實體放大器 (life-size magnification )、固態接觸影像感測器(s〇lid state contact image sensor,CIS)以及C0MS影像感測器等之覆 蓋玻璃(cover glass),以及應用於硬碟與濾波器之玻璃 基材。 在形成這些平板玻璃之時,供給至成型裝置之熔融玻 璃會因黏度不均等而造成缺陷,例如厚度誤差以及波浪狀 1342303 1 3023 pifl 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 修正曰期·· 99年12月9曰 表面’使得產品的良率降低。當平板玻璃是作為液晶顯示 用之玻璃基板時,在品質嚴格要求下,上述的問題將變得 很嚴重。據此,根據本發明所提之方法,此黏度不均等的 問題將足以應付’並可生產上述要求的平板玻璃。 根據本發明所提之一種生產玻璃產品的方法,用以解 决上述的問^|,其包括下列步驟:將原料(raw material) 在一炫爐中熔融為向黏度玻璃’當溫度高於1350度(最好 高於1420度)時,高黏度玻璃之熔融玻璃的黏度為1〇〇〇 泊;接著分配熔融玻璃由熔爐通到一分配部,而分配部連 通於熔爐之出口並供給熔融玻璃至多數個分叉路徑;令熔 融玻璃通過這些分叉路徑而供給至成型裝置,而成型裝置 連通於這些分叉路徑並生產玻璃產品。 針對製造的方法而言,上述的熔融玻璃供給裝置提供 有效的製程使用,也就是說,此炼融玻璃供給裝置包括一 熔爐、一分配部以及一分叉路徑。 此外,製程方法最好進一步包括提供分配阻力至熔融 玻璃使其通過這些分又路徑的步驟。 針對上述的方法,除了一般的優點之外,上述的優點 亦可由阻力分配部來達成。當具體執行這些製程方法時、 熔融玻璃由分配部供給至分又路徑的壓力必須均等以達 到上述的優點。阻力分配部之内壁與熔融玻璃接觸之表面 最好是由白金同族所製成的,其耐熱的溫度至少135〇度, 且抗腐蝕處理最好也是使用白金同族。熔融玻璃加熱用X之 電氣(直流供電)加熱裝置最好能供給電流至白金同族, 22 1342303 1 3023pin · 爲第93101925號中文說明書_線修正本 修正曰期:99年12月9日 而阻力分畴最好是由分又路_之則所 與溶融玻雜觸之表面最好由自金所製成。分】 最好淺於賴之底部’而㈣部的深度最料於二 爐深度的4/5,且分配部的深度最好等於或小於$⑻mm。' 較佳情況下,賴玻璃加熱用之加熱裝置可配置於分= 中’以使玻璃_度在1_泊以下。分配部之内壁與融 破璃接觸之表面最好是白金同顧製成的。成型裝^ 是平板玻璃用之成型裝置(特別是平面顯示用^玻軌 板)。 土 、^上所述,根據本發明之一種熔融玻璃供給裝置,合 溫度高於1350度時,溶融玻璃的黏度為_泊而炫二 破璃通過賴之出口而連通至分配部,且多數個分叉路徑 與分配部相連。因此,相對於習知的裝置(單饋式),每 一分叉路徑之熔爐的熱輻射面積遠小於習知的裝置,且各 別成型裝置所雜的熱能也減少,進峨少生產成本。此 外,每一分又路徑之熔爐的腐蝕面積遠小於習知的裝置, 而通過分叉路徑到成型裝置的熔融玻璃,其内含之/卜來的 腐餘物質或不同玻璃成分的數量可減少。因此,可有效避 免熔融玻璃的时雜質㈣舰品㈣#,目崎低產品 的良率。另外,由相關賴所供給與分配融玻璃可 同時形成不_玻璃產品。當供給至分又路徑之一的炼融 玻璃中斷時’熔融玻賴可供給至其他的分叉路徑,並繼 續完成成型的步驟。此外,這些路徑是由熔爐分叉出去, 因此不需額外增祕融綱供給裝置,g卩可增加平板玻璃 23 1342303 13〇23pifl 修正日期:99年12月9曰 爲第93101925號中文說明書無剿線修正本 的數量。平板朗在相_準備麵作條件下,以不同的 分叉路徑成型’也因此平板_具有㈣的成分與材料特 性。 假設阻力分配部提供分配阻力至分又路徑内之溶融玻 璃時,熔融玻璃之相對較高減與較低減的部分的流速 均會變得極低’以使紐玻璃由分時供給至分又路徑的 麗力能均等化,且在生產高黏度玻璃的過程中,不易產生 變異而避免造成玻璃產品的品質降低與良率的降低。 假設分配部的底部淺於熔爐之底部時,高黏度玻璃與 内含外來的腐蝕物質的熔融玻璃混合或融合而保留於熔爐 之下層部位,而僅有上層、低黏度熔融玻璃且不含外來的 腐餘物質的部位能進人到分配部,以使炼融玻璃的黏度在 分配部的上層部位與下層部位能均等化。内含於熔融玻璃 中的氣泡亦可有效的被釋放,以改善成型產品的品質與良 率0 為讓本發明之上述和其他目的、特徵、和優點能更明 顯易懂,下文特舉一較佳實施例,並配合所附圖式,作詳 細說明如下: 【實施方式】 下文為本發明之一實施例,並配合相對應的圖式。圖 1繪示依據本發明一實施例之一種熔融玻璃供給裝置的部 分結構之剖面示意圖。圖2繪示熔融玻璃供給裝置之水平 剖面(horizontal sectional plan)的示意圖。圖3繪示溶融 玻璃供給裝置之垂直刮面(vertical sectional plan )的示意 24 1342303 I 3023pifl ’ 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 修正曰期· 99年Π月9曰 圖。請注意下列的敘述’熔融玻璃供給裝置之上游處與下 游處之間的方向定義為别方到後方方向(back_and-forth direction) ’而垂直於前方到後方方向則定義為右側到左 侧方向(right-to-left direction)。 如圖1與圖2所示,其繪示本發明一實施例之一種熔 融玻璃供給裝置。熔融玻璃供給裝置丨大致上包括一長方 形溶爐2、一分配管路(分配部)3以及多數個分又路徑4。 炼爐2可作為溶融玻璃之供給來源,而分配管路3連通於 炫爐2之出口 2a’且這些分又路徑4以相同的間距配置在 分配管路3的下游處。這些分又路徑4的下游末端連通於 多數個成型裝置5。重要的是,在圖中繪示三個由分又路 徑4到成型裝置5的通道,但通道的數量亦可為二個或四 個或更多。熔爐2的數量亦可為二個或更多,且彼此串聯 或並聯由上游處到下游處。 熔爐2具有一底壁21、多個侧壁22〜25以及覆蓋於 側壁上方之一弧形頂壁(arch_shaped cdIing w州)%。這 些底壁,壁與頂壁是由内含高氧化錯之耐火材質(财火 磚)所製成的’而火爐所喷出之火焰續準於紐玻璃上 方左側壁22與右側壁23的空間,炫融玻璃填滿於溶爐2 之中而火爐的火焰可保持熔融玻璃的溫度在15〇〇度到 1650度的範圍。 熔爐2的出口 2a位於下游處侧壁24之右側到左側方 向的中點。炫爐2與分配管路3藉由狹小流道(narrow flow path而連通,且炫爐2之出口 &位於流道的上游處。分 25 1342303 13023ριΠ 爲第93101925號中文說明書無削線修正本 修正日期·. 99年12月9日 配管路3具有—底壁3卜多個側壁32〜35以及覆蓋於側壁 上方之一弧形頂壁(未繪示),而這些底壁、側壁與頂壁 疋由内含两氧化錯之耐火材質(财火碑)所製成的。流道 6具有一底壁61、多個側壁62、63以及覆蓋於側壁上方之 弧形頂壁(未纟會示),而這些底壁、側壁與頂壁也是由 内含高氧化鍅之耐火材質(耐火碑)所製成的。火爐所喷 出之火焰F對準於分配管路3内熔融玻螭上方右側壁32 到左側壁33的空間,如此熔融玻璃的溫度可保持在16〇〇 度到1700度的範圍。 分配管路3的體積小於熔爐2的體積,且分配管路3 之底璧31與側壁32〜35的内表面(與熔融玻璃接觸之表 面)配置有白金或白金合金的薄片。同樣,流道6之底璧 61與,壁62、63的内表面亦配置有白金或白金合金的薄 $刀配官路3延伸於右侧到左側方向,而流道6的下游 ί、、ί游側壁34的中點在右側到左侧方向是相連通 机片(rectifying plate) 37延伸於右側到左侧方向並 =於所有側壁32〜35所圍成之分配空間中。重要的是, ^片37也是由内含高氧化鍅之耐火材質(耐火碑)所製 成的’且其外表面同樣配置有白金或白金合金的薄片。 2 3所示,在本發明中,分配管路3的底部淺於溶 敍,特別是’參照於炫融玻璃在裝置1的製作過 1 β麻^位L,熔爐2之底部21a的深度Χ大於分配管路 °卩3la的深度Υ,尤其是’分配管路3的深度γ等 ^於炫爐2深度X❺4/5,最好是小於等於溶爐2深 1342303 1 3023pifl 丄 修正日期:99年12月9曰 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 度的3/5或1/2。分配管路3的深度γ等於或小於5〇〇mm, 且最好是小於等於400mm。在本實施例中,流道6的深度 與分配管路3相同,而D (階梯)代表熔爐2與流道6 = 間的交界處(boundary )。
如圖1與圖2所示,在分配管路3之下游側壁35具有 多數個小出口 3a以相同的間距並排,而這些分又路徑4 通過小流道7而分別連通至分配管路3之下游處,且小出 口 3a配置於流道的上游末端。從上往下看,多數個分叉路 徑4彼此平行且直線延伸。 多數個阻力分配管路(即阻力分配部)8配置於分叉 路徑4之上游末端,換句話說’即鄰近於分配管路3之下 流側邊。小流道7的下游末端開口連接至阻力分配管路&。 阻力分配管路8延伸於前方到後方(back-and-forth)方向 並且其體積小於分配管路3的體積。阻力分配管路8具有 多個側壁(smroiindingwall) 81、82、83、84、85 所圍繞
而成的一流道’而頂壁(ceiling wall)(未緣示)覆蓋於 側壁之上。這些側壁與頂壁是由内含高氧化鍅的耐火材質 (耐火磚)所製成的。小流道7具有多個通道壁(passage wall) 71、72、73以及一頂壁(未繪示)覆蓋於這些通道 壁之上。這些通道壁與頂壁也是由内含高氡化锆的耐火材 質(耐火磚)所製成的。重要的是,每一阻力分配管路8 之底部淺於分配管路3的底部。 白金或白金合金的薄板可配置在阻力分配管路8之側 壁81、82、83、84、85的内壁表面上(至少有一内壁表面 27 1342303 13〇23pifl 爲第93 KU925號中文說明書無削線修正本 修正曰期..99年12月9曰 與溶融玻璃接觸)。同樣,白金或白金合金的薄板也可配 置在小流道7之通道壁71、72、73的内壁表面上。熔融玻 璃在阻力分配管路8中由通過白金或白金合金之薄板的電 流來加熱,而電流是由電氣(直流供電)加熱裝置(未繪 示)所提供。溫度檢測裝置(溫度感測器,temperature sensor)可檢測熔融玻璃的溫度及其黏度,但未繪示於每 一阻力分配管路8中。電流量以及熱量可由溫度檢測裝置 所得到的訊號來加以控制。因此,阻力分配管路8也可作 為溫度調節管路(temperature adjusting portion )。藉由控 制上述的電流與熱量,熔融玻璃在阻力分配管路8中的溫 度可維持在1500度〜1650度。 每一阻力分酡管路8具有白金或白金合金所製成的擋 片9以縮小溶融玻璃通過管路的流量,而改變其流向。擒 片9固定在特定間距的位置上且相互平行。擋片9能提供 阻力至通過阻力分配管路8的熔融玻璃。不同的是,無論 是高黏度玻璃或低黏度玻璃,這些插片9可避免無任何阻 力而使熔融玻璃通過分又路徑4之上游末端。因此,擋片 9與阻力分配管路8可作為壓力分配調節裝置(distribuu〇n pressure adjusting means)以使溶融玻璃由分配管路3分配 至分又路徑4的供給壓力能夠均等化。 圖4(a)〜4(e)繪示多個擋片9在阻力分配管路8中依 序位於上游處的前視圖。注意的是,在裝置丨的操作過程 中,圖中一虛線(chain line) L代表熔融玻璃的液位。 圖4(a)繪示擋片9在上游最高側邊(upperm〇st stream 28 1342303 13〇23pifl 修正日期:99年12月9日 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 side)為一矩形(rectangular shape)其對應覆蓋於阻力分 配管路之矩形流道(rectangular flow path)略低於一半的 位置上’而擋片9能改變熔融玻璃的流向先往上(upward) 再往下(downward)。圖4(b)中位於上游處的第二擋片為 一矩形其對應覆蓋於阻力分配管路8之略高於一半或三分 之一的位置上,而擋片9能改變熔融玻璃的流向先往下以 縮小流量再往上。圖4(c)中位於上游處的第三擋片9為一 矩形其對應覆蓋於阻力分配管路8之流道的一半的位置 上’由上而下’除了寬度方向(width-wise)的兩侧之外, 而熔融玻璃的流向先被分開到寬度方向的兩側,之後再會 合。圖4(d)中位於上游處的第四擋片9具有多數個貫孔 (throughhole) 9a,其中上方的貫孔尺寸相對較大,且平 板對應覆蓋於阻力分配管路8之流道的全部表面。圖4⑷ 中位於上游處的第五擋片9具有多數個貫孔如,其中下方 的2孔尺寸相對較大,且平板對應覆蓋於阻力分配管路8 之机道的全部表面。如此,舰朗的流速在此區域被縮 小,以使上方與下方部位的流速因而不同之後再會合。 可^融玻璃的流速與方向已改變或縮小,因而低 '四黏气的熔融破璃之間可達到熱交換 (heat 提'^熱交換的效能。因此,擋片9能修改炫融 化。撼或使阻力分配管路8巾找融玻賴黏度均等 度均等部)’阻力分崎路亦可料-雜均等管路(即黏 圖及圖2中’炼融破璃由溶爐2通過分配管路3以 29 1342303 1 3〇23pifl 修正日期:99年12月9曰 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 及阻力分配管路8而供給至成型裝置5,而熔融玻璃的特 點為當溫度高於1350度時,最好高於142〇度,熔融玻璃 的黏度為1000泊。此玻璃最好用無鹼玻璃為宜。玻璃的應 變點(strain point)最好等於或大於6〇0度,而玻璃的流 動黏度(liquid viscosity)最好等於或大於3〇〇〇〇〇泊,最 佳為大於等於600000泊。玻璃的成分其重量百分比例如 為:Si02 : 40%〜70%,A1203 : 6%〜25%,B203 : 5%〜20%, MgO : 〇%〜1〇%,CaO : 0%〜15%,BaO : 0%〜30%,SrO : 〇%〜10%,ZnO : 0%〜10%,鹼金屬氧化物:小於〇」%, 澄清劑(fining agent) : 0%〜5%。在本發明中,玻璃的成 分最好為8102:55。/〇〜70%,人1203:10%〜20%,;6203: 5〇/〇〜15%,MgO : 0%〜5%,CaO : 0%〜10%,BaO : 0%〜15%,
SrO : 〇%〜1〇%,Zn〇 : 〇%〜5%,鹼金屬氧化物:小於〇j % ’澄清劑:〇%〜3%。 成型裴置5例如為平板玻璃用之成型裝置(平板玻璃 可作為液晶顯示器的玻璃基板),而熔融玻璃由阻力分配 管路8通過下游處之分叉路徑4而到達成型裝置5。 重要的是,上述元件之所有側壁是由内含高氧化锆之 耐火材質所製成的,但其他熔爐2以外的元件的内壁則# 内含高氧化鍅之耐火材質所製成的。 熔融玻璃供給裝置1具有上述的結構’而多數個分叉 路棱由炫爐2通過分配管路3而延伸至成型裝置5。因此, 具有高黏度之熔融玻璃在熔爐中可通過相對應的分叉路徑 4而供給至成型裝置5。特別是,製作的步驟是先將原料在 30 1342303 13023pifl 修正日期:99年12月9曰 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 一熔爐2中熔融為高黏度玻璃,高黏度破璃之特點為當溫 度高於1350度(最好高於1420度)時,熔融玻璃的黏度 為1000泊;接著分配熔融玻璃由熔爐2通到一分配管路 3 ’而分配管路3連通於熔爐2之出口 2a ;接著供給分配 阻力至熔融玻璃使其通過多數個分叉路徑4;令炼融玻璃 通過這些分又路徑4而供給至成型裝置5,而成型裝置5 連通於這些分又路徑4並將熔融玻璃作成玻璃產品。 因此,炼爐2之熱轄射面積被多個分叉路徑區分(特 別是側壁22〜25的熱輻射面積),換句話說,每一分又路 徑4之炼爐2熱輻射的面積遠小於每一單饋式供认 炫爐的熱輻射面積,且單饋式具有多數娜爐:工總‘積 係等於本發明之熔爐2的體積。由此可知,每一分又路徑 4之熱㈣量不會超過,且玻璃成型所需要的熱消耗量不 至於過高。此外’在本發明中,_ 2内壁舰融玻璃接 觸的表面面積藉由這些分又路徑4區分開來,也就是說, 每-分叉雜4之賴2 _邮積遠小於每—單饋式供 =路徑之熔爐的職面積。由此可知,餘玻璃通過相對 應的分叉路徑4而到達成型裝置5時 刪或不同玻璃成分的含量不會超過,以避免』= 的内^質,到最終產品的品質,因而降低產品的良率。 此外,备成型裳置5具有不同的類型時,由相同· 爐2所供給與分_㈣玻财藉由這些颜裝置 時形成不同種類的平板玻璃。另外,告二 " 之一的賴璃中斷時’溶融破填還;繼:經2 = 1342303 I 3〇23pifj 爲第93101925號中文說明書無刺線修正本 修正日期:99年12月9日 « 又路徑4而供給至相對應的成型裝置5,並完成成型的步 驟。因此,當使用者若想改變玻璃產品的形狀時,不需要 停止供給熔融玻璃通過所有的分叉路徑4,只需要停止欲 改變之分又路徑4即可’當對應於分叉路徑的成型裝置在 置換時,其他的成型裝置仍可繼續操作。另外,液晶顯示 用之高黏度玻璃於高溫成型,而成型裝置與其他部位則被 漸漸磨損(wear off),當分叉路徑4其中之一因修護而停 止時,其他成型裝置仍可繼續操作。 再者,路徑由熔爐2分叉為多個流道4,也因此不需 額外的熔融玻璃供給裝置即可。由於系統足以應付需求量 快速增加的平板玻璃,而平板玻璃是在相同操作與準備的 條件下經由不同的分又路徑4所形成的,也因此數量多的 平板玻璃的成分與材質特性將可一致 由熔爐2流向分配管路3的熔融玻璃容易受到火爐的 火焰F喷射於其空間上的影響,以及比重與溫度之間的自 然現象的關係而影響。因此,熔融玻璃之下層部位的溫度 低於上層部位,但下層部位的黏度卻高於上層部位的黏 度,若分配管路3之底部較淺於熔爐2之底部時,較低部 位之高黏度熔融玻璃可停留於熔爐2中,而僅有較高部位 之低黏度熔融玻璃進入到分配管路3中。由此可知,熔融 玻璃之低減部分可有效地使用科會浪f,_融玻璃 在溶爐2巾可具餘度均勻之±層部位與下層部位,且溶 融玻璃中内含的氣泡可輕易地釋放。 氧化錯是-種耐火材質,其具有高於炫融玻璃之比 32 修正日期:99年12月9日 1 3023 pifl 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 重。因此,當氧化鍅與熔融玻璃接觸而腐蝕時,氧化锆現 合於熔融玻璃中並沈澱於底部。由於分配管路3的底部淺 於熔爐2的底部,因此可有效避免内含雜質之熔融坡璃進 入到分配管路3中。 當熔融玻璃允許進入分配管路3時,熔融玻璃易受氧 氣燃料燃燒所產生的熱輻射影響,使得玻璃的黏度等於或 小於1000泊,因此熔融玻璃的流動性以及由分配管路3 所分配與供給至分叉路徑4之阻力分配管路8的平順性均 可獲得改善。重要的是,允許由炫爐2進入到分配管路3 的熔融玻璃其流向受到分配管路3之中心整流片(central rectifying plate) 37影響非直線前進,而是分為右側與左側 方向(right-and-left direction)前進,之後再供給至阻力分 配部8。因此,熔融玻璃並非集中分佈至阻力分配管路8 之右側與左侧方向的中點,其熔融玻璃的溫度保持在16〇〇 度〜1700度,並高於在熔爐2内之熔融玻璃的溫度(15〇〇 度〜1650度)以及在阻力分配管路8内之熔融玻璃的溫度 (1500度〜1650度)。此外,分配管3之内壁表面的耐熱 持久性因覆蓋一層白金或白金合金而增長,且熔融玻璃不 會受到外來的腐#物質或不同玻璃成分的污染。 此外,阻力分配管路8具有多數個擋片9,其提供適 當的阻力以使熔融玻璃由分配管路3進入到阻力分配管路 8。據此,假設溶融玻璃由分配管路3進入到阻力分配管路 8的黏度與流向改變時,炼融玻璃供給至阻力分配管路8 的壓力則會均等化。 ^42303 13〇23pif】 修正曰期:99年12月9曰 爲第93101925號中文說明書麵線修正本 、<此外’纽融玻璃通過阻力分配管路8的流速改變或 3擔片9阻擋而變小時,關玻_不_度的部分因 …父換提高,使得熔融玻璃的黏度能夠均等化。另外,在 3分配管路8 — ’溫度檢測裝置可用以控舰融玻璃的 恤度,以使熔融玻璃具有準確的黏度可供給至成型裝置 5 °由此可知’域型裝置5所製成的平板玻璃不易產^ 度差異或波浪狀表面等缺陷。
雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上,然其並非用 以限=本發明’任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精 神和範圍内’當可作些狀更動與潤飾,因此本發明之 護範圍當視後附之令請專利範圍所界定者為準。 、 【圖式簡單說明】 圖1、’會示依據本發明一實施例之一種熔融玻璃供終 置的部分結構之剖面示意圖。 圖2繪不本實施例之熔融玻璃供給裝置之水 示意圖。 的 圖3繪示本實施例之熔融玻璃供給裝置之垂直剖面 示意圖。 圖4(a)〜4(e)緣示本實施例之熔融玻璃供給裝置的多 個擋片位於分又路徑中之垂直剖面的示意圖。 圖5繪示本發明應用之高黏度玻璃與習知技術所用之 低黏度玻璃的特性比較的關係圖。 【主要元件符號說明】 1 :炫融破璃供給裝置 1342303 1 3023pif2 /存冬月又曰峰(更)止替換良 2 :熔爐 2a :出 π 3:分配管路 3a :小出口
W 4:分叉路徑 5 :成型裝置 6 :流道 7 :小流道 • 8:阻力分配管路 9 :擋片 9a :貫孔 21 :底壁 21a :底部 22〜25 :側壁 26 :頂壁 31 :底壁 鲁 31 a .底部 32〜35 :側壁 37 :整流片 61 :底壁 , 62、63:側壁 71〜73 :通道壁 81〜85 :側壁 F :火焰
Claims (1)
- - 1342303 1 3023pif2 爲第931G1925號中文專利範圍無劃線修正本 修正日期:1〇()年3月8日' 七、申請專利範圍 ⑼年 >月爹曰如❸正替換頁 1.一種熔融玻璃供給裝置,包栝: 熔爐’作為炫融玻璃之供給來源; 一供給路徑,係由該熔爐供給熔融玻璃至一成型裝 置’以製成玻璃產品,其中該熔融玻璃之特點在於當熔融 玻璃的溫度高於1350度時,該熔融玻璃的黏度為1000泊, 該供給路徑具有一分配部,其連通於該熔爐之出口,且多數個分叉路徑由該分配部分又出去,並延伸至多數個成型 裝置;以及 多個阻力分配部,其中每一該些阻力分配部係由多數 個擋片配置於該分叉路徑中所組成。 2.如申靖專利範圍第丨項所述之炼融玻璃供給裝置, 其中該炼融玻璃由該分配部供給至各別的分又路徑的壓力 彼此相等。 3·如申請專職㈣1項所述之祕朗供給裝置, 其中該阻力分崎之内壁與贿融破璃朗之表面是選自 於白金、19、t、姥及其合金所組成之群族其中之一所製 成的。 八 4. 如申睛專利範圍第3項所述之炫融玻 供電)加熱裝置,用以提供電流通過 選自於白金、H姥及其合金所組成之群族 一, 以加熱該炼融玻璃。 、 5. 如申凊專利鋪第!項所述之溶融 其中該些擋片與贿融玻璃接觸之表面是由、 36 1342303 \3023pif2 Μ年 >月尸日 爲第93Ι0Ι925號中文專莉輪圖| 修(ί)正替換sr 修正曰期:1〇〇年3月8日 鉬、鈀一八U见”丨如从〈砰孩具笮之一所製成的 6.如申#專利||圍第1項所述之熔融玻璃供給裝置, 其中該分配部的底部淺於該熔爐的底部。 7·如申明專利範圍第1項所述之炼融玻璃供給裝置, 其中該分配料深度小於等於該賴的深度。 =如申ff專職_丨項所狀㈣朗供給裝置, '、中^分配部的深度小於等於500mm。 概圍第1項所狀熔融朗供給裝置, 玻置加熱該分配部中之該熔融玻璃,以使該熔融 圾哨之黏度小於1000泊。 ΐίΐ金、鉬、鈀、铑及其合金所組成之群族其中之- 置,Γφ如Λ料利範㈣1項所述之_朗供給裝 ^如配部之内壁與該熔融玻璃接觸之表面是由選 所 置,申料利範’ 1項所述之賴玻璃供給裝 ^中該成型裝置係為平板玻璃用之成型裝置。、 所製作而1項找融麵供給裝置 、·所製心2項之㈣^麵供給裝置 所製6項之㈣朗供給裝置 15. 一種如f請專利範㈣1G項所述之_破璃供給 1 3023pif2 y年》外+,心丨替换頁 爲第93101925號中士專利範圍無劃線修正本-1 修正日期:1〇〇年3月8日 裝置所製作而成之玻璃產品。 16.—種生產玻璃產品的方法,包括下列步驟: 將原料在一熔爐中熔融為高黏度玻璃,高黏度玻璃之 特點為當溫度高於1350度時,該熔融玻璃的黏度為1000 泊; 分配該熔融玻璃由該熔爐通到一分配部,而該分配部 連通於該熔爐之出口並供給該熔融玻璃至多數個分又路 徑; 令該溶融玻璃通過該些分又路徑以供給至成型裝 置,而該成型裝置連通於該些分叉路徑並生產玻璃產品, 其中藉由多數個擋片配置於該分叉路徑中組成多個 阻力分配部。 17.如申請專利範圍第16項所述之生產玻璃產品的方 法,更包括提供分配阻力至該炫融玻璃使其通過該些分叉 路徑的步驟。 1342303 1 3023pifl 爲第93101925號中文說明書無劃線修正本 修正日期:99年12月9日 四、 指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:圖1 (二) 本代表圖之元件代表符號簡單說明: 1 :熔融玻璃供給裝置 •溶爐 2a :出口 3:分配管路 4:分叉路徑 5 :成型裝置 6 :流道 7 :小流道 8:阻力分配管路 9 :擋片 21 :底壁 22〜25 :側壁 26 :頂壁 31 :底壁 32〜35 :側壁 37 :整流片 62、63 :側壁 81〜85 :側壁 F :火焰 五、 本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵 的化學式: 無
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