TW201116496A - Molten glass supply device, glass formed product, and method of producing the glass formed product - Google Patents

Description

201116496 13U23-Upif 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明為申請號093101925號的分割案。 本發明是有關於一種熔融玻璃之供給技術，且特別 是有關於一種改良的熔融玻璃供給裝置（molten glass supply device)，以生產液晶顯示用之高黏度的平板玻璃 (sheet glass )由溶爐（melting furnace )到成形裝置（forming device) ’並改善生產玻璃產品之技術，以供給液晶顯示用 之溶融玻璃。 【先前技術】 近年來，玻璃基材（glass substrate)的需求量快速 增加’其可應用於平面顯示器（flat panel display )如液晶 顯示器（LCD )、電致發光顯示器（eiectroiuminescent display， ELD )，或應用於各種影像感測器如電荷耦合元件（c c D )、 實體放大器（life-size magnification)、固態接觸影像感測 器（solid-state contact image sensor，CIS )以及 COMS 影像 感測器等之覆蓋玻璃（cover glass )，以及應用於硬碟（hard disk)與濾波器（filter)之玻璃基材。 上述所應用的玻璃可稱為南黏度玻璃（high visc〇sity glass)，而應用在平面玻璃或陰極射線管的漏斗狀玻璃 (glass funnel for a cathode ray tube)、窗戶平板玻璃、花瓶 以及餐具（tableware)則可稱為低黏度玻璃〇〇wvisc〇sity glass)，且高/低黏度玻璃在特性上差異是非常大。 接下來，讓我們來討論液晶顯示用之高黏度玻璃、 201116496 無鹼玻璃（non-alkali glass)與一般容器用之低黏度玻璃、 蘇打-石灰玻璃（soda-lime glass)作個範例。請參考圖5， 由圖可知液晶顯不用之玻璃的曲線A特性，當溫度高於 1400 C或更高時，玻璃的黏度過低，而溶融玻璃供給裝置 中的熔融玻璃的滑動性將無法維持。此外，當溫度在12〇〇 C左右或更低時’蘇打-石灰玻璃的曲線b特性其黏度將過 低。特別是，當溫度高於1460°C時，液晶顯示用之玻璃（曲 參 線A)其黏度將小於1000泊（poise)，而當溫度高於118〇 C時，蘇打-石灰玻璃（曲線B)其黏度將小於〗〇()()泊。 一般而言，當高黏度玻璃的黏度在1〇〇()泊時，相對 應的溫度至少為1350°C。高於1420°C主要作為特高黏度 (particularly high viscosity)玻璃之用。當低黏度玻璃的 ，度在1〇〇〇泊時，相對應的溫度要低於125〇〇c。低於12〇〇 C主要作為特低黏度玻璃之用。因此，高/低黏度玻璃相對 於溫度與黏度之間的關係是有所區別的。 此外，在生產上述之高黏度玻璃時，形成熔融玻璃之 • 高黏度玻璃被供給至一成型裝置（formingdevice)中，並 形j一平板狀之玻璃基材於此裝置中。因此，當生產上述 之高黏度玻璃時，必須具有—_ (meltingfumaee) 為熔融玻璃之供給來源，以及供給熔融玻璃用之供給路_ 爐傳送到成型裝置則包含在-炫融玻 以』==給裳置中，熔融玻璃的黏度必須減低， 使溶融玻璃％平順地績爐通過供給路徑而到達成 。由先前圖5所示之曲線Α與曲線Β的特性比較可知: 201116496 南/低黏度玻璃要具有相同低黏度的特性時，高黏度玻璃的 溫度必須高於低黏度玻璃的溫度。 據此’提供高黏度玻璃之炼融玻璃供給裝置其溶融玻 璃的流動性由於小於提供低黏度玻璃之熔融玻璃供給裝 置’在製作上是非常困難的’也因此成型裝置應盡可能減 少阻礙熔融玻璃之流動性（fluidity)。在曰本專利早期公開 第2000-185923號（圖2)揭示一種炫融玻璃供給裝置， 其熔融玻璃由溶爐通過一單供給路程（以下簡稱為單饋式 single feeder)而到達成型裝置。 此外，在日本專利公告第昭48-17845號以及日本專利 早期公開第昭 62-176927、平 6-24752 與 2000-313623 號 中’均揭示一種供給熔融玻璃由熔爐通過一分配管路 (distribution chamber)(以下簡稱為多饋式 muld_feeder) 而到達多數個分叉路徑（branch pa^i)的襄置。然而，多 饋式僅適用於低黏度玻璃而不適用於高黏度玻璃。特別 是’日本專利公告第昭48-17845號揭示一種窗戶玻璃，而 曰本專利早期公開第昭62-176927號揭示一種玻璃球 (glass gob)以及容器用玻璃（glass for container)。曰本 專利早期公開第平6-24752號揭示一種玻璃瓶（giass bottle )以及一種玻璃合成物桌子（glass composition in table) ’其清楚揭露低黏度玻璃。曰本專利早期公開第 2000-313623號揭示一種玻璃瓶以及玻璃器皿（g丨ass ware)。因此，多饋式運用於低黏度玻璃已清楚揭示於上述 每一文案中。 高黏度玻璃用之熔融玻璃供給裝置必須使用加熱器 201116496 13023-Dpif (heating means)以維持熔爐中的熔融玻璃在極高的溫度 ( 1500°C或更高）。然而’習知裝置具有一對一的熔爐與供 給路徑，當熔融玻璃通過多數個供給路徑而供給至多婁^固 成型裝置時，熱能將由這些炫爐的四周周圍韓射出去，且 單位面積所輻射的熱量無可避免地增加，若熱輻射的面積 增加，也就表示總輻射的熱量也會增加，同樣熱處理所需 要的費用高度增加。 @ 熔爐所用的耐火材質（refractory material)(例如而才火 • 磚firebrick)在高溫接觸熔融玻璃時會被腐蝕。請參考下 列的理由：在低溫的情狀下，可使用不同種類的耐火材質， 並選擇對腐蝕敏感度較低（less susceptible t〇 er〇si〇n)的 耐火材質來接觸熔融玻璃。反之，接觸高溫的熔融玻璃的 耐火材質容易被腐蝕，且在高溫的情狀下，能阻隔高溫的 耐火材質應限制於内含高氧化锆的材質（high zirc〇nia content material)。由此可知，選擇的彈性受到限制，或選 擇對腐蝕敏感度較低的耐火材質是不可能的。 因此，在習知裝置中，若高黏度熔融玻璃用之熔融玻 '璃供給裝置中的每一個供給路徑是由熔爐所提供的話，這 些炼爐的全部内壁表面的大部分將與溶融玻璃相接觸，以 使熔融玻璃通過這些供給路徑而供給至這些成型裝置中。 也因此溶融玻璃中外來的腐蝕物質（er〇si〇n f〇reign material)進入到，給路經，或不同玻璃成分（heter〇gene㈣ glass)產生也隨著腐蝕而增加。外來的腐蝕物質或不同玻 璃成分會降低玻璃之成型裝置所生產的品質，並降低生產 的良率。 201116496 13023-Dpif 此外’低黏度玻璃用之溶融玻璃供給褒置僅需維持炫 爐中的熔融玻璃在較低的溫度下，其所需的溫度與上述高 黏度玻璃所需的溫度相差甚大。因此，即使熱輻射的面積 坫加，但單位面積所輕射的熱量較少，且總輻射的熱量不 至於超過或熱處理的費用不至於增加太多。當熔融^ 熔爐傳送到成型裝置時，低黏度玻璃的溫度不會遠離低溫 的範圍，也因此熔爐的腐蝕現象可加以避免。此外，若熔 爐内壁表面與熔融玻璃之間的接觸面積很大時，外來的腐 蝕物質也不至於降低生產的品質與生產的良率。 針對熱輻射過量以及外來的腐姓物質等相關問題，習 知使用多饋式以使低黏度玻璃由熔爐而供給至成型裝置為 其缺點。然而，其優點為，在大量生產或其他因素下，使 用多饋式可使娜度玻璃的流動性遠高$高黏度玻璃的流 動 *14。 符別是 〜一熱輻射過量或外來的腐蝕物質等問題的缺 點’乃針對高黏度玻璃用之熔融玻璃供給裝置。缺而，在 =,度玻璃之產品領域中，熱輕射或外來的腐蝕物質 ^通在現今絲被視制題麵決，這是由於 ^璃的領域中，普遍相信-旦㈣了單饋式作為必要的構 ^essential conflgurati()n)，炫融玻璃的流動性將會降低， Ϊ成型的過針使用成魏置將無法平滑流動，並導致產 ;=1月；的缺陷。因此，盡可能的改善之道是修改 貝式的方如供給熔融玻魅成縣置，最為妥當。 土於上述的理由，習知高黏度玻璃用之炼融玻璃供給 裝置’無法提供有效的對策以解決熔射熱輻射以及外來 201116496 13023-Dpif 的腐蝕物質的問題。 【發明内容】 ▲因此’本發明是解決上述的缺點，其目的就是在避免 高黏度玻璃因炫爐的熱輕身⑽量而造成不當的熱消耗增 加，亚減少因外來的腐蝕物質過量而降低產品的品質盥產 品的良率，収善習知高減朗之舰玻璃的供給技術。 為達本發明之上述目的，本發明提出一種溶融玻璃供 φ 給裝置，’主要包括炫爐、供給路徑、及通電加熱裝置。熔 爐係作為熔融玻璃之供給來源。供給路徑係將熔融玻璃由 炫爐供給至-成型裝置中。溶融玻璃的的特點在於黏度為 1000泊時其溫度為1350°C或更高。供給路徑包括分配部 (distribution porti〇n)、多個分叉路徑（branchpath)及多 個阻力分配部。分配部連接於熔爐之流出口（fl〇w⑽tld)。 多個分叉路徑（branch path)由分配部分又出去，並延伸 至多個成型裝置。各阻力分配部是形成於此些分叉路徑 中，且對流過此些分叉路徑的熔融玻璃提供流通阻力。阻 • 力分配部與熔融玻璃的接觸面是由選自於白金、鉬、鈀、 铑的金屬及其合金所組成之群族其中之一所製成的。通電 加熱$置是對此些金屬或合金通電，以加熱溶融玻璃。希 望的疋，分配部能作為流動的熔融玻璃之暫時停留的空 間，但此部分只是分又路徑中一個簡單的匯集點(gatherifg part)而未具這樣的功能。 承上，此裝置中的熔融玻璃的特點在於熔融玻璃的黏 ^為1000泊時，其溫度為135(rc或更高，因此上述的考 篁可β楚§兒明適用於高黏度玻璃而非低黏度玻璃。重要的 201116496 13U23-Upif 是，熔融玻璃的特點在於其黏度為1〇〇〇泊時，溫度至少 1420°C，此優點非低黏度玻璃所有的。高黏度玻璃内含無 鹼玻璃（其鹼性物的含量小於等於〇1%，特別是小於等 於 0.05%) 在本發明中，多數個分叉路徑由熔爐延伸至分配部， 而溶爐中的溶融玻璃沿著相對應的分叉路徑而供仏曼点剞 裝置。因此，賴之熱輪射面積藉由這些分 分開來’也就是說，每-分叉路徑之溶爐熱輕射的面積遠 小於每一單饋式供給路徑之熔爐的熱輻射面積，且單饋式 具有多數個熔爐，其總體積係等於本發明之熔爐的體積。 不同的疋，假§免本發明之熔爐體積是習知多數個單饋式的 體!!時每一分叉路徑之熔爐熱輕射的面積遠小於習知每 一單饋式供給路徑之熔爐的熱輻射面積。由此可知，每一 刀又路從之熔爐熱輻射的面積將遠小於習知單饋式裝置， 且每=分叉路徑之熱輻射量不會超過，且玻璃成型^需要 的熱消耗量不至於過高，因此可減少製程成本。 =外’在本發明中，熔爐内壁表面接觸於溶融玻璃的 面積藉由這些分又路徑區分開來，也就是說，每一分叉路 ，之炫爐的腐㈣積遠小於每-單饋式供給路徑之溶爐的 =面積。由此可知，熔融玻璃通過相對應的分叉路徑而 二ϊίΐ裝置時，其内部的外來的腐麵物質或不同玻璃成 二^ 會超過，以避免熔融玻_内含雜f影響到最 〜屋0口的品質，因而降低產品的良率。 在本發明中，分叉路徑可自分配部呈輕射狀（radi卿） 或相互平行（parallel)延伸至成型裝置，但為了降低可能 201116496 13023-Dpif 勒生的事情如溶融玻璃黏度不均等（inequality )或流動性 減低的問題，最好是一致用直條狀（俯視圖）的分叉路徑 為宜。 相關於本案之先前技術中，日本專利公告第昭 48-17845號以及日本專利早期公開第昭62·π6927、平 6-24752與2000-313623號揭示一種多饋式裝置，其供給熔 融玻璃由熔爐通過一分配管而到達多數個分又路徑。然 而，在上開專利中多饋式裝置乃是供給低黏度玻璃用之熔 融玻璃。如上所述，低黏度玻璃用之多饋式裝置僅需供給 遠低於高減玻璃之溫度。因此，如絲爐的純射面^ 很大，而每單位面積的熱輻射量很小，也就不會因熱輻射 過量而造成熱量消耗增加或製程成本增加。 … 此外’在低溫情狀下，上述已說明可避免熔爐之腐蝕， 且不會因外來的腐蝕物質或不同玻璃成分的問題而降低產 品的1率。因此，對於低黏度玻璃而言，針對熔爐中熱輻 射過里以及外來的腐蝕物質等問題，不論使用的是單饋式 或多饋式均無太大的差別。同樣地，使用多饋式不僅無法 避免不當的熱㈣耗增加，賴減本的減少、玻。 改善或良率改#也不會因外來的脑物質減少“ ▲由上述的考量可知，低黏度玻璃用之多饋式穿詈 與本發明所減的技術、構想完全不同。讀式裝置 用熔：二t據本發明之構想’熔融玻璃可由相同的供給 起为配，並形成不同種類的玻璃產品。再者，使 =改變玻璃產品的形狀時，不需要停止供給 璃通過所有的分叉路徑，只需要停止欲改變之分又路徑^ 11 201116496 13023-Dpif 可，當對應於分叉路徑的成型裝置在置換時，其他的成型 裝置仍可繼續操作，以提高生產的效率。 在本發明中，提供流通阻力（distribution resistance ) 至熔融玻璃的阻力分配部可讓通過分叉路徑的熔融玻璃分 別進入分叉路徑中。在本發明中，阻力分配部最好位於各 自的分叉路徑之鄰近下游處（immediately downstream side)，也就是說，在各自的分叉路徑之上游末端（upstream end)。 在本發明中，揭示以下的優點：假設正向的流通阻力 未能使炫融玻璃通過分叉路徑時，相對黏度較低之熔融玻 璃的部分將以較高的速度通過分叉路徑。同時，相對黏度 較高之熔融玻璃的部分將以較低的速度通過分又路徑。據 此，熔融玻璃由分配部供給至各自的分叉路徑的壓力是不 相等的。同時’通過分叉路徑而分配到熔融玻璃的阻力會 導致黏度高與黏度低的熔融玻璃的兩部分，在速度上均明 顯地降低，以致於兩者的速度不相上下。不同的是，流通 阻力對於每一分又路徑的流速相等。由此可知，熔融玻璃 由分配部供給至分又路徑的壓力能夠不相上下。因此，在 ，阻力困難下，產品可順利成型，也可避免玻璃產品在品 貝上變差或產品的良率變低。 特別近幾年來’液晶顯示器廣泛的使用，大平面的液 晶顯示器出現，使得液晶顯示用之平板玻璃的需求量大 增。當利用到大尺寸平面玻璃時，二平板玻璃之間的成分 或材料特性有些微差異（slight difference)，且二平板玻璃 之間具有液晶分子（liquid cryStal)時，在生產面板（panel) 12 201116496 13023-Dpif 時^導致傾斜位移（pitch shift)。因此，具有特定成分與 特定材質的玻璃數量’特別是這種平板玻璃的需求量增加 之際，藉由增加習知熔融玻璃供給裝置（單饋式）的數量 足以應付。然而，不同單饋式裝置所生產的平板玻璃，即 使種類一樣，但也難以具有相同的成分以及相同的材質特 性，因為操作與準備的條件不同所致。其中，本發明之熔 融玻璃供給裝置的路徑可由熔爐分配到多數個供給路徑 (分叉路徑），也因此需求量增加的情況足以應付，即使平 • 板玻璃是由不同的分叉路徑所形成的，但因操作與準備的 條件均相同，成分與材質特性將可達到一致。因此，具有 特定成分與特定材質的平板玻璃的數量可供應無虞。 此外，在上述方式中，溶融玻璃由分配部供給至各別 的分又路徑的壓力最佳時是均等的。 其中’均等的供給壓力（equalization 〇f the SUpply pressure)是表示熔融玻璃分配到分又路徑的數量無不當的 改變（no improper variation)’且熔融玻璃通過分又路徑的 流動性是相等的。因此，熔融玻璃不斷由熔爐進入到分配 部再到達成型裝置時’其通過分又路徑的數量不會有太大 的差異，且成型裝置的步驟在執行時也能在同質條件 (homogeneous condition)下適當地運作。由此可知，充 分的成型操作，將可避免成型產品的品質變差以及產品良 率降低。 在本發明中’阻力分配部的内壁表面至少在與炫融玻 璃接觸的部分有白金（platinum)、鉬（m〇iybdemim)、鈀 (palladium)、铑（rhodium)或其合金（以下稱為白金同 13 201116496 13023-Dpif 族，platinum or like)，特別是白金或白金人 产此可知’當熔融玻璃為高黏度玻璃。時，，且為力二己部 可獲得足觸耐久性（dumbility)。㈣&， high heat resistance) high 6Γ〇^〇η 娜t繼）、的特性’因而當白金_接觸到極高溫之熔融 玻璃所製成的南黏度玻璃時不會產生熱變形（此麵办 distorted)或熱腐蝕，也因此阻力分配部具有較長的使用 舞命。如此’ P且力分配部的内壁表面不會因接觸到高黏度 熔融玻璃而腐蝕，也因此外部的腐蝕材料不會混入（mix) ，融化（diSS〇lve)於縣玻璃之中，以避免成型產品的品 質或良率下降等。在本發明中，阻力分配部之内壁接觸部 二雖可以白金同私的材質製成’然而白金同族的成本昂 貝，因而分配部的本體（mainbody)主要是由耐熱材質（耐 ，磚）所組成的’而其内壁表面至少在触融玻璃接觸的 。部分覆蓋-層白金同族，因為白金同族可耐高溫至少⑽ C (最好是1420 C以上），並可抵抗腐蝕與高溫，以減少 腐钮處理所需要的人力與繁瑣。 此外，最好是以加熱溶融玻璃用之電熱裝置 (energizing heating means )(通電加熱裝置）來供給電流 通過白金同族。 八如此，利用電熱裝置來供給電流至白金同族，以使阻 =刀配部内的熔融玻璃得以加熱。由於溶融玻璃藉由阻力 刀配σρ之直接接觸部份得以加熱，因此相對於使用火爐 (，rner)來加熱，本發明之加熱效能可改善，且熔融玻 璃可獲得均勻的加熱。當以電能直接加熱並配合火爐加熱 201116496 13U23-Upif 時，相對於僅使用火爐加熱而言，對熔融玻璃的加熱更具 效能與均勻度（uniformly )。 在本發明中’溫度偵測裝置（temperature detecti〇n means)可用以偵測在每一阻力分配部中熔融玻璃的溫 度，以控制通過白金同族之電流變化，其相對於溫度偵測 裝置所得到的訊號，因而在每一阻力分配部内之熔融玻璃 的度可保持在最佳的狀態。因此，阻力分配部也可作為 控制炫融玻璃之溫度的溫度控制部（伽比C〇ntr〇i portion)。 在上述之結構中，每一阻力分配部最好是由分叉路徑 用之一擋片（baffle plate)所組成。重要的是，每一阻力 分配部最好具有多數個擋片，由上游處到下游處。相對於 这些擋片位置的不同，熔融玻璃的移動路徑及/或形狀也隨 之改變。 如此’在阻力分配部中，擋片可用以固定於分叉路徑 中，最好是在分配管路之鄰近下游處，以減少製造所需之 φ 人力與繁瑣，且分配至熔融玻璃之阻力可確切獲得。擋板 能改變熔融玻璃之流向或限縮其流向，以使不同黏度之熔 融玻璃之間的熱傳導（heat transfer )獲得改善。在阻力分 配部中之熔融玻璃能改變其流速並使其黏度均等。因此， 阻力分配部也可作為熔融玻璃用之黏度均等部（visc〇sity equalizing portion ) ° 在本發明中，擋片與熔融玻璃接觸之表面至少是由白 金同族所製成的。其中，使用白金同族，特別是白金或白 金合金均可耐高溫至135〇r以上（最好142〇t以上），且 15 201116496 13023-Dpif 耐腐I虫性佳。擒片的本體 炼融玻璃接觸之表面則覆蓋一c材質製成，但其， 硬度的材質製成或面積彳2孟同族。擋片不需用高 族的材質製成。< 積大，也因此擋片最佳是以白金同 融玻璃的耐久性，以 的腐姓物質，且可避免溫溶融玻璃而產生外來 中而降低產品的良率 顧物®溶人於熔融玻璃之 特別是，_玻翻__ 』=^^_目對高於較高部位（喊_)的 在;1二声“為低部位的溫度較低。考量到維持熔融玻璃 t间f度（例如15G(rc或更高）的_性，這對於比重 並與溫度之間的義性無可避免的重要， 中二置巾线、火爐所噴出的火焰必賴準熔爐 ，融玻璃上方所在之空間。因此，熔融玻璃之上層部位 ^perpart)與下層部位〇〇Werpa⑴之間的溫度差異與 ^又差異’會因溫度差異而差別極大。也因此，當分配部 刀-有底。卩較淺於溶爐之設計時，較低部位之高黏度熔融 玻璃可停留於溶爐中’而僅有較高部位之低黏度溶融玻璃 ，入到分配部中。由此可知，熔融玻璃之低黏度部分可有 效地使用而不會浪費’而溶融玻璃在熔爐中可具有黏度均 勻之上層部位與下層部位，且炫融玻璃中之氣泡可輕易地 釋放。值得注意的是’加熱裝置可以是電·融方式及/ 201116496 liU23-JJpif 或以火爐加熱，因此熔融玻璃之上層部位與下層部位之間 的溫度差異可稍微低於僅靠火爐所得到的溫度差異。鈥 而，熔融玻璃必須加熱至極高溫度，也因此要減少溫度^ 異至一適當的溫度是有困難的。因此，當使用的是熔 融方式時，其優點在於分配部的底部自然可淺於炫爐 部。 一 此外，當熔爐是以内含高氧化錯之耐火材質製成時， 外來的蝕刻物質例如氧化锆會混合於熔爐中之熔融玻璃。 •氧化錯之比重大細玻璃之比重，並沈殺二:二於 熔融玻璃之底部，或溶入於熔融玻璃之中而降低玻璃的品 質並沈澱於底部。在本發明中，分配部之底部較淺於熔爐 之底部，因而僅有上層部位的熔融玻璃可具有較低含量之 ，來的腐蝕物質或不同玻璃成分進入到分配部。假設僅有 邛分的分配部具有較淺的底部，並位在溶爐中，但仍有上 ，的優點。值得注意的是，部分淺的底部部位可位於分配 部與熔爐（包括熔爐的一部份）之間的交界處（b〇undary )。 φ 、在本發明中，分配部的深度最好等於或小於熔爐深度 2 4/5其中分配部的深度”與“溶爐的深度”指的是 田炫融玻璃由溶爐流向分配部時，溶融玻璃從底部到頂部 的液位（liquid level)高度，也因此在成型過程中，流體 的液位與流體由熔爐流向分配部之液位一樣。 由此叮知’ Μ分配部之深度等於或小於溶爐深度的4/5 日、，至少有1/5量的熔融玻璃其包含最高黏度的底部部分 與具有外來的腐蝕物質之污染物將不允許進入分配部。換 句話說’至少有4/5量的熔融玻璃其包含最低黏度的部分 17 201116496 13023-Dpif

且不包含外來的腐蝕物質將可進入到分配部。因此，僅有 乾淨的熔融玻璃與低黏度的部分可進入到分配部，以使熔 爐中較佳特性的熔融破璃可有效地被利用。此外，在分配 部中，融玻璃的黏度可達到均等化，以使内含於熔融玻璃 中的氣泡可有效的被釋放。其中，假設上述所設的比值超 過4/5時’部分污染物’停留於熔融玻璃之底部部位的高 黏度玻璃也會進入分配部。為避免分配部中的熔融玻璃之 黏度不均等或㈣’以確保其優點，分配部的深度最好等 於或小於炫爐深度0 3/5，或小於溶爐深度的1/2 。但對於 上述的没定’分配部的深度最好小於熔爐深度的1/2〇，以 使溶爐中溶融玻璃用之熱消耗的數量不至於浪費。 s外來的物質例如二氧化矽（silica)會漂浮在熔爐中熔 融玻璃的表面如同-層膜，而二個或多娜爐可串連在一 起並由上游紐it道下游處，以讀雜贿（fiim- ^漂洋物質（floating substanee)。在熔難純部之間， 刀配部的深度最好等於或小於炫爐深度的4/5 (.或小於等

^ 3/5或1/2)’其底部較淺於炼爐之分配部的鄰近區域 (vicinity)。 在上賴結射，分配部的底部最好是等於或小於 3UUmm 〇 、 當分配部的深度等於或小於500mm時， :的距離不適宜過長，以使熔融玻璃之上層部ϋ声: :之，_的溫度差異能盡量減少，也能使分‘ 中之炼融玻璃的黏度均等化。此外，當分配部的 500_時，其底部到液面的距離不適宜過長，以避= 18 201116496 13023-Dpif 部中之溶融玻璃的黏度無法均等化。在本發明中，為了切 確達到上述的優點，分配部的深度應等於或小於4〇〇mm。 重要的是，當平面顯示用（如液晶顯示）之玻璃基材是用 成型裝置製成之大型玻璃產品時，相對地必須供給大量的 熔融玻璃由分配部到分叉路徑，也因此分配部的深度最好 不要小於50mm。 在本發明中，還包括一加熱裝置，可加熱分配部中之 熔融玻璃，以使熔融玻璃的黏度最好在1000泊以下。 特別疋’私融玻璃可平順地由分配部之分配並供給至 分叉路徑。然而，熔融玻璃由熔爐進入到分配部且未進入 到刀叉路徑之剞，其黏度因溫度降低而變高，以致於無法 平順地供給與分配。因此，利用加熱裝置來加熱分配部中 之熔融玻璃，可使玻璃的黏度保持在1000泊以下，因而熔 融玻璃可平順地由分配部之分配而供給至分叉路徑。此 外，當玻璃流動的路徑為一長條狀時，熔融玻璃的黏度亦 可略咼於1000泊，但其移動性不會受到阻礙。然而，對於 流向複雜的分配部而言，熔融玻璃的黏度還是要等於或小 於1000 >白’以維持其流動性。 在本發明中，在分配部内加熱炫融玻璃用之加熱裝 置，以及熔爐内加熱熔融玻璃用之加熱裝置，可使分配部 内熔融玻璃的黏度低於熔爐内熔融玻璃的黏度。特別是， 为配部内溶融玻璃的溫度最好高於炫爐内溶融玻璃的溫 度。如此，對於分配部内熔融玻璃的流動複雜於溶爐内炼 融玻璃的流動而言，此方式將足以應付。此外，由於分配 部的體積遠小於熔爐的體積，因此用加熱裝置可輕易地加 19 201116496 13023-Dpif 熱熔融玻璃且成本較低。 重要的是’分配部内熔融玻璃的黏度最好低於阻力分 配部内熔融玻璃的黏度，其介於分配部内熔融玻璃的黏度 與熔爐内熔融玻璃的黏度之間，而分配部内溶融玻璃的黏 度敢好在最低值。用火爐之加熱裝置來加熱炼爐的内部以 及分配部的内部最好是用氧氣燃料燃燒（〇xygen fuel combustion)，以提高加熱溫度（大約加熱至17〇(n：)。 在本發明中，分配部之内壁表面至少在與熔融玻璃接 觸的部分最好是由白金同族所製成。 f本發明中，白金同族可耐高溫至少1350〇C (最好是 1420 C以上），並可抵抗腐蝕與高溫，以減少腐蝕處理所需 要的人力與繁ί貞。重要的是，魏部之所有_接觸部分 可用白金同族f .成’但白金同族的成本昂貴，因此分配部 之本體可用其他雜材質（如耐火碑）製成，但其與溶融 玻璃接觸之表面則最好覆蓋一層白金同族。 在^發明中，耐熱處理與抗腐钱處理可應用在分配部 ’且抗熱、耐久性高的分轉亦可提高其使用壽命。此 =旦分配部内所產生的外來的腐⑽f或不同玻璃成分的 :里可降低’以避免㈣玻璃的内含雜質影響到產品的品 質’因而降低產品的良率。重要的是，以耐火材f 同樣具有相_敎處理，但馳的體積遠大於分配 :、阻力分配部的體積，也因此在處理有 二的方法可避免外來—

上述結構中’成型裝置最好是平板玻璃用之成型I 20 201116496 13023-Dpif 置。供給熔融玻璃用之熔融玻璃供給裝置若具有上述的結 構則可生產高級的玻璃產品，包括平板玻璃。 '° 在本發明中，平板玻璃用之成型裝置可以是下拉式 (downdmw)成型裝置，或上拉式（updraw)成型裝置， 或浮動式（float)成型裝置。下拉式成型裝置可以是溢流 式（overflow)成型裝置以及下插式（sl〇t d〇wn)成型裝 置。其中，溢流成型裝置最好是生產不需要表面抛光的平 板玻璃。成型裝置所生產的平板玻璃包括平面顯示用之玻 璃基板’例如液晶顯示器及電致發光顯示器、或應用於各 種影像感測益如電荷耗合元件（Ccd )、實體放大器 (life-size magnification)、固態接觸影像感測器（s〇iid st: 二ntact image sensor，CIS )以及c〇MS影像感測器等之覆 蓋玻璃（cover glass)，以及應用於硬碟與濾波器之玻璃基 材。 在形成這些平板玻璃之時，供給至成型裝置之炫融玻 璃會因黏^不均等而造成缺陷，例如厚度誤差以及波浪狀 _表面’使得產品的良率降低。當平板玻璃是作為液晶顧示 用=玻璃基板時，在品質嚴格要求下，上述的問題將變得 很嚴重。據此，根據本發明所提之方法，此黏度不均等的 問題將足以應付，並可生產上述要求的平板玻璃。 根據本發明所提之一種生產玻璃產品的方法，用 以解決上述的問題，其包括下列步驟：將高黏度玻璃在一 ，爐中溶，當溫度大於等於135(rc (最好大於等於142〇 C )時，高黏度玻璃之熔融玻璃的黏度為1〇〇〇泊。透過連 通至溶爐的流出口的分配部，把從熔爐流出的溶融玻璃供 21 201116496 13023-Dpif 給至多個分叉路徑。使流下這些分叉路徑的熔融玻璃供給 至分別與此些分叉路徑連通的成型裝置，以成型出玻璃成 型cm。於各個分叉路彳空中形成有阻力分配部，此些阻力分 配部對流過分叉路徑的熔融玻璃提供流通阻力。且阻力分 配部與熔融玻璃的接觸面是由選自於白金、鉬、鈀、铑的 金屬及其合金所組成之群族其中之一所製成的。對此些金 屬或合金進行通電，以加熱熔融玻璃。

針對製造的方法而言’上述的熔融玻璃供給裝置提供 有效的製程使用，也就是說，此熔融玻璃供給 熔爐、一分配部以及一分又路徑。 栝

針對上述的方法，除了一舣的馒點之外，上述的優 亦可由阻力分配部來達成。當具體執行這些製程方法時 熔融玻璃由分配部供給至分又路徑的壓力必須均等以 到^述的優點。阻力分配部之内壁至少在與溶融玻璃接 ^表面最好是由白金同族所製成的，其耐熱的溫度至 50C ’且抗腐姓處理最好也是使用白金同族。溶融 j用之電氣加熱裝置(通電加熱裝置）最好能供給電流 =金同族’峨力分配部最好是由分又路㈣之擒; 成，且擋片與熔融玻璃接觸之表面最好由白金 配部之底部最好淺於_之底部，而分 ^ ^ =於_深度的4/5,且分配部的深度最好;= 於500_。較佳情況下，溶融玻璃加 可 t . 10〇〇 JT：^ 2壁，少在雜融玻璃接觸之表面最好是白金同族所 的。成型衫最好是平板玻_之成财置（特別是七 22 201116496 13023-Dpif 顯示用之玻璃基板）。 如上所述，根據本發明之一種熔融玻璃供給裝置，當 温度大於等於1350。(：時，熔融玻璃的黏度為1〇〇〇泊，而 炼融玻璃通過熔爐之流出口而連通至分配部，且多數個分 叉路控與分配部相連。因此，相對於習知的裝置（單饋式）， 母一分叉路徑之溶爐的熱輻射面積遠小於習知的裝置’且 各別成型裝置所消耗的熱能也減少，進而減少生產成本。 此外’每一分叉路徑之熔爐的腐蝕面積遠小於習知的裝 馨‘置，而通過分叉路徑到成型裝置的熔融玻璃，其内含之外 來的腐蝕物質或不同玻璃成分的數量可減少。因此，可有 效避免熔融玻璃的内含雜質影響到產品的品質，因而降低 產品的良率。另外’由相同的熔爐所供給與分配的熔融玻 璃可同時形成不同的玻璃產品。當供給至分叉路徑之一的 熔融玻璃中斷時，熔融玻璃還可供給至其他的分叉路徑， 並繼續完成成型的步驟。此外，這些路徑是由熔爐分叉出 去’因此不需額外增加熔融玻璃供給裝置，即可增加平板 玻璃的數量。平板玻璃在相同的準備或操作條件下，以不 同的分又路徑成型，也因此平板玻璃具有相同的成分與材 料特性。 假設阻力分配部提供流通阻力至分又路徑内之炫融玻 璃時’熔融玻璃之相對較高黏度與較低黏度的部分的流速 均會變得極低，以使熔融玻璃由分配部供給至分叉路徑的 壓力能均等化，且在生產高黏度玻璃的過程中，不易產生 變異而避免造成玻璃產品的品質降低與良率的降低。 假設分配部的底部淺於熔爐之底部時，高黏度玻璃與 23 201116496 *〜一卜f 内含外來的腐餘物質的熔融玻璃混合或融合而保留於熔爐 之下層部位，而僅有上層、低黏度熔融玻璃且不含外來的 2蝕物質的部位能進入到分配部，以使熔融玻璃的黏度在 分配，的上層部位與下層部位能均等化。内含於熔融玻璃 中的氣泡亦可有效的被釋放’以改善成型產品的品質與良 2^. 〇 為讓本發明之上述和其他目的、特徵、和優點能更明 顯易懂，下文特舉一較佳實施例，並配合所附圖式，作詳 細說明如下： 馨 【實施方式】 了文為本發明之一實施例，並配合相對應的圖式。圖 1、’會示依據本發明一實施例之一種熔融玻璃供給裝置的部 分結構之剖面示意圖。圖2繪示熔融玻璃供給裝置之水平 剖面（horizontal sectional plan)的示意圖。圖3繪示熔融 玻璃供給裝置之垂直剖面（vertical sectional plan )的示意 圖。請注意下列的敘述，熔融玻璃供給裝置之上游處與； 游處之_方向定義為前方到後方方向㈤如咐讀 m dlrect1〇n) ’而垂直於前方到後方方向則定義為右側到左侧 方向（right-to-left direction )。 如圖1與圖2所示，其繪示本發明一實施例之一種熔 融玻璃供給裝置。熔融玻璃供給裝置1大致上包括一長方 形熔爐2、一分配管路（分配部）3以及多數個分又路徑4。 熔爐2可作為熔融玻璃之供給來源，而分配管路3連通於 熔爐2之流出口 2a，且這些分叉路徑4以相同的間距配置 24 201116496 13023-Dpif t3|的下游處。這些分叉路徑4的下游末端連通 路ί 4^置5。重要的是’在圖中繪示三個由分叉 二Μ /裝置5的通道，但 勝/㈣ί。雜2的數量亦可為二個或更多，且彼此串 聯或並聯由上游處到下游處。 爐2具有―底壁21、多個側壁22〜25以及覆蓋於 (arch-shaped ceiling wall) 26 ° it 氏制側壁與觀是由内含高氧化錯之财火材質（耐火 士所2成的’而火爐所噴出之火焰F對準於熔融玻璃上 側壁22與右侧壁23的空間，紐玻璃填滿於熔爐2 之’而火爐的火焰可保持熔融玻璃的溫度在i5〇(Tc到 1650°C的範圍。 溶爐2的流出口 2a位於下游處側壁24之右侧到左側 的中”、&炫爐2與分配管路3藉由狹小流道（narrow flow path)而連通，且溶爐2之流出口 2&位於流道的上游 處。分配官路3具有一底壁31、多個侧壁32〜％以及覆蓋 於側壁上方之—弧形頂壁（未繪示），而這些底壁、側壁與 =壁是由内含高氧化锆之耐火材質（耐火磚）所製成的。 流道6具有一底壁61、多個側壁62、63以及覆蓋於側壁 '^方之一弧形頂壁（未繪示），而這些底壁、側壁與頂壁也 疋，内含高氧化錯之耐火材質（耐火磚）所製成的。火爐 所喷出之火焰！?對準於分配管路3内熔融玻璃上方右側壁 ^ 2到左側壁3 3的空間，如此熔融玻璃的溫度可保持在16 0 0 C到1700°C的範圍。 分配管路3的體積小於熔爐2的體積，且分配管路3 25 201116496 13023-Dpif 之底璧31與侧壁32〜35的内表面（與熔融玻璃接觸之表 面）配置有白金或白金合金的薄片。同樣，流道6之底璧 61與側壁62、63的内表面亦配置有白金或白金合金的薄 片:分配管路3延伸於右側到左側方向，而流道6的下游 末端與^游側壁34的中點在右側到左側方向是相連通 的。整流片（rectifying plate ) 37延伸於右侧到左側方向並 固^於所有側壁32〜35所圍成之分配空間中。重要的是， 整流片37也是由内含高氧化锆之耐火材質（耐火磚）所製 成的，且其外表面同樣配置有白金或白金合金的薄片。、

如圖3所示，在本發明中，分配管路3的底部淺於爲 爐2的底部，特別是，參照於熔融玻璃在裝置丨的製作站 程中的液位L，熔爐2之底部21a的深度x大於分配管與 3之底部31a的深度γ，尤其是，分配管路3的深度γ驾 於或小於熔爐2深度X的4/5 ’最好是小於等於熔爐2费 度的3/5或1/2。分配管路3的深度γ等於或小於5〇〇腿 且最好是小於等於4〇〇mm。在本實施例中，流道 與分崎路3相同，而D (階梯）代纽爐 間的乂界處（boundary )。 夕如圖1與圖2所示，在分配管路3之下游侧壁35具孝 多數個小出口 3a以相同的間距並排，而這些分又路& ^ 通過小流道7而分別連通至分崎路3之下^，且^ 口 3a配置於流道的上游末端。從上往下看，多數 控4彼此平行且直線延伸。 多數個阻力分配管路（即阻力分配部）8配置於分^ 路徑4之上游末端，換句話說，即鄰近於分配管路3^Ί 26 201116496 13023-Dpif 流側邊。小流道7的下游末端開口連接至阻力分配管路8。 阻力分配管路8延伸於前方到後方（back-and-f〇rth )方向 並且其體積小於分配管路3的體積。阻力分配管路8具有 多個側壁（surrounding wall) 81、82、83、84、85 所圍繞 而成的一流道，而頂壁（ceiling wall)(未繪示）覆蓋於側 壁之上。這些側壁與頂壁是由内含高氧化錄的耐火材質（对 火磚）所製成的。小流道7具有多個通道壁（passage wall) 71、72、73以及一頂壁（未緣示）覆蓋於這些通道壁之上。 • 這些通道壁與頂壁也是由内含高氧化錯的耐火材質（耐火 磚）所製成的。重要的是，每一阻力分配管路8之底部淺 於分配管路3的底部。 白金或白金合金的薄板可配置在阻力分配管路8之側 壁81、82、83、84、85的内壁表面上（至少在内壁表面與 炼融玻璃接觸的部分）。同樣，白金或白金合金的薄板也可 配置在小流道7之通道壁71、72、73的内壁表面上。熔融 玻璃在阻力分配管路8中由通過白金或白金合金之薄板的 φ 電流來加熱，而電流是由電氣加熱裝置（通電加熱裝置） (未繪示）所提供。溫度檢測裝置（溫度感測器，temperature sensor)可檢測熔融玻璃的溫度及其黏度，但未繪示於每 一阻力分配管路8中。電流量以及熱量可由溫度檢測裝置 所得到的訊號來加以控制。因此，阻力分配管路8也可作 為溫度調節管路（temperature adjusting portion)。藉由控制 上述的電流與熱量，熔融玻璃在阻力分配管路8中的溫度

可維持在1500°C〜1650。(：。 X 母一阻力分配管路8具有白金或白金合金所製成的擋 27 201116496 13023-Dpif 片9以縮小熔融玻璃通過管路的流量，而改變其流向。擋 片9固定在特定間距的位置上且相互平行。擋片9能提供 阻力至通過阻力分配管路8的熔融玻璃。不同的是，無論 是高黏度玻璃或低黏度玻璃，這些擋片9可避免無任何阻 力而使熔融玻璃通過分叉路徑4之上游末端。因此，檔片 9與阻力分配管路8可作為壓力分配調節裝置（distribution pressure adjusting means)以使熔融玻璃由分配管路3分配 至分叉路徑4的供給壓力能夠均等化。 圖4(a)〜圖4(e)繪示多個擋片9在阻力分配管路8中 · 依序位於上游處的前視圖。注意的是，在裝置1的操作過 程中’圖中一虛線（chain line) L代表熔融玻璃的液位。 圖4⑷繪示擔片9在上游最高側邊（uppermost stream side)為一矩形（rectanguiar shape)其對應覆蓋於阻力分 配管路之矩形流道（rectangular fl〇w path)略低於一半的 位置上’而擋片9能改變熔融玻璃的流向先往上（upward) 再往下（downward)。圖4(b)中位於上游處的第二擋片為 一矩形其對應覆蓋於阻力分配管路8之略高於一半或三分 之一的位置上，而擋片9能改變熔融玻璃的流向先往下以 _ 縮小流量再往上。圖4(c)中位於上游處的第三擋片9為一 矩形其對應覆蓋於阻力分配管路8之流道的一半的位置 上’由上而下’除了寬度方向（width-wise)的兩側之外， 而熔融玻璃的流向先被分開到寬度方向的兩側，之後再會 合。圖4(d)中位於上游處的第四擋片9具有多數個貫孔 (throughhole) 9a，其中上方的貫孔尺寸相對較大，且平 板對應覆蓋於阻力分配管路8之流道的全部表面。圖4(e) 28 201116496 13023-Dpif 五擋片9具有多數個貫孔9a，其中下方 且平板對應覆蓋於阻力分配管路8 /政*王。卩表面。如此’奴柄的流速在此區域被縮 小，以使上方與下方部位的流翻而不同，之後再會合。 由此可知」炫融玻璃的流速與方向已改變或縮小，因而低 黏度與高黏度的熔融玻璃之間可達到熱交換（heat

並提高熱交換的效能。因此，擋片9能修改炼融 玻璃的流向或使阻力分配管路8中之㈣玻璃的黏度均等 化。據此，阻力分配管路亦可作為一黏度均等管路（即黏 度均等部）。 圖1及圖2中，熔融玻璃由熔爐2通過分配管路3以 及阻力分配管路8而供給至成型裝置5，而熔融玻璃的特 點為當溫度大於等於135〇。(：時，最好大於等於i420°C，熔 融玻璃的黏度為1000泊。此玻璃最好用無鹼玻璃為宜。玻 璃的應變點（strain point)最好等於或大於6〇〇。(：，而玻璃 的流動黏度（liquid viscosity)最好等於或大於300000泊， 最佳為大於等於600000泊。玻璃的成分其重量百分比例如 為：Si02 : 40%〜70%，A1203 : 6%〜25%，B203 : 5%〜20%， Mg〇 : 〇%〜10%，CaO : 0%〜15%，BaO : 0%~30%，SrO : 0%〜10% ’ ZnO : 0%〜10%，鹼金屬氧化物：小於0.1%， 澄清劑（fining agent) : 0%〜5%。在本發明中，玻璃的成 分最好為 Si02 : 55%〜70%，A1203 : 10%〜20%，B203 : 5%〜15%，MgO : 0%〜5%，CaO : 0%〜10%，BaO ·· 0%〜15%， SrO : 〇%〜1〇%，ZnO : 0%〜5%，鹼金屬氧化物：小於0.1 %，澄清劑：0%〜3%。 29 201116496 13023-Dpif 成型裝置5例如為平板玻璃用之成型裝置（平板玻璃 可作為液晶顯示器的玻璃基板），而熔融玻璃由阻力分配管 路8通過下游處之分叉路徑4而到達成型裝置5。 重要的是，上述元件之所有側壁是由内含高氧化锆之 耐火材質所製成的，但其他熔爐2以外的元件的側壁則非 内含高氧化錯之耐火材質所製成的。 熔融玻璃供給裝置1具有上述的結構，而多數個分又 路徑由溶爐2通過分配管路3而延伸至成型裝置5。因此， 具有同黏度之熔融玻璃在溶爐中可通過相對應的分叉路徑 1而供給至成型裝置5。特別是，製作的步驟是先將原料在 熔爐2中溶融為南黏度玻璃，高黏度玻璃之特點為當溫 度大於等於135CTC (最好大於等於142(rc )時，熔融玻璃 =黏度為1000泊；接著分配熔融玻璃由熔爐2通到一分配 笞=3，而分配管路3連通於溶爐2之流出口 2a ;接著供 給流通阻力至熔融玻璃使其通過多數個分叉路徑4;令熔 融玻璃通過這些分又路徑4而供給至成縣置5，而成型 裝置5連通於這些分叉路徑4並將溶融玻璃作成玻璃產品。 β因此，熔爐2之熱輻射面積被多個分叉路徑區分（特 另一J疋側壁22〜25的熱輕射面積）’換句話說，每一分叉路 徑1之炼爐2熱輻射的面積遠小於每—單饋式供給路徑之 2的熱輻射面積’且單饋式具有多數個炼爐，其總體積 係專於本發明之雜2的體積。由此可知每_分叉路徑 熱ΐ射1不會超過，且玻璃成型所需要的熱消耗量不 j南。此外’在本發明中，溶爐2内壁與炫融玻璃接 觸的表面面積藉由這些分又路徑4區分開來，也就是說， 30 201116496 13023-Dpif 母一分叉路径4之溶爐2的腐敍面積遠小於每一單饋式供 給路徑之熔爐的腐蝕面積。由此可知，熔融玻璃通過相對 應的分叉路徑4而到達成型裝置5時，其内部的外來的腐 蝕物質或不同玻璃成分的含量不會超過，以避免熔融玻璃 的内含雜«彡_最終產品的品f，因崎低產品的良率。 此外，g成型裝置5具有不同的類型時，由相同的炼 爐2所供給與分配的溶融玻璃可藉由這些成型裝置$而同 時形成不同種類的平板玻璃。另外，當供給至分又路徑4 之一的熔融玻璃中斷時，熔融玻璃還可繼續經由其他的分 叉路徑4而供給至相對應喊型裝置5，並完成成型的步 因此，當使用者若想改變玻璃產品的形狀時，不需要 如止供給熔融玻璃通過所有的分叉路徑4，只需要停止欲 改變之分又路徑4即可，當職於分叉路㈣成型裝置在 置換時，其他的成型裝置仍可繼續操作。另外，液晶顯示 =之高黏度玻璃於高溫成型，而成型裝置與其他部位則被 漸漸磨損（wear off)，當分叉路徑4其中之 止時’其他·裝置仍可_操作。 再者，路徑由熔爐2分叉為多個流道4，也因此不需 =外的炫融玻璃供給裝置即可。由㈣統足以應付需求量 ^增加的平板朗，而平板玻璃是在相_作與準備的 =牛下經由不同的分叉路徑4所形成的，也因此數量多的 平板破璃的成分與材質特性將可一致。 火2流向分崎路3的躲玻璃料受到火爐的 ^嘴射於其㈣上的影響，以及比重與溫度之間的自 '、Λ的關係而影響。因此，縣玻璃之下層部位的溫度 31 201116496 13023-Dpif 低於上層部位，但下層部位的黏度卻高於上層部位的黏 度，若分配管路3之底部較淺於熔爐2之底部時，較低部 位之高黏度熔融玻璃可停留於熔爐2中，而僅有較高部位 之低黏度溶融玻璃進入到分配管路3中。由此可知，炫融 玻璃之低黏度部分可有效地使用而不會浪費，而溶融玻璃 在熔爐2中可具有黏度均勻之上層部位與下層部位，且溶 融玻璃中内含的氣泡可輕易地釋放。 氧化錯是一種财火材質’其具有高於溶融玻璃之比 重。因此，當氧化鍅與熔融玻璃接觸而腐蝕時，氧化錯混 合於熔融玻璃中並沈澱於底部。由於分配管路3的底部淺 於熔爐2的底部，因此可有效避免内含雜質之熔融玻璃進 入到分配管路3中。 當熔融玻璃允許進入分配管路3時，熔融玻璃易受氧 氣燃料燃燒所產生的熱輻射影響，使得玻璃的黏度等於或 小於1000泊，因此熔融玻璃的流動性以及由分配管路3 所分配與供給至分叉路徑4之阻力分配管路8的平順性均 可獲得蟓善。重要的是’允許由炫爐2進入到分配管路3 的熔融玻璃其流向受到分配管路3之中心整流片（cemral rectifying plate) 37影響非直線前進，而是分為右側與左侧 方向（right-and-left direction)前進，之後再供給至阻力分 配部8。因此，溶融玻璃並非集中分佈至阻力分配管路8 之右侧與左側方向的中點’其熔融玻璃的溫度保持在16〇〇 °C〜1700°C ’並高於在炫爐2内之溶融玻璃的溫度（15〇〇 °C〜1650°C)以及在阻力分配管路8内之熔融玻璃的溫度 (1500°C〜1650°C )。此外’分配管3之内壁表面的耐熱持 32 201116496 13023-Dpif 久性因覆蓋一層白金或白金合金而增長’且熔融玻璃不會 受到外來的腐蝕物質或不同玻璃成分的污染。 此外’阻力分配管路8具有多數個擋片9，其提供適 當的阻力以使熔融玻璃由分配管路3進入到阻力分配管路 8。據此，假設溶融玻璃由分配管路3進入到阻力分配管路 8的黏度與流向改變時，熔融玻璃供給至阻力分配管路8 的壓力則會均等化。

此外，當熔融玻璃通過阻力分配管路8的流速改變或 受到播片9阻擋而變小時，溶融玻璃内不同黏度的部分因 熱交換提高’使得熔融玻璃的黏度能夠均等化。另外，在 阻力分配管路8中，溫度檢測裝置可用以控制熔融破螭的 溫度，以使熔融玻璃具有準確的黏度可供給至成型裝置 5。由此可知，由成型裝置5所製成的平板玻璃不易產^厚 度差異或波浪狀表面等缺陷。 予 雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上，然其並非用 以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本^月之 神和範_，當可作些狀更動與_，因此本發明之^ 護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 ’、 【圖式簡單說明】 之—種熔融玻璃供給襞 圖1繪示依據本發明一實施例 置的部分結構之剖面示意圖。 =緣示本實施例之㈣玻璃供給裝置之水平剖面的 33 201116496 13023-Dpif 圖4⑷〜圖4(e)繪示本實施例之熔融玻璃供給裝置的 多個擋片位於分叉路徑中之垂直剖面的示意圖。 圖5繪示本發明應用之高黏度玻璃與習知技術所用之 低黏度玻璃的特性比較的關係圖。 【主要元件符號說明】 1 :熔融玻璃供給裝置 2 :熔爐 2a :流出口 3:分配管路 ⑩ 3a :小出口 4 :分叉路徑 5:成型裝置 6 :流道 7 :小流道 8:阻力分配管路 9 :擋片 9a :貫孔 21 ··底壁 _ 21a :底部 22〜25 :側壁 26 :頂壁 31 :底壁 31a :底部 32〜35 :侧壁 37 :整流片 34 201116496 13023-Dpif 61 :底壁 62 ' 63 ： 71 〜73 : 81 〜85 : F :火焰 側壁 通道壁 側壁

Claims (1)

1. 201116496 13023-Dpif 七、申請專利範圍： 1.一種熔融玻璃供給裝置，包括： 一溶爐，作為一炼融玻璃之供給來源； 一供給路徑，由該熔爐供給該熔融玻璃至成型裝置， 其中該熔融玻璃之特點在於當溫度大於等於135〇〇Ca^，該 熔融玻璃的黏度為1000泊，且該供給路徑具有： Λ 連通於該熔爐的流出口的分配部； 由該分配部分又出去並延伸至該多個成型裝 置的多個分叉路徑； 多個阻力分配部，各該阻力分配部是形成於 該些分又路徑中，且對流過該些分叉路徑的該溶 融玻璃提供流通阻力，該些阻力分配部與該炼融 玻璃的接觸面是由選自於白金、鉬、把、錄的金 屬及其合金所組成之群族其中之一所製成的;以及 加熱|置’對該些金屬或該合金通電，以加熱 該炼融玻璃。 H巾請專利顧第i項所述找融_供給裝置， 贿融玻璃由該分配部供給至各別的該分叉路 從時的各供給壓力均一化。 ，3署如Γ!專利範圍第1項或第2項所述之驅璃供 置，其中該分配部的底部淺於該雜的底部。 給農4置1 2項賴找融玻璃供 4農置其中5亥分配部的深度小於等於該溶爐的深度的 36 201116496 13023-Dpif 5·如申請專魏圍第1項絲2項所述找融玻璃供 給裝置’射该分配部的深度小於等於，随。 6·如申請專利範㈣1項或第2項所述找融玻璃供 、《裝置，〇括力Π熱裝置’加熱該分配部中之該嫁融玻 璃，以使該溶融玻璃之黏度小於等於1000泊。 7·如t請專魏圍第1項絲2項所述找融玻璃供 邊分配部之内壁至少在與該熔融玻璃的接觸 表面疋由選自於白金m铑及其合 其中之一所製成的。 又勒 8’如^專利圍第丨項或第2項所述之溶融玻璃供 給裝置，其巾軸贱置為平板_的細裝置。’、 9·-種玻璃細品，對如+料_圍第〗項至第8 項中任4所述找融_供料置所供給的該溶融玻 璃，以该成型裝置進行成型而製成。 10二種生產玻璃成型品的方法，包括τ列步驟： 將=黏度玻璃在-炼爐中溶融，該高黏度玻璃具備之 特點為虽溫度大於等於135(rc時黏度為誦泊； 透過連通至該熔爐的流出口的分 出的熔融玻璃供給至多個分叉路徑； 版机 使流下該些分又路㈣贿融_供給到分別盘該 些分叉路徑連通的成型裝置，以成型出玻璃成型品，^ 於各個該分謂財軸有阻力分配部，該她力分配: 對流過㈣分叉路徑_騎_提㈣雜力，且兮此 阻力分配部與該㈣玻璃的接觸面是由選自於白金、= 37 201116496 13023-Dpif 鈀、铑的金屬及其合金所組成之群族其中之一所製成的; 以及 對該些金屬或該合金進行通電，以加熱該熔融玻璃。

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