TWI332671B - - Google Patents

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TWI332671B TW094105071A TW94105071A TWI332671B TW I332671 B TWI332671 B TW I332671B TW 094105071 A TW094105071 A TW 094105071A TW 94105071 A TW94105071 A TW 94105071A TW I332671 B TWI332671 B TW I332671B
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1332671 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於藉由高壓放電燈與其之凹面反射鏡所成 之光源裝置。特別是關於以在發光管內裝入0.25mg/cm3 以上之水銀,點燈時之水銀蒸汽壓成爲超高壓之超高壓水 銀燈爲光源之液晶顯示裝置或使用DMD(數位反射鏡裝置) 之DLP(數位燈處理器)等之投影機裝置所使用之光源裝 置。 【先前技術】 投射型投影機裝置,對於矩形狀之螢幕,被要求要具 有均勻,且充分之演色性以照明畫像。因此,作爲光源, 係使用裝入水銀或金屬鹵化物之金屬鹵素燈。另外,此種 金屬鹵素燈,也在最近中,往進一步之小型化、點光源化 邁進,另外,電極間距離之極小者也正被實用化中。
在此種背景下,最近,代替金屬鹵素燈,而具有目前 並不存在之高水銀蒸汽壓,例如1 5 0氣壓之水銀燈被提 出。此係藉由讓水銀蒸汽壓變得更高,在抑制(縮小)電 弧之擴展的同時,且謀求更進一步之光輸出的提升之水銀 燈。 此種超高壓放電燈,例如被揭示在日本專利特開平 2- 1 4 8 5 6 1號、日本專利特開平 6-5 2 8 3 0號' 專利第 2980882 號。 另一方面,投影機裝置所使用之光源裝置,需要讓來 -4 - (2) (2)1332671 自光源燈之放射光有效率地反射於光軸方向,以照射於液 晶顯示面板等之被照射領域。光源裝置通常係採用:短電 弧型放電燈,及將由此放電燈所放射之光轉換爲平行光之 凹面反射鏡。 近年來,液晶投影機裝置或使用DMD之DLP裝置, 被強烈要求小型化,因應此,光源裝置也被要求小型化。 另外,被照射物之液晶顯示面板本身被小型化,也是光源 裝置之小型化被要求的理由之一。 光源裝置,被強烈要求以下之性能。 第一,反射鏡本身之強度要高。此係爲了放電燈在點 燈時之內壓爲超高壓(例如,150氣壓以上)故,萬一, 放電燈破損時,其影響不要及於光源裝置外部的緣故。 第二,可令反射鏡及其之內部的放電燈良好地冷卻。 放電燈之點燈時溫度極高故,反射鏡也變成極高之高溫。 因此,需要在使反射鏡之熱傳導度提高的同時,藉由對反 射鏡的外部吹以冷卻風,可使內部容易冷卻。 第三,塗布在反射鏡內面之可見光反射用介電質多層 膜不變形、不產生凹凸,令其平滑地形成。 [專利文獻1]日本專利特開平2- 1 48 5 6 1號 [專利文獻2]日本專利特開平6-52830號 [專利文獻3]專利第2980882號 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] -5- (5) 1332671 □ 陶 接 藉 射 層 之 24 幾 形 效 要 射 構 鏡 用 射 側突出於前端,供電線1 5b係藉由凹面反射鏡20的開 而延伸於外部,連接於供電裝置。 在凹面反射鏡2 0的頂部2 1之外側,例如配置有由 瓷材料等所構成之支撐構件1 6,凹面反射鏡20係藉由 著劑而被固定在支撐構件16。 凹面反射鏡20係整體爲略碗狀之橢圓聚光鏡,係 由頂部21與反射部22與前面開口部23所構成。在反 部22的內面係形成有後述之中間層3 0與可見光反射 40,反射所期望之可見波長域的光之同時,讓其以外 光,例如紅外光透過,而使反射部22加以吸收。 例如,由硼矽酸玻璃等所成之透光性的前面玻璃 係藉由框構件25而裝置在前面開口部23。 藉由設置前面玻璃24,可使凹面反射鏡20的內部 乎成爲密封構造。因此,萬一,在放電燈10破損之情 等,也可以防止碎片散射。 另外,前面玻璃24雖在碎片的飛散防止上,有其 果,但是,並非必須之物。特別是,在冷卻放電燈之必 性高的情形等,也可不設置前面玻璃。另外,在凹面反 鏡的外部,且是反射鏡之前面配置有相當於前面玻璃之 件的情形等,也沒有必要在該反射鏡安裝前面玻璃。 進而,在安裝前面玻璃24之情形,也可不將反射 20的內部作成完全密封構造,可以在一部份設置冷卻 開口。此冷卻用開口例如可形成在框構件25,或在反 部22的一部份設置缺口。 -8- (6) (6)1332671 另外,關於傾斜部220,於之後加以敘述。 凹面反射鏡20係藉由銅(Cu)所構成、藉由鐵 (Fe)所構成、或藉由彼等之合金所構成。通常’與如投 影機裝置所使用之反射鏡般,由硼矽酸玻璃、結晶化玻 璃、陶瓷材料所構成者不同。 另外,在凹面反射鏡20的反射部22的內面塗布有可 見光反射層4〇,在可見光反射層40與反射部22之間設 置有中間層3 0。 在期待散熱效果的情形,比起鐵,最好藉由銅來構成 凹面反射鏡。 藉由銅、鐵或彼等之合金來構成凹面反射鏡20之理 由是,第一,讓反射鏡之強度變強。藉由以彼等金屬構成 凹面反射鏡2 0,萬一,在放電燈破損之情形,可以防止 反射鏡本身連鎖地破損。另外,在反射鏡內部可以確保放 電燈之碎片或殘骸之同時,也可以防止配置在反射鏡外部 之其他的周邊機器之不好影響。特別是,如前述般,在設 置前面玻璃以形成密閉形式之光源裝置的情形,凹面反射 鏡內部容易變成高溫故,提高反射鏡之機械強度,以提高 破損對策上,具有很重要之意義》 關於銅合金,如舉其一例時,則可以採用:銅-鋅 (Cu-Zn)系合金、銅-鎳系合金(Cu-Ni)、銅-鎳-鋅 系合金(Cu-Ni-Zn)等。 關於鐵合金’如舉其一例時,則可以採用:不銹鋼 (沃斯田鐵系、肥粒鐵系、麻田散系)、鉻鉬鋼等。 -9- (7) (7)1332671 銅、鐵或彼等之合金,其一般之特性的反射特性優 異,另外,直接塗布反射膜,施以塗布有其困難。因此, 在一般照明或其他之領域中,雖也可以使用,但是,在作 爲影像顯示所使用之投影機裝置之反射鏡材料,認爲並不 適當。 但是,本發明之光源裝置,藉由使用具有熱線吸收功 能與反射面平滑化功能之中間層,可以解決習知被設爲不 適當之問題,變成可以精度極高地塗布反射特性優異之可 見光反射層。 即本發明之光源裝置係中間層之採用的新的發明,同 時倂同改良反射鏡材料之光源裝置,藉此,具有不會讓反 射特性變差,將光取出效率維持在習知水準的同時,且可 劃時代地提高反射鏡之機械強度之重要特徵。 中間層例如係以二氧化矽爲主成分之材料所成,形成 在凹面反射鏡20的內表面。此中間層係擔負做由銅、鐵 或彼等之合金所成之反射鏡的基體金屬與可見光反射層之 接合的接著劑之功能。 具體爲,中間層係包含構成基體金屬之金屬的氧化物 之二氧化矽質氧化物故,具有吸收熱線之功能的同時,由 於以二氧化矽爲主成分故,也具有令反射面變得平滑之功 能。在此中間層上形成有由介電質多層膜所成之可見光反 射層4 0。 另外,中間層係用於與構成反射鏡之基體金屬的接著 性提升上,使得基體金屬即使熱性地引起膨脹或收縮,形 -10- (8) (8)
1332671 成在反射鏡內面之各層受到影響,也不會同 落。另外’由於包含金屬氧化物故,具有明 藉此’具有對於反射鏡吹以冷卻風,可以貞 鏡冷卻之優點。 進而’與塗布可見光反射層之基底,則 類無關’予以塗布可見光反射層。 中間層之膜的厚度,例如雖設爲1mm 以在5 00 /z m以下爲佳,特別是最好在20(^ 此係中間層之厚度如超過1mm,起因 之材料’及構成基體金屬之金屬的熱膨脹率 間層會有龜裂產生的關係。 中間層可在反射鏡內面塗布原液後,進 乾燥處理而加以裝置。原液係以二氧化矽( 分,由長石、碳酸鈣、硝酸鈉、氧化鈷、氧 物所成。溶解此混合物而加以固化,可以 料,粉碎此玻璃質原料後,將該粉體混合於 整。 對於反射鏡內面之塗布,例如可藉由噴 (dipping法)等而進行。 被塗布在反射鏡內面之原液被施以加熱 度係在反射鏡之基本金屬不變形之溫度以下 金屬的種類有關,但是,可以設定在鋼或銅 1 08 3 t:附近。具體爲,以 800〜900 °C予以 鐵或鐵合金之情形,也可以設定在融點之 I樣地浮起、剝 :收熱之功能, 好地將該反射 基體金屬之種 以下,但是, -3 0 0 // m。 於構成中間層 之差,在該中 行加熱處理及 Si02 )爲主成 化鎳等之混合 產生玻璃質原 水等而加以調 灑法、浸漬法 處裡。加熱溫 ,雖與該基體 合金之融點的 加熱。另外, 1 5 3 5 °c 附近, (9) (9)1332671 具體爲,可加熱至1200〜1 400°C。 加熱時間雖依據反射鏡之基本金屬的種類或厚度而不 銅,例如可在〗〜5分鐘。 此處,作爲反射鏡之基體金屬的候補,也可以考慮反 射特性優異之鋁。但是,鋁之融點爲660 °C之程度,比 銅、鐵或彼等之合金低很多。因此,中間層之加熱溫度如 超過該溫度,會導致反射鏡本身之變形故,加熱溫度受到 極端之限制。正因爲此加熱溫度之限制,變成妨礙中間層 對於反射鏡之完整塗布的原因,導致變形或非所期望之變 形。 本發明之特徵爲,作爲反射鏡之基體金屬的材料,採 用在反射鏡之內面不產生變形等而可以平滑地形成中間 層,可耐高溫加熱處裡之銅、鐵或彼等之合金。藉此,可 以確保高的反射特性之同時,基於銅、鐵或彼等之合金的 高導熱性,藉由對反射鏡外部之通以冷卻風,反射鏡內部 之冷卻效果顯著提高。 第3圖係顯示乾燥處理之狀態。即顯示在基體金屬塗 布中間層後之乾燥處理之狀態。 反射鏡2 0 (半成品)係以前面開口爲下方,以特定 時間放置在設定台E之表面。藉此,可使中間層乾燥。以 前述形態放置之理由是,反射鏡爲具有曲面部份之形態, 使前面開口爲下方,可使其穩定的關係。因此,即使產生 少許之振動’反射鏡也不會反轉。此種乾燥處理例如進行 0.5〜2.0小時之程度。此處’第3圖所示之反射鏡(半成 -12 - (11) 1332671 第5圖係顯示關於本發明之反射鏡的其他形態。 (a) 係藉由將反射部22之前端部往外方擴展以形成 傾斜部220。即不是如第4 ( b )圖所示形態般,反射部 22之厚度隨著朝向前方開口而逐漸縮小,而是使反射部 22本身往外方擴展而形成傾斜部220。
(b) 在反射部22之前端部形成相當於傾斜部220之 凹部220·。因此,嚴格而言,雖不是形成在直徑方向擴展 開之傾斜,但是,卻可以防止滯留部之形成。 藉由形成第4(b)圖、第5(a) 、(b)圖般之傾斜 部,中間層可不形成非所期望之滯留部,平滑地且不形成 變形等而形成。 在可以形成中間層後,被塗布上可見光反射層。 可見光反射層例如可由二氧化矽(Si02 )層與二氧化 鈦(Ti02)層交互積層所成,整體厚度0.5〜10/im之介 電質多層膜所成,主要讓紅外線領域及紫外線領域之光透 過的同時,具有反射可見光之功能。各層之厚度,例如爲 100〜200nm,例如形成30層。 如前述般,本發明之光源裝置,第一,藉由以銅、鐵 或彼等之合金來構成反射鏡之基體金屬,可提高機械強 度,提升耐破損性之同時,即使將反射鏡內部作成槪略密 閉構造,也可以有效地加以冷卻。第二,藉由在反射鏡內 部設置以二氧化矽爲主成分之中間層,可使可見光反射層 密接於反射鏡之基體金屬。因此,即使將反射特性不太高 之銅、鐵或彼等之合金當成基體金屬加以採用時,也可以 -14- (12) (12)1332671 放射充分之可見光,可以適當地採用於投影機裝置。第 三,藉由設反射鏡之基體金屬爲融點高之銅、鐵或彼等之 合金,可以高溫度地進行中間層之燒結處理。另外,藉由 在反射鏡的前端形成在直徑方向擴展開之傾斜部,可平滑 地,且不形成變形而將中間層設置在反射鏡之基體金屬, 結果爲,可見光反射層可同樣地設置。 第2圖係顯示本發明之光源裝置所使用之高壓放電燈 之全體構造。 放電燈10係具有藉由由石英玻璃所成之放電容器而 形成之大略球形的發光部11,在此發光部11內,陽極2 與陰極3交互對向而配置。另外,形成有從發光部11之 兩端部延伸之各密封部12,通常藉由鉬所成之導電用金 屬箔4例如藉由收縮密封墊而氣密地被埋設在這些密封部 12。金屬箔4之一端係與陽極2或陰極3接合,金屬箔4 之另一端係與外部導線16接合。 在陰極3之前端捲繞有線圈31»此線圈31係由鎢所 成,堅固地捲繞著或者熔接而構成。線圈31點燈開始動 作時,藉由表面的凹凸效果,作用爲開始動作之種子(開 始動作開始位置)之同時,點燈後,藉由表面的凹凸效果 與熱容量,擔負散熱功能。 在發光部11裝入有水銀、和稀有氣體 '和鹵素氣 體0 水銀係可以獲得必要之可見光波長,例如波長3 60〜 780nm之放射光用之物,裝入〇.25mg/mm3以上。此裝入 -15- (13) (13)1332671 量雖依據溫度條件而不同,但是,在點燈時,成爲150氣 壓以上極高之蒸汽壓。另外,藉由裝入更多之水銀,可以 做成點燈時之水銀蒸汽壓2 0 0氣壓以上、3 0 0氣壓以上之 高的水銀蒸汽壓的放電燈,水銀蒸汽壓愈高,可以實現更 適合於投影機裝置之光源。 稀有氣體例如係裝入氬氣體約1 3 kPa,用以改善點燈 開始動作性。 鹵素係碘、溴、氯等以與水銀其他之金屬的化合物之 形態所裝入。鹵素之裝入量,例如可由1(Γό〜10_2 // mol/mm3之範圍加以選擇,其功能雖係利用鹵循環之長 壽命化,但是,如本發明之放電燈般,極小型而具有高的 內壓之物,裝入此種鹵素,認爲具有防止放電容器之破 損、透失的作用。 如顯示此種放電燈之數値例子時,例如,發光部之外 徑係由0 6.0〜15.Omm之範圍所選擇,例如9.5mm,電極 間距離係由0 · 5〜2 · 0 m m之範圍所選擇,例如1 · 5 m m,發 光管內容積係由 40〜300mm3之範圍所選擇,例如 7 5mm3。點燈條件例如係由管壁負荷0.8〜2 · 0 W/mm2範圍 所選擇,例如 1.5W/mm2,額定電壓 80V,額定電力 200W。 另外,此放電燈係內藏於小型化之投影機裝置等之 物’整體構造極爲小型,卻被要求高的光量。因此,發光 部內的熱條件係極爲嚴苛者。 而且’放電燈係被搭載於投影機裝置或投影片式投影 -16- (14) (14)1332671 機之類的顯示用機器,提供演色性良好之放射光。 如顯示凹面反射鏡2 0之數値例子時,內容積係由 1〇3〜106mm3之範圍所選擇,例如9 X 104mm3,反射部之 基體金屬的厚度係由1〜3mm之範圍所選擇,例如2mm, 前面開口徑係由0 1 0〜1 5 Omm之範圍所選擇,例如 50mm,由前面開口至頂部前端之軸方向的長度係由10〜 150mm之範圍所選擇,例如35mm。 如顯示前面玻璃 24之數値例子時,厚度係由1〜 5 m m之範圍所選擇,例如3 m m。 在前述實施例中,雖在凹面反射鏡20之前面開口設 置前面玻璃,但是,也可以是不設置前面玻璃之實施形 態。 另外,即使是在凹面反射鏡20之前面開口設置前面 玻璃之情形,也可以在一部份設置冷卻風導入用孔。 另外,作爲提高由凹面反射鏡20之散熱的機構,在 反射鏡裡面設置散熱器也是有效之手段。 在前述實施例中,雖就直流點燈型之放電燈做說明, 但是,也可以適用在交流點燈型放電燈。 放電燈並不限定於超高壓水銀燈,也可以在金屬鹵素 燈、氙氣燈、低壓放電燈、無電極放電燈等。 【圖式簡單說明】 第1圖係顯示本發明之光源裝置。 第2圖係顯示本發明之光源裝置所使用之放電燈。 -17- (15) (15)1332671 第3圖係顯示關於本發明之反射鏡。 第4圖,(a)係顯示習知之反射鏡,(b )係顯示本發 明之反射鏡。 第5圖係顯示關於本發明之反射鏡。 【主要元件符號說明】 1 〇 :放電燈 2 0 :凹面反射鏡 2 1 :頂部 22 :反射部 23 :前面開口部 3 0 :中間層 40:可見光反射層 2 2 0 :傾斜部
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Claims (1)

1332671 年‘月‘曰修正替換頁 十、申請專利範圍 第94105071號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國99年7月7 日修正 1. 一種光源裝置,係由高壓放電燈、及包圍此高壓 放電燈之凹面反射鏡所構成,其特徵爲: 前述凹面反射鏡係包含:銅、鐵或此等之合金所構成 之基體、設置在此基體的內表面而具有熱線吸收功能與反 射面平滑功能之中間層、及由設置在此中間層上之介電質 多層膜所構成之可見光反射層; 而且,在凹面反射鏡的基體之前面開口緣具有往直徑 方向擴展開之傾斜部。 2. 如申請專利範圍第1項所記載之光源裝置,其 中,前述高壓放電燈,係在放電容器內裝入有 0.25mg/mm3以上之水銀。
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