200537550 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於藉由高壓放電燈與其之凹面反射鏡所成 之光源裝置。特別是關於以在發光管內裝入0.25mg/cm3 以上之水銀，點燈時之水銀蒸汽壓成爲超高壓之超高壓水 銀燈爲光源之液晶顯示裝置或使用DMD(數位反射鏡裝置） 之DLP(數位燈處理器）等之投影機裝置所使用之光源裝 置。 【先前技術】 投射型投影機裝置，對於矩形狀之螢幕，被要求要具 有均勻，且充分之演色性以照明畫像。因此，作爲光源， 係使用裝入水銀或金屬鹵化物之金屬鹵素燈。另外，此種 金屬鹵素燈，也在最近中，往進一步之小型化、點光源化 邁進，另外，電極間距離之極小者也正被實用化中。 在此種背景下，最近，代替金屬鹵素燈，而具有目前 並不存在之高水銀蒸汽壓，例如1 5 0氣壓之水銀燈被提 出。此係藉由讓水銀蒸汽壓變得更高，在抑制（縮小）電 弧之擴展的同時，且謀求更進一步之光輸出的提升之水銀 燈。 此種超高壓放電燈，例如被揭示在日本專利特開平 2-148561號、日本專利特開平 6-52830號、專利第 2980882 號 〇 另一方面，投影機裝置所使用之光源裝置，需要讓來 -4- 200537550 (2) 自光源燈之放射光有效率地反射於光軸方向，以照射於液 晶顯示面板等之被照射領域。光源裝置通常係採用：短電 弧型放電燈，及將由此放電燈所放射之光轉換爲平行光之 凹面反射鏡。 _ 近年來，液晶投影機裝置或使用DM D之DLP裝置， 被強烈要求小型化，因應此，光源裝置也被要求小型化。 另外，被照射物之液晶顯示面板本身被小型化，也是光源 裝置之小型化被要求的理由之一。 B 光源裝置，被強烈要求以下之性能。 第一，反射鏡本身之強度要高。此係爲了放電燈在點 燈時之內壓爲超高壓（例如，1 5 0氣壓以上）故，萬一， 放電燈破損時，其影響不要及於光源裝置外部的緣故。 第二，可令反射鏡及其之內部的放電燈良好地冷卻。 放電燈之點燈時溫度極高故，反射鏡也變成極高之高溫。 因此，需要在使反射鏡之熱傳導度提高的同時，藉由對反 ^ 射鏡的外部吹以冷卻風，可使內部容易冷卻。 第三，塗布在反射鏡內面之可見光反射用介電質多層 膜不變形、不產生凹凸，令其平滑地形成。 [專利文獻1]日本專利特開平2- 1 4 8 5 6 1號 [專利文獻2]日本專利特開平6-5 2 8 3 0號 [專利文獻3]專利第29808 82號 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] •5- 200537550 (3) 本發明所想要解決之課題，在於提供全部滿足前述三 種要求之光源裝置。 . [解決課題用手段] -爲了解決前述課題，本發明之光源裝置，係由高壓放 電燈與凹面反射鏡所成。而且，凹面反射鏡之特徵爲，是 由：銅、鐵或彼等之合金所成之基體，及設置在此基體的 內表面而具有熱線吸收功能與反射面平滑功能之中間層， B 及藉由設置在此中間層上之介電質多層膜所成之可見光反 射層所成，且在前面開口緣具有往直徑方向闊展開之傾斜 面。 進而，高壓放電燈之特徵爲，在放電容器內裝入有 0.25mg/mm3以上之水銀。 [發明效果] ^ 本發明之光源裝置，藉由銅、鐵或彼等之合金以構成 反射鏡之基體金屬，可提高機械強度，提升耐破損性之同 時，使反射鏡內部成爲槪略密閉構造，也可以有效地加以 冷卻。 另外，藉由在反射鏡內部設置以二氧化矽爲主成分之 中間層，可讓可見光反射層密接於反射鏡的基體金屬。因 此，即使將反射特性不太高之銅、鐵或彼等之合金當成基 體金屬使用，也可以放射充分之可見光，能夠合適地使用 在投影機裝置。 -6 - d 200537550 (4) 進而，藉由設反射鏡之基體金屬爲融點高之銅、鐵或 彼等之合金，中間層之燒結處理可藉由高溫來進行。藉 此，可在反射鏡的基體金屬形成平滑且沒有變形之中間 層，結果爲，可見光反射層可以同樣地設置。 另外，凹面反射鏡之前面開口緣，具有往直徑方向闊 展開之傾斜面故，在讓前述中間層附著於基體金屬後而使 其乾燥之工程中，可以防止非所期望之滯留的產生。 【實施方式】 第1圖係顯示說明本發明之光源裝置用之槪略構造 圖。 光源裝置係藉由：短電弧型超高壓放電燈10(以 後，也單單稱爲「放電燈」），及包圍此放電燈1 0之凹 面反射鏡20所構成，凹面反射鏡20之光軸L與放電燈 1 〇之電弧方向幾乎一致之同時，放電燈1 0之電弧亮點與 凹面反射鏡20之第一焦點也配置爲一致。 放電燈1 〇之放電容器係藉由：大略球狀之發光部 1 1，及連接於此發光部1 1之兩端的桿狀之密封部1 2a、 1 2b所構成，在發光部1 1內對向配置有一對的電極。放 電燈1 0的密封部1 1 a係被插入在凹面反射鏡2 0的頂部 2 1之開口，密封部1 2a之前端的燈口係藉由接著劑1 3而 被安裝在凹面反射鏡20的頂部2 1。供電導線1 4a由密封 部1 2 a之前端突出，藉由供電線1 5 a而電性連接於未圖示 出之供電裝置。另一方面，供電導線1 4b也由密封部1 2b ⑧ 200537550 (5) 側突出於前端，供電線1 5b係藉由凹面反射鏡20的開口 而延伸於外部，連接於供電裝置。 在凹面反射鏡2 0的頂部2 1之外側，例如配置有由陶 瓷材料等所構成之支撐構件1 6，凹面反射鏡2 0係藉由接 著劑而被固定在支撐構件1 6。 凹面反射鏡20係整體爲略碗狀之橢圓聚光鏡，係藉 由頂部2 1與反射部22與前面開口部23所構成。在反射 部22的內面係形成有後述之中間層3 0與可見光反射層 40，反射所期望之可見波長域的光之同時，讓其以外之 光，例如紅外光透過，而使反射部22加以吸收。 例如，由硼矽酸玻璃等所成之透光性的前面玻璃24 係藉由框構件25而裝置在前面開口部23。 藉由設置前面玻璃24，可使凹面反射鏡20的內部幾 乎成爲密封構造。因此，萬一，在放電燈1 0破損之情形 等’也可以防止碎片散射。 另外，前面玻璃24雖在碎片的飛散防止上，有其效 果’但是，並非必須之物。特別是，在冷卻放電燈之必要 性高的情形等，也可不設置前面玻璃。另外，在凹面反射 鏡的外部，且是反射鏡之前面配置有相當於前面玻璃之構 件的情形等，也沒有必要在該反射鏡安裝前面玻璃。 進而’在安裝前面玻璃24之情形，也可不將反射鏡 2〇的內部作成完全密封構造，可以在一部份設置冷卻用 開口。此冷卻用開口例如可形成在框構件2 5，或在反射 部2 2的一部份設置缺口。 200537550 (6) 另外，關於傾斜部220，於之後加以敘述。 凹面反射鏡20係藉由銅（Cu )所構成、藉由鐵 (F e )所構成、或藉由彼等之合金所構成。通常’與如投 影機裝置所使用之反射鏡般，由硼矽酸玻璃、結晶化玻 璃、陶瓷材料所構成者不同。 另外，在凹面反射鏡2 0的反射部2 2的內面塗布有可 見光反射層40，在可見光反射層40與反射部22之間設 置有中間層3 0。 B 在期待散熱效果的情形，比起鐵，最好藉由銅來構成 凹面反射鏡。 藉由銅、鐵或彼等之合金來構成凹面反射鏡20之理 由是，第一，讓反射鏡之強度變強。藉由以彼等金屬構成 凹面反射鏡2 0，萬一，在放電燈破損之情形，可以防止 反射鏡本身連鎖地破損。另外，在反射鏡內部可以確保放 電燈之碎片或殘骸之同時，也可以防止配置在反射鏡外部 ^ 之其他的周邊機器之不好影響。特別是，如前述般，在設 置前面玻璃以形成密閉形式之光源裝置的情形，凹面反射 鏡內部容易變成高溫故，提高反射鏡之機械強度，以提高 破損對策上，具有很重要之意義。 關於銅合金’如舉其一例時，則可以採用：銅一鋅 (Cu-Zn)系合金、銅—鎳系合金（cU-Ni)、銅—鎳—鋅 系合金（Cu-Ni-Zn)等。 關於鐵合金，如舉其一例時，則可以採用：不銹鋼 (沃斯田鐵系、肥粒鐵系、麻田散系）、鉻鉬鋼等。 -9- 200537550 (7) 銅、鐵或彼等之合金，其一般之特性的反射特性優 異，另外，直接塗布反射膜，施以塗布有其困難。因此， 在一般照明或其他之領域中，雖也可以使用，但是，在作 爲影像顯示所使用之投影機裝置之反射鏡材料，認爲並不 適當。 但是，本發明之光源裝置，藉由使用具有熱線吸收功 能與反射面平滑化功能之中間層，可以解決習知被設爲不 適當之問題，變成可以精度極高地塗布反射特性優異之可 見光反射層。 即本發明之光源裝置係中間層之採用的新的發明，同 時倂同改良反射鏡材料之光源裝置，藉此，具有不會讓反 射特性變差，將光取出效率維持在習知水準的同時，且可 劃時代地提高反射鏡之機械強度之重要特徵。 中間層例如係以二氧化矽爲主成分之材料所成，形成 在凹面反射鏡20的內表面。此中間層係擔負做由銅、鐵 或彼等之合金所成之反射鏡的基體金屬與可見光反射層之 接合的接著劑之功能。 具體爲，中間層係包含構成基體金屬之金屬的氧化物 之二氧化矽質氧化物故，具有吸收熱線之功能的同時，由 於以二氧化矽爲主成分故，也具有令反射面變得平滑之功 能。在此中間層上形成有由介電質多層膜所成之可見光反 射層40。 另外，中間層係用於與構成反射鏡之基體金屬的接著 性提升上，使得基體金屬即使熱性地引起膨脹或收縮’形 -10- ⑧ 200537550 (8) 成在反射鏡內面之各層受到影響，也不會同樣地浮起、剝 落。另外，由於包含金屬氧化物故，具有吸收熱之功能， 藉此，具有對於反射鏡吹以冷卻風，可以良好地將該反射 鏡冷卻之優點。 進而，與塗布可見光反射層之基底，即基體金屬之種 類無關，予以塗布可見光反射層。
中間層之膜的厚度，例如雖設爲1 mm以下，但是， 以在500//m以下爲佳，特別是最好在200〜300/zm。 此係中間層之厚度如超過1 mm，起因於構成中間層 之材料，及構成基體金屬之金屬的熱膨脹率之差，在該中 間層會有龜裂產生的關係。 中間層可在反射鏡內面塗布原液後，進行加熱處理及 乾燥處理而加以裝置。原液係以二氧化矽（Si02)爲主成 分，由長石、碳酸鈣、硝酸鈉、氧化鈷、氧化鎳等之混合 物所成。溶解此混合物而加以固化，可以產生玻璃質原 料，粉碎此玻璃質原料後，將該粉體混合於水等而加以調 整。 對於反射鏡內面之塗布，例如可藉由噴灑法、浸漬法 (dipping法）等而進行。 被塗布在反射鏡內面之原液被施以加熱處裡。加熱溫 度係在反射鏡之基本金屬不變形之溫度以下，雖與該基體 金屬的種類有關，但是，可以設定在鋼或銅合金之融點的 1 0 8 3 °C附近。具體爲，以800〜900 °C予以加熱。另外， 鐵或鐵合金之情形，也可以設定在融點之1 5 3 5 t附近， -11 - 200537550 (9) 具體爲，可加熱至1200〜1400 °C。 加熱時間雖依據反射鏡之基本金屬的種類或厚度而不 銅，例如可在1〜5分鐘。 此處，作爲反射鏡之基體金屬的候補，也可以考慮反 射特性優異之鋁。但是，鋁之融點爲6 6 0 °C之程度，比 銅、鐵或彼等之合金低很多。因此，中間層之加熱溫度如 超過該溫度，會導致反射鏡本身之變形故，加熱溫度受到 極端之限制。正因爲此加熱溫度之限制，變成妨礙中間層 ® 對於反射鏡之完整塗布的原因，導致變形或非所期望之變 形。 本發明之特徵爲，作爲反射鏡之基體金屬的材料，採 用在反射鏡之內面不產生變形等而可以平滑地形成中間 層，可耐高溫加熱處裡之銅、鐵或彼等之合金。藉此，可 以確保高的反射特性之同時，基於銅、鐵或彼等之合金的 高導熱性，藉由對反射鏡外部之通以冷卻風，反射鏡內部 之冷卻效果顯著提高。 1 第3圖係顯示乾燥處理之狀態。即顯示在基體金屬塗 布中間層後之乾燥處理之狀態。 反射鏡20 (半成品）係以前面開口爲下方，以特定 時間放置在設定台E之表面。藉此，可使中間層乾燥。以 前述形態放置之理由是，反射鏡爲具有曲面部份之形態， 使前面開口爲下方，可使其穩定的關係。因此，即使產生 少許之振動，反射鏡也不會反轉。此種乾燥處理例如進行 〇. 5〜2.0小時之程度。此處，第3圖所示之反射鏡（半成 -12- ⑧ 200537550 (10) 品）並沒有記載後述之傾斜部。 第4圖係顯示反射鏡20 (反射部22 )之前面開口緣 之部份放大圖，（a )係顯示習知的反射鏡之前面開口， (b )係顯示本發明之反射鏡的前面開口。 如（a )圖所示般，習知的反射鏡係反射部22之基體 金屬維持相同厚度，形成凹面形狀而延伸至開口緣。因 此，在乾燥處理中，產生滯留部3 1。滯留部3 1係中間層 30之素材（以二氧化矽爲主成分之材料）由於自重而自 ’然產生。 此滯留部3 1會遮住來自燈之放射光，或者對和框構 件或前面玻璃之接合造成影響。另外，雖可藉由銼刀等去 除滯留部3 1，但是，在乾燥處理後，另外需要該切削處 理。 另一方面，如（b )圖所示般，關於本發明之反射 鏡，在乾燥處理中，不會產生滯留部。或者，即使產生滯 0 留部’也可以成爲實質上影響小之部份。如何說呢？此係 在前面開口緣具有往直徑方向擴展開之傾斜部2 2 0故，中 間層之素材會沿著該傾斜部220垂下的關係。 如舉數値例子時，傾斜部2 2 0之傾斜角度爲Γ〜 75 ° ，例如，45 ° 。反射部22之厚度在傾斜開始位置 2 2 0 a，例如爲2 · 0 m m，在傾斜結束位置2 2 0 b爲例如 0.5mm ° 當然，傾斜部之角度係考慮乾燥處理之時間、中間層 之材料、中間層之厚度等而設定。 -13- 200537550 (11) 第5圖係顯示關於本發明之反射鏡的其他形 (a )係藉由將反射部22之前端部往外方擄 傾斜部2 2 0。即不是如第4 ( b )圖所示形態般 22之厚度隨著朝向前方開口而逐漸縮小，而是 22本身往外方擴展而形成傾斜部220。 (b )在反射部2 2之前端部形成相當於傾斜 凹部2 2 0 ’。因此，嚴格而言，雖不是形成在直徑 開之傾斜，但是，卻可以防止滯留部之形成。 藉由形成弟4(b)圖、第5(a) 、（b)圖 部，中間層可不形成非所期望之滯留部，平滑地 變形等而形成。 在可以形成中間層後，被塗布上可見光反射 可見光反射層例如可由二氧化矽（S i Ο 2 )層 鈦（Ti02 )層交互積層所成，整體厚度0.5〜10 電質多層膜所成，主要讓紅外線領域及紫外線領 過的同時，具有反射可見光之功能。各層之厚度 100〜200nm，例如形成30層。 如前述般，本發明之光源裝置，第一，藉由 或彼等之合金來構成反射鏡之基體金屬，可提 度，提升耐破損性之同時，即使將反射鏡內部作 閉構造，也可以有效地加以冷卻。第二，藉由在 部設置以二氧化矽爲主成分之中間層，可使可見 密接於反射鏡之基體金屬。因此，即使將反射特 之銅、鐵或彼等之合金當成基體金屬加以採用時 態。 展以形成 ，反射部 使反射部 部220之 方向擴展 般之傾斜 且不形成 層。 與二氧化 μ m 之介 域之光透 ，例如爲 以銅、鐵 高機械強 成槪略密 反射鏡內 光反射層 性不太高 ，也可以 -14- 200537550 (12) 放射充分之可見光，可以適當地採用於投影機裝置。第 三，藉由設反射鏡之基體金屬爲融點高之銅、鐵或彼等之 合金，可以高溫度地進行中間層之燒結處理。另外’藉由 在反射鏡的前端形成在直徑方向擴展開之傾斜部’可平滑 地，且不形成變形而將中間層設置在反射鏡之基體金屬， 結果爲，可見光反射層可同樣地設置。 第2圖係顯示本發明之光源裝置所使用之高壓放電燈 之全體構造。 放電燈10係具有藉由由石英玻璃所成之放電容器而 形成之大略球形的發光部η，在此發光部11內，陽極2 與陰極3交互對向而配置。另外，形成有從發光部1 1之 兩端部延伸之各密封部1 2，通常藉由鉬所成之導電用金 屬箔4例如藉由收縮密封墊而氣密地被埋設在這些密封部 12。金屬箔4之一端係與陽極2或陰極3接合，金屬箔4 之另一端係與外部導線1 6接合。 在陰極3之前端捲繞有線圈3 1。此線圈3 1係由鎢所 成，堅固地捲繞著或者熔接而構成。線圈3 1點燈開始動 作時，藉由表面的凹凸效果，作用爲開始動作之種子（開 始動作開始位置）之同時，點燈後，藉由表面的凹凸效果 與熱容量，擔負散熱功能。 在發光部11裝入有水銀、和稀有氣體、和鹵素氣 體。 水銀係可以獲得必要之可見光波長，例如波長3 6 0〜 7 8 0nm之放射光用之物，裝入〇.25mg/mm3以上。此裝入 -15- 200537550 (13) 量雖依據溫度條件而不同’但是，在點燈時，成爲1 5 0氣 壓以上極高之蒸汽壓。另外，藉由裝入更多之水銀，可以 做成點燈時之水銀蒸汽壓200氣壓以上、3 0 0氣壓以上之 高的水銀蒸汽壓的放電燈，水銀蒸汽壓愈高，可以實現更 適合於投影機裝置之光源。 稀有氣體例如係裝入氬氣體約1 3kPa，用以改善點燈 開始動作性。 鹵素係碘、溴、氯等以與水銀其他之金屬的化合物之 B 形態所裝入。鹵素之裝入量，例如可由1〇_6〜1〇_2 #mol/mm3之範圍力〇以選擇，其功能雖係利用鹵循環之長 壽命化，但是，如本發明之放電燈般，極小型而具有高的 內壓之物，裝入此種鹵素，認爲具有防止放電容器之破 損、透失的作用。 如顯示此種放電燈之數値例子時，例如，發光部之外 徑係由0 6.0〜15.0mm之範圍所選擇，例如9.5mm，電極 間距離係由0.5〜2.0mm之範圍所選擇，例如1.5mm，發 光管內容積係由 40〜3 00mm3之範圍所選擇，例如 7 5 mm3。點燈條件例如係由管壁負荷0.8〜2.0 W/mm2範圍 所選擇，例如 1.5W/mm2，額定電壓 80V，額定電力 200W 〇 另外，此放電燈係內藏於小型化之投影機裝置等之 物，整體構造極爲小型，卻被要求高的光量。因此，發光 部內的熱條件係極爲嚴苛者。 而且，放電燈係被搭載於投影機裝置或投影片式投影 -16- 200537550 (14) 機之類的顯示用機器，提供演色性良好之放射光。 如顯示凹面反射鏡2 0之數値例子時，內容積係由 103〜106mm3之範圍所選擇，例如9 X 104mm3，反射部之 基體金屬的厚度係由1〜3mm之範圍所選擇，例如2mm， 前面開口徑係由0 10〜1 50mm之範菌所選擇，例如 5 0mm，由前面開口至頂部前端之軸方向的長度係由10〜 15 0mm之範圍所選擇，例如35mm。 如顯示前面玻璃2 4之數値例子時，厚度係由1〜 5 m m之範圍所選擇，例如3 m m。 在前述實施例中，雖在凹面反射鏡20之前面開口設 置前面玻璃，但是，也可以是不設置前面玻璃之實施形 態。 另外，即使是在凹面反射鏡20之前面開口設置前面 玻璃之情形，也可以在一部份設置冷卻風導入用孔。 另外，作爲提高由凹面反射鏡2 0之散熱的機構，在 反射鏡裡面設置散熱器也是有效之手段。 在前述實施例中，雖就直流點燈型之放電燈做說明， 但是，也可以適用在交流點燈型放電燈。 放電燈並不限定於超高壓水銀燈，也可以在金屬鹵素 燈、氙氣燈、低壓放電燈、無電極放電燈等。 【圖式簡單說明】 第1圖係顯示本發明之光源裝置。 第2圖係顯示本發明之光源裝置所使用之放電燈。 -17- 200537550 (15) 第3圖係顯示關於本發明之反射鏡。 第4圖，（a)係顯示習知之反射鏡，（b)係顯示本發 明之反射鏡。 第5圖係顯示關於本發明之反射鏡。 【主要元件符號說明】 1 〇 :放電燈 20 :凹面反射鏡
22 :反射部 2 3 :前面開口部 3 0 :中間層 40:可見光反射層 220 :傾斜部
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