TWI321709B - Substrate inspecting device - Google Patents

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TWI321709B
TWI321709B TW95112092A TW95112092A TWI321709B TW I321709 B TWI321709 B TW I321709B TW 95112092 A TW95112092 A TW 95112092A TW 95112092 A TW95112092 A TW 95112092A TW I321709 B TWI321709 B TW I321709B
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Daisuke Imai
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/225Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/26Electron or ion microscopes
    • H01J2237/282Determination of microscope properties
    • H01J2237/2826Calibration

Description

19*>40pif.d〇c 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於-種基板檢查 離子束等帶電粒子束對基板進〔掃“康以電子束或 【先前技術】 特別疋關於基板上檢•置之指定。 眾所周知,根據以雷+击 板進行二維掃描而取得之掃子束等帶電粒子束對基 檢查裝置。例如,於TFT顯^ 進订基板檢查之基板 基板的製程中,檢查所製造頁之不3:鱼所使宜用之丁打陣列
^該TFT陣列基板檢查中,例如藉由確驅 陣列基板上進行掃描而取 ,方:吏电子束在TFT 進行檢查。 田®象亚根據該掃描圖像 束與===行二_時,使電子 r方向上移動1行而取得檢出信號 订根======婦描信號。夕 ,咖陣列-面板所包括 計二當於多個配置於tft陣列上之面板内, ‘的值:、』==:利用以tft陣列規格等設計所 算陣列基板檢查裝置中,計 土板上面板之像素位置的說明圖。圖6 (a)表 '9340pif.d〇c 1321709 (b )表示作為丁巧 圖 不TFT陣列基板設計的座標位置 陣列之主動區域的面板之像素。 — 2財,TFT_純是由面缺 ,上各面板之配置位置等設計值而:數、 規格以及設計值而進行製造。當對製造的以中 i之位ΐ檢查時’亦根據該設計值,藉由計算,求得各面 檢查。置以及此面板上各像素之位置,並根據該位置進= ]〇1 na)中,在TFT陣列基板】⑻所形成的多個面拓 上,根據設計資訊而計算出各面板1Gl之特板 立置’做為基準位置102 ’並如 特;:的 位置面…原點’計算出各二 於—塊TFT陣列基板上,訊罢古如, 见罝。 區域之面板時’根據設計資訊而計算出各主動 八基板檢查裝置中:並:i 从知貝枓’使電子束與平臺於x軸方 係 對移動,並取得掃描影像。 向上相 在掃描圖像的取得上,於座 下,由於基板檢查時像素位置偏移,故情形 定缺陷位置。做為該座標位置偏移 於指 :系與掃描束之座標系不一致之情形。於此“平二 ,號而取得之掃描圖像位置以及配置於平臺上 置之間產生位置偏移(掃描信號的視野偏移)。 在習知技射,該位置偏移之校正藉由如下方式進 1321709 19340pjf.doc 行:於試料上設置定位用以的標記,一邊使平臺 邊確認設於試料上之標記的位置,並將平臺座二一 束座標系進行座標轉換。又,於試料上設置桿=聍-掃描 在交換檢查對象之基板時會產生位置偏移的因為 解除該問題之方案,本中請案之中請人提出、丈做為 支持試料之平臺上設置標記,並從該標記 .於 出平臺座標系之位置偏移與掃描束座標系之位求 再者,本申請案發明者發現,做為座標位置^ 上述:臺座標系與掃描束座標系間之關係以二t 有基板上檢查對象區域之座標位置。 也 基板上面板等檢查對象區域之座標 據設計值經由計算求出,但該座標位置二3 ==二形;於實際基板上之檢查對象位i;
7曰偏離灰计异所得之座標位置。 W 統-=據製造條件或環境條件會;在各=並不 圖。二;說^區域之座標位置偏移的說明 之面板的位請==示根據設計資訊計算出 板上之面板触置1()5。==化地表示形成於實際基 差,合產4 陣列基板上,因製造上之誤 設計H 際座標位置(面板位置)】〇5與 方向或:::,:4座私存在偏移的情形。該座標偏移之 相同二、,夕=t同一TF丁陣列基板上各個面板上而各不 相丨。j,亚不統一。 圖7 (b)巾,主動區域之實際座標位置(面板位置) 1321709
19340pi[dOC =5偏離於設計之座標位置1〇4時,像素i〇3之位置亦偏 移,並且變得難以正確地規定像素位置,且缺陷像素之指 定亦較困難。 【發明内容】 因此,本發明之目的在於解決上述之先前問題點,以 ,除衣程中之位置誤差,提高位置精度,並提高檢查精度。 又本奴明之目的在於取得基板上檢查對象區域之正 確位置,以消除製造工序中之位置誤差。
本發明是從掃描圖像求出基板上檢查對象區域之特萍 部位的座標資料,並根據該座標資料計算出越位置者, 二根據由掃心圖像求出座標資料,可取得與所製造之賓 板所包含的設計值之間存在誤差的料,故可消 除製程中之位置誤差。 本I明之基板檢查|置是根據使帶電粒子束在基板」: 描:獲得之掃描圖像,進行基板檢查,並且異 域i二iw取仵裝ΐ:其從掃描圖像中取得基板上檢查區 取r二°所=座標^ί。於基板檢查時,根據座標資剩 置。此’可又付之座標資料而指定掃描圖像上的檢查侦 “,。不巧差偏移之影響而進行基板檢查。 《日月之座標純取得裝置的第〗形態中,^ 圖像,並於顯示圖像上指定 ,,.、、/、知^田 此取得座標資料,並且該第]形態包括i指^^立在: ,描圖像顯示於顯示裝置巾之顯示圖像上,指社处定 部位,以及座標資料讀出I置,從掃描圖像中讀出^之 934〇Pif.d〇c 特定Γ位的座標資料。 中所置用以顯示掃描圖像。指定裝 像的特= 標,並指定所顯示二 ,置上二==根據指定裝置所指定 。可登錄所讀出之座標位置之掃描圖像的座 出^座標資料取得裝置之第2形態包括:抽 位;以及,二中藉由資料處理而自動抽出特定部 置所抽出之frf料讀出裝置’從掃描圖像中讀出抽出裝 屯之特疋部位的座標資料。 部位之^置對掃描f像進行檢索以抽出特定部位。特定 描圖像中料±,如可藉由於特定部位利用圖像處理而從掃 與第1 =徵形狀實施檢索而進行。座標資料讀出裝置 置,诘態相同,根據抽出裝置所抽出之特定部位的位 Ζ對應於該位置之掃描圖像的座標資料。所讀出之 座料可先登錄。 /檢查對象區域可設為矩形區域,特定部位可設為該矩 形區域中之四個角部位。 又’基板可設為形成有TFT陣列之TFT陣列基板, 該情形下,檢查對象區域可設為形成有丁FT陣列上之TFT 的面板部分’又’可登錄座標資料取得裝置所取得之座標 資料。 該情形下,對於使電子束在基板上進行二維掃描所獲 得之電子束掃描圖像,根據登錄之座標資料,指定TFT陣 I9340pif.doc 列基之檢查位置,並進行面板部分之撿杳。 根據除製程中的位置誤差,以 才月度,亚提咼檢查精度。 且 【實ί方3編上檢4對㈣域之正確位置。 接者,茶照圖式詳細說明本發明之實施形能。 圖, 域中特定部位之座標資料之狀^。、基板上^查對象區 再者,本發明之基板檢杳 東在基板上進行二維掃描所獲得之圖=使帶電粒子 查者。以下說明使用電子束作 田圖像而進行基板檢 陣列之TFT_A板上進行二:子束’於形成有TFT 從該掃描圖像中將形成有丁 F τ陣列:之取^掃描圖像,並 :;檢查對象區域’對形成於該*板部分之 中表:圖像’圖1⑴ 圖1 (a)表示以電子束對支持於平 TF 丁陣列基板進行掃描而獲得 未圖示)上之 像]〇包括設置於丁打陣列基板u ^^的―例。掃描圖 於TFT陣列基板11上形成有丁FT‘二標記14。 示排列有_、[01]、_、[〇3]、〜歹Jn。此處,表 之例,作為TF丁陣列π。於各 之12面之面板 攸U上’形成有多個 1321709 I9340pif.doc 像素(未圖示)。該面板之排列數以及排列 例,其可任意設置。 个丨此 ^檢查裝置是將該掃描圖像中之面板] 包括之像素的缺陷檢 卜久=t 為了指定抓陣列基板】] ===該掃描圖像]。中取得面板u之特 】二將==狀的四個角部位作為特定部位 各面板12之位置。^位之座標位置,指定 中包括之各像素^曰Γ面板】2之位置’可指定面板 態可之)特上定部位的座標資料時的形 定該顯示圖像中面掃招_。’並指 圖】(b)表示將圖](a)之 於顯示裝置(未圖示)上之顯示圖像 之 •4作為特定 料。此處,使 但 有_所表示的面板】2之 、:象21中顯示
矩形狀輪M,例如將4個角部板圖像U :位,並藉由指定該特定部 :;f 用面板圖像22之角部位23 : 又 之顯示 不限:=r意部位都可作為特=特定部位 t;而取上二:二㈣:描圖像顯示於顯示裝置上 12 19340pif.doc 掃描圖像顯示於顯示裝置20上,並藉由觀察所顯示之顯示 圖像,確認預先設定於丁 FT陣列基板之面板(掃描對象區 域)上的特定部位,並藉由座標資料取得裝置7取得該特 定部位之座標資料。 顯示裝置20除按照預先設定之順序顯示TFT陣列基 板所具有之多個面板的掃描圖像以外,亦可將整個面板一 起顯示。又,顯示裝置20可使用液晶顯示器或CRT等任 意之顯示裝置。 圖2所示之座標資料取得裝置7具備指定裝置7a以及 座標資料讀出裝置7b。指定裝置7a用以指定顯示於顯示 裝置20中之顯示圖像上的位置,座標資料讀出裝置7b用 以從掃描圖像記憶裝置6中讀出由指定裝置7a所指定之位 置的座標資料,且將其儲存並登錄於座標資料記憶裝置8 中〇 指定裝置7a對特定部位的指定,可按照預先設定之順 序進行。座標資料記憶裝置8將指定裝置7a所指定並讀出 之座標資料’按讀出順序進行儲存’藉此’可按預先設定 之順序儲存特定部位之座標資料。再者,指定裝置7a之特 定部位的指定,並不限於如上所述之預先設定的順序,也 可以任意順序進行指定。但此情形下,與以特定部位為單 位所設定之位址等識別資料一同儲存於座標資料記憶裝置 8中,以便可識別特定部位。 指定裝置7a可移動顯示裝置20上之游標,並可使用 操作游標位置之輸入的滑鼠或按鍵等裝置,或者於觸摸面 I934〇pir.d〇, S=iL2G。之顯示面上進行指定位置之裝置等的任 之特^ f料記憶裝置8對由座標資料取得裝置7所取得 知弋部位的座標資料進行記憶以及登錄。 —裝置9讀出登錄於座標㈣記憶 貝抖’驅動電子東源2或孚A ^ 、,$ ;_ T 7 (未於=陣列基板 得掃推圖像。 叫出次電子,並取 反檢查裝置]㊣夠針對基板檢查對象之各個tft陣 擇H ^士特定部位且取得座標資料,並將其登錄至座 像,、進,根據該登錄之座標資料取得掃描晝 進仃基板杈查,但是,考慮到當TFT陣列基板之尺十 之尺寸、排列數或圖案等各種規格為相二夺,製 生^生之位置誤差於任一 TFT陣列基板中均會同樣產 標:此’將使用-次掃描所取得之掃描圖像而取得的座 行i ===料’並於相同規格之TFT陣列基板上進 从取得使用於基板檢查之掃描圖像。 、討 其次,使用圖3之流程圖,說明利用基板檢查裝置之 座標資料之取得動作。座標資料之取得過程中包含士:下牛 骤:以電子束掃描(Signai Scan :信號掃描)丁打二 板,取得掃描圖像之步驟⑶);Μ及,使用S]步驟师 得之掃描圖像’取得特定部位之座標資料之 。 取得座標資料之步驟S2中,從記憶於掃摇圖像記憶 I9340pif.doc 1321709 裝置中之掃描圖像中,選擇於顯示裝置之顯示器上進行顯 不的面板。該面板之選擇可按預先設定之順序進行。例如,、 圖1如所示,於在掃描圖像〗〇上排列[〇〇]、[〇1]、[〇 [03]、〜、[23] 12面的面板12示例中,按坪如 — — [23]等狀設定順序,並按昭 该设定順序選擇面板。再者,顯示於顯示裝置之面板上的 =擇’不僅限於如上所述之預先奴的選擇順序,】 輸入裝置任意選擇(S2a)。 示器所選擇之面板掃描圖像顯示於顯示裝置之顯 圖4是顯示器上之顯示晝面例。圖4所示 示例中,除於掃描圖像顯示區域2la顯示所選擇^面= == 象22以外’還進行用以取得面板 的特定部位之座標資料並對其進行編輯之顯示。料疋 於掃描圖像顯示區域2la中,顯 四個角部位(®中㈣·字表示之】〜4)iH之 位。操作者觀察該顯示之面板圖# 。又疋為特疋邛 該角部位移動游標或指針確認角部位,並於 照左上(關數字】)、左下位,按 字3)、右上(圓圈數字4)之逆= ::)、右下(圓圈數 擊αυ點擊、LD點擊、RD點擊、肪點=序’進行點 個特定部位。 d拿),亚指定四 1321709
則取 '9340pif.d〇c 因此,假没於一個TFT陣列基板上存在12面 得座標資料之順序如以下表1所示。 [表1] 1 面板〇〇 11 ---- 2 ------- 3 面板01 面板22 --- 面板23 面板02 13 結束 4 面板03 14 --—^ 5 面板10 1 ς 6 面板π ---- 16 ----- 7 面板12 17 ----------- 8 ~ '' cm *--——~. 面板13 面板20 18 — 19 20~~ 10 面板21 ------ 記憶裝置情儲G二定=對應於座標資料 之儲存順序時,按此順序指定二】=順序與座標資料 儲存時,以指定位“==;進: H|以可識別對應關係之方式加以i定。立址寻 使二;=描圖像顯示區域2ia之掃描圖像,是 不過是相對二特定部位的選擇過程者,並且 圖4所示描中圖,性圖像⑽。 (開始尋找點),,之;中點擊P〇s山·〇η Find Start 處理,並將“Po 時’開始進行取得座標資料之
Position Find : Fmd Siart”之顯示替換為 “Abort d (哥射斷位置广。當中斬座標資料取得處 I9340pif.doc 理時,點擊該“Abort Position Find,,。於p由丨叱士 乃、匕中斷處理之愔形 下,對於正在取得的資料,例如將其全部廢棄,並且^也 所有的取得值恢復為上一次值之原樣。 〃 ,將 開始實行座標資料之取得處理後,按照“ Nexi,,按鈕 或“Back”按鈕2]g之操作導向進行處理。 掃描圖像顯示區域21a中,若點擊面板圖像22之 位(圖中之圓圈數字U’則被點擊之角部位的座標資料合 顯示於區域21b中。當選擇該角部位時,點擊“削,,的^ 钮仏。利用該點擊,而於右邊相鄰的區域別中顯示座 標值。 同樣,若點擊面板圖像22之其他角部位(圖中圓圈數 字2〜4)’則被點擊之角部位的座標資料會顯示於區域2卟 =,藉由點擊“Pl〇t2,,〜叩lot4,,的按鈕21c,選擇該角部位, 並於右邊相隣的區域21 d中顯示座標值(S2d)。 §這4點之角部位之座標資料決定後,若點擊“Nat,, 按鈕21f’則在導引列表21m中追加座標資料。再者,導 引列表21m中,可將已取得座標資料之面板、當前正在取 得座標資料之面板以及取得座標資料之前之面板,分別以 不同的顯示狀態顯示。例如,顯示狀態2]」表示已取得座 標資料之面板,顯示狀態21k表示當前正在取得中之面 板,顯示狀態211表示取得座標資料之前之面板。藉由改 變色彩或裝飾而進行顯示等,可進行識別。 又’利用自顯示狀態21k變化為顯示狀態2〗j,表示 該角部位之座標資料之取得已結束。 I934〇pif.cloc 又,使用掃描(Signal Scan)時所取得之對準座 進行編輯(S2e)時,針對顯示於“A丨jnl,,或“ΑΠη2” = 中之對準座標值,點擊“App】y,,按鈕2n (S2f)。 " 1 導引列表2]m +,登錄有顯示狀態叫之座標資料, 且储存於座標資料記憶裝置中(S2g)。 對在掃描圖像顯示區域21a所選擇之面板的所有角部 立,反覆執行上述S2c〜S#之操作(S2h),對TFT陣列 基板所具有之所有面板,反覆執行上述S2a〜S2h之操作, ,此,取得TFT陣職板所具有之所有面板㈣定部位之 座標資料(S2h)。 的了說明本發明之基板檢查裝置之其他構成例 特-^ ^ °圖5所示之構成例,是從掃描圖像中取得 座標資料時’藉由對掃描圖像進行圖像處理而 得裝置7於結構上存在之構成例與座標資料取 成例大致相同。 不同’但其他結構與圖2所示之構 料取:置料取得農置7進行說明。座標資 記憶裝置6中所抽出震置7C’其讀出掃描圖像 的形狀等作為檢;像’將預先設定之特定部位 定部位的座標資i索狀部位,並抽出檢索之特 理,可使用任咅掃描圖像中抽出狀部位之圖像處 案處理等的掃二進行Γ演算法:從圖 用角持之角度纽、錢影f訊等檢索關鍵。 1321709 19340pif.doc 本發明之掃描束裝置可應用於電子朿微量分析儀、掃 描電子顯微鏡、X線分析裝置等。 【圖式簡單說明】 圖1是用以說明本發明之基板檢查裝置之動作的圖 式。 圖2是用以說明本發明之基板檢查裝置之構成例的概 略方塊圖。 圖3是用以說明本發明之基板檢查裝置的座標資料取 得動作之流程圖。 圖4是本發明之基板檢查裝置之顯示器上的顯示畫面 例。 圖5是用以說明本發明之基板檢查裝置之其他構成例 的概略方塊圖。 圖6是用以說明先前之TFT陣列基板檢查裝置中,計 算TFT陣列基板上面板之像素位置的說明圖。 圖7是用以說明檢查對象區域之座標位置之偏移的圖 式。 【主要元件符號說明】 1 :基板檢查裝置 2 :電子束源 3 :平臺 4 :檢出器 5:掃描圖像形成裝置 6 :掃描圖像記憶裝置 20 1321709 19340pif.doc 7 :座標資料取得裝置 7a :指定裝置 7b :座標資料讀出裝置 7c :座標資料抽出裝置 8 :座標資料記憶裝置 9 :控制裝置 10 :掃描圖像 11 : TFT陣列基板 12 :面板 13 : 丁FT陣列 ]4—1〜M — 4 :特定部位 15 : 標記 20 : 顯示裝置 21 : 顯示圖像 2Ja •掃描圖像顯不區域 21b :座標資料區域 21c :Plot按鈕 21d :座標值區域 21e :Point Find Start 按鈕 21f :Next按鈕 21g :Back按鈕 21h :Align區域 21i Apply按紐 21j 、21k、2]]:顯示狀態 21 1321709 19340pif.doc 21 m :導向列表 22 :板圖像 23—]〜23 —4 :角部位
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Claims (1)

  1. U21709 19340pif.doc pf-”办〇| S修正筚正日期:98年7月9 爲第95腦2號时__»_^: •、申請專利範圍: 括 雒板檢查裝置,根據以帶電粒子束對基板進行 、-·. ®仔之掃描圖像’進行基板檢查,其特徵在於包 檢魯it:取得裝置,從上述掃描圖像中取得基板上的 _面^特定部位之座標資料,且上述檢查對象區 指定==== =取得裝置所取得之座標資料, 2. 如申專利範圍第丨項所述之基板檢查裝置, 上述座標資料取得裝置包括·· /、 ^疋裝置’其於已將上述掃描圖像顯示於顯示裝置 的顯不圖像上,指定上述特定部位;以及 j標資料讀出裝置,其從掃描圖像中讀出上述指定之 特疋部位的座標資料。 蠡 3. 如申請專利範圍第i項所述之基板檢查裝置,其 巡座標資料取得裝置包括: 八 ,出裝置’從上述掃描圖像中,藉由資料處 抽出上述特定部位;以及 曰勒 j標資料讀出裝置’從上述掃描圖像中讀出上述抽出 斤抽出之特定部位的座標資料。 4·如申5月專利範圍第i項所述之基板檢查裝置,盆 上述檢查對象區域為矩形區域,並且 八 上述特定部位為上述矩形區域中之四個角部位。 23
    19340pif.d〇c 、5.如申請專利範圍第2項所述之基板檢查裝置,其中 上述檢查對象區域為矩形區域,並且 上述特定部位為上述矩形區域令之四個角部位。 6. 如申讀專利範圍第3項所述之基板檢查裝置,其中 上述檢查對象區域為矩形區域,並且 上述特定部位為上述矩形區域令之四個角部位。 7. 如申請專利範圍第1項所述之基板檢查裝置,其中 上述基板是形成TFT陣列之TFT陣列基板, 上述檢查對象區域是形成有上述TFT陣列上 的面板部分, 登錄由上述座標資料取得裝置所取得之座標資料,並 且 對於使電子束在基板上進行二維掃描所取得之電子束 掃描圖像,根據上述登錄之座標資料,指定上述TFT陣列 基板上特定部位之檢查位置,並對上述面板部分進行檢查。 8·如申請專利範圍第2項所述之基板檢查裝置,其^中 上述基板是形成TFT陣列之TFT陣列基板, 上述檢查對象區域是形成有上述TFT陣列上之TFT 的面板部分, 登錄由上述座標資料取得裝置所取得之座標資料,並 且 對於使電子束在基板上進行二維掃描所取得之電子束 掃描圖像,根據上述登錄之座標資料,指定上述TFT陣列 基板上特定部位之檢查位置,並對上述面板部分進行檢查。 1321709 19340pif.doc 9.如申請專利範圍第3項所述之基板檢查裝置,其中 上述基板是形成TFT陣列之TFT陣列基板, 上述檢查對象區域是形成有上述TFT陣列上之TFT 的面板部分, 登錄由上述座標資料取得裝置所取得之座標資料,並 且 對於使電子束在基板上進行二維掃描所取得之電子束 掃描圖像,根據上述登錄之座標資料,指定上述TFT陣列 基板上特定部位之檢查位置’並對上述面板部分進行檢查。 10如申請專利範圍第4項所述之基板檢查裝置,其中 上述基板是形成TFT陣列之TFT陣列基板, 上述檢查對象區域是形成有上述TFT陣列上之TFT 的面板部分, 登錄由上述座標資料取得裝置所取得之座標資料,並 且
    對於使電子束在基板上進行二維掃描所取得之電子束 掃描圖像,根據上述登錄之座標資料,指定上述巧^ 基板上特㈣奴檢纽置’讀上述面板部分進行檢查。 11·如申請專利範圍第5項所述之基板檢查裝置,其中 上述基板是形成TFT陣列之TFT陣列基板, 上述檢查對象區域是形成有上述TFT陣列上之 的面板部分, 登錄由上述座標資料取得裝置所取得之座標資料,並 25 1321709 19340pif.doc 對於使電子束在基板上進行二維掃描所取得之電子束 掃描圖像,根據上述登錄之座標資料,指定上述TFT陣列 , 基板上特定部位之檢查位置,並對上述面板部分進行檢查。 12.如申請專利範圍第6項所述之基板檢查裝置,其中 上述基板是形成TFT陣列之TFT陣列基板, 上述檢查對象區域是形成有上述TFT陣列上之tft 的面板部分, 登錄由上述座標資料取得裝置所取得之座標資料,並 且 :) 對於使電子束在基板上進行二維掃描所取得之電子束 掃描圖像,根據上述登錄之座標資料,指定上述11;111陣列 基板上狀雜之檢纽置,絲上述面㈣分進行檢查。
    26 1321709 爲第95112092號中文圖式無劃線修正本 炊亇/月8 ί日丫,.丄日期:98年7月9日
    (b)
    1321709
    作〇細正替換頁
    丄 圖2 〕 1321709
    # (開始) Ψ 51 52
    :11321709 21 21a LIJ點擊 ① ④ 、② ③, eT RU點擊 22 21b. LD點擊 RD點擊 (XXX, YYY) 21c Plot ① Plot® m Plot ③ 開始尋我位置 21 e
    -(XXX, YYY) —(ΧΧΧ,ΥΥΥ) -(XXX, YYY) 一 (XXX, YYY) Plot®
    21j Alignl QQ Align2 動作 ① ② ③ ④< -:ί::ί;έ w & |w|;ss + 3 Φ 板 1 02 一_“面板 1 03 (XJ) (X.V) (X, ϋ (x,r) a y) (X. Υ) (Χ,Υ) (Χ,Υ) :〕 1321709
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