JP5472636B2 - Tftアレイ検査装置およびtftアレイ検査方法 - Google Patents
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Description
図3は、本発明のTFTアレイ検査装置の構成例を説明するための概略ブロック図である。図3において、TFTアレイ検査装置1は、電子ビーム源2、ステージ3、検出器4、走査画像取得部5,走査画像記憶部6、座標情報登録更新部7,座標情報記憶部8、制御部9を備える。なお、図3に示す構成例は、荷電ビーム源として電子ビーム源を用いて基板に電子線を照射し、検出器として二次電子を検出する二次電子検出器を用いて基板から放出される二次電子を検出する例を示している。
座標位置の取得の第1の例について図4のフローチャートを用いて説明する。なお、図2で示したフローチャートと共通する工程については同一の符号を用いて説明する。
次に、座標位置の取得の第2の例について図5のフローチャートを用いて説明する。なお、図2で示したフローチャートと共通する工程については同一の符号を用いて説明する。
次に、座標位置の取得の第3の例について図7のフローチャートを用いて説明する。なお、図2で示したフローチャートと共通する工程については同一の符号を用いて説明する。
2 電子ビーム源
3 ステージ
4 検出器
5 走査画像形成部
6 走査画像記憶部
7 座標情報登録更新部
7a 座標情報取得部
7b 登録部
7c 差分算出部
7d 更新部
8 座標情報記憶部
9 制御部
10 走査画像
11 基板
12 パネル
14 特定部位
20 表示部
21 走査画像表示領域
22 パネル像
101 パネル
102 パネルコーナー
102new パネルコーナー
102old パネルコーナー
Claims (10)
- TFTアレイが形成された基板上に荷電ビームを照射して走査し、当該荷電ビーム走査で得られる走査画像に基づいてTFTアレイを検査するTFTアレイ検査方法において、
複数種類のパネルレイアウトのTFTアレイを検査対象とし、
前記複数種類のパネルレイアウトの内の一種類のパネルレイアウトについて、走査画像を取得する走査画像取得工程と、
前記走査画像取得工程で取得した走査画像において、基板上に形成されるパネルの特定部位の座標情報を求め、当該座標情報を登録済みの旧座標情報に代えて登録する登録工程と、
前記登録した座標情報と旧座標情報との差分情報を算出する差分算出工程と、
前記複数種類のパネルレイアウトの内の前記一種類を除く残余の種類のパネルレイアウトについて、各種類のパネルレイアウトのパネルの特定部位の登録済みの旧座標情報を前記差分情報を用いて更新する更新工程とを備え、
前記一種類のパネルレイアウトを有するTFTアレイについては前記登録した座標情報に基づいて荷電ビームを走査し、前記残余の種類のパネルレイアウトを有するTFTアレイについては前記更新した座標情報に基づいて荷電ビームを走査して得られた走査画像に基づいてTFTアレイを検査することを特徴とする、TFTアレイ検査方法。 - 前記座標情報は、走査画像において前記パネルの特定部位の走査系に対する座標位置であり、
前記登録工程は前記座標位置を登録し、
前記差分算出工程は、前記登録した座標位置と登録済みの旧座標位置との差分値を算出し、
前記更新工程は
前記残余の種類のパネルレイアウトにおける座標位置と前記の差分値との加算によって残余の種類のパネルレイアウトにおける座標位置の更新値を算出することを特徴とする、請求項1に記載のTFTアレイ検査方法。 - 前記座標情報は、走査画像の基準位置から前記パネルの特定部位までに照射される荷電ビームのビームドット数であり、
前記登録工程は前記ビームドット数を登録し、
前記差分算出工程は、前記登録したビームドット数と登録済みのビームドット数との第1の差分値を算出し、
前記更新工程は
前記ビームドット数の第1の差分値と、前記一種類のパネルレイアウトにおけるビームドット間のピッチ長との積算によってずれ量を算出し、
前記ずれ量の前記残余の種類のパネルレイアウトにおけるビームドット間のピッチ長による除算によって、前記残余の種類のパネルレイアウトにおけるビームドット数の第2の差分値を算出し、
前記残余の種類のパネルレイアウトにおけるビームドット数と前記第2の差分値との加算によって残余の種類のパネルレイアウトにおけるビームドット数の更新値を算出することを特徴とする、請求項1に記載のTFTアレイ検査方法。 - 前記座標情報は、走査画像の基準位置から前記パネルの特定部位までに照射される荷電ビームのビームドット数であり、
前記登録工程は前記ビームドット数を登録し、
前記差分算出工程は、前記登録したビームドット数と登録済みのビームドット数との第1の差分値を算出し、
前記更新工程は、前記ビームドット数の第1の差分値と、前記残余の種類のパネルレイアウトにおけるビームドット間のピッチ長に対する前記一種類のパネルレイアウトにおけるビームドット間のピッチ長の比率との積算によって残余の種類のパネルレイアウトにおけるビームドット数の更新値を算出することを特徴とする、請求項1に記載のTFTアレイ検査方法。 - 前記パネルの特定部位はパネルコーナーであることを特徴とする、請求項1から4に何れか一つに記載のTFTアレイ検査方法。
- TFTアレイが形成された基板上に荷電ビームを照射して走査し、当該荷電ビーム走査で得られる走査画像に基づいてTFTアレイを検査するTFTアレイ検査装置において、
複数種類のパネルレイアウトのTFTアレイを検査対象とし、
前記複数種類のパネルレイアウトの内の一種類のパネルレイアウトについて、走査画像を取得する走査画像取得部と、
前記走査画像取得部で取得した走査画像において、基板上に形成されるパネルの特定部位の座標情報を求め、当該座標情報を登録済みの旧座標情報に代えて登録する登録部と、
前記登録した座標情報と旧座標情報との差分情報を算出する差分算出部と、
前記複数種類のパネルレイアウトの内の前記一種類を除く残余の種類のパネルレイアウトについて、各種類のパネルレイアウトのパネルの特定部位の登録済みの旧座標情報を前記差分情報を用いて更新する更新部とを備え、
前記一種類のパネルレイアウトを有するTFTアレイについては前記登録した座標情報に基づいて荷電ビームを走査し、前記残余の種類のパネルレイアウトを有するTFTアレイについては前記更新した座標情報に基づいて荷電ビームを走査して得られた走査画像に基づいてTFTアレイを検査することを特徴とする、TFTアレイ検査装置。 - 前記座標情報は、走査画像において前記パネルの特定部位の走査系に対する座標位置であり、
前記登録部は前記座標位置を登録し、
前記差分算出部は、前記登録した座標位置と登録済みの旧座標位置との差分値を算出し、
前記更新部は
前記残余の種類のパネルレイアウトにおける座標位置と前記の差分値との加算によって残余の種類のパネルレイアウトにおける座標位置の更新値を算出することを特徴とする、請求項6に記載のTFTアレイ検査装置。 - 前記座標情報は、走査画像の基準位置から前記パネルの特定部位までに照射される荷電ビームのビームドット数であり、
前記登録部は前記ビームドット数を登録し、
前記差分算出部は、前記登録したビームドット数と登録済みのビームドット数との第1の差分値を算出し、
前記更新部は
前記ビームドット数の第1の差分値と、前記一種類のパネルレイアウトにおけるビームドット間のピッチ長との積算によってずれ量を算出し、
前記ずれ量の前記残余の種類のパネルレイアウトにおけるビームドット間のピッチ長による除算によって、前記残余の種類のパネルレイアウトにおけるビームドット数の第2の差分値を算出し、
前記残余の種類のパネルレイアウトにおけるビームドット数と前記第2の差分値との加算によって残余の種類のパネルレイアウトにおけるビームドット数の更新値を算出することを特徴とする、請求項6に記載のTFTアレイ検査装置。 - 前記座標情報は、走査画像の基準位置から前記パネルの特定部位までに照射される荷電ビームのビームドット数であり、
前記登録部は前記ビームドット数を登録し、
前記差分算出部は、前記登録したビームドット数と登録済みのビームドット数との第1の差分値を算出し、
前記更新部は、前記ビームドット数の第1の差分値と、前記残余の種類のパネルレイアウトにおけるビームドット間のピッチ長に対する前記一種類のパネルレイアウトにおけるビームドット間のピッチ長の比率との積算によって残余の種類のパネルレイアウトにおけるビームドット数の更新値を算出することを特徴とする、請求項6に記載のTFTアレイ検査装置。 - 前記パネルの特定部位はパネルコーナーであることを特徴とする、請求項6から9に何れか一つに記載のTFTアレイ検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2010281839A JP5472636B2 (ja) | 2010-12-17 | 2010-12-17 | Tftアレイ検査装置およびtftアレイ検査方法 |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2012127914A JP2012127914A (ja) | 2012-07-05 |
JP5472636B2 true JP5472636B2 (ja) | 2014-04-16 |
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ID=46645100
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Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP5472636B2 (ja) |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2006112242A1 (ja) * | 2005-04-14 | 2008-12-11 | 株式会社島津製作所 | 基板検査装置 |
JP5152567B2 (ja) * | 2008-01-10 | 2013-02-27 | 株式会社島津製作所 | Tftアレイ検査装置 |
JP5459469B2 (ja) * | 2009-05-22 | 2014-04-02 | 株式会社島津製作所 | Tftアレイの検査方法、およびtftアレイの検査装置 |
JP5429458B2 (ja) * | 2009-05-28 | 2014-02-26 | 株式会社島津製作所 | Tftアレイの検査方法、およびtftアレイの検査装置 |
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