JP5459469B2 - Tftアレイの検査方法、およびtftアレイの検査装置 - Google Patents
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本発明のTFTアレイの検査方法の形態は、荷電粒子ビームをTFTアレイ上で二次元的に走査して、表面電位の走査画像を形成し、この走査画像からTFTアレイの欠陥検査を行うTFTアレイの検査方法である。
図1は、本発明のTFTアレイ検査において、走査画像の取得を説明するための図である。
Claims (10)
- 荷電粒子ビームをTFTアレイ上で二次元的に走査して、表面電位の走査画像を形成し、当該走査画像からTFTアレイの欠陥検査を行うTFTアレイの検査方法であって、
TFTアレイに検査信号を印加して当該TFTアレイに二次元的な所定パターンの電位分布を形成する検査信号印加工程と、
前記検査信号を印加したTFTアレイを二次元的に走査して表面電位の走査画像を形成する走査工程と、
前記走査画像からTFTアレイが接続された各ピクセルの信号強度を検出する信号強度検出工程と、
前記信号強度をデータ処理することによって欠陥ピクセルを抽出するデータ処理工程とを備え、
前記走査工程は、
前記TFTアレイ上において、当該TFTアレイが接続された各ピクセルと同じ大きさの照射領域に対して複数個所に荷電粒子ビームを照射し、
前記信号強度検出工程は、
隣接するピクセルと跨がらない複数個のビーム照射点から得られる走査画像の取得データに基づいて各ピクセルの信号強度を検出することを特徴とする、TFTアレイの検査方法。 - 前記信号強度検出工程は、
前記照射領域に照射した複数のビーム照射点の重心の近傍にあるビーム照射点から得られる走査画像の取得データに基づいて各ピクセルの信号強度を検出することを特徴とする、請求項1に記載のTFTアレイの検査方法。 - 前記信号強度検出工程は、
前記走査画像の電位分布のパターンとピクセル配列との対応関係から両者の位置関係を求め、当該位置関係に基づいて走査画像の走査位置からピクセルの座標を割り出し、
前記割り出したピクセルの座標から各ピクセルの重心位置を算出し、
前記走査画像の取得データの中から前記重心位置の近傍の複数の取得データを抽出し、
算出した複数の取得データを用いて各ピクセルの信号強度を算出することを特徴とする、請求項2に記載のTFTアレイの検査方法。 - 前記信号強度検出工程は、
前記照射領域において、x方向およびy方向にそれぞれ4箇所に荷電粒子ビームを照射し、
前記照射で得られる16個のビーム照射点から走査画像の取得データを取得し、
前記走査画像の取得データの中から前記照射領域の重心の近傍にある4個のビーム照射点の取得データを抽出し、
抽出した4個の取得データに基づいて形成した値をピクセルの信号強度として検出することを特徴とする、請求項3に記載のTFTアレイの検査方法。 - 前記検査信号印加工程の検査信号は、二次元配列される複数のピクセルの内で隣接するピクセル間において、互いに相対的に高い電位と低い電位とを交互に印加する検査信号を印加し、TFTアレイに相対的に高い電位と低い電位が市松パターンで配置される電位分布を形成することを特徴とする、請求項1から4の何れか一つに記載のTFTアレイの検査方法。
- 荷電粒子ビームをTFTアレイ上で二次元的に走査して、表面電位の走査画像を形成し、当該走査画像からTFTアレイの欠陥検査を行うTFTアレイの検査装置であって、
荷電粒子ビームをTFTアレイ上で走査する荷電粒子ビーム源および走査制御部と、
前記荷電粒子ビームの走査によってTFTアレイからTFT基板から放出される二次電子を検出する検出器と、
TFTアレイに検査信号を印加して当該TFTアレイに二次元的な所定パターンの電位分布を形成する検査信号印加部と、
前記検査信号を印加したTFTアレイを二次元的に走査して表面電位の走査画像を形成し、当該走査画像からTFTアレイが接続された各ピクセルの信号強度を検出する信号強度検出部と、
前記信号強度をデータ処理することによって欠陥ピクセルを抽出するデータ処理部とを備え、
前記走査制御部は、前記TFTアレイ上において、当該TFTアレイが接続された各ピクセルと同じ大きさの照射領域に対して複数個所に荷電粒子ビームを照射し、
前記信号強度検出部は、前記走査画像の取得データの内から、隣接するピクセルと跨がらない複数個のビーム照射点から得られる走査画像の取得データを抽出し、当該取得データに基づいて各ピクセルの信号強度を検出することを特徴とする、TFTアレイの検査装置。 - 前記信号強度検出部は、前記走査画像の取得データの内から、前記照射領域に照射した複数のビーム照射点の重心の近傍にあるビーム照射点から得られる走査画像の取得データを抽出し、当該取得データに基づいて各ピクセルの信号強度を検出することを特徴とする、請求項6に記載のTFTアレイの検査装置。
- 前記信号強度検出部は、
前記走査画像の電位分布のパターンとピクセル配列との対応関係から両者の位置関係を求め、当該位置関係に基づいて走査画像の走査位置からピクセルの座標を割り出し、
前記割り出したピクセルの座標から各ピクセルの重心位置を算出し、
前記走査画像の取得データの内から前記重心位置の近傍の複数の取得データを抽出し、
抽出した複数の取得データを用いて各ピクセルの信号強度を算出することを特徴とする、請求項7に記載のTFTアレイの検査装置。 - 前記走査制御部は、前記照射領域において、x方向およびy方向にそれぞれ4箇所に荷電粒子ビームを照射し、
前記信号強度検出部は、前記照射で得られる16個のビーム照射点の取得データから前記照射領域の重心の近傍にある4個のビーム照射点の取得データを抽出し、
抽出した4個の取得データに基づいて形成した値をピクセルの信号強度を検出することを特徴とする、請求項8に記載のTFTアレイの検査装置。 - 前記検査信号印加部が形成する検査信号は、二次元配列される複数のピクセルの内で隣接するピクセル間において、互いに相対的に高い電位と低い電位とを交互に印加する検査信号を印加し、TFTアレイに相対的に高い電位と低い電位が市松パターンで配置される電位分布を形成することを特徴とする、請求項6から9の何れか一つに記載のTFTアレイの検査装置。
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