JP4831525B2 - Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置 - Google Patents

Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4831525B2
JP4831525B2 JP2006053673A JP2006053673A JP4831525B2 JP 4831525 B2 JP4831525 B2 JP 4831525B2 JP 2006053673 A JP2006053673 A JP 2006053673A JP 2006053673 A JP2006053673 A JP 2006053673A JP 4831525 B2 JP4831525 B2 JP 4831525B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
voltage
tft array
tft
gate
pixel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2006053673A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007232979A (ja
Inventor
隆治 西原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2006053673A priority Critical patent/JP4831525B2/ja
Publication of JP2007232979A publication Critical patent/JP2007232979A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4831525B2 publication Critical patent/JP4831525B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Liquid Crystal Display Device Control (AREA)
  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
  • Testing Electric Properties And Detecting Electric Faults (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Description

本発明は、液晶基板等の製造過程等で行われるTFTアレイ検査工程に関し、特に、TFTアレイを検査する際のTFTアレイの駆動に関する。
液晶基板や有機EL基板等のTFTアレイが形成された半導体基板の製造過程では、製造過程中にTFTアレイ検査工程を含み、このTFTアレイ検査工程において、TFTアレイの欠陥検査が行われている。
TFTアレイは、例えば液晶表示装置の画素電極を選択するスイッチング素子として用いられる。TFTアレイを備える基板は、例えば、走査線として機能する複数本のゲートラインが平行に配設されると共に、信号線として記載する複数本のソースラインがゲートラインに直交して配設され、両ラインが交差する部分の近傍にTFT(Thin film transistor)が配設され、このTFTに画素電極が接続される。
液晶表示装置は、上記したTFTアレイが設けられた基板と対向基板との間に液晶層を挟むことで構成され、対向基板が備える対向電極と画素電極との間に画素容量が形成される。画素電極には、上記の画素容量以外に付加容量(Cs)が接続される。この付加容量(Cs)の一方は画素電極に接続され、他方は共通ラインあるいはゲートラインに接続される。共通ラインに接続される構成のTFTアレイはCs on Com型TFTアレイと呼ばれ、ゲートラインに接続される構成のTFTアレイはCs on Gate型TFTアレイと呼ばれる。
このTFTアレイにおいて、走査線(ゲートライン)や信号線(ソースライン)の断線、走査線(ゲートライン)と信号線(ソースライン)の短絡、画素を駆動するTFTの特性不良による画素欠陥等の欠陥検査は、例えば、対向電極を接地し、ゲートラインの全部あるいは一部に、例えば、−15V〜+15Vの直流電圧を所定間隔で印加し、ソースラインの全部あるいは一部に検査信号を印加することによって行っている。(例えば、特許文献1の従来技術。)
TFTアレイ検査装置は、TFTアレイに検査用の駆動信号を入力し、そのときの電圧状態を検出することで欠陥検出を行うことができる。また、液晶の表示状態を観察することによって、TFTアレイの欠陥検出を行っても良い。液晶の表示状態を観察することによってTFTアレイを検査する場合には、TFTアレイ基板と対向電極との間に液晶層を挟んだ液晶表示装置の状態で検査する他に、液晶層と対向電極を備えた検査治具をTFTアレイ基板に取り付けることによって、液晶表示装置に至らない半製品の状態で検査することもできる。
TFTアレイには、その製造プロセス中に様々な欠陥が発生する可能性がある。この欠陥の中には、隣接欠陥と呼ばれるものがある。この隣接欠陥として、横方向で隣接するピクセル間の欠陥(横PPと呼ばれる)、縦方向で隣接するピクセル間の欠陥(縦PPと呼ばれる)、隣接するソースライン間の短絡(SSshortと呼ばれる)、隣接するゲートライン間の短絡(GGshortと呼ばれる)が知られている。
図9は横方向の隣接欠陥を説明するための図である。図9中の破線は、横方向で隣接するピクセル12eoと12eeと間の短絡欠陥(横PP)と、横方向で隣接するソースラインSoとSeとの間の短絡欠陥(SSshort)をそれぞれ示している。
図10は縦方向の隣接欠陥を説明するための図である。図10中の破線は、縦方向で隣接するピクセル12ooと12eoと間の短絡欠陥(縦PP1)、および、縦方向で隣接するピクセル12oeと12eeと間の短絡欠陥(縦PP2)と、縦方向で隣接するゲートラインGoとGeとの間の短絡欠陥(GGshort)をそれぞれ示している。
TFT基板上のTFTアレイを一様に駆動する駆動パターンによって欠陥検査を行った場合には、上記のような隣接欠陥を検出することはできない。そこで、従来の欠陥検査では、隣接欠陥を検出するために、横方向隣接欠陥のための検査パターンと縦方向隣接欠陥のための検査パターンとをそれぞれ独立した検査パターンを用い、それぞれの検査パターンによって横方向隣接欠陥と縦方向隣接欠陥とをそれぞれ独立して検出している。
電子線を用いたTFTアレイ検査装置では、ピクセル(ITO電極)に対して電子線を照射し、この電子線照射によって放出される二次電子を検出することによって、ピクセル(ITO電極)に印加された電圧波形を二次電子波形に変えて、信号によるイメージ化し、これによってTFTアレイの電気的検査を行っている。
図11は横方向隣接欠陥を検出するための検査パターンであり、図13(a),(b)は図11で示す検査パターンで駆動した際に発生するピクセル(ITO)の電圧状態を示している。
横方向隣接欠陥を検出するための検査パターンで駆動した場合には、TFTアレイ上において+電圧のピクセル(ITO)と−電圧のピクセル(ITO)が形成する電圧分布は、縦縞パターンとなる。図13(a)は、例えば図11において1ゲート周期中の第1の期間(図中の1〜5で示す期間)の電圧を印加したとき縦縞パターンを示し、図13(b)は、第2の期間(図中の6〜10で示す期間)の電圧を印加したとき縦縞パターンを示している。
この縦縞パターンは、TFTアレイの縦方向のピクセルを同電圧とし、隣接する縦方向のピクセル列同士は異なる電圧としている。これによって、横方向隣接欠陥を検出する。
図12は縦方向隣接欠陥を検出するための検査パターンであり、図13(c),(d)は図12で示す検査パターンで駆動した際に発生するピクセル(ITO)の電圧状態を示している。
縦方向隣接欠陥を検出するための検査パターンで駆動した場合には、TFTアレイ上において+電圧のピクセル(ITO)と−電圧のピクセル(ITO)が形成する電圧分布は、横縞パターンとなる。図13(c)は、例えば図12において1ゲート周期中の第1の期間(図中の1〜5で示す期間)の電圧を印加したとき横縞パターンを示し、図13(d)は、第2の期間(図中の6〜10で示す期間)の電圧を印加したとき横縞パターンを示している。
この横縞パターンは、TFTアレイの横方向のピクセルを同電圧とし、隣接する縦方向のピクセル列同士は異なる電圧としている。これによって、縦方向隣接欠陥を検出する。
特開平5−307192号公報
上記したように、従来のTFTアレイの検査では、隣接欠陥の検出において、横方向隣接欠陥を検出するために縦縞パターンを用い、縦方向隣接欠陥を検出するために横縞パターンを用いるというように、2種類の検査パターンが必要である。
また、従来の検査パターンでは、TFTアレイ上で検査時のピクセル(ITO)の電圧分布が+電圧のラインと−電圧のラインが交互に現れるため、電圧分布に一方向について周期性があり、電子線照射によってピクセル(ITO)の電圧をシグナルイメージで検出する場合、シグナルイメージにノイズが入りやすく、誤検出の原因となるという問題もある。
そこで、本発明は上記課題を解決して、TFTアレイ検査において、1種類の検査パターンによって隣接欠陥の検出を行うことを目的とする。
また、TFTアレイ検査において、TFTアレイ上において+電圧のラインと−電圧のラインが交互に現れることで発生するノイズによる誤検出を防ぐことを目的とする。
本発明は、TFT基板のTFTアレイに対して電圧を印加することによりTFTアレイの欠陥を検査するTFT基板の検査方法において、TFTアレイの隣接する画素電極に互いに異なる電圧を印加し、二次元配列される画素電極の電圧が縦方向および横方向で交互に異なる電位分布とする。上記した電圧分布は、1ゲート周期内において印加する電圧を交互に切り換えることができる。
この電圧分布によれば、縦方向および横方向の何れの方向においての、隣接するピクセルに印加される電圧は異なるため、1種類の検査パターンによって隣接欠陥の検出を行うことができる。
また、TFTアレイ上で形成される電圧分布はライン状の電圧分布とならないため、+電圧ラインや−電圧のラインが交互に現れることはなく、この電圧分布によるノイズによる誤検出を防ぐことができる。
TFTアレイへの電圧印加は、より詳細には、ゲートをゲートラインに接続し、ソースをソースラインに接続し、ドレインを画素電極に接続するTFTを備えるTFTアレイに対して、複数のゲートラインおよびソースラインをそれぞれ一ライン置きに2つのゲートライン群および2つのソースライン群に分け、2つのソースライン群の間において、互いに時間をずらして駆動電圧を印加し、2つのゲートライン群の間において、互いに時間をずらしてオンパルス信号を印加する。これによって、TFTアレイの隣接する画素電極に互いに異なる電圧を印加する。
1ゲート周期内において、ソースライン群の駆動電圧と、ゲートライン群のオンパルス信号との位相関係を逆関係とすることにより、電圧分布の電圧を交互に切り換えることができる。
この電圧分布における電圧の切り換えは、1ゲート周期内の第1の期間において、一方のソースライン群に正電圧を印加する間に一方のゲートライン群にオンパルス信号を印加し、次に、他方のソースライン群に正電圧を印加する間に他方のゲートライン群にオンパルス信号を印加し、第2の期間において、一方のソースライン群に正電圧を印加する間に他方のゲートライン群にオンパルス信号を印加し、次に、他方のソースライン群に正電圧を印加する間に一方のゲートライン群にオンパルス信号を印加する。
また、本発明のTFT基板の検査装置は、TFT基板のTFTアレイに対して電圧を印加し、当該電圧印加による電圧状態を検出することによりTFTアレイの欠陥を検査するTFT基板の検査装置であり、TFT基板に電子線を照射する電子線源と、TFT基板から放出される二次電子を検出する検出器と、TFT基板のTFTアレイに検査信号を生成し印加する検査信号生成部と、検出器の検出信号に基づいてTFTアレイの欠陥を検出する欠陥検出部とを備える。検査信号生成部は、TFTアレイの隣接する画素電極に互いに異なる電圧を印加し、二次元配列される画素電極の電圧が縦方向および横方向で交互に異なる電位分布とする。
本発明によれば、TFTアレイ検査において、1種類の検査パターンによって隣接欠陥の検出を行うことができる。
また、TFTアレイ検査において、TFTアレイ上において、+電圧のピクセルと−電圧のピクセルが上下左右について交互に現れるため、+電圧のラインと−電圧のラインが交互に現れることがなく、均一なシグナルイメージを得ることができるため、ノイズによる誤検出を防ぐことができる。
以下、本発明の実施の形態について、図を参照しながら詳細に説明する。
図1は、本発明のTFTアレイ検査装置の概略図である。
TFTアレイ検査装置1は、TFT基板10にアレイ検査用の検査信号を生成する検査信号生成部4と、検査信号生成部4で生成した検査信号をTFT基板10に印加するプローバ8と、TFT基板の電圧印加状態を検出する機構(2,3,5)と、検出信号に基づいてTFTアレイの欠陥を検出する欠陥検出部6を備える。
プローバ8は、プローブピンが設けられたプローバフレームを備え、TFT基板10上に載置する等によってプローブピンをTFT基板10上に形成した電極に接触させ、TFTアレイに検査信号を印加する。
TFT基板の電圧印加状態を検出する機構は種々の構成とすることができる。図1に示す構成は、電子線による検出構成であり、TFT基板10上に電子線を照射する電子線源2、照射された電子線によってTFT基板10から放出される二次電子を検出する二次電子検出器3、二次電子検出器3の検出信号を信号処理してTFT基板10上の電位状態を検出する信号処理部5等を備える。
電子線が照射されたTFTアレイは、印加された検査信号の電圧に応じた二次電子を放出するため、この二次電子を検出することによって、TFTアレイの電位状態を検出することができる。
欠陥検出部6は、信号処理部5で取得したTFTアレイの電位状態に基づいて、正常状態における電位状態と比較することによってTFTアレイの欠陥を検出する。
なお、ここでは、TFT基板の電圧印加状態を検出する機構(2,3,5)を用いてTFTアレイの欠陥を検出する構成例を示しているが、TFT基板が液晶表示装置を構成している場合には、検査信号によって液晶を駆動して、検査信号による表示パターンを表示させ、この表示状態を撮像装置で撮像して取得した撮像画像に画像処理することで欠陥検査を行う他、表示像を目視で観察してもよい。また、TFT基板がTFTアレイのみを備える段階の場合には、検査信号を印加する治具に液晶層や対向電極を設けることで一時的に液晶表示装置を構成して、上記のようにして欠陥検査を行っても良い。
検査信号生成部4は、TFT基板10上に形成されるTFTアレイを駆動する検査信号の検査パターンを生成する。この検査パターンについては後述する。
走査制御部9は、TFT基板10上のTFTアレイの検査位置を走査するために、ステージ7や電子源2を制御する。ステージ7は、載置するTFT基板10をXY方向に移動し、また、電子源2はTFT基板10に照射する電子線をXY方向に振ることで、電子線の照射位置を走査する。走査位置が検出位置となる。
なお、上記したTFTアレイ検査装置の構成は一例であり、この構成に限られるものではない。
次に、本発明のTFT基板の検査に用いる検査信号について、Cs on Com型TFTアレイの場合について図2〜図4を用いて説明し、Cs on Gate型TFTアレイの場合について図5〜図7を用いて説明する。
ここで、Cs on Com型TFTアレイは、画素電極に接続される付加容量(Cs)の一方の接続端が共通ライン(Csライン)に接続される構成であり、Cs on Gate型TFTアレイは、画素電極に接続される付加容量(Cs)の一方の接続端がゲートライン(Gateライン)に接続される構成である。
はじめに、Cs on Com型TFTアレイの場合について説明する。
図2は、Cs on Com型TFTアレイの構成を模式的に示している。TFT基板上には、アレイゲートライン14とソースライン15とが交差する部分の近傍のTFTエリア11AにTFTが設けられる。また、隣接するゲートライン14の間には、付加容量(Cs)を接続するCsライン16が設けられる。
図3は、図2に示すCs on Com型TFTアレイの等価回路を示している。図3の等価回路では、ゲートライン14およびソースライン15は、それぞれ偶数番目と奇数番目の2つのライン群に分けて駆動する場合を示している。
奇数番目のゲートライン14oと奇数番目のソースライン15oとが交差する部分の近傍には画素(Pixel)12ooが設けられる。画素(Pixel)12ooの一端はTFT11ooに接続され、他端は付加容量(Cs)13ooに接続される。付加容量(Cs)13ooの他端はCsライン16に接続される。TFT11ooのドレインDは画素(Pixel)12ooに接続され、ゲートGは奇数番目のゲートライン14oに接続され、ソースSは奇数番目のソースライン15oに接続される。
同様に、奇数番目のゲートライン14oと偶数番目のソースライン15eとが交差する部分の近傍には画素(Pixel)12oeが設けられる。画素(Pixel)12oeの一端はTFT11oeに接続され、他端は付加容量(Cs)13oeに接続される。付加容量(Cs)13oeの他端はCsライン16に接続される。TFT11oeのドレインDは画素(Pixel)12oeに接続され、ゲートGは奇数番目のゲートライン14oに接続され、ソースSは偶数番目のソースライン15eに接続される。
また、偶数番目のゲートライン14eと奇数番目のソースライン15oとが交差する部分の近傍には画素(Pixel)12eoが設けられる。画素(Pixel)12eoの一端はTFT11eoに接続され、他端は付加容量(Cs)13eoが接続される。付加容量(Cs)13eoの他端はCsライン16に接続される。TFT11eoのドレインDは画素(Pixel)12eoに接続され、ゲートGは偶数番目のゲートライン14eに接続され、ソースSは奇数番目のソースライン15oに接続される。
また、偶数番目のゲートライン14eと偶数番目のソースライン15eとが交差する部分の近傍には画素(Pixel)12eeが設けられる。画素(Pixel)12eeの一端はTFT11eeに接続され、他端は付加容量(Cs)13eeに接続される。付加容量(Cs)13eeの他端はCsライン16に接続される。TFT11eeのドレインDは画素(Pixel)12eeに接続され、ゲートGは偶数番目のゲートライン14eに接続され、ソースSは偶数番目のソースライン15eに接続される。
したがって、画素(Pixel)12ooには、奇数番目のゲートライン14oのオンパルス信号に応じて奇数番目のソースライン15oの電圧が印可され、画素(Pixel)12oeには、奇数番目のゲートライン14oのオンパルス信号に応じて偶数番目のソースライン15eの電圧が印可され、画素(Pixel)12eoには、偶数番目のゲートライン14eのオンパルス信号に応じて奇数番目のソースライン15oの電圧が印可され、画素(Pixel)12eeには、偶数番目のゲートライン14eのオンパルス信号に応じて偶数番目のソースライン15eの電圧が印可される。
次に、Cs on Gate型TFTアレイの場合について説明する。
図4は、Cs on Gate型TFTアレイの構成を模式的に示している。TFT基板上には、アレイゲートライン14とソースライン15とが交差する部分の近傍のTFTエリア11AにTFTが設けられる。
図5は、図4に示すCs on Gate型TFTアレイの等価回路を示している。図5の等価回路では、ゲートライン14およびソースライン15は、それぞれ偶数番目と奇数番目の2つのライン群に分けて駆動する場合を示している。
奇数番目のゲートライン14oと奇数番目のソースライン15oとが交差する部分の近傍には画素(Pixel)12ooが設けられる。画素(Pixel)12ooの一端はTFT11ooに接続され、他端は付加容量(Cs)13ooに接続される。付加容量(Cs)13ooの他端は偶数番目のゲートライン14eに接続される。TFT11ooのドレインDは画素(Pixel)12ooに接続され、ゲートGは奇数番目のゲートライン14oに接続され、ソースSは奇数番目のソースライン15oに接続される。
同様に、奇数番目のゲートライン14oと偶数番目のソースライン15eとが交差する部分の近傍には画素(Pixel)12oeが設けられる。画素(Pixel)12oeの一端はTFT11oeに接続され、他端は付加容量(Cs)13oeに接続される。付加容量(Cs)13oeの他端は偶数番目のゲートライン14eに接続される。TFT11oeのドレインDは画素(Pixel)12oeに接続され、ゲートGは奇数番目のゲートライン14oに接続され、ソースSは偶数番目のソースライン15eに接続される。
また、偶数番目のゲートライン14eと奇数番目のソースライン15oとが交差する部分の近傍には画素(Pixel)12eoが設けられる。画素(Pixel)12eoの一端はTFT11eoに接続され、他端は付加容量(Cs)13eoに接続される。付加容量(Cs)13eoの他端は奇数番目のゲートライン14oに接続される。TFT11eoのドレインDは画素(Pixel)12eoに接続され、ゲートGは偶数番目のゲートライン14eに接続され、ソースSは偶数番目のソースライン15eに接続される。
また、偶数番目のゲートライン14eと偶数番目のソースライン15eとが交差する部分の近傍には画素(Pixel)12eeが設けられる。画素(Pixel)12eeの一端はTFT11eeに接続され、他端は付加容量(Cs)13eeに接続される。付加容量(Cs)13eeの他端は奇数番目のゲートライン14oに接続される。TFT11eeのドレインDは画素(Pixel)12eeに接続され、ゲートGは偶数番目のゲートライン14eに接続され、ソースSは偶数番目のソースライン15eに接続される。
したがって、画素(Pixel)12ooには、奇数番目のゲートライン14oのオンパルス信号に応じて奇数番目のソースライン15oの電圧が印可され、画素(Pixel)12oeには、奇数番目のゲートライン14oのオンパルス信号に応じて偶数番目のソースライン15eの電圧が印可され、画素(Pixel)12eoには、偶数番目のゲートライン14eのオンパルス信号に応じて奇数番目のソースライン15oの電圧が印可され、画素(Pixel)12eeには、偶数番目のゲートライン14eのオンパルス信号に応じて偶数番目のソースライン15eの電圧が印可される。
図6は、本発明の1ゲート周期内における検査信号の信号パターンを示し、Cs on Com型TFTアレイおよびCs on Gate型TFTアレイに共通して用いることができる。
以下では、Cs on Com型TFTアレイの場合の例を、図7、図8を用いて説明する。
図6に示す検査信号の信号パターンでは、例えば、ゲートライン14(14o、14e)のオンパルス信号を1ゲート周期内において均等な時間間隔で出力し、このときのソースライン15(15o、15e)に印加される電圧を、各交差部分の画素(Pixel)12(12oo,12oe,12eo,12ee)に、各TFT11(11oo,11oe,11eo,11ee)を通して印加する。
このときの、ゲートライン14の電圧とソースライン15の電圧の組み合わせ、および電圧の切り換えによって、各画素(Pixel)12(12oo,12oe,12eo,12ee)に、それぞれ隣接する画素はついて異なる電圧を印加する。
なお、1ゲート周期(図6中の1〜10で示す期間)は任意の時間幅とすることができるが、一例として、例えば16msecとすることができる。
図6では、説明の便宜から1ゲート周期を1〜10の10個の時間間隔で示し、この1ゲート周期を第1の期間(1〜5で示す)と第2の期間(6〜10で示す)に2分し、一方の期間は画素(Pixel)に+電圧を保持させる+電圧保持期間とし、他方の期間は画素(Pixel)に−電圧を保持させる−電圧保持期間としている。図7(a)は第1の期間を示し、図7(b)は第2の期間を示している。
図6(a),(b)は2分割したゲートラインGoとゲートラインGeのオンパルス信号を示し、図6(c),(d)は2分割したソースラインSoとソースラインSeの印加電圧を示している。
第1の期間の図6中の1で示す期間において、はじめにゲートラインGoにオンパルス信号を発生させ(図6(a))、次にゲートラインGeにオンパルス信号を発生させる(図6(b))。このとき、ソースラインSoには、ゲートラインGoのオンパルス信号と対応する期間において+電圧を印加した後に−電圧を印加する(図6(c))。また、ソースラインSeには、ゲートラインGeのオンパルス信号と対応する期間において+電圧を印加した後に−電圧を印加する(図6(d))。
第2の期間の図6中の6で示す期間において、はじめにゲートラインGeにオンパルス信号を発生させ(図6(b))、次にゲートラインGoにオンパルス信号を発生させる(図6(a))。このとき、ソースラインSoには、ゲートラインGeのオンパルス信号と対応する期間において+電圧を印加した後に−電圧を印加する(図6(c))。また、ソースラインSeには、ゲートラインGoのオンパルス信号と対応する期間において+電圧を印加した後に−電圧を印加する(図6(d))。
上記したゲートラインのオンパルス信号とソースラインの印加電圧によって、第1の期間では、図6(e)〜図6(h)中の1〜5に期間に示す+電圧保持と−電圧保持が行われ、第2の期間では、図6(e)〜図6(h)中の6〜10に期間に示す+電圧保持と−電圧保持が行われる。
上記のオンパルス信号と印加電圧により、第1の期間では、画素(ピクセル)12ooと12eeは+電圧に保持され(図6(e)および図6(h)の第1の期間)、画素(ピクセル)12oeと12eoは−電圧に保持される(図6(f)および図6(g)の第1の期間)。図7(a)は、第1の期間での画素(ピクセル)12の電圧状態を示している。図中において、+電圧保持される画素(ピクセル)12ooと12eeは“+”で表示し、−電圧保持される画素(ピクセル)12oeと12eoは“−”で表示している。
また、上記のオンパルス信号と印加電圧により、第2の期間では、画素(ピクセル)12ooと12eeは−電圧に保持され(図6(e)および図6(h)の第2の期間)、画素(ピクセル)12oeと12eoは+電圧に保持される(図6(f)および図6(g)の第2の期間)。図7(b)は、第2の期間での画素(ピクセル)12の電圧状態を示している。図中において、−電圧保持される画素(ピクセル)12ooと12eeは“−”で表示し、+電圧保持される画素(ピクセル)12oeと12eoは“+”で表示している。
図8は、本発明によるTFTアレイにおける検査パターンを示している。図8(a)は、例えば上記した第1の期間における検査パターンを示し、図8(b)は、上記した第2の期間における検査パターンを示している。
各検査パターンにおいて、横方向および縦方向の何れの方向においても、隣接する画素(ピクセル)間では異なる電圧が印加される。
なお、上記説明では、Cs on Com型TFTアレイを例としているが、Cs on Gate型TFTアレイの場合についても同様であるため説明は省略する。
本発明は、液晶製造装置におけるTFTアレイ検査工程の他、有機ELや種々の半導体基板が備えるTFTアレイの欠陥検査に適用することができる。
本発明のTFTアレイ検査装置の概略図である。 Cs on Com型TFTアレイの構成を模式的に示す図である。 Cs on Com型TFTアレイの等価回路図である。 Cs on Gate型TFTアレイの構成を模式的に示す図である。 Cs on Gate型TFTアレイの等価回路図である。 本発明の1ゲート周期内における検査信号の信号パターンを説明するための図である。 本発明の画素(ピクセル)の電圧状態を示す図である。 本発明によるTFTアレイにおける検査パターンを示す図である。 横方向の隣接欠陥を説明するための図である。 縦方向の隣接欠陥を説明するための図である。 横方向隣接欠陥を検出するための検査パターンである。 縦方向隣接欠陥を検出するための検査パターンである。 検査パターンで駆動した際に発生するピクセル(ITO)の電圧状態を示す図である。
符号の説明
1…TFTアレイ検査装置、2…電子源、3…二次電子検出器、4…検査信号生成部、5…信号処理部、6…欠陥検出部、7…ステージ、8…プローブ、9…走査制御部、10…TFT基板、11…TFT、11A…TFTエリア、12…画素電極、13…付加容量、14…ゲートライン、15…ソースライン、16…Csライン。

Claims (6)

  1. TFT基板のTFTアレイに対して電圧を印加し、当該電圧印加による画素電極の電圧状態を検出することによりTFTアレイの欠陥を検査するTFT基板の検査方法であって、
    TFTアレイの隣接する前記画像電極に互いに異なる電圧を印加し、二次元配列される前記画像電極へ印加する電圧縦方向および横方向で交互に異なる電位分布とすることを特徴とする、TFT基板の検査方法。
  2. 1ゲート周期内において、印加する電圧を交互に切り換えることを特徴とする、請求項1に記載のTFT基板の検査方法。
  3. ゲートをゲートラインに接続し、ソースをソースラインに接続し、ドレインを画素電極に接続するTFTを備えるTFTアレイに対して、
    複数のゲートラインおよびソースラインをそれぞれ一ライン置きに2つのゲートライン群および2つのソースライン群に分け、
    前記2つのソースライン群の間において、互いに時間をずらして駆動電圧を印加し、
    前記2つのゲートライン群の間において、互いに時間をずらしてオンパルス信号を印加することによって、TFTアレイの隣接する画素電極に互いに異なる電圧を印加することを特徴とする、請求項1に記載のTFT基板の検査方法。
  4. 1ゲート周期内において、前記ソースライン群の駆動電圧と、前記ゲートライン群のオンパルス信号との位相関係を逆関係とすることにより、前記電圧分布の電圧を交互に切り換えることを特徴とする、請求項3に記載のTFT基板の検査方法。
  5. 1ゲート周期内の第1の期間において、
    一方のソースライン群に正電圧を印加する間に一方のゲートライン群にオンパルス信号を印加し、次に、他方のソースライン群に正電圧を印加する間に他方のゲートライン群にオンパルス信号を印加し、
    1ゲート周期内の第2の期間において、
    一方のソースライン群に正電圧を印加する間に前記他方のゲートライン群にオンパルス信号を印加し、次に、他方のソースライン群に正電圧を印加する間に前記一方のゲートライン群にオンパルス信号を印加することにより、
    前記電圧分布の正電圧と負電圧を交互に切り換えることを特徴とする、請求項3に記載のTFT基板の検査方法。
  6. TFT基板のTFTアレイに対して電圧を印加し、当該電圧印加による画素電極の電圧状態を検出することによりTFTアレイの欠陥を検査するTFT基板の検査装置であって、
    TFT基板に電子線を照射する電子線源と、
    TFT基板から放出される二次電子を検出する検出器と、
    TFT基板のTFTアレイに検査信号を生成し印加する検査信号生成部と、
    前記検出器の検出信号に基づいてTFTアレイの欠陥を検出する欠陥検出部とを備え、
    前記検査信号生成部は、TFTアレイの隣接する前記画素電極に互いに異なる電圧を印加し、二次元配列される前記画像電極へ印加する電圧を縦方向および横方向で交互に異なる電位分布とすることを特徴とする、TFT基板の検査装置。

JP2006053673A 2006-02-28 2006-02-28 Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置 Expired - Fee Related JP4831525B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006053673A JP4831525B2 (ja) 2006-02-28 2006-02-28 Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006053673A JP4831525B2 (ja) 2006-02-28 2006-02-28 Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007232979A JP2007232979A (ja) 2007-09-13
JP4831525B2 true JP4831525B2 (ja) 2011-12-07

Family

ID=38553647

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006053673A Expired - Fee Related JP4831525B2 (ja) 2006-02-28 2006-02-28 Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4831525B2 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5077544B2 (ja) * 2007-09-12 2012-11-21 株式会社島津製作所 Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置
JP5466393B2 (ja) * 2008-11-21 2014-04-09 株式会社島津製作所 Tftアレイの検査方法及びtftアレイの検査装置
CN101750765B (zh) * 2008-12-18 2011-12-28 北京京东方光电科技有限公司 液晶显示器公共电极线断线不良的检测方法
WO2010089856A1 (ja) * 2009-02-04 2010-08-12 株式会社島津製作所 Tftアレイ検査方法およびtftアレイ検査装置
CN101819337B (zh) 2009-02-27 2012-02-29 北京京东方光电科技有限公司 液晶显示器的检测电路和检测方法
CN114486951B (zh) * 2022-02-09 2023-11-21 上海烁泰科技有限公司 一种x线探测器用tft面板测试系统及方法
WO2024083769A1 (en) * 2022-10-17 2024-04-25 Asml Netherlands B.V. Electrical connection testing

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3479171B2 (ja) * 1995-08-07 2003-12-15 石川島播磨重工業株式会社 液晶駆動基板の検査方法
JP2001033813A (ja) * 1999-07-16 2001-02-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 液晶表示装置の検査方法
JP4106193B2 (ja) * 2000-03-06 2008-06-25 株式会社 日立ディスプレイズ 液晶表示装置及びその製造方法
JP4062527B2 (ja) * 2003-05-09 2008-03-19 株式会社島津製作所 Tftアレイ検査装置
JP2006003820A (ja) * 2004-06-21 2006-01-05 Victor Co Of Japan Ltd アクティブマトリクス素子及びその検査方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007232979A (ja) 2007-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5224194B2 (ja) Tftアレイ検査方法およびtftアレイ検査装置
JP5034382B2 (ja) Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置
JP4831525B2 (ja) Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置
JP5628410B2 (ja) 欠陥検査方法、欠陥検査装置、及び基板の製造方法
JP5590043B2 (ja) Tft基板検査装置およびtft基板検査方法
JP2007334262A (ja) Tftアレイ基板の欠陥検出方法、およびtftアレイ基板の欠陥検出装置
JP5077538B2 (ja) Tftアレイ検査装置
JP4853705B2 (ja) Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置
JP5007925B2 (ja) Tftアレイ検査における電子線走査方法
JP5077544B2 (ja) Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置
JP4748392B2 (ja) Tftアレイ基板検査装置
JP2010271237A (ja) Tftアレイの検査方法、およびtftアレイの検査装置
JP5316977B2 (ja) Tftアレイ検査の電子線走査方法およびtftアレイ検査装置
JP2012078127A (ja) Tftアレイ検査装置およびtftアレイ検査方法
JPWO2004109376A1 (ja) アレイ基板の検査方法
JP5466393B2 (ja) Tftアレイの検査方法及びtftアレイの検査装置
JP5196157B2 (ja) Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置
JP4788904B2 (ja) Tftアレイの欠陥検出方法及びtftアレイ欠陥検出装置
JP5423664B2 (ja) Tftアレイ検査装置
JP2007114124A (ja) アレイ基板の検査方法及び装置
JP2015155967A (ja) アレイ基板、アレイ基板の検査方法および表示パネルの検査方法
JP2009277913A (ja) 配線検査方法、配線検査装置、およびtftアレイ検査装置
JP5408540B2 (ja) Tftアレイの検査方法及びtftアレイ検査装置
JP5532442B2 (ja) Tftアレイの欠陥検出方法およびtftアレイの欠陥検出装置
JP2010107423A (ja) Tftアレイ検査装置および画素の信号強度計算方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080507

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110128

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110201

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110304

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110829

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4831525

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110911

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140930

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees