TWI316920B - Pellicle storage container and method of manufacturing same - Google Patents

Description

1316920 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於—種微影用防護薄膜組件的收納容器及 方法，該防護薄膜組件在製造半導體U、印 ； 示器等物品時作為防塵器使用。 丨们土板次疋液曰曰顯 【先前技術】 在LSI等半導體裝置或是液晶顯示器等 、土 ，照射半導體晶圓或者是液晶用玻璃基板以製出二隹巧 呀所使用的光罩或是初縮光罩（以下·僅m f，木惟右此 保持光罩清潔仍相當困難。於光此欲經常 膜組件作為防塵器的方法。雜取在先罩表面貼附防護薄 此時，異物並非直接附著於光罩表 f組件上，只要在微影步驟中將焦點對準光罩於防護薄 ，準防護薄膜組件上的異物，故不會鄕因為焦點 防止異物從外部侵入内空間雖然具有 件本身且在賴空間内料 著於防護薄膜組 此，除了要求防護薄膜組面附著異物。因 保管、輪送時使用的防護_組件卜，更強烈要求 的性能。X，專利文獻J揭示有將 二2有維持該清潔性 組件收納容器内的構造。 ' β Λ 、、、且件固定於防護薄膜 [專利文獻1]登錄實用新案第3023612號公報 【發明内容】 發明所欲解決的問題 如上所述’吾人強烈要求防護薄膜組 叹'内谷斋具有在保管 5 1316920 及輸送防護薄膜組件時，能 此，首重盡量減少形靜^_組件清雜的功能，為 度j冓成防護薄膜組件收納容：通電特性、清潔 件收納容器與防護薄膜的接觸^的接觸’防護薄膜組 組件收納容器其構成材料的材質：b ’=;考慮防護薄膜 組件的固定方法等各式各樣的要素度、通热性以及防護薄膜 本體係由載置防護薄膜組件的容器 性。-般而t，=本ίίϊ件的材質使用樹脂，蓋體具有透明 左右的容器伽射膜組件且外形大小約20— 型。 ^ πσ則疋以片材真空成型方式成 最近隨著液晶用防護薄膜組件的 框架的長邊，或是長邊以及短邊^ 進展’防護薄膜組件 U膜組件，成為大型面板生産=二型防 ===大型化，惟 曲，隨著大型化的趨勢，該彎曲已身重量而彎 觸的問題。 生防射顺件收納容器蓋體與防護薄臈接 本發明係為解決上述該等問韻的甚私 防護薄膜組件收納容器及其製造方種 輸送、收納或取出的操作中可使防/=的在保吕、 會接觸所收納的防護薄膜，且能;、、：^收肩谷器的蓋體不 質。 職且祕止_賴組件挪以維持品 解決問題的方法 為解決上述問題，本發明人研發出以下裝置⑴以及⑷。 1316920 並一併列舉出較佳實施態樣（2)、（3)以及（5)。 〇)—種防護薄膜組件收納容器，其係由用來載置防護薄膜 組件的容器本體，以及，收納該防護薄膜組件並與該容器本體彼 ^在周緣部密合的蓋體所構成，其特徵為：蓋體中央部在密合狀 態時維持平坦狀或是向外凸出形狀。 ()如（1)所s己載的防護薄Μ組件收納容器，其中，該罢 ，以及/或是該容器本體的材質係樹脂，該蓋體以及/或是該容 器本體的表面電阻値在1χ1〇ΐ2Ω/□以下。 (1)或是（2)所記載的防護薄膜組件收納容器，其 ΐ邊體，其可載置該防護薄膜組件框架的長邊以及 短遺口 ^過丨，_酿尺寸大小的大型防賴膜組件。 件收組件㈣容器的製造方法，雜護薄膜組 該防護膜組件的容鉢體，以及，收納 成’其特徵為:包 中，使用之模之防組件收納容11的製造方法，其 蓋體中央部可維持率，係於容器密合狀態中使 發明的效果 或疋向备益外方凸出形狀的程度。 若依上述之本發明（丨）， 組件收納容器蓋體不合所保管、輪送、操作中防護薄膜 薄膜組件污損以維持】質。肩的防護薄膜，並且能防止防護 若依上述實施態樣（ 表面電阻値所賦予的抗靜雷性i除了上述效果之外，藉由上述低 組件收納容器與包裝袋 t起可獲得防止大型液晶防護薄膜 果，其中，與包裝袋^•電累積等防止異物附著的效 收納容器特別是個問題了 硭电累積對大型液晶防護薄膜組件 又，對於（3)所限定 八主丨方4薄膜組件而言，上述效果特 7 1316920 別顯著 若依上述（4)的製造方法，則能適當的製 防護薄膜組件收納容器。 出上述本發明之 【實施方式】 本發明之防護薄膜組件收納容器，係由用 件的容器本體以及用來«該容器本體蓋防f薄膜組 體，其構成容器底板或是托盤，具有一固成。巧本 的周緣部與蓋體周緣部密合再打開，亦 ^ 可使谷裔本體 護薄臈組件完全或是以具有適當移動=度^2將防 體的中央部上。 又7万式固定於容器本 蓋體係一中央部具有膨起部的上蓋，以 容器本體上。當容器本體與蓋體結合成—體時拆於 :納之防護薄膜組件的防護薄膜接觸的狀態下，於 體之間形成防護薄膜組件的收納空間。 、D° a與盍 在此，容H本體上亦可設置取、祕溝，其㈣ 尺寸大小之防護薄膜組件，藉由將不同尺寸大小之防 載置於對應防護薄膜組件框架大小的條溝上，而達到^搖= 動的收納效果（參照特開平10—142772號公報）。 光夕 防護薄膜組件收納容器具有一固定裝置，其用來 的周緣部與蓋體的周緣部相互密合。 D ^ 只要能使蓋體自由裝卸，則吾人可隨意選擇任何步 器本體與蓋體的固定裝置。亦可使用嵌入的方式，其將 ，周緣部上的凸出部’ |人設置在容器本體周邊上的溝二3 能用可開閉的夾鉗作為其他固定裝置將容器本體與蓋體^ = 部夾鉗固定起來。 a 周、、彖 對於構成容器本體以及蓋體的合成樹脂並無特別限制， 宜使用容易成型（包含加熱變形）、容易實施抗靜電處 = 變形的材質為佳。 +易熱 8 1316920 丙烯使:，酸樹脂、聚對苯二曱酸乙二酯樹脂、 ABS )月跑匕了取姊本了烯共聚物（Acrylonitrile Butadiene Styrene， 丙嫌二日取^^樹脂 '聚碳酸_脂、$氯乙稀樹脂、聚 : 樹脂、丙烯—乙烯-苯乙烯樹脂等，作為構成 二二，體以及孤體的合成樹脂材f。該等樹脂如 施過抗靜電處理為佳。 且貝 印組件收納容器整體的輕量化，則容器娜 乂 中好’但是相對的板厚較薄則蓋體頂面 ，。—般而|，蓋體應使用厚度5rnm以下的樹脂， 為佳’使用厚度2〜3mm的樹脂更好。ί夕卜Ϊ 中因為本身重量而彎曲附著於防護薄= 容器本體以及蓋體的表面電阻値宜定… 二。該表面電阻値在lx新□以下更好，特;:巧： 下更好。將容器本體以及/或是蓋體 ΐχΐο12Ω/□以下的抗靜電方式，口 冤阻値3又疋在 =的限制，例如在原 t中调合導電材料，在成型前的板材表面上塗設導電膜 : 本縣喊妓齡面上軸導電輯 從 ，的方式料。調合於成型樹脂巾的導 屬氧化物、導電性聚合物。 ^才匕3巫屬、金 抗靜製造成本的觀點考量，則宜使用實施過 3„塑知為佳。所謂抗靜電處理，例如添加 聚Ϊ酸脂__貞、金細轉）的方法。例如添加了碳黑的 其他抗靜電處理，例如使用高分子合金技術將親水性聚合物 9 1316920 分散於基材樹脂中的處理。基材樹脂包含ABS系樹脂、pMMA系 樹脂以及HIPS系樹脂，親水性聚合物包含聚乙二醇系聚酿胺共聚 物、聚乙二醇曱基丙烯酸酯共聚物、環氧乙烷—環氧氣丙烷共浐 物。例如TORAY (股）、JSR (股）、旭化成工業（股）、、吳^化^ •^業（股）等製造廠商在市面上有販售以上述方式製得的抗靜^ 樹脂。 如上所述，添加了導電填料的塑膠或是將親水性聚合物分 於基材樹脂中的樹脂，均可作為容器本體以及/或 1、 型或射出成型的成型材料使用。 疋』真工成 本务明中可調合於塑膠中的抗靜電劑，在堀宽 PLASTICS AGE ⑽年 u 月號，m〜14 爹考文獻中有記載。又’將親水性聚合物分散於基材樹脂高 分子合金技術，在梅田憲章以及末澤寬典共著「 材料的設計」、_CS AGE ( 1994年4月號，1〇=;工生 以及其茶考文獻中有記載。 、 ㈣係在溫度2代、濕㈣％的環境下測量。測量裝 ί (股）製造的超絶緣計SM—藝。負荷電^ 準。谷器本體以及蓋體測量的位置在容器的内侧’ 二，，則在夾住對角線的交差點（間門部位）並距 端千50mm的位置。 定於f，參關面説明本伽之實施形態，惟本發明並非僅限 成，====== 間’防護薄膜組件8收納於古亥疼閉，气出:：域在閉工 防嗜壤腊…七二？ 閉工間内。防護薄膜組件8係由 m4mm 9 於防4賴組件框^上。與習知防護薄膜組件收納容器相同， 10 1316920 心二在中央部^置高出—階段的載置台以載置防護薄膜組 薄顧杜ΐΐ在載置台的周圍設置承擋部（未經圖示），避免防護 搬運時移動離開載置台。吾人可選擇適當的裝置來 豸1以及蓋體2。該實施態樣具有可將蓋體2其周緣部 上出部敌入固定（散合卡止）於容器、本體1其周緣部 $ $汉a if槽内的構造，將蓋體2覆蓋在容器本體1上並密合 ^成用來收納防護薄膜組件的密閉空間。 能。本發明之防護薄膜組件收納容器的另-實施形 著，其中央部保持幾乎平坦的狀態。其亦與圖1相 ρ方轉碰t體2在成型過程中不會因為本身重量而彎曲附著於 狀°。’而預先將蓋體2頂面的中央部設計製作成凸出形 妝，嶋抵銷本身重量所造成之彎曲量的平緩凸起形 平坦（fat)相麵件收納容器水平放置時，蓋體2頂面逐漸變 f的片姑5 用真：成藤具本體6的成型法。其係使樹脂 ^能拉ν站·^回溫的模具本體6後，再以抽真空孔7形成真空 喊蓋體2成型的方法。若依f知的方法 護 所造成的凹陷深度明(冗;；::;會:^算好因為本_ 八tU4^、^^krL；2 )(參知、04)，再將模具本體6的頂面部 刀製作，向外凸出既定高度⑺的凸㈣狀。 屬膜：T二亥盍體2 ’便能達到防止蓋體2凹陷而附著於防護 溥膜上的效果。預先計算好因為本身重 將模具本體6中繼體2頂面的 斤二：】：欲 =凸出雜，亦即高度丫應設為多大，可由頂面^什=程 材負、厚度、最終與防護薄膜表面的距轉因素來決4、 壯^容=夕9卜相等的密閉狀態中，為了使蓋體2維持平土曰 狀（例不方;圖2)或是向外凸出的形狀（例示於圖圖^高 1316920 素而變動，舉例而言，假設位1 g 、縱横比等因 幅寬w為以⑽麵的話，—方麻皇，=土方的盍體中央部其 〇-〇〇iw^y^〇.2w Ή應在以下範圍内： 等。又’上述幅寬w與防護薄顺件的直徑或是對角線長幾乎相 目士 明的製造方法巾’若以符合上述關係式的方Ο定;r 納容器:形狀，便能適當地製造出本發明的防護薄膜㈣ΐ [實施例] 明ίϊ明的實施例，惟本發明並非僅限定於此。 膜組防護薄 構成，二者f要係由备為本體1與容器蓋體2所 電略^雜的卿脂（表面 使因 於防護薄臈3上。 /成凸出形狀，如此頂面便不會附著 防護薄膜組件收納容器1G ’其蓋體2的頂面設計成平 哺_為糊本身重量所造成的f曲量而呈 成型5呈製ϊ本發明之蓋體2的真空成型模具。真空 體一用來_ :成崎平放‘;： 在外侧尺寸782x474x6mm且係紹合金製的防護薄膜組件框 12 1316920 罙4的ϋ而面上塗布石夕氧樹脂黏著劑作為防護 -端面上塗布梦氧樹脂黏著劑（商品名KRln Μ，在另 為光罩黏^ ’加熱使其硬化，然後以旋^塗Ϊ、ίί^) 來合物（商品名Cyt〇p ,旭硝子（股）製）繁 /將贶系 2膜3，將其貼附於該防護薄膜組件框架即，護 件8，將該組件收納於該等防護薄膜组件收納容器1〇卜 加^之間往返空運’並計算運送前後之防護薄膜3上的ίίΐ …級100的無塵室内從防護薄膜組件收納容器10將㈣讀 胰，'且件8取出，並在暗室内用40萬勒克司的光昭射太方。又溥 膜3表面異物增加數量，發猶㈣膜3並無損^蔓薄 且亦未發現構成防護薄膜組件8的零 -^ 3 SJ〇SXKM/M〇DEL775 ^ [比較例1] 如圖4所示的，在不考慮因為蓋體2本身重 的情況下’製作賴細組件⑽容器 ：二 J ^σΚ ^ =二所衣作，結果，*成型品水平放置時蓋體頂 方穹曲，凹陷深度X為13mm。 央使内下 ^外侧尺寸782x474x6mmj^g合金製的防護_ 木4的-端面上塗布魏樹脂黏著劑作為防護薄膜接^劑♦ -端面上塗布石夕氧樹脂黏著劑（商品名KR12〇,信越化學^ ^ 作為光罩黏著劑’加熱使其硬化，織賤觀布法將氣 物（商品名cyt0p，旭蹲子（股）製）製成厚度約4叫的防嚀 薄膜3 :將其贴附於該防護薄膜組件框架4上，即製得防護組 件，將該組件收納於該防護薄膜組件收納容器中，在東京二、岡 之間往返空運，並計算運送紐之防護_ 3上的異物增加數田量。 13 1316920 組件内從防護薄膜組件收納容器將防護薄膜 表面，在防護光照射，檢查防護薄膜3 加了無數ΙΟμπα以上㈣25麵_觸痕，其周圍增 測量運详徭阽嚐翎的異物。又’用ION SYSTEM/MODEL775 測夏運达後防4賴3的帶電量為—斑V。 【圖式簡單說明】

圖。圖絲不本發明之防護薄膜組件收納容器—實施例的剖面 面圖圖係、表不本發明之防護薄膜組件收納容器其他實施例的剖 的剖;圖ί、表τ使本發明糊蓋體成ϋ之真空成韻具其一範例 W4係一般防護薄膜組件 圖5係-般真空成型模具 【主要元件符號說明】 1容器本體 2蓋體 3防護薄膜 4防護薄膜組件框架 5片材 (真空成型）模具本體 抽真空孔 10 W X Υ 防護薄膜組件 ^ 5蒦溥膜組件收納容器 1體中央部的幅寬 而凹陷的深度 t央部水平成型的蓋體因本身重量 中央部向外抵似之變形的高度 14

Claims (1)

1316920 十、申請專利範圍： 防護薄膜組件收納容器’係由用來載置防護薄膜址件的容 部密t的蓋體所構成，其碰為：干…‘。本體彼此在周緣 盖體甲央部在密合狀態中維持平坦狀或是向外凸出形狀。 2、 =利範圍第〗項之防護薄膜組件收納容器，其中， e ί體以及/或是該蓋體的材質係樹脂，該容器本，以 及/或疋该蓋體的表面電阻値在1χ1〇12〇/□以下。°豆 3、 如申^專利範圍第i或2項之防護薄膜組件 短邊2載置該防護薄膜組件框架的長邊以及 口超k，〇〇〇mm尺寸大小的大型防護薄膜組件。 4、 一種防護薄膜組件收納容器的製造方法， 體==細與= ^含-成型步驟，其使用具有凸狀表面的模呈本 * 成型法將蓋體成_片材料製作成蓋體。、，、叫由真工 器的製造方法， 5、如申請專利範圍第4項之防護薄膜組件收納容 具中5 其使用之模具本體所具有的凸狀曲率 j盖體中央部可轉平坦狀或是向容it外方凸出形^=態中 十一、圖式 15