TWI309223B - Substrate transfer apparatus - Google Patents

Description

1309223 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於在臂構件上載置被處理基板，對於基板 處理部進行被處理基板的搬入、搬出之基板運送裝置。 【先前技術】 在例如LCD之製造，藉由在對於被處理基板之LCD 基板形成預定膜後，塗佈光阻劑液，形成光阻膜，對應電 路圖案來將光阻膜曝光，將此稱爲顯像處理之所謂的微影 技術來形成電路圖案。在此微影技術，被處理基板之LCD 基板的主要製程，爲經由洗淨處理+脫水烘熱+黏著（疏 水化）處理4光阻劑塗佈·>前烘熱（prebake) 曝光4顯 像◊後烘熱之一連串的處理，在光阻劑層形成預定電路圖 案。 這種處理係藉由以下處理系統來進行：該處理系統爲 _ 0在意識著處理流程（process flow)的形態下將進行基板 處理的各處理單元配置於運送路徑的兩側，以配置一個或 複數個藉由可進行於運送路徑的基板運送裝置來對於各處 理單元進行被處理基板的搬入、搬出之處理塊。這種處理 系統，基本上係爲自由存取，故處理的自由度極高。 在前述基板運送裝置，通常具備有用來載置被處理基 板之臂構件。此臂構件係爲了對於各處理單元進行被處理 基板之搬入、搬出，而可朝XYZ方向移動，且可朝水平 方向自由迴轉地加以設置著。 -4- (2) 1309223 然而，當在前述臂構件上載置被處理基板，對於各處 理單元搬入基板之際，當在臂構件與基板之間產生間隙或 晃動時，會有基板會傾斜而產生基板搬入錯誤，造成良品 率降低之虞。因此，被提案有：在臂構件的上面設置用來 吸著保持基板的複數個吸著墊片，以提昇基板與臂構件之 間的吸著性之基板運送裝置。

關於這種基板運送裝置，例如專利文獻1 (日本特開 平1 0-3 1 6242號公報）所揭示者。 \

V V 〔專利文獻1〕日本特開平1 0-3 1 6242號公報（第3 頁右欄段落16至第4頁右欄段落21、圖2 - 【發明內容】 . 〔發明所欲解決之課題〕 然而，在近年，伴隨著大型顯示器等的需求增加， LCD基板等的被處理基板大型化。若根據前述般具有吸著 # φ墊片之臂構件的話，雖可充分對應不會因自重產生彎曲之 小的被處理基板，但對於大型之被處理基板，會受到其自 重，在基板容易產生翹曲、起伏，因該影響造成無法以所 有的吸著墊片同時地吸著基板面之問題。 « 即，在基板產生翹曲等之際，由於吸著墊片會沿著該 翹曲而無法適當地傾斜，故無法適當地吸著基板。其結果 ，造成基板進一步傾斜，產生晃動而使基板損傷。 本發明係有鑒於前述情事而開發完成之發明，其目的 在於提供：針對在臂構件上載置被處理基板，對於基板處 (3) (3)

1309223 理部進行被處理基板的搬入、搬出之基板運送裝置 爲大型被處理基板，也能藉由設置於臂構件上的吸 來確實地吸著基板面，能使基板不會晃動地確實地 持之基板運送裝置。 〔用以解決課題之手段〕 爲了解決前述課題，本發明之基板運送裝置， %具備具有複數個吸著墊片的臂構件，在前述吸著墊 置被處理基板，對於基板處理部進行被處理基板之 搬出之基板運送裝置，其特徵爲：具備使前述吸著 動之振動手段、用來驅動前述振動手段之振動驅動 及進行前述振動驅動手段的動作控制之控制手段， 制手段係在將被處理基板載置到前述吸著墊片之際 前述振動驅動手段使前述振動手段作動，而使吸著 動。 若根據這種結構的話，在將基板載置到臂構件 ，能夠藉由振動手段也就是磁鐵及線圏來使吸著墊 。藉此，在載置大型基板之際，能夠使以往之僅載 法正確地傾斜之吸著墊片與基板面接觸，又，藉由 使基板面吸著於吸著墊片。 因此，藉由臂構件上的所有之吸著墊片吸著基 能確實地保持基板，故能夠抑制運送基板之際的基 、晃動等。 再者，前述振動手段，亦可具有設置於前述吸 ，即使 著墊片 加以保 係針對 片上載 搬入、 墊片振 手段、 前述控 ，藉由 墊片振 上之際 片振動 置而無 接觸能 板面， 板傾斜 著墊片 -6- 1309223

之簧片閥（reed valve)，前述振 於前述簧片閥進行空氣的導出或空 振動，以將吸著墊片振動。 或，亦可前述振動手段具有設 承接構件，前述驅動皺動手段藉由 出空氣，來使風承接構件振動，以 或，前述振動手段亦可藉由使 >前述吸著墊片振動。 或，亦可藉由在前述吸著墊片 空氣的導出或空氣的吸引之開口部 由前述開口部進行導出動作或吸引 片振動。 此時，經由前述開口部進行導 制係藉由前述控制手段，針對各自 進行爲佳。 又，涮控制手段係在進行前述 性地反復進行空氣的導出、停止的 動手段爲佳，在進行前述吸引動作 進行空氣的吸引、停止的方式來控 佳。 藉由前述任一的振動手段，能 動。因此，在載置大型基板之際， 無法正確地傾斜之吸著墊片與基板 能使基板面吸著於吸著墊片。 動驅動手段亦可藉由對 氣的吸引，來使簧片閥 置於前述吸著墊片之風 對於前述風承接構件導 將吸著墊片振動。 前述臂構件振動，來使 的吸著面形成用來進行 ，前述振動驅動手段經 動作，來使前述吸著墊 出動作或吸引動作之控 複數個吸著墊片個別地 導出動作之際，以周期 方式來控制前述振動驅 之際，以周期性地反復 制前述振動驅動手段爲 夠有效地使吸著墊片振 能夠使以往之僅載置而 面接觸，又，藉由接觸 -7- (5) 1309223 〔發明效果〕 若根據本發明的話，針對在臂構件上載置被處理基板 ，對於基板處理部進行被處理基板的搬入、搬出之基板運 送裝置，能夠獲得：即使爲大型被處理基板，也能藉由設 置於臂構件上的吸著墊片來確實地吸著基板面，能使基板 不會晃動地確實地加以保持之基板運送裝置。

【實施方式】 以下，根據圖面說明關於本發明之第一實施形態。圖 1係顯示具備本發明的基板運送裝置之光阻劑塗佈顯像處 理裝置的全體結構之平面圖。 此光阻劑塗佈顯像處理裝置1 00係具備：載置用來收 容被處理基板的複數個LCD基板G(以下稱爲基板G) 的複數個匣盒C之匣盒站1、具備有複數個用來在基板G φ上實施處理液之光阻劑液的塗佈及顯像之一連串的處理的 處理單元之處理站2、用來在與曝光裝置4之間進行基板 G的轉接之介面站3。 又’在前述處理站2的兩端，分別配置前述匣盒站1 及介面站3。又，在圖1中，將光阻劑塗佈顯像處理裝置 1〇〇的長方向稱爲X方向，在平面上與X方向正交的方向 稱爲Y方向。 匣盒站1係爲了在匣盒C與處理站2之間進行基板G 的搬入搬出’而具備本發明之基板運送裝置11。此基板 -8 - (6) 1309223 運送裝置11係具有後述的臂構件，可移動於沿著匣盒c 的排列方向之Y方向設置之運送路徑10移動，藉由前述 臂構件’在匣盒C與處理站2之間進行基板G的搬入搬 出。 再者’本發明之基板運送裝置，係不僅使用於基板運 送裝置1 1 ’亦適用於在光阻劑塗佈顯像處理裝置丨〇〇藉 由臂構件進行基板運送之所有的基板運送裝置。

處理站2係具有延伸於X方向之基板〇運送用之平 行的2列運送線a、B，沿著運送線A由匣盒站1側朝介

面站3 ’排列著擦洗清潔（SCrUb clean)處理單元（SCR )21、第1熱處理單元區段26、光阻劑處理單元23及第 2熱處理單兀區段27的一部分。 再者，在摩擦洗淨處理單元（SCR ) 21上的一部分， 設置有激分子UV照射單元（e-UV ) 22。 又，沿著運送線B由介面站3側朝匣盒站1配置有： β φ第2熱處理單元區段27的一部分、顯像處理單元（DEV )24、i線UV照射單元（i-UV) 25及第3熱處理單元28 又，在處理站2，以構成前述2列運送線A、B地， 且基本上形成處理順序地配置各處理單元及基板運送裝置 ，在這些運送線A ' B之間’設置空間部40。然後設置可 在此空間部40往復移動地作爲基板運送裝置之梭動器（ shuttle) 41，此梭動器41構成藉由臂構件可保持基板G ，在與運送線A、B之間可進行基板G之轉接。 -9- (7) 1309223 又，介面站3係具有：在處理站2與曝光裝置4之間 進行基板G的搬入搬出之基板運送裝置42、配置有緩衝 匣盒之緩衝台（BUF ) 43、及具備冷卻空能之基板轉接部 也就是延伸冷卻台（EXT · COL ) 44’上下積層有序號機 (TITLER)與周邊曝光裝置（EE)之外部裝置塊45鄰接 ' 設置於基板運送裝置42。再者，基板運送裝置42係具備 臂構件42a，藉由此臂構件42a，在處理站2與曝光裝置 4之間進行基板G的搬入搬出。 在如此構成之光阻劑塗佈顯像處理裝置1〇〇，首先配 置於匣盒站1的匣盒C內之基板G藉由基板運送裝置11 搬入至處理站2後，其次進行根據激分子UV照射單元（

* e-UV ) 22之擦洗前處理、根據擦洗清潔處理單元（SCR • ) 2 1之擦洗清潔處理。 其次，基板G搬入至屬於第1熱處理單元區段26之 熱處理單元塊（TB) 31、32，進行一連串之熱處理（脫 ® φ水烘熱處理、疏水化處理等）。再者，在第1熱處理單元 區段26內之基板運送係藉由具有臂構件之基板運送裝置 3 3來進行的。 然後，基板G被搬入至光阻劑處理單元23，實施光 阻液的膜形成處理。在此光阻劑處理單元23，首先在光 阻劑塗佈裝置（CT ) 23a，於基板G塗佈光阻劑液，接著 在減壓乾燥單元（V D ) 2 3 b進行減壓乾燥處理。

在光阻劑處理單元23之光阻成膜處理後，基板G被 搬入至屬於第2熱處理單元區段27之熱處理單元塊（TB -10- 1309223

)34、35，進行一連串之熱處理（前烘熱處理等）。再者 ，在第2熱處理單元區段27內之基板運送係藉由具有臂 構件之基板運送裝置3 6來進行的。

其次，基板G藉由基板運送裝置36運送至介面站3 之延伸冷卻台（EXT · COL ) 44’藉由基板運送裝置42 運送至外部裝置塊45之周邊曝光裝置（EE)。在該處對 於基板G進行用以除去周邊光阻劑之曝光’接著藉由基 板運送裝置42運送至曝光裝置4’將基板G的光阻膜曝 光，以形成預定的圖案。再者’根據情況’將基板G收 容至緩衝台（BUF) 43上的緩衝匣盒後運送至曝光裝置4 當曝光結束後，基板G藉由介面站3之基板運送裝 置42，運送至外部裝置塊45的上段之序號機（TITLER) ，在基板G上記入預定資訊。然後，基板G被載置到延 伸冷卻台（EXT· COL) 44，由該處再次運送至處理站2 。然後，藉由例如滾軸運送機構來將基板G運送至顯像 處理單元（DEV ) 24，在該處進行顯像處理。 在顯像處理後，基板G由顯像處理單元（DEV ) 24 搬入至i線UV照射單元（i-UV ) 25，對於基板G進行脫 色處理。然後，基板G被運送至第3熱處理單元28，在 熱處理塊（TB) 37' 38，實施一連串之熱處理（後烘熱 處理等）。再者，在第3熱處理單元28內之基板運送係 藉由具有臂構件之基板運送裝置39來進行的。 然後，在基板G於第3熱處理單元2 8被冷卻至預定 -11 - (9) 1309223 溫度後，藉由匣盒站1之基板運送裝置11收容至預定的 匣盒C。 接著，說明關於本發明之基板運送裝置°如前所述’ 本發明之基板運送裝置’係分別適用於在光阻劑塗佈顯像 處理裝置100藉由臂構件來進行基板運送之所有的基板運 送裝置也就是基板運送裝置11、33、36、39、42、梭動 器41。

以下，以作爲本發明的基板運送裝置之前述基板運送 裝置11、33、36、39、42、梭動器41中的基板運送裝置 11爲例加以說明。 圖2係顯示基板運送裝置1 1的全體結構之斜視圖。 基板運送裝置11係具備有安裝於基座（base) 50的前面 • 之2支臂構件5 1。 基座50係在圖2中，支承於使基座50朝水平方向移 動來使臂構件51前進及後退之進退機構52°進退機構52 β ·係藉由可自由旋轉且自由升降於其下面的旋轉升降機構 53來支承。且，旋轉升降機構53係設置於沿著敷設於運 送路徑10的軌道54朝X軸方向移動之橫移動機構55上 藉由這種結構，基座50係朝ΧΥ方向移動且朝垂直 方向（Ζ方向）升降，並且以垂直軸爲中心來朝水平方向 迴旋。 其次，根據圖3及圖4，詳細地說明關於臂構件5 1。 圖3係圖2的臂構件51之平面圖、圖4係圖3所示的臂 -12- (10) 1309223 構件51之D-D斷面圖。 如圖3所示，在臂構件51的上面，設置複數個吸著 墊片56。在這些吸著墊片56，設置有後述的振動手段， 該振動手段藉由振動驅動手段5 7來作動。又，振動驅動 手段5 7係藉由控制手段5 8來控制其動作。 在此結構，當將基板G載置到臂構件51之吸著墊片 5 6上之際，藉由控制手段5 8對於振動驅動手段5 7發行 驅動命令，振動驅動手段5 7使設置於吸著墊片5 6之振動 手段作動。 在此，根據圖4說明關於吸著墊片56及前述振動手 段。如圖4的斷面圖所示，各吸著墊片56係設置於形成 ' 在臂構件51上的圓形凹部51a。在凹部51a，設置有其中 • 央開口之基座構件80，在該開口部分，設置有支承墊片 本體60之墊片支承構件61。 藉由樹脂構件等所形成之墊片支承構件61係大致呈 圓筒狀，在其周圍藉由捲繞導線來設置線圈62。且，在 設有線圏62的部位之上方，形成蛇腹形狀等之伸縮部 . 6 1 a，來使欲支承之墊片本體60變得容易振動。 _ 又，在臂構件51之下部，設置有連接到前述振動驅 動手段5 7之電氣性配線63。由電氣性配線63拉引出配 線63a、63b，這兩條配線分別被連接到線圈62之端部。 又，在基座構件80上也就是墊片支承構件61之周圍 ，固定設置有甜甜圈狀之磁鐵64。 即，藉由經由電氣性配線63使電流流動於線圈62來 -13- (11) 1309223 產生磁場，使其與受到被固定的磁鐵64所產生之磁場相 斥，來使墊片本體60振動。如此，藉由磁鐵64及線圈 62來構成振動手段。 又，在臂構件5 1的凹部5 1 a之底面形成開口部5 1 b ，在墊片本體60形成開口部60a。即，由開口部5 1 b至 開口部60a形成導通狀態。在開口部5 1 b的側面形成未圖 示之連通孔，藉由根據連接於該連通孔的吸引手段（未圖 示）之空氣的吸引動作，使墊片本體60上的基板G變得 容易被吸著。 在如此結構，當將基板G載置於吸著墊片56上時， 如前所述，振動驅動手段5 7使振動手段振動。即，振動 ' 驅動手段5 7係將電流供給至電氣性配線63，使線圈62 * 振動。其結果，受到墊片支承構件61所支承的墊片本體 6 0振動。 以往的話，則當將大型基板G載置到臂構件5 1時， 胃φ會有：基板面不會吸著於所有的吸著墊片56，在一部分 的吸著墊片5 6與基板面之間會產生間隙之虞。但，若根 據前述結構的話，藉由吸著墊片56振動，能夠使僅載置 而無法適當地傾斜之吸著墊片、與基板面接觸，又，藉由 使其接觸，能夠將基板面吸著於吸著墊片5 6。 若根據以上說明過的第一實施形態的話，由於藉由臂 構件5 1上的所有之吸著墊片5 6吸著基板面，能確實地保 持基板G，故能夠抑制運送基板時之際的基板傾斜、晃動 等。其結果，可提升良品率及生產性。 -14- (12) 1309223 接著，說明關於本發明之基板運送裝置的第二實施形 態。再者，在第二實施形態，由於僅吸著墊片56的結構 、及振動驅動手段57的動作內容與前述第一實施形態不 同，故針對其他共通部分，以相同符號顯示，且省略其詳 細說明。又，在以下的說明，使用在說明第一實施形態時 所使用之圖1至圖3。 圖5係圖3的臂構件51之D-D斷面圖，顯示第二實 施形態之吸著墊片56的斷面。 在圖5，在形成於臂構件51上之凹部51a，設置有其 中央開口之基座構件81、82，藉由基座構件81、82，來 固定用來支承墊片本體60之墊片支承構件65。 ' 藉由彈性體例如橡膠構件等所形成之墊片支承構件 . 65，係大致呈圓筒狀，在其開口的上面安裝有簧片閥66 之一端66a。此簧片閥66之另一端66b係開放的，藉由 對於簧片閥66的下面進行空氣的導出或空氣的吸引，來 使得簧片閥66振動。 又，在簧片閥66之下方，設置有用來對於簧片閥66 的下面進行空氣的導出或空氣的吸引之通風管67，此通 風管67連接於振動驅動手段57。再者，在第二實施形態 ，藉由簧片閥66、通風管67構成振動手段。 在這種結構，當將基板G載置到吸著墊片5 6上時， 如前所述，振動驅動手段5 7使振動手段振動。即，振動 驅動手段57對於通風管67進行空氣的導出或空氣的吸引 動作，來使簧片閥66振動。其結果，受到墊片支承構件 -15- (13) 1309223 65所支承之墊片本體60振動。 以往的話，則當將大型基板G載置到臂構件5 1時， 會有：基板面不會吸著於所有的吸著墊片56，在一部分 的吸著墊片5 6與基板面之間會產生間隙之虞。但’若根 據前述結構的話，藉由吸著墊片56振動’能夠使僅載置 而無法適當地傾斜之吸著墊片、與基板面接觸，又，藉由 使其接觸，能夠將基板面吸著於吸著墊片5 6 »

若根據以上說明過的第二實施形態的話，與第一實施 形態同樣地，由於藉由臂構件5 1上的所有之吸著墊片56 吸著基板面，能確實地保持基板G，故能夠抑制運送基板 時之際的基板傾斜、晃動等。其結果，可提升良品率及生 ' 產性。 - 接著，說明關於本發明之基板運送裝置的第三實施形 態。再者，在第三實施形態，由於僅吸著墊片56的結構 、及振動驅動手段57的動作內容與前述第一實施形態不 ® @同，故針對其他共通部分，以相同符號顯示，且省略其詳 細說明。又，在以下的說明，使用在說明第一實施形態時 所使用之圖1至圖3。 圖6係圖3的臂構件51之D-D斷面圖，顯示第二實 施形態之吸著墊片5 6的斷面。 在圖6，在形成於臂構件5 1上之凹部5 1 a，設置有其 中央開口之基座構件83、82，藉由基座構件83、82，來 固定用來支承墊片本體60之墊片支承構件68。 在前述墊片本體60的周緣部，形成有用來承接由其 •16- (14) 1309223 下方所導出之空氣之風承接部60b。然後，貫通前述基座 構件83以設置空氣導出路徑69，對於前述風承接部6〇b 來例如周期性地反復進行空氣的導出與停止，來使墊片本 體6 0振動。 又’前述空氣導出路徑69係連接於振動驅動手段57

，振動驅動手段57將空氣供給至空氣導出路徑69。再者 ’在第二實施形態，藉由風承接部60b、空氣導出路徑69 來構成振動手段。 在追種結構’當將基板G載置到吸著墊片56上時， 如前所述’振動驅動手段5 7使振動手段振動。即，振動 驅動手段57由空氣導出路徑69進行空氣之導出，來使墊 片本體60振動。 如此，若根據前述結構，藉由吸著墊片56振動，能 夠使僅載置而無法適當地傾斜之吸著墊片、與基板面接觸 ’又，藉由使其接觸’能夠將基板面吸著於吸著墊片56

若根據以上說明過的第三實施形態的話，也由於藉由 臂構件51上的所有之吸著墊片56吸著基板面，能確實地 保持基板G，故能夠抑制運送基板時之際的基板傾斜、晃 動等。其結果，可提升良品率及生產性。 接著，說明關於本發明之基板運送裝置的第四實施形 態。再者，在第四實施形態，由於僅吸著墊片5 6的結構 、及振動驅動手段5 7的動作內容與前述第一實施形態不 同，故針對其他共通部分，以相同符號顯示，且省略其詳 -17- (16) 1309223 載置到臂構件51上之際，藉由周期性（脈動）之空氣的 吸引、或空氣的導出動作，來使作爲振動手段之墊片本體 60振動。藉此，在載置了大型基板G之際，能夠使以往 之僅載置而無法適當地傾斜之吸著墊片、與基板面接觸， 又，藉由使其接觸，能夠將基板面吸著於吸著墊片56。 因此，由於藉由臂構件51上的所有之吸著墊片56吸 著基板面，能確實地保持基板G，故能夠抑制運送基板時 之際的基板傾斜、晃動等。其結果，可提升良品率及生產 性。 再者，在前述第四實施形態，亦可針對設置於臂構件 51上之複數個吸著墊片56，來自於該墊片本體60的開口 部60a之空氣的吸引動作與空氣的導出動作，能在各吸著 墊片5 6個別地控制。亦即，在一方的吸著墊片，進行空 氣的吸引動作，在另一方的吸著墊片進行空氣的導出動作

又，在前述第一至第四實施形態，顯示各吸著墊片 5 6具有振動手段之結構，但在本發明之基板運送裝置不 限於此。例如，亦可將如圖2所示的進退機構52或旋轉 升降機構5 3作爲振動手段，驅動這些使臂構件51振動， 其結果使各吸著墊片5 6振動。 又，在前述第一至第四實施形態，以基板運送裝置 11的吸著墊片56爲例進行了說明，但在第~至第四實施 形態所說明之吸著墊片5 6的結構，亦適用其他具備臂構 件之基板運送裝置也就是基板運送裝置33、36、39、42 -19- (17) 1309223 、梭動器4 1。 再者，在前述實施形態，作爲具備本發明之基板運送 裝置的基板處理裝置，以在LCD基板塗佈形成光阻膜之 裝置爲例，但不限於此，亦可適用於任意的基板處理裝置 。又，本發明之被處理基板不限於LCD基板，亦可爲半 導體晶圓、CD基板、玻璃基板、光罩、印刷基板等。

本發明係能適用於藉由臂構件來運送LCD基板或半 導體晶圓等之任意的基板運送裝置，在半導體製造業、電 子裝置製造業等能理想地使用。 ^ 【圖式簡單說明】 圖1係顯示具備本發明之基板運送裝置的光阻劑塗佈 顯像處理裝置的全體結構之平面圖。 # φ 圖2係顯示作爲基板運送裝置之梭動器的全體結構之 斜視圖。 圖3係圖2的臂構件之平面圖。

圖4係在第一實施形態，圖3所示的臂構件之D-D 斷面圖。 圖5係在第二實施形態，圖3所示的臂構件之D-D 斷面圖。

圖6係在第三實施形態，圖3所示的臂構件之D-D 斷面圖。 -20- (18) 1309223 圖7係在第四實施形態，圖3所示的臂構件之D-D 斷面圖。 【主要元件符號說明】 50…基座 51…臂構件

52…進退機構 53…旋轉升降機構 54…軌道 55…橫移動機構 56…吸著墊片 5 7…振動驅動手段 58…藉由控制手段 6 0…墊片本體 61…墊片支承構件 62…線圏（振動手段） 6 3…電氣性配線 64…磁鐵（振動手段） 65…墊片支承構件 66…簧片閥（振動手段） 6 7…通風管 68…墊片支承構件 69…空氣導出路徑 70…墊片支承構件 -21 - (19)1309223 1 00…光阻劑塗佈顯像處理裝置 G…基板（被處理基板） R…光阻劑液（處理液）

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Claims (1)

1. 1309223 (1) 十、申請專利範圍 1 · 一種基板運送裝置，係具備具有複數個吸著墊片 臂構件，在前述吸著墊片上載置被處理基板，對於基板 理部進行被處理基板之搬入、搬出之基板運送裝置，其 徵爲： 具備：使前述吸著墊片振動之振動手段、用來驅動 述振動手段之振動驅動手段、及進行前述振動驅動手段 動作控制之控制手段， 前述控制手段係在將被處理基板載置到前述吸著墊 之際，藉由前述振動驅動手段使前述振動手段作動，而 吸著墊片振動。 2 .如申請專利範圍第1項之基板運送裝置，其中前 振動手段係具有設置於前述吸著墊片之磁鐵與線圈，前 振動驅動手段係對於前述線圈供給電流來產生磁場，藉 與磁鐵的磁場之相斥力，使吸著墊片振動。 3.如申請專利範圍第1項之基板運送裝置，其中前 振動手段係具有設置於前述吸著墊片之簧片閥，前述振 驅動手段係藉由對於前述簧片閥進行空氣的導出或空氣 吸引，使簧片閥振動，而使吸著墊片振動。 4.如申請專利範圍第1項之基板運送裝置，其中前 振動手段係具有設置於前述吸著墊片之風承接部，前述 動驅動手段係藉由對於前述風承接部導出空氣，使風承 部振動，而使吸著墊片振動。 5 ·如申S靑專利範圍第1項之基板運送裝置，其中前 的 處 特 刖 的 片 使 述 述 由 述 動 的 述 振 接 述 -23- (2) 1309223 振動手段係藉由使前述臂構件振動，來使前述吸著墊片振 動。 6.如申請專利範圍第1項之基板運送裝置，其中在前 述吸著墊片之吸著片，形成有進行空氣的導出或空氣的吸 引之開口部，前述振動驅動手段係藉由經由前述開口部進 行導出動作或吸引動作，來使前述吸著墊片振動。 7 ·如申請專利範圍第6項之基板運送裝置，其中徑由 前述開口部進行導出動作或吸引動作之控制，係藉由前述 控制手段，針對複數個吸著墊片個別地進行。 8. 如申請專利範圍第6或7項之基板運送裝置，其中 前述控制手段，係在進行前述導出動作之際，以周期性地 _ 反復進行空氣的導出與停止之方式，來控制前述振動驅動 - 手段。 9. 如申請專利範圍第6或7項之基板運送裝置，其中 前述控制手段係在進行前述導出動作之際，以周期性地反 β φ復進行空氣的吸引與停止之方式，來控制前述振動驅動手 段。 -24-