TWI307502B - Article with complex hard coat layer and process for forming complex hard coat layer - Google Patents

Description

1307502 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種附有複合硬塗層之物體，以及形 成複合硬塗層之方法。在本發明中，所謂之複合硬塗層 係包括設置於物體表面上之具有耐擦傷性及耐摩耗性的 硬塗層，以及設置於硬塗層表面上的具有防污性及潤滑 性的防污表面層。更詳細地來說，本發明係關於一種在 表面上設有具備在需要防污性及潤滑性、和耐擦傷性及 耐摩耗性之各種物體領域中的諸項性能之複合硬塗層之 物體’以及關於形成複合硬塗層之方法。 尤其，本發明係關於一種在光記錄媒體、光磁記錄 媒體、光學透鏡、光學過濾器、反射層防止膜' 以及液 晶顯示裝置、CRT顯示裝置、電漿顯示裝置、EL顯示裝 置等之各種顯示元件的表面上，形成具有不會損壞彼等之光 學性能及記錄特性的防污性及潤滑性、和耐擦傷性及耐摩 耗性之複合硬塗層的方法，以及關於一種形成有前述硬 塗層的製品。 【先前技術】 在需要耐擦傷性及耐摩耗性之各種物體，例如， CD(小型光碟）、DVD(數位多功能光碟）等之光記錄媒體、 光碰記錄媒體 '光學透鏡、光學過濾器、反射層防止膜、

以及液晶顯示裝置、CRT顯示裝置、電漿顯示裝置、EL 顯示裝置等之各種顯示元件的表面上，通常需要提供一種保 護層（硬塗層）。 1307502 在此等之各種物體之中，時常會有因使用者之使用 而在彼等之表面上附著指紋、皮脂、汗、化粧品等之污 漬的情形。此種污漬一旦附著時要除去就不容易，特別 是在光記錄媒體及此等之記錄再生時所使用的光學透鏡 中’由於所附著的污漬而對於資訊信號之記錄和再生產 生顯著的阻害，因而成爲大問題。 又且，在光磁記錄媒體中’爲了使設置於記錄層上 的有機保護層在磁頭移動，因而要求提高保護層之耐摩 粍性，同時也要求低摩擦係數化。 前者問題的解決手段，曾提出在各種之在光學透鏡 等之表面上’使形成具有污漬難以附著、附著之後擦拭 除去容易性質’亦即防污性的層之方法。 另一方面，後者之問題，亦即降低保護（硬塗層）表 面之摩擦係數的方法，到目前爲止多半是提出這樣的對 策。具體而言，大多是使用提昇潤滑性之手法，例如， 在保護層表面上設置由氟系聚合物（例如，全氟聚醚）、 及聚矽氧系聚合物（例如，聚二甲基矽氧烷）等之液體潤 滑劑所形成之膜。 前者之防污性與後者之潤滑性雖然完全是有別於本 來之特性’然而就大多是使用氟系化合物或聚砍氧系化 合物以賦與此等性能之手段的特點上，卻是共通的。因 此之故’當對使用氟系化合物及聚矽氧系化合物的硬塗 層表面賦與防污性或潤滑性之際，兩者多半也產生共通 的問題。 7 1307502 氟系及聚砂氧系之化合物多半是柔軟之物，在使用 此等化合物的情況下’要得到充分的耐摩擦性就極爲困 難。爲了改善此等問題點’因而考慮添加S i 0 2微粒子等 之無機塡料以提高耐摩性之方法，即使是多少改善了一 點，然而限於使用氟系或聚矽氧系之聚合物做爲分散有 無機塡料之基料’無法得到令人滿意的耐摩耗性。 爲此，乃考慮一種以由2層以上之不同層所形成的 積層構成做爲保護層’以由高硬度之材料所形成的層做 爲下層’在其表面上設置氟系及聚矽氧系之化合物所形 成的上層’以提供防污性及潤滑性之方法。在此種情況 下，爲使形成積層保護層之最表面的上層反映出下層的 硬度，由氟系及聚矽氧系之化合物所形成的上層，較宜 是儘可能地薄化。然而，在此種方法中，要得到下層與 由氟系化合物及聚矽氧系化合物所形成的上層之間的密 著性是極爲困難的。 上述之密著性問題的解決方法，已知係有如以下所 述之方法。也就是說，利用濺鍍及軟焊法等之方法而形 成一由Si02等之無機微粒子所形成的下層，在該下層之 表面上’利用蒸鍍法或溶液塗布法而形成具有全氟烷基 之烷氧矽烷。然後，於微量水分之存在下，藉由實施加 熱處理，使前述烷氧矽烷因加水分解而生成的矽醇基彼 此之間、及/或存在於由Si02所形成的下層表面上之氫 氧基和前述矽醇基之間引起脫水反應，而使得透過化學 鍵及/或氫鍵之上層固定在下層表面上。 1307502 利用在上述之方法’下層表面可望具有高密度的氫 氧基等之活性基。因此，可用於下層的材料是一種無機 化合物’特別是限定於Si〇2、ai2o3、Ti〇2、ZnS等之 金屬化合物及金屬氧硫屬鹽。但是，即使是在下層爲由 s i 0 2等之金屬氧化物所形成的情況下，爲了使上層之前 述烷氧矽烷間達成充分的密著性，就必須要在形成上層 之前預先對下層表面實施驗化處理、電發處理、電暈放 電處理等之活性化處理，以增加表面之活性基的密度。 使用聚乙烯、聚碳酸酯或聚（甲基）丙烯酸甲酯等之 有機物做爲下層，並利用電漿處理及電暈放電處理等之 方法使下層表面成爲親水化，並可試著著在該下層表面 上設置由烷氧矽烷所形成的上層。但是，在此種情形下， 與使用上述的無機物做爲下層之情況比起來，因密著性 大大地變差以致得不到充分的耐久性。 又且，在經硬塗層處理全部的樹脂製基材之情形 下，藉由使用上述Si02等之無機物做爲下層之上述方 法，則要得到做爲硬塗層之耐摩牦性是極其困難的。在 樹脂製基材表面上設置由Si02等之無機物所形成的層之 情形下，可能形成的膜厚度大多是在數1 00奈米左右。 就形成在此等以上之膜厚度而言，其製法是極困難的； 即使假定可以形成的話，因爲基材間之彈性率差及熱膨 脹係數差顯著地變大，所以無機薄膜本身容易產生自我 破壞。但是，利用數1 00奈米之厚度的無機膜難以得到 充分的耐摩牦性。又且，樹脂基材和無機膜之間也難以 9 1307502 得到充分的密著性。從而，無機膜可容易地剝離，依照 此等特點來看，則難以得到充分的耐摩耗性。 因此’在經硬塗層處理全部的樹脂製基材之情形 - 下，就必須要在樹脂製基材上設置高彈性率之底塗層， · 於底塗層上設置由前述無機薄膜所形成的下層，可確保 樹脂製基材與無機薄膜間之密著性及無機薄膜之強度， 更且’進一步對下層表面實施活性化處理，並在該下層 表面上設置由前述氟系烷氧矽烷所形成的上層。如此， g 就需要依序形成3個層，則生產性就極度低惡化。 在曰本特開平9-1 371 1 7號公報中，揭示於樹脂製 基材表面上塗布一種含有在分子中具有至少2個（甲基） 丙嫌酿氧基之聚合性化合物、與砂石微粒子等之無機化 合物微粒子的組成物，利用照射活性能量線進行光聚合 而使之硬化，對此種硬化被膜表面進行電暈處理或電漿 處理，接著在該經處理表面上塗布一種在分子中具有至 少1個之因加氫分解生成矽烷基之基的矽烷化合物，以 鲁 形成已提高硬化被膜間之密著性的矽烷化合物被膜之方 法。在此種情況下，也因爲了確保上層之矽烷化合物被 膜與下層之硬化被膜間的密著性，所以就必須要對硬化 被膜表面進行電暈處理或電漿處理。 另一方面’在上述光磁記錄媒體之保護層中，於有 機保護層表面上塗布全氟聚醚或聚二甲基矽噚烷等之液 體潤滑劑而形成潤滑劑膜之情況下，因爲潤滑劑爲黏稠 的液體，所以就可以不特別地考慮有機保護層與液體潤 10 1307502 滑劑膜間之密著性。然而，就長期而言，恐怕磁場變頻 頭會因爲反復地滑動而使潤滑劑減少，使得長期保存的 潤滑劑因而僅能發揮少部分而已。因此，即使就此種方 -法而言，理想上前述潤滑劑是強固地被固定在有機保護 · 層表面上。 再者，如先前所述’爲了得到防污性，有機層表面 雖然有要提供撥水性及撥油性，然而不用說也知道必定 是要充分的。在進行拭去所附著的污物之作業時，爲了 | 使感覺到容易地拭去，因而就必須要能達成減低保護層 表面之摩擦係數。防污性和摩擦係數間之關係到目前爲 止差不多一無所知’實際上，爲了賦與防污性、低摩擦 係數化’可以同時具有撥水性、撥油性等必要之特性。 另外’藉由使表面低摩擦係數化，因而可以與硬的 突地物接觸時滑溜地逃脫衝擊，並可以抑制發生擦過傷 痕。從而’即使是由使硬塗層之傷痕防止性變得比較高 之觀點來看’也會要求表面之低摩擦係數化。 鲁 在日本特開 6-211945號公報、日本特開 2000- 301053號公報中揭示一種將氟化烷基丙烯酸酯、和具有 與其不相溶性之丙烯酸單體，以預定的比率溶於可同時 溶解兩者之溶劑中所形成的組成物，塗布在基材上，於 塗布後立刻照射電子線使之硬化而形成硬塗層。設若依 照此等公報的話，塗布1至15微米厚度之前述組成物， 然後立刻照射電子線而使溶劑瞬時地蒸發，而且使全氟 烷基丙烯酸酯成分和丙烯酸單體成分局部化，並使在塗 11 1307502 膜表面上之氟化烷基丙烯酸酯成爲偏向一側狀態地硬 化。 然而，設若依照相同兩號公報的話’由於使用含有 不相溶性成分的組成物，於塗布組成物之後’在因溶劑 揮發而引起局部化之前，就必須要照射電子線而使之瞬 間地硬化。因此，從塗布到照射電子線之時間變得難以 拿捏，是以限定於一種極爲特定的塗布方法。例如’不 能使用旋塗法等之溶劑蒸發速度快速的塗布方法。 更且，最大的問題是：利用相同兩公報上所記載的 方法，因爲照射電子線同時蒸發溶劑，所以高度地恐怕 就無法完全地除去硬化被膜中之溶劑。在相同公報中， 也沒有從硬化被膜中完全地除去溶劑之任何有關的檢驗 證據。在內部中殘留有微量的溶劑之情形下，雖然於形 成硬塗層之後沒有立即的問題，但是在長期使用上，於 薄膜上恐怕就會生成裂縫及剝離等之問題。又且，除了 是硬度不充分之物以外，形成有硬塗層的基材之翹曲也 會容易地、慢慢地增大。 又且，就照射電子線同時蒸發溶劑之方法而言，爲 了使硬化被膜容易地變成偏光構造，不僅硬度不足，而 且恐怕光學特性亦會變差。從而，即使是沒有適用於泛 用製品上的問題’然而對於光學透鏡'及光記錄媒體等 之要求非常高的光學特性之用途而言就會有適用上的困 難。 也就是說，到目前爲，尙不存在既具有高水準且同 12 1307502 時可實現高防污性、潤滑性、及耐摩耗性之硬塗層。 【發明內容】 發明之冃的 因此，本發明之目的在於解決上述習用技術之問題 點，並廉價地提供一種具有防污性及潤滑性、和耐擦傷 性及耐摩耗性均優異的硬塗層之物體。又且，本發明之 目的在於廉價地提供一種可容易地形成具有防污性及潤 滑性、和耐擦傷性及耐摩耗性均優異的硬塗層之物體的 方法。 發明槪要 本發明人等經過銳意地檢討結果發現：藉由利用活 性能量線照射在對象物體表面上之擔負耐擦傷性及耐摩 耗性之硬塗層、以及在前述硬塗層表面上之擔負防污性 及潤滑性之防污表面層，並使之硬化的設計，可使得防 污表面層與硬塗層強固地密接而形成複合硬塗層，於是 完成本發明。 本發明是一種附有複合硬塗層之物體，其係含有設置 在物體表面上之硬塗層、以及設置在硬塗層表面上之防污表 面層的附有複合硬塗層之物體； 其中硬塗層係由含有活性能量線硬化性化合物之硬被 覆劑組成物之硬化物所形成；防污表面層係由包括一含有氟 之多官能（甲基）丙烯酸酯化合物的表面材料之硬化物所形 成，前述防污表面層係固定在前述硬塗層上。 本發明是一種附有前述複合硬塗層之物體，其中防污 13 1307502 本發明是一種附有前述複合硬塗層之形成方法，其係 在將硬被覆劑組成物塗布在對象物表面上之後，視情況 需要地予以乾燥’再照射活性能量線使硬被覆劑組成物 - 成爲半硬化狀態，然後形成表面材料層。 - 本發明是一種附有前述複合硬塗層之形成方法，其係 藉由塗布表面材料層使成膜而形成表面材料層。 本發明是一種附有前述複合硬塗層之形成方法，其係 藉由塗布表面材料層使成膜而形成表面材料層，此時之 | 溶劑係使用實質上不溶解已形成的硬被覆劑組成物層中 之活性能量線硬化化合之溶劑。 本發明是一種附有前述複合硬塗層之形成方法，其中 在硬被覆劑組成物中所含的活性能量線硬化性化合物， 係具有至少1個的從（甲基）丙烯醯基、乙烯基及氫硫基 中所選出之反應性基。 本發明是一種附有前述複合硬塗層之形成方法，其係 使用電子線或紫外線做爲活性能量線。 鲁 本發明是一種附有前述複合硬塗層之形成方法，其係 在氧氣濃度爲500 ppm以下之氛圍氣中進行活性能量 線之照射。 本發明是一種附有複合硬塗層之物體，係包括設置在 物體表面上硬塗層、和設置在防污表面層之複合硬塗層， 其中複合硬塗層係藉由在應以硬塗層處理之對象物體表 面上’塗布含有活性能量線硬化性化合物之硬被覆劑組 成物，使形成硬被覆劑組成物層； 15 1307502 例來說，例如是由聚對酞酸乙二酯（PET)、聚（甲基）丙稀 酸甲酯、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等之熱可塑性樹脂 所形成的片及基板等，但並沒有特別地限定於此等之物。 比較具體的製品，舉例來說，例如是光記錄媒體、光磁 記錄媒體、光學透鏡 '光學過濾器、反射防止膜、及液 晶顯示裝置、CRT顯示裝置、電漿顯示裝置、EL顯示 裝置等之各種液晶顯示元件。 首先，在對象物體（1 )之表面上塗布含有活性能量線 硬化性化合物之硬被覆劑組成物，使形成硬被覆劑組成 物層；接著，在硬被覆劑組成物層之表面上，形成由包 括含有氟之多官能（甲基）丙烯酸酯化合物的表面材料所 成膜之表面材料層（具有防污及潤滑功能性之材料）。關 於硬被覆劑組成物及表面材料之各個成分，說明如下。 在硬被覆劑組成物中所含有的活性能量線硬化性化 合物只要是具有至少1個從（甲基）丙烯醯基、乙烯基及 氫硫基中所選出之反應性基的物質即可，其構造並沒有 特別地限定。活性能量線硬化性化合物，由於是用以得 做爲硬塗層之足夠的硬度，因而在1個分子內宜是含有 2個以上’較宜是3個以上之聚合性基的多官能單體或 聚合物。含有單官能單體也可以。 在此等活性能量線聚合性化合物之中，具有（甲基） 丙烯醯基之化合物，舉例來說，例如其可以是1,6 _伸己 二醇二（甲基）丙烯酸酯、三乙二醇（甲基）丙烯酸酯、環 氧乙烷改性聯酚A二（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三（甲 17 1307502 基）丙烯酸酯、季戊四醇四（甲基）丙烯酸酯 '雙三羥甲基 丙烷四（甲基）丙烯酸酯、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯、 季戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、3_(甲基）丙烯醯氧基甘油單 (甲基）丙烯酸酯、胺基甲酸酯丙烯酸酯、環氧基丙烯酸 酯、醋化丙烯酸酯等，但不必然僅限定於此等之物而已。 又且，具有乙烯基之化合物’舉例來說，例如其可 以疋乙一醇—乙稀醚、季戊四醇二乙燒醚、1,6_伸己二 醇二乙烯醚、三羥甲基丙烷二乙烯醚、環氧乙烷改性氫 醒二乙烯醚 '環氧乙烷改性聯酚A二乙烯醚 '季戊四醇 三乙烯醚、二季戊四醇六乙烯醚、雙三羥甲基丙烷聚乙 烯醚等，但不必然僅限定於此等之物而已。 另外’具有氫硫基之化合物，舉例來說，例如其可 以是乙二醇雙（硫甘酯）、乙二醇雙（3 -氫硫基丙酸酯）、三 羥甲基丙烷三（硫甘酯）、三羥甲基丙烷三（3_氫硫基丙酸 酯）、季戊四醇四（氫硫基乙酸酯）、季戊四醇四（硫甘酯）、 季戊四醇四（3-氫硫基丙酸酯）等，但不必然僅限定於此 等之物而已。 做爲在硬被覆劑組成物中所含的活性能量線硬化性 化合物者，可以是僅使用1種’倂用2種以上也可以。 硬被覆劑組成物也可以含有公知的光聚合起始劑。 光聚合起始劑，在使用電子線做爲活性能量線的情況下 不是特別地需要’然而在使用紫外線的情況下就爲必要。 在光聚合起始劑之中’光自由基起始劑，舉例來說，例 如其可以是達羅庫阿1 1 7 3、伊魯咖庫阿6 5 1、伊魯咖庫 18 1307502 阿1 8 4、伊魯咖庫阿9 0 7 (任一項均爲汽巴特殊化學品公 司製）。光聚合起始劑之含有量’例如，在硬被覆劑組成 物（固體物）中爲0.5至5重量％左右。 硬被覆劑組成物，視情況需要，爲了使耐摩耗性向 上提昇，也可以含有無機塡料。無機塡料，舉例來說， 例如其可以是二氧化矽、二氧化鋁、二氧化鍩、二氧化 鈦等。無機塡料之粒徑，例如是5至50奈米左右。在 無機塡料之中’可以在本發明中使用的是一種以具有活 性能量線聚合性基之化合物修飾塡料表面，並於反應後 固定在聚合物基料中之物，例如較宜是記載於日本特開 平9-100111號公報中之反應性二氧化矽粒子。無機塡 料之含有量’例如，在硬被覆劑組成物（固體物）中爲5 至80重量。/。左右。當含有比80重量。/。多的無機塡料時， 硬塗層之膜強度就容易變弱。 又，硬被覆劑組成物進一步視情況需要，即使含有 非聚合性之稀釋溶劑、光聚合起始助劑、有機塡料、聚 合禁止劑、氧化防止劑、紫外線吸收劑、光安定劑、消 泡劑、整平劑、顏料、矽化合物等也沒有關係。 表面材料可以使用含有氟之多官能（甲基）丙烯酸酯 化合物。此等爲活性能量線聚合性，此等之硬化物具有 防污性及潤滑功能性’也就是說，可以對於對象物體之 表面提供撥水性及/或潤滑性。當使用含有氟之多官能（甲 基）丙烯酸酯化合物做成的表面材料時，與在使用含有氟 之單官能（甲基）丙烯酸酯化合物的情況比起來，由於硬 19 1307502 塗層間之密著性會增加’因而可得到耐久性非常優異的 複合硬塗層。在本發明中不使用含有氟之單官能（甲基） 丙烯酸酯化合物做爲表面材料。 ^ 含有氟之多官能（甲基）丙烯酸酯化合物，舉例來說， - 例如其可以是直鏈全氟伸烷基二（甲基）丙烯酸酯、及全 氟聚醚二（甲基）丙烯酸酯、全氟聚醚三（甲基）丙烯酸酯、 全氟聚醚四（甲基）丙烯酸酯等。 直鏈全氟伸烷基二（甲基）丙烯酸酯，舉例來說，例 _ 如其可以是具有碳數在12以下，較宜是在8以上而在12 以下之全氟伸烷基的如下所示之二（甲基）丙烯酸酯。 CH2 = C(R1)COO-R3-(CF2)n-R4-OCOC(R2) = CH2 此處，R1及R2可以分別爲相同或相異也可以，代 表Η或甲基；R3及FT可以分別爲相同或相異也可以， 代表低級伸烷基；η代表1至1 2之整數。R3及R3之低 級伸烷基，舉例來說，例如其可以是-CH2- ' -ch2ch2-、 ((CF2)n 基側）-CH20 CH2 = C ch2-ch(oh)ch2-等。 籲 直鏈全氟烷基二（甲基）丙烯酸酯的具體例子，舉例 來說’例如是1H，1H，6H，6H-全氟-1,6-己烷二醇二（甲基） 丙烯酸酯、1^1，11~1，1〇^1,101~1-全氟-1,1〇-癸烷二醇二（甲基） 丙烯酸酯、111十10叱101全氟-1,1〇-癸烷二醇二環氧 (甲基）丙烯酸酯等，但不必然僅限定於此等之物而已。 全氟聚醚二（甲基）丙烯酸酯’舉例來說，例如其可 以是從二醇改性全氟聚醚所得到的二（甲基）丙烯酸酯或 二環氧（甲基）丙烯酸酯。具體而言，舉例來說，例如其 20 1307502 可以是如下之二醇改性全氟聚醚做爲二醇成分所合成的 二（甲基）丙烯酸酯或二環氧（甲基）丙烯酸酯。全氟聚醚 二（甲基）丙烯酸酯，爲了能發現充分的撥水性'撥油性， 因而較宜是具有分子量在1000以上之物，更宜是具有 在1500至2500左右的分子量。 HOCH2 CF20-(CF2CF20)m-/-(CF20)n- CF2 CH2OH (阿烏迪蒙脫公司製，弗林z DOL，分子量：約2000)

HO(CH2 CH2O)l-0CH2CF2O-(CF2CF20)m-/-(CF20)n- CF2 CH2-(OCH2 CH2)IOH (阿烏迪蒙脫公司製，弗林Z DOL TX 2000，分子量：約 2000) I、m、η代表聚合度。 全氟聚醚四（甲基）丙烯酸酯，舉例來說，例如其可 以是從四醇改性全氟聚醚所得到的四（甲基）丙烯酸醋或 四環氧（甲基）丙烯酸酯。具體而言，舉例來說，例如其 可以是如下之四醇改性全氟聚醚做爲四醇成分所合成的 四（甲基）丙燃酸酯或四環氧（甲基）丙稀酸醋。 H0CH2CH(0H)CH20-CH2CF20-(CF2CF20)m-/-(CF20)n-

CF2CH2OCH2CH-(OH)CH2OH 1307502 (阿烏迪蒙脫公司製，弗林Z TETRAOL) m、及η分別代表聚合度。 含氟多官能（甲基）丙烯酸酯化合物，可以僅使用1 種，也可以倂用2種以上。 當使用含有氟之多官能（甲基）丙烯酸酯化合物做成 的表面材料時，與在使用含有氟之單官能（甲基）丙烯酸 酯化合物的情況比起來，雖然與硬塗層間之密著性會增 加’然而防污表面層的表面平滑性會稍微降低。在此種 情況下’藉著調整於表面材料中的含氟多官能（甲基）丙 烯酸酯之濃度，例如，使之成爲在〇 . 7 5重量％以下，較 宜是在〇 . 1至〇 . 5重量。/。左右，以能夠得到良好的表面 平滑性。 又’在表面材料中，與在硬被覆劑組成物中者同樣 地’視情況需要’即使含有非聚合性之稀釋溶劑、光聚 合物起始劑、光聚合起始助劑、有機塡料、無機塡料、 聚合禁止劑、氧化防止劑、紫外線吸收劑、光安定劑、 消泡劑、整平劑、顏料、矽化合物等也沒有關係。但是， 必須要選擇可以形成1奈米以上而在1 00奈米以下之所 謂的超薄膜之防污表面層的材料。 在本發明中’首先，將上述硬被覆劑組成物塗布於 對象物體（1)之表面上，使形成硬被覆劑組成物層。塗布 方法並沒有特別地限定，可以使用旋塗法、浸漬法、凹 版印刷法等之各種塗布方法。 22 1307502 於將硬被覆劑組成物塗布於對象物體（彳）表面上之 後’在使表面材料成膜之前，硬被覆劑組成物較宜爲不 具流動性的。藉著使硬被覆劑組成物成爲不具流動性， 就可以防此在其上使表面材料成膜時硬被覆劑組成物層 之膜厚變動 '以及表面性之惡化，而容易地使表面材料 均一地成膜。 爲了使硬被覆劑組成物不具流動性，例如，較宜是 在塗布後予以乾燥’以從硬被覆劑組成物層除去含在硬 被覆劑組成物中之溶劑。又，在塗布後視情況需要地予 以乾燥’再照射紫外線等之活性能量線，使硬被覆劑組 成物層成爲半硬化之狀態也可以。此處所謂的半硬化， 其思義係爲硬被覆劑組成物之一部分未反應的意思。從 而，不論硬被覆劑組成物層之物理硬度爲何，即使表面 之黏著性（黏性）消失也沒有差別。爲了使成爲這種半硬 化之狀態’例如，紫外線等之活性能量線的照射量較宜 是少量的。藉著這種做法，至少在硬被覆劑組成物層之 表面附近上會有未反應的硬被覆劑組成物存在。 其次，在未硬化或一部分硬化（半硬化）狀態的硬被 覆劑組成物層表面上，形成上述表面材料成膜之表面材 料層。表面材料層較佳爲使所形成之最終所得到的防污 表面層之厚度是在1奈米以上而在100奈米以下，較宜 是在5奈米以上而在50奈米以下。當不足1奈米時， 就得不到防污性及潤滑性之效果；當超過1 〇〇奈米時’ 幾乎不能反映出下層之硬塗層層的硬度’而使得耐擦傷 23 1307502 性及耐摩耗性之效果減少。 成膜係可以藉由表面材料之塗布或利用蒸鍍來進 行。以下，說明在塗布情形下之例子。塗布係將上述之 表面材料於適當的溶劑中稀釋，但不限定於此種塗布液’ 較宜是以旋塗法、浸漬法、凹版印刷法、噴塗法等之各 種塗布方法進行塗布。 此時之溶劑，較宜是選擇不會將未硬化或一部分硬 化（半硬化）狀態之硬被覆劑組成物中之活性能量線硬化 性化合物實質上溶解的溶劑。是否將前述硬被覆劑組成 物予以實質上溶解，不只與溶劑之種類有關，而且也與 塗布方法有關係。例如，使用旋塗方法做爲表面材料之 塗布方法時，多數的情況，旋塗時含在塗布液中之稀釋 溶劑大部分揮發的緣故，即使使用某種程度地溶解前述 硬被覆劑組成物層之溶劑做爲稀釋溶劑，在實用上也不 成問題。另一方面，例如，在使用浸漬法做爲表面材料 之塗布方法的情況下，未硬化的前述硬被覆劑組成物層 表面、與表面材料層塗布液間之接觸時間長的緣故，所 以就必須使用不會全部溶解前述硬被覆劑組成物，或者 幾乎不溶解的溶劑。 依照此種做法，即可形成未硬化或一部分硬化（半硬 化）狀態之硬被覆劑組成物層、以及在其表面上形成未硬 化之表面材料層。 接著’以活性能量線照射所形成的硬被覆劑組成物 層及表面材料層’使前述兩層同時地硬化。此時，照射 24 1307502 可以使前述兩層完全地硬化之足夠能量的活性能量線， 使兩層之硬化反應完全地達成。藉著使未硬化或一部分 硬化（半硬化）狀態之硬被覆劑組成物層、與接於其表面 上所設置的未硬化之表面材料層同時地硬化，則此兩層 之界面間就會強固地密著，也就是說，在已硬化的硬塗 層（2)上可得到良好的密著性之已硬化的防污層（3)。 藉著使用像本發明這樣之方法，就可以得到設置於 高硬度的硬塗層（2)上之具有最表面反映出該硬度程度之 薄的、而且良好的撥水性•潤滑性之防污表面層（3 )，同 時在硬塗層（2)與防污層表面層（3)間可以得到良好的密 著性。 做爲同時使硬被覆劑組成物層及表面材料層硬化之 手段’較宜是使用從紫外線、電子線、可見光等之活性 能量線之中選取適當者。但是，在本發明中，防污表面 層之厚度是在1奈米以上而在100奈米以下，較宜是在 5奈米以上而在50奈米以下，係極薄的，爲了得到與硬 塗層間之良好的密著性，則必須使用於兩層之界面附近 可得到良好的反應性之硬化手段。 具體而言’即使是在使用電子線或紫外線中之任一 者做爲前述活性能量線的情況下，宜是使照射活性能量 線之氛圍氣中的氧氣濃度成爲500 Pppm以下，較宜是 在200 ppm以下’更宜是在1〇〇 ppm以下這樣，利用 氮氣等之惰性氣體來進行吹氣較佳。這是爲了抑制存在 於照射氛圍氣中的氧自由基所引起之表面的硬化阻害。 25 1307502 或者，也可以在硬被覆劑組成物及/或表面材料中添加向 來已知的各種氧氣阻害抑制劑，以替代抑制在照射氛圍 氣中之氧氣濃度。此種氧氣阻害抑制劑，例如，可以使 用在日本特開2000-109828號公報、日本特開2000-109828號公報及日本特開2000-144011號公報上所記 載的氧氣阻害抑制劑。不用說’將上述之氧氣阻害抑制 劑、與抑制在照射氛圍氣中之氧氣濃度一起倂用，當然 也沒關係。 藉著使用此種成膜材料及成膜、硬化方法，就可形 成耐摩耗性及撥水•潤滑性均優，且其耐久性也良好的 複合硬塗層。 【實施方式】 實施例 以下雖然列舉實施例更進一步具體地說明本發明， 然而本發明並非僅限定於此等實施例而已。 【實施例1】 在厚度爲0.6毫米之聚碳酸酯基板（直徑爲12公分） 上，利用旋塗法塗布紫外線/電子線硬化型硬被覆劑（j S R 公司製’迪索萊特Z7503)之後，於大氣中、60°C下加熱 3分鐘除去被膜內部之稀釋溶劑，而形成未硬化之硬塗 層。又’上述之硬被覆劑係爲在日本特開2000-144011 號公報中所揭示之含有反應性無機塡料的組成物。 接著’調製全氟聚醚二丙烯酸酯（阿烏迪蒙脫公司 製’弗林Z DOL，分子量：約2000)之0.5% (質量百分 26 1307502 率）氟納特FC-77(住友3M公司製）溶液。利用旋塗法將 此種表面材料溶液塗布在上述未硬化之硬塗層上，於60 °C下乾燥3分鐘而形成未硬化表面層。 然後，於氮氣流下照射電子線使硬塗層與表面層同 時硬化。使用電子線照射裝置Curetron(日新海波堤（股） 公司製），電子線加速電壓爲200 kV、照射線量爲1 0 M rad。照射氛圍氣之氧濃度爲80 ppm。經硬化之硬塗 層之膜厚爲3.4微米，經硬化之表面層之膜厚爲約36奈 米。又，表面層之膜厚係以全氟聚醚（大金工業公司製， 迪姆納姆）做爲標準物質，藉由螢光X射線分析（XRF)測 定而得。依照此種做法，而得到附有複合硬塗層之基板。 【實施例2】 在厚度爲0.6毫米之聚碳酸酯基板（直徑爲12公分） 上，利用旋塗法塗布紫外線/電子線硬化型硬被覆劑（J S R 公司製，迪索萊特Z7503)之後，於大氣中' 60°C下加熱 3分鐘除去被膜內部之稀釋溶劑。然後，在大氣中照射 弱的紫外線（高壓水銀燈，8 0毫焦耳/平方公分），而形成 半硬化狀態之硬塗層。 接著，調製全氟聚醚二丙烯酸酯（阿烏迪蒙脫公司 製，弗林Z D0L，分子量：約2000)之0.5 % (質量百分 率）氟納特F C - 7 7 (住友3 Μ公司製）溶液。利用旋塗法， 將此種表面材料溶液塗布在上述半硬化狀態之硬塗層 上，於60°C下，乾燥3分鐘而形成未硬化表面層。 然後，以和實施例1同樣的電子線照射條件’於氮 27 1307502 氣流下照射電子線使硬塗層與表面層同時硬化，而得到 附有複合硬塗層之基板。經硬化之硬塗層之膜厚爲3.4 微米，經硬化之表面層之膜厚爲約32奈米。 【實施例3】 調製全氟聚醚二丙烯酸酯（阿烏迪蒙脫公司製，弗林 Z D〇L ’分子量··約2000)之0.25%(質量百分率）氟納特 FC-7 7(住友3M公司製）溶液。除了使用此種溶液做爲表 面材料溶液以外，均以和實施例1同樣的做法，而得到 附有複合硬塗層之基板。經硬化之硬塗層之膜厚爲3.4 微米，經硬化之表面層之膜厚爲約25奈米。 【實施例4】 調製共榮社化學公司製的ART-3(全氟聚醚二丙烯酸 酯’分子量：約1 000)之0.5%(質量百分率）氣納特FC-7 7 (住友3M公司製）溶液。除了使用此種溶液做爲表面 材料溶液以外，均以和實施例1同樣的做法，而得到附 有複合硬塗層之基板。經硬化之硬塗層之膜厚爲3.4微 米’經硬化之表面層之膜厚爲約30奈米。 【比較例1】 在厚度爲0.6毫米之聚碳酸酯基板（直徑爲12公分） 上’利用旋塗法塗布紫外線/電子線硬化型硬被覆劑（J S R 公司製’迪索萊特Z7503)之後，於大氣中、6CTC下加熱 3分鐘除去被膜內部之稀釋溶劑，而形成半硬化狀態之 硬塗層。 接著，利用旋塗法，將2-(全氟癸基）乙基丙烯酸酯（大 28 1307502 金精密化學硏究社製）之0.5%(質量百分比）氟納特FC-77(住友3M公司製）溶液塗布在上述半硬化狀態之硬塗 層上，並將此於6 (TC下，乾燥3分鐘而形成未硬化表面 層。 然後，以和實施例1同樣的電子線照射條件，於氮 氣流下照射電子線使硬塗層與表面層同時硬化，而得到 附有複合硬塗層之基板。經硬化之硬塗層之膜厚爲3.4 微米，經硬化之表面層之膜厚爲約3 6奈米。 【比較例2】 於95重量份之紫外線/電子線硬化型硬被覆劑（JSR 公司製，迪索萊特Z7503)中，添加5重量份之2-(全氟 癸基）乙基丙烯酸酯（大金精密化學硏究社製），並調製成 均一的組成物。利用旋塗法，將上述之組成物塗布在厚 度爲0.6毫米之聚碳酸酯基板（直徑爲12公分）上之後， 立刻於氮氣流下照射電子線使之硬化，而得到附有複合 硬塗層之基板。電子線照射條件，係與實施例1相同。 經硬化之硬塗層之膜厚爲4.0微米。 (評量） 就實施例1至4及比較例1、2所製做的各個試料 進行如下所示之性能試驗。 (1 )耐摩耗性 使用# 〇 〇 〇 〇鋼絲’以荷重爲4.9 N /平方公分於試料 之硬塗層上來回滑動20次’以目視判定所生成傷痕的 程度。判定基準如以下所述。 29 1307502 〇：不發生傷痕； △:僅發生些許損傷； χ :發生傷痕。 (2) 撥水性及其耐久性 測定試料之硬塗層的水接觸角。測定係就 1曰於室溫放置後之試料（初期試料）、從製作异 室溫放置後之試料以含有溶劑之布擦拭後之試 從製作起30曰於室溫放置後之試料以含有溶 拭後之試料分別地進行。擦拭條件係如以下所 是說’將不織布（旭化成工業公司製，便可特林 8)含浸於丙酮中，以荷重爲4.9Ν/平方公分於 塗層上來回滑動50次。接觸角之測定係使用 科學公司製之接觸角計C A _ D，於氣溫2 〇 〇c '相對 之環境下進行。 (3) 表面平滑性 試料之硬塗層表面的平滑性係以目視確認 燈光打在試料表面，從斜向20至30度之方向 認表面層之均一性（有無微視的凝集）、及有無 硬塗層之表面性而起的凹凸或波紋。判定基準 所述。 〇+ :在表面層上雖然可見到微視的凝集但 而且硬塗層上確認沒有凹凸或波紋； 〇-:在表面層上可見到微視的凝集，而且 確認沒有凹凸或波紋；； 從製作起 S 1日於 料、以及 劑之布擦 述。也就 弗利-C T -試料之硬 協和界面 溼度6 0 % 之。以電 觀察，確 可視爲因 係如以下 極輕微， 硬塗層上 30 1307502 △: 在表面層上可見到顯著之微視的凝集，而且於 硬塗層上也可見到凹凸或波紋； X : 於硬塗層上也可見到顯著之凹凸或波紋，而且 產生白色混濁。

31 1307502 1-漱 表面平 滑性 〇一 〇 + 〇+ ◎ 滑動後 30日經過後 106.0 106.2 105.0 96.0 接觸角（度） 1曰經過後 106.2 105.3 105.5 96.7 初期 1曰經過後 105.7 105.4 105.2 96.3 表面材料溶液 氟化丙烯酸酯 之態樣 二官能 二官能 二官能 二官能 氟化丙烯酸 酯之濃度 (重量％) 0.5 0.5 0.25 0.5 耐耗性 〇〇〇〇 <- (M CO 寸 實施例 實施例 實施例 實施例 X S_S9 Z.S9 0·Ζ9 I — 〇0\|冕鎰五 ◎ s·寸 6 Ο _εοτ—oo.sol. 溫inns 90〇τ-冕鎰丑 1307502 以上之測定結果係如表1所示。 從表1可明白：實施例1至4之附有硬塗層的基板係 具有非常高的表面硬度，同時撥水性也極爲優異，具其耐 久性亦極爲良好。 在實施例1中’表面平滑性雖然具有實用水準，然而 與其他的實施例比起來略爲差些。在實施例2中雖然是使 用與實施例1相同組成的表面材料，然而因爲是在使硬塗 層成爲半硬化狀態之後再形成表面材料層，所以表面平滑 性較優。在實施例3中，雖然是使用與實施例1相同的表 面材料，然而表面材料中的氟化丙烯酸酯濃度降低，所以 表面平滑性優良。在實施例4中’也是使用分子量比在實 施例1至3的情況小（約1 0 0 0 )之全氟聚醚二丙烯酸酯，因 爲分子量小所以能顯現撥水性、撥油性的主鏈變短，因而 與實施例1至3比起來僅有撥水性降低而已。 在比較例1中，附有硬塗層的基板係具有非常高的表 面硬度，同時撥水性也極爲優異，具其耐久性亦極爲良好。 然而，於3 0日室溫放置之後以含浸丙酮的布滑動之嚴酷試 驗條件下，發現接觸角會降低；則可判斷利用含浸丙酮的 布藉由滑動而擦拭防污表面層時’接觸角會降低。 在比較例2中，與使用和比較例1相同材料無關，在 初期、與以布動之後，撥水性均顯著地變差。也就是說， 在活性能量線硬化樹脂中只有混合氟化丙烯酸酯並塗布. 硬化時，氟化丙烯酸酯成分不會露出於塗膜表面上，因而 可以達成預期之目的。更且，在比較例中，將所調製的組 33 1307502 成物分階段地塗布在基材表面上，可確認出產生明顯的塗 布薄膜。如此，於旋塗時稀釋溶劑會發揮，因而不具相溶 性之丙烯醯基單體、與氟化丙烯酸酯會引起劇烈的相分離； 依照此等特點來看’就不是一種實用上耐用的硬塗層。 【實施例5】 本實施例爲附有複合硬塗層之光資訊媒體（以下簡稱爲 光碟）之製造例。在此實施例中雖然是相變化型之光碟，然 而本發明不僅於此而已，再生專利型光碟、一次寫入型可 記錄光碟等，不拘於記錄層之種類均可廣泛地適用。 第2圖係附有複合硬塗層光碟之一例的示意斷面圖。 於第2圖中，光碟（11)係在支撐基板（12)的資訊位元及預溝 紋等之形成細微凹凸之側的表面上，依順序具有反射層 (13)、第2介電體層（14)、相變化記錄材料層（15)及第1介 電體層（16)，於第1介電體層（16)上具有光穿透層（18)，於 光穿透層（18)上具有硬塗層（19)及防污表面層（20)。在此例 中，反射層（1 3 )、第2介電體層（1 4 )、相變化記錄材料層（1 5 ) 及第1介電體層（16)係構成記錄層（17)。硬塗層（19)及防污 表面層（20)之兩層可簡便地稱爲複合硬塗層。光碟（1 1 )係透 過防污表面層（20)、硬塗層（19)及光穿透層（18)，入射記錄 或再生用之雷射光來使用。 如第2圖所示之層構成的光記錄光碟試樣’係依照以 下之做法製做而得。 於已形成資訊記錄用的溝紋之碟狀支撐基板（1 2)(聚碳 酸酯製，直徑爲120毫米、厚度爲1.1毫米）之表面上’以 34 1307502 濺鍍法形成一由 A 19 8 P d , C u，（原子比）所構成的厚度爲1 〇 〇 奈米之反射層（1 3 )。前述之溝紋的深度，以在波長λ =405 奈米中的光路長表示爲λ /6。溝紋記錄方式中之記錄軌距爲 0 _ 3 2微米。 接著，於反射層（彳3 )表面上’使用Α丨2 0 3靶，利用濺鍍 法形成一厚度爲20奈米之第2介電體層（14)。於第2介電 體層（1 4 )表面上，使用相變化材料所構成的合金靶，利用 濺鍍法’形成一厚度爲1 2奈米之記錄材料層（1 5 )。記錄材 料層（15)之組成（原子比）爲sb74Te18(Ge7lni)。於記錄材料 層（15)之表面上，使用2以（80莫耳％)-8丨02(20莫耳。/。巧巴， 利用濺鍍法形成一厚度爲130奈米之第1介電體層（16)。 接著’於第1介電體層（16)之表面上，利用旋塗法塗 布下述組成的自由基聚合性之紫外線硬化型樹脂，照射紫 外線，硬化後形成一厚度爲98微米之光穿透層（18)。 (光穿透層：紫外線硬化型樹脂之組成） 胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物 50重量份 (三菱雷昂（股）公司製，大亞比姆UK6035) 異氰酸E0改性三丙烯酸酯 1 〇重量份 (東亞合成（股）公司製，阿羅尼克斯M315) 異氰酸E0改性三丙烯酸酯 5重量份 (東亞合成（股）公司製，阿羅尼克斯M2 15) 四氫呋喃基丙烯酸酯 25重量份 光聚合起始劑（1 -羥基環己基苯酮） 3重量份 接者’於光芽透層（1 8 )上，利用旋塗法塗布下述組成 1307502 之紫外線/電子線硬化型硬被覆劑後，於大氣中、6(rc下加 熱3分鐘除去被膜內部之稀釋溶劑，然後於大氣中照射弱 的紫外線（高壓水銀燈’ 80毫焦耳/平方公分）使形成半硬化 之硬塗層（1 9)。 (硬被覆劑之組成） 反應性修飾膠體矽石（分散媒：丙二醇 1 00重量份 單甲醚乙酸酯、不揮發分：40重量。/〇) 48重量份 1 2重量份 4〇重量份 5重量份

二季戊四醇六丙烯酸酯 四氫呋喃丙稀酸酯 丙二醇單甲醚乙酸酯 (非反應性稀溶劑） 伊魯克阿1 84(聚合起始劑） 接著，調製全氟聚醚二丙烯酸酯（阿烏迪蒙脫公司製， 弗林Z DOL，分子量：約2000)之0.5 % (質量百分率）氟納 特FC-77(住友3M公司製）溶液。利用旋塗法，將此種表面 鲁 材料溶液塗布在上述未硬化硬塗層（19)之上，於6Crc下， 乾燥3分鐘而形成未硬化表面層（2 0 )。 然後’於氮氣流下照射電子線使硬塗層（1 9)與表面層 (2 0 )同時硬化。使用電子線照射裝置μ i η - E B (烏西歐電機公 司製）’電子線加速電壓爲50 kV、照射線量爲5 Mrad。照 射氛圍氣之氧濃度爲80 ppm。硬塗層（19)之膜厚爲3.4微 米’表面層（20)之膜厚爲28奈米。又，表面層之膜厚係以 全氟聚醚（大金工業公司製，迪姆納姆）做爲標準物質，藉 36 1307502 由螢光X射線分析（X R F)測定而得。依照此種做法，而得到 試樣編號1的附有複合硬塗層之光記錄光碟。 【比較例3】 與實施例5同樣的做法，在光碟支撐基板（1 2 )的表面 上依順序形成反射層（13)、第2介電體層（14)、相變化記錄 材料層（15)及光穿透層（18)。 接著，在光穿透層（1 8 )上，利用旋塗法塗布與在實施 例5所使用之同樣組成的紫外線/電子線硬化型硬被覆劑 後’於大氣中、6(TC下加熱3分鐘除去被膜內部之稀釋溶 劑，形成未硬化之硬塗層（1 9 )。 接著，利用旋塗法，將2-(全氟癸基）乙基丙烯酸酯（大 金精密化學硏究社製）之〇.5%(質量百分比）氟納特「〇-77(住 友3M公司製）溶液塗布在上述半硬化狀態之硬塗層上，並 將此於6(TC下，乾燥3分鐘而形成未硬化表面層。 然後，於和實施例5同樣的電子線照射條件下，，於 氮氣流下照射電子線使硬塗層與表面層同時硬化。經硬化 之硬塗層之膜厚爲2.5微米，經硬化之表面層之膜厚爲約28 奈米。依照此種做法，而得到試樣編號2的附有複合硬塗 層之光記錄光碟。 【比較例4】 與實施例5同樣的做法，在光碟支撐基板（1 2 )的表面 上依順序形成反射層（1 3 )、第2介電體層（1 4 )'相變化記錄 材料層（15)及光穿透層（1 8)。 接著，9 5重量份之與在實施例5所使用者相同的紫外 37 1307502 線/電子線硬化型硬被覆劑中，添加5重量份之2-(全氟癸 基）乙基丙烯酸酯（大金精密化學硏究社製），調製成均一的 組成物。利用旋塗法將上述組成物塗布在光穿透層（1 8)上 之後，立刻於氮氣流下照射電子線使之硬化。電子線照射 條件係和實施例6相同。經硬化之硬塗層之膜厚爲2 · 5微 米。依照此種做法，而得到試樣編號3的附有由單層所構 成的硬塗層之光記錄光碟。 (評價） 對在實施例5及比較例3、4中所製做的編號1至3之 各種光記錄試樣的硬塗層表面，以及對附有硬塗層的基板 同樣地進行（1)耐摩耗性' (2)撥水性及其耐久性、及（3)表 面平滑性之評量。實施例6之試樣編號1的光記錄光碟， 係顯示出與實施例4之附有硬塗層的基板同等的結果，任 一者之性能均優。又，在比較例3之試樣編號2的光記錄 光碟，係顯示出在與比較例1之附有硬塗層的基板同等的 結果；在比較例4之試樣編號3的光記錄光碟，係顯示出 在與比較例2之附有硬塗層的基板同等的結果。 在上述實施例中，係表示向相變化型光碟提供之複合 硬塗層。然而，本發明不僅局限於記錄層爲相變化型之光 碟而已’再生專利型光碟、一次寫入型可記錄光碟等，種 類均可廣泛地適用。更且，本發明不僅局限於光資訊媒體 而已，光學透鏡、光學過濾器、反射防止層、及各種顯示 裝置也適用。因此之故，前述實施例中的所有特點只不過 是簡單的例示而已，不能以此限定地解釋。更且，在屬於 38 1307502 申請專利範圍之均等範圍內的變更，亦全部包括在本發明 之範圍內。 【發明效果】 設若依照本發明的話’就可以廉價地且容易地提供一 種附有具高耐摩耗性、同時撥水性•潤滑性也均優、而且 其耐久性亦極爲良好的硬塗層之物體。 【圖式之簡單說明】 第1圖爲顯示附有本發明之複合硬塗層之物體的層構 成例之模組式斷面圖。 第2圖爲顯示附有本發明之被複合硬塗層之物體的光 碟的例子之一的示意斷面圖。 【元件符號對照表】 1 對象 2 硬塗 3 防污 11 光碟 12 支撐 13 反射 14 第2 15 相變 16 第1 17 記錄 18 光穿 19 硬塗 物體 層 表面層 基板 層 介電體層 化記錄材料層 介電體層 層 透層 層

39 1307502 2 0 防污表面層

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Claims (1)

130750? 第92117754號「附有複合硬塗層之物體及形成複合硬塗層 之方法」專利申請案 (2008年11月24日修正） 拾、申請專利範圍： 1·一種附有複合硬塗層之物體，其係附有包括設置在物體表面 上之硬塗層、以及設置在硬塗層表面上之防污表面層的複合 硬塗層之物體； 其中硬塗層係由含有活性能量線硬化性化合物之硬被 覆劑組成物之硬化物所形成；防污表面層係由包括一含有氟 之多官能（甲基）丙烯酸酯化合物的表面材料之硬化物所形 成，前述防污表面層係固定在前述硬塗層上。 2. 如申請專利範圍第1項之附有複合硬塗層之物體，其中 在硬被覆劑組成物中所含的活性能量線硬化性化合物， 係具有至少1個從（甲基）丙烯醯基、乙烯基及氫硫基中 所選出之反應性基。 3. 如申請專利範圍第1項之附有.複合硬塗層之物體，其中 硬被覆劑組成物係含聚合起始劑、及視情況需要之無機 塡料。 4. 如申請專利範圍第1項之附有複合硬塗層之物體，其中 防污表面層之厚度係在1奈米以上100奈米以下。 5. —種複合硬塗層之形成方法，其係一種形成含有接著於 對象物體表面的硬塗層和接著於硬塗層表面的防污表面 層之方法，其特徵在於：在應以硬塗層處理之對象物體 表面上，塗布含有活性能量線硬化性化合物之硬被覆劑 1 (9711,24) 1307502 組成物，使形成硬被覆劑組成物層； 在硬被覆劑組成物層之表面上，形成由包括含有氟 之多官能（甲基）丙烯酸酯化合物的表面材料所成膜之表 面材料層； 在所形成的硬被覆劑組成物層及表面材料層上照射 活性能量線使前述兩層同時硬化，並形成接著於對象物 體表面的硬塗層、和接著於硬塗層表面之防污表面層， 藉以在對象物體表面上形成含有硬塗層和防污表面層之 複合硬塗層。 _ 6 ·如申請專利範圍第5項之複合硬塗層之形成方法，其係 在將硬被覆劑組成物塗布在對象物表面上之後予以乾 * 燥，再從硬被覆劑組成物層除去在硬被覆劑組成物中所 含的溶劑，然後形成表面材料層。 7 .如申請專利範圍第5項之複合硬塗層之形成方法，其係 在將硬被覆劑組成物塗布在對象物表面上之後，視情況 需要地予以乾燥，再照射活性能量線使硬被覆劑組成物 成爲半硬化狀態，然後形成表面材料層。 8 .如申請專利範圍第5項之複合硬塗層之形成方法，其係 藉由塗布表面材料層使成膜而形成表面材料層，此時之 溶劑係使用實質上不溶解已形成的硬被覆劑組成物層中 之活性能量線硬化化合之溶劑。 9.如申請專利範圍第5項之複合硬塗層之形成方法，其中 在硬被覆劑組成物中所含的活性能量線硬化性化合物， 係具有至少1個的從（甲基）丙烯醯基、乙烯基及氫硫基中 2 1307502 - . A m 所選出之反應性基。 1 〇 .如申請專利範圍第5項之複合硬塗層之形成方法，其係 形成厚度在1奈米以上1〇〇奈米以下之防污表面層。 11. 一種附有複合硬塗層之物體，其係附有包括設置於物體表 面的硬塗層、和設置於硬塗層表面的防污表面層之複合 硬塗層的物體， 其係藉由在應以硬塗層處理之對象物體表面上，塗 布含有活性能量線硬化性化合物之硬被覆劑組成物’使 形成硬被覆劑組成物層； 在硬被覆劑組成物層之表面上，形成由包括含有氟 之多官能（甲基）丙烯酸酯化合物的表面材料所成膜之表 面材料層； 在所形成的硬被覆劑組成物層及表面材料層上照射 活性能量線使前述兩層同時硬化，並形成接著於對象物 體表面的硬塗層、和接著於硬塗層表面之防污表面層， 而得到附有包括設置在物體表面上的硬塗層、和設置在硬 塗層表面上的防污表面層之複合硬塗層之物體。 1 2 _如申請專利範圍第1或1 1項之附有複合硬塗層之物體， 其中物體爲光記錄媒體、光磁記錄媒體 '光學透鏡、光 學過濾器、反射防止膜、或各種顯示元件。 3