TWI284237B - A multilayer compensator for an LC cell - Google Patents

Description

1284237 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種供液晶顯示器使用之多層光學補償器 ’其包括具有特定雙折射性質之第一及第二層。本發明亦 提出一種LC顯示及一種製造該補償器之方法。 【先前技術】 三乙酿基纖維素（TAC，亦稱為三乙酸纖維素）薄膜因為其 獨特之物理性質及阻燃性，而習用於照相工業中。TAC薄 膜亦係作為液晶顯示器中使用之偏光板的覆片之較佳聚合 物薄膜。其因平面内雙折射極低，而成為此種應用的較佳 材料。其平面外雙折射亦低（但非零），故可用於針對LCD提 供部分光學補償。 特丨生又折射係描述材料於分子等級下之基本取向。其直 接與孩材料之分子結構（鍵角、旋轉自由度、芳族基團之存 在等）有關。該特定雙折射並不受用以製造一巨觀物體的加 工條件（溫度、應力、壓力）所影響。. 結晶及液晶材料具有在組裝於一巨觀物件時，幾近完美 地顯不其特性雙折射的有利性質。結晶及液晶分子層經常 可製造成在該物件中之所有分子皆彼此對準，因此保持其 基本取向。在製造非晶質聚合物材料時皆不然。其特性雙 折射極易被製造過程所修飾。因此，實際物件所測得之雙 折射會疋其特性雙折射與製造過程之結果。因為討論的是 孩種非晶質聚合物材料，故下列定義係意指所測量之雙折 射’而非特性雙折射。 86265 1284237 兔意指介於〜與〜之間的差值， 位於該層平面内。nx係定義為與聚合物鑄造方向平行及:係 則與聚合物薄膜铸造方向垂直。習用符號為^。巧 炫歧抱1意燈介於一%平均值之間；差值，並 X及y係位相層平面中，而ζ係位於與該層垂直㈣ :曙號係為-[―]。就-般具有負值平面外： 折射’因為其〜小於其〜及％。 又 此 意指平φ θ雙折射與層厚⑴之乘積 ，Re=t(nx_ny) " 意指平面外雙折射與層厚⑴之乘積。因 此Rth=t (nz-[(nx+ny)/2])。 合成聚合物膜（諸如聚碳酸酯或聚砜）經常用於增進丁AC所 提供之最小光學補償。此等合成聚合物膜係藉/黏著性層 積接合於顯示器之其他部分上。 在光學材料領域中，該合成聚合物膜通常作為光學各向 異性膜（具有高延遲值），而TAC膜係作為光學各向同性膜 (具有低延遲值）。 歐洲專利申請案編號09116S6 A2及日本專利公告2〇〇〇/275434 A兩者皆揭示一種具有高延遲之TAC膜。該丁Ac係作為供光 學補偵板用之載體，該補償板係包括該TAC載體及一含有 迪斯可（discotic)液晶分子的光學各向異性層。該TAC膜藉由 三種方法達到高延遲值（包括此三種方法之組合）··丨）添加 特定芳族小分子（即三亞苯）於該TAC膜，2)在鑄造該膜之前 先冷卻該TAC溶液，及3)拉伸該TAC膜。添加特定芳族分子 86265 1284237 經過纣論，具有會導致此等分子“滲出，，該TAC膜的問題。 該發明實施例中，將該TAC膜乾燥需花費極長時間（超 小時）。該種時間長度無法適用於滾筒_至_滾筒方法（⑹1抝 roll process) 〇 、除了 TAC膜之外’該高各向異性迪斯可液晶層亦需要特 足配向技術及紫外線輻射，以使該單體層交聯。 吴國公開專利申請案2綱/祕现A1揭示一種具有高延遲 之TAC單膜’而典向各向異性迪斯可層。此就膜藉著在 TACfe中摻入具有兩個或多個芳族基團之分子，之後拉仲 该TAC版’㊉達到高延遲。不加以拉伸時，此TAC膜A法且 有較正fTAC改善之延遲。藉由此種拉伸，可同時增加^ 面内及平面外延遲。此兩正交延遲無法個別藉由此方控制。 曰本”，利中請案jp 描述—種液晶顯示器， 〃具有猎由單軸拉伸高聚合物膜所製備之光學補償器(JL有 高延遲)。該聚合物包括心聚碳酸酿或聚一伸J :係件到所需光學性質所必要。此拉伸同時影響平面内及 :面二卜延遲。此兩正交延遲無法個別藉由此方法控制。而 ，據其描述’難以藉此方法製造均勻光學補償器。 頂ΐ案：描述一種補償器，*中發明者在塗覆於TAC載體 合物黏合劑中使用剥離無機黏土材料。此層中之 ^機黏土材料係為旋光性材料，非聚合物黏合劑。 聚㈣t"請細购咖描述―#藉由層積已拉伸之 生:困^所製得之補償器。該J頁研究不僅需要層積（有其伴 、、兩種不同種類之聚碳酸醋亦需要兩次個別拉伸 86265 1284237 二醯亞胺基、酯、碳酸酯、芳族（即雜芳族或碳環芳族諸如 丰基、茶基、聯苯基、射、雙盼）、碗、及偶氮基或此等 發色團之組合物。非可見光發色團係為吸光最大值超出4〇〇 至700奈米範圍者。 非晶質聚合物材料使用於此光學補償器中。此情況下， 非晶質意指該光學補償器在曝露於x_射線繞射分析下時， 不會產生任何陡峭之繞射尖峰。結晶聚合物、液晶分子及 結晶無機材料在進行該種x_射線繞射分析時，會產生該種 陡峨尖學。該非晶質材料符合需求地適於作為溶劑禱造或 塗覆諸如TAC、聚碳酸酯、環狀聚烯烴、聚酯、及聚醯亞 胺。 一般層積使用厚度大於4微米之感壓性黏著層。本發明所 使用之緊鄰一辭意指不使用任何中間層積黏著層，因此預 期僅可使用極薄（0.2微米或更薄）之黏著促進層或黏著促進 性表面處理，諸如電暈放電、電漿輝光放電、或火焰處理 。可採用其他熟習此項技術者已知之黏著促進方法。 TAC膜之製造係眾所周知，且包括τ列方法。tac溶液 (膠液（dope))可根據下列習用方法製備。該習用方法中，於 不低於〇°C(室溫或高溫）之溫度下進行該程序。該溶液可藉 已知膠液製備方法使用一般溶劑鑄造方法所使用的裝置^ 備。至於溶劑，此方法一般使用南化烴（尤其是二氯甲烷） 。TAC用量調整至所製備溶液中乙酸纖維素之含量係為1 至40重量％範圍内’-般係為1()至3〇重量％。添加劑（前述 者）可添加於該有機（主要）溶劑中。 86265 -10- 1284237 該膠液係鑄造於轉筒或帶子上，蒸發溶劑，以形成薄膜 。在鑄造膠液之前，膠液濃度一般係調整至膠液固體含量 介於18至35重量％範圍内。轉筒或帶子表面一般係經拋光 ，以產生鏡面。該溶劑鑄造方法之鑄造及乾燥階段係描述 於美國專利編號 2,336,310, 2,367,603, 2,492,078, 2,492,977, 2,492,978, 2,607,704, 2,739,069, 2,739,070，大不歹ij 顛專利編號640,731，736,892, 曰本專利公告編號45(1970)-4554, 49(1974)-5614，日本專利臨時 公告編號 60(1985)_176834, 60(1985)-203430及 62(1987)-115035。 可添加增塑劑於該乙酸纖維素薄膜，以改善薄膜之機械 強度。該增塑劑具有另一項縮短乾燥時間之功能。通常使 用磷酸酯及羧酸酯（諸如苯二甲酸酯及檸檬酸酯）作為增塑 劑。磷酸酯實例包括磷酸三苯酯（TPP)及磷酸三甲苯酯（TCP) 。苯二甲酸酯實例係包括苯二甲酸二甲酯（DMP)、苯二甲 酸二乙酯（DEP)、苯二甲酸二丁酯（DBP)、苯二甲酸二辛酯 (DOP)、苯二甲酸二苯酯（DPP)及苯二甲酸二乙基己酯 (DEHP)。擰檬酸酯之實例係包括擰檬酸〇-乙醯基三乙酯 (OACTE)及擰檬酸〇-乙醯基三丁酯（OACTB)。 其他羧酸酯之實例係包括油酸丁酯、甲基乙醯基蓖麻酸 酯、癸二酸二丁酯及各種苯偏三酸酯。苯二甲酸酯（DMP、 DEP、DBP、DOP、DPP、DEHP)之增塑劑較佳，而 DEP及 DPP 特佳。增塑劑用量以乙酸纖維素之量計一般係〇·1至25重量 %範圍内，傳統上係1至20重量％，期望3至15重量％。 安定劑（例如氧化抑制劑、過氧化物分解劑、自由基抑制 劑、金屬鈍化劑、氧掃除劑、胺）亦可摻入該乙酸纖維素膜 86265 -11 - 1284237 中忒安定劑係描述於日本專利臨時公告編號30991)-199201 5(1993>1907073 > 5(1993)-194789 - 5(1993)-271471^. 6(1994>107854 中退化抑制劑之用量以溶液（膠液）量計係介於〇 〇1至J重 里/ofe圍内，一般係〇 〇1至0·2重量％。若用量低於〇 〇1重量％ 旦❻則退化抑制劑難以產生效果。另一方面，若用量高於丨重 !%，則退化抑制劑經常滲出薄膜表面。特佳之退化抑制 劑的實例係包括經丁酸化之羥基甲苯（ΒΗΤ)及三芊基胺 (ΤΒΑ) 〇 TACfe灸厚度係小於14〇奈米，一般佳於7〇至丨丨5微米範圍 内’期望70至1〇〇微米。 若使用乙酸纖維素膜作為偏光板之透明保護膜，則膜表 面一般進行表面處理。該表面處理之實例係包括電暈放電 處理、輝光放電處理、火焰處理、酸處理、鹼處理及紫外 線輻射處理。以酸處理或鹼處理為佳。該酸處理或鹼處理 可作為乙酸纖維素膜之惠化處理。 該鹼處理特佳。鹼處理使用鹼水溶液。該鹼一般係為鹼 金屬之氫氧化物，諸如氫氧化鈉或氫氧化鉀。該鹼水溶液 具有一般高於10之pH值。該乙酸纖維素膜之至少一表面浸 入鹼水溶液中歷經一般1至3〇〇秒，期望5至24〇秒。該鹼處 理一般係於25至70°C下進行，期望於35至⑹它下進行。鹼處 理之後’乙酸纖維素膜一般以水洗滌。 該第二層一般係溶劑塗覆於該第一層上。此溶劑塗覆可 藉:k轉塗覆 '斗式塗覆（h〇pper coating)、照相凹版塗覆、線 錠塗覆（wire bar coating)或其他熟習此項技術者已知之塗覆方 86265 -12- 1284237 法。 該第二層係自一溶液塗霜， ^ 、 今從1復藏/谷履含有在溶劑塗覆時產 生高度負值雙折射之聚合物。A遂& & 4產生負值平面外雙折射（負 延遲）’使用聚合物主鏈中含有非可目 丁口哥非可見先發色基團諸如乙烯 基、羧基、醯胺、醯亞胺、酯、山^ 酉日妷鉍酯、砜、偶氮基及芳 族雜環及碳環基（例如苯基、艾其、碑# I 施 土 奈基、聯枣基、雙酚A、噻吩） 之聚合物，諸如聚酯、聚碳酸酯、取 叉馱S日聚醯亞胺 '聚醚醯亞胺 、及聚嘍吩。 適用於第二層之聚合物實例有1)聚(4,4，-六氟亞異丙基-雙 酴）對苯二甲酸酉旨_共聚_異苯二甲酸醋，2)聚，六氣4 亞甲基亞氫雜·5-基雙朌）對苯二甲酸醋，3)聚（4,4，_亞異丙 基-2,2’，6,6’-四氯雙酴）對苯二甲酸酷_共聚_異苯二甲酸酷， 4)聚（4,4’_六氟亞異丙基）_雙紛_共聚♦亞正宿朴雙紛對苯 二甲酸S旨’ 5)聚（4,4’_六氫_4,7_亞甲基亞氫^5_基）雙盼-共 聚-(4,4’_亞#丙基_2,2’，6,6’-四溴)_雙酚對苯二甲酸酯及6)聚 (Μ’-亞異丙基·雙紛-共聚，仆亞正福基）雙酉分）對苯二甲 酸酯-共聚-異苯二甲酸酯或任何前述者之共聚物。 期望該第二層所欲使用之聚合物主鏈外不具有發色團。 在王鏈内及主鏈外具有發色團之不期望聚合物實例係為具 有重要比例之苐基的聚芳基化物。 孩第二層所使用之聚合物的玻璃態化溫度（Tg)具有重要 性。期望高於18(TC之Tg值，以達到較佳結果。 該第二層所使用之聚合物可藉各種技術合成：可採用縮 合、加成、陰離子性、陽離子性或其他—般合成方法。 86265 -13 - 1284237 該第二所需相鄰層的厚度一般小於30微米。一般係由0.1 微米至20微米。傳統上係1.0微米至10微米，而更期望由2微 米至8微米。 補償器之結合厚度一般小於115微米。一般係由40微米至 105微米。期望由80微米至100微米。 第二層具有足以使第二層之平面外延遲小於-20奈米之厚 度。一般係-600至-60奈米。傳統上係-500至-100奈米，且期 望-400至-150奈米。 以下參照圖式更詳細描述本發明。 圖1出示本發明多層補償器5之剖面圖。該補償器係包括 具有低值雙折射之第一聚合物層10，及具有高值雙折射之 第二相鄰聚合物層20，薄層10及20之結合平面内延遲（Re)係 為+20至-20奈米，而薄層20之平面外延遲（Rth)係低於-20奈 米。 圖2出示本發明另一多層補償器6之剖面圖。該補償器係 包括具有低值雙折射之第一聚合物層10、具有高值雙折射 之第二聚合物層20、及具有低值雙折射之第三聚合物層30 ，其中薄層20係與薄層10及30相鄰，而薄層10、20及30之結 合平面内延遲（Re)係+20至-20奈米，且薄層20之平面外延遲 (Rth)係低於-20奈米。薄層10及30之組成物可相同或相異。 圖3出示本發明另一多層補償器7之剖面圖。該補償器包 括具有低值雙折射之第一聚合物層10、具有高值雙折射之 第二聚合物層20、及具有高值雙折射之第三聚合物層40， 其中薄層10係與薄層20及40相鄰，且薄層10、20及40之結合 86265 -14 - 1284237 平面内延遲（Re)係+20至-20奈米，薄層20及40之結合平面外 延遲（Rth)係低於-20奈米。薄層20及40之組成物可相同或相 異。傳統上，薄層20及40係具有相同組成及厚度，以提供 具有捲曲控制之對稱多層補償器。熟習此項技術者可想像 較複雜之結構。 圖4A係為示意液晶顯示器700，其中300係為單層補償膜 ，放置於該液晶槽件600之一面上。500係為偏光板，且550 係為第二偏光板。偏光板500及550之透光軸彼此形成90° 土 10°角。其透光軸之角度相對於液晶槽件600表示成45°及135° 。然而，視液晶顯示器700之類型而可有其他角度，此係熟 習此項技術者可顯而易知者。注意600係為可以電切換之液 晶槽件，兩玻璃板間裝有液晶。 圖4B出示另一示意液晶顯示器700，其中兩補償膜300放 置於液晶槽件（600)之兩面上。500係為偏光板，且550係為 第二偏光板。偏光板500及550之透光軸彼此形成90° ±10°角 。其透光軸之角度相對於液晶槽件600表示成45。及135°。然 而，視液晶顯示器700之類型而可有其他角度，此係熟習此 項技術者可顯而易知者。注意600係為可以電切換之液晶槽 件，兩玻璃板間裝有液晶。 可使用本發明之液晶槽件配置有垂直配向（VA)及平面内 切換（IPS)槽件。垂直配向配置中，液晶顯示器係為於與槽 件平面正交或垂直之方向上施加電場者，在不施加電場下 ’液晶光轴方向貫質上與液晶槽件平面正交或垂直。因此 ，入射光基本上不會感受到通經液晶槽件之雙折射。此狀 1284237 態稱為“黑暗狀態”。在平面内切換配置下，在液晶平面方 向士施加電場’液晶光軸方向隨著電場之施加而改變，同 時實質保持於該槽件平面内。 十與先前技術比較之下，本發明具體實例免去拉伸薄膜之 需求=需使用昂貴之液晶分子’不需薄膜層積（因此減少 導入塵污或來自層積黏著劑而不需要之光學延遲的機會）， 於相當薄（<_微米）結構下提供改良之光學補償，且曰易於 製造。另一項貢獻是具體實例可控制Re(主要 戶 應性）且控制Rth(主要係第二層之相應性）。先前技術^，以 及Rth經常聯在一起，而無法個別控制。 藉以下非限制實施例進一步說明本發明。 實施例： 此h况所使用之芳族聚酯可使用任何適當或習用方法製 備。以下所使用之方法係列於R w· M〇rgan之C〇ndensati〇n

Polymers. By Interfacial and Solution Methods, Interscience, New York City, Ν·Υ· (1965) 〇 實施例1 : 聚合物I(合成）·· 4’4 -/、氟亞異丙基聯苯紛（33.62克，o.i莫耳）及三乙胺（22.3 克’ 0.22莫耳）於二氯甲烷（2〇〇毫升）中之攪動混合物於1〇〇c下 添加對苯二甲醯氯（10·15克，0·05莫耳）及異苯二甲醯氣（1〇15 克’ 〇·〇5莫耳）於二氯甲烷（1〇〇毫升）中之溶液。添加之後， 使溫度升高至室溫，且溶液於氮下攪拌4小時，期間鹽酸三 乙胺以凝膠形式沉澱析出，溶液變黏稠。隨後過濾該溶液 86265 -16- 1284237 一以稀鹽酸（100毫升，2%酸）洗滌，之後以水（2〇〇毫升）洗滌 y久。該溶液隨之倒入劇烈攪拌之甲醇中，.白..色纖維狀聚 合物沉澱析出。此聚合物之破璃態化溫度藉差示掃描熱量 '去測量係為199°C。

聚（4,4，-六氟亞異丙基_雙酚）對苯二甲酸酯_共聚-異苯二甲 酸酯。

聚合物I 聚酯溶液（聚合物I，10%固體，45%曱基乙基酮，45%曱 笨）塗覆於TAC網上。包括下列步驟：展開TAc網、塗覆聚 合物溶液（使用槽式漏斗）、及施加充分乾燥（85。〇,以移除 大部分溶劑。此等步驟料滚筒至_滾筒連續方法中進行 。亦可使用旋塗法及其他塗覆方法。製得具有下列光學性 質而具有TAC/聚醋結構的光學透明薄膜。於55〇奈米波長下 使用橢圓計（型號M2000V，J.A· WooUam c〇.)測量Re、趾及第二 層厚度。 ^

表I % 一層 弟一層·聚合物 I層厚度（微米） 結合Re，平面 内延遲（奈米） 結合Rth，平面 80微米TAC 0 3 -58 86265 17 1284237 80微米TAC 2.8 3 -84 80微米TAC 5.6 3 -104 ----—. 實施例2 :

同法使用對苯二甲醯氯及4,4，-(六氫-4,7-亞甲基亞氫茚_5一 基）雙紛製備聚合物II。此聚合物之玻璃態化溫度藉差示掃 描熱量法測量係為289°C

聚（4,4、六氫-4,7-亞甲基亞氫茚-5-基雙酚）對苯二甲酸酯。

聚合物II 當聚合物II施鑄於透明基材（於二氯甲烷中10%固體）時， 隨之自該基材取下，顯示下列光學延遲。於550奈米波長下 使用橢圓計（型號M2000V，J.A. Woollam Co·)測量Re、Rth及聚合 物II層厚度。

表II 聚合物II層 厚度（微米） Re，平面内延遲 (奈米） Rth，平面外延遲 (奈米） 3.4 0.2 -74 實施例3 : 同法使用對苯二甲醯氯、異苯二甲醯氯及4,4，-亞異丙基-2,2，，6,6，-四氯雙酚製備聚合物ΠΙ 〇此聚合物之玻璃態化溫度 藉差示掃描熱量法測量係為250°C。 86265 -18- 1284237

α 聚（4,4’_亞異丙基-2,2’，6,6’-四氯雙酚）對苯二甲酸酯_共聚-異 苯二甲酸酯。

聚合物III 當聚合物III施鑄於透明基材（於二氯甲燒中10〇/。固體）時， 隨之自該基材取下，顯示下列光學延遲。於550奈米波長下 使用擴圓計（型號M2000V，J.A· Woollam Co·)測量Re、Rth及聚合 物III層厚度。

表III 聚合物III層厚度 (微米） Re，平面内延遲 (奈米） Rth，平面外延遲 (奈米） 2.8 0.8 -66 實施例4 : 聚合物IV(合成）： Μ’-六氟亞異丙基聯苯酚（23·53克，〇_〇7莫耳）、4,4，<2_亞 正葙基）雙酚（8.4克，〇.〇3莫耳）及三乙胺（22.3克，〇·22莫耳）於 甲基乙基酮（100毫升）中之攪動混合物於1〇°c下添加對苯二 甲醯氯（19.29克，0.095莫耳）及異苯二甲醯氣（1〇2克，〇〇〇5莫 耳）於甲基乙基酮（60耄升）中之溶液。添加之後，使溫度升 高至1：溫，且溶液於氮下攪拌4小時，期間鹽酸三乙胺以凝 86265 -19- 1284237 一 cf3 I \—/ 40 水（4,4 - /、氣亞異丙基）_雙驗-共聚_(2_亞正宿基）_雙醫對笨 甲酸酯（60/40)。

聚合物V

0 II -C

聚（4,4’_六氫-4,7-亞甲基亞茚-5-基）-雙酚-共聚亞異兩 基·2,2’，6,6’-四溴）-雙酉分對苯二甲酸酉旨（50/50) 〇

聚合物VI

%30 聚（4,4’_亞異丙基-雙鼢·共聚-4,4’-(2-亞正宿基）雙g分）對笨 甲酸酯-共聚-異苯二甲酸酯。

聚合物VII 86265 -21 - 1284237 分析一系列聚合物之玻璃態化溫度及平面外雙折射值。 發現本發明較期望之聚合物具有高於18吖之玻璃態化溫度 么現具有較低玻璃態化温度者通常具有低於_〇〇〇5之雙折 射值。 已針對特定較佳具體實例詳細描述本發明，但已知可在 本發明範圍内進行改變及修飾。本發明中所列出之專利及 其他刊物的整體内容係以提及方式併入本文中。 【圖式簡單說明】 圖1係為本發明雙層具體實例之剖面圖。 圖2係為本發明三層具體實例之剖面圖。 圖3係為本發明另一三層具體實例的剖面圖。 圖4A係為本發明具體實例具有一補償膜的液晶顯示器之 分解圖。 圖4B係為本發明具體實例具有雨補償膜之液晶顧示器的 分解圖。 【圖式代表符號說明】 5 本發明補償器 6 本發明補償器 7 本發明補償器 10 具有低值雙折射之第一聚合層 20 具有高值雙折射之第二聚合層 30 具有低值雙折射之第三聚合層 40 具有高值雙折射之第三聚合層 300補償膜 86265 -22- 1284237 500 偏光板 550 偏光板 600 液晶槽件 700 液晶顯不益 -23- 86265

Claims (1)

12 8^3219732號專利申請案 —-巾文.申誚|利範固骑換本(ξ>5年10月） 竹年〜月6日修(走)正本 拾、+請專本1範園: 一種供液晶（LC)槽件使用之多層補償器，其包括一或多 層平面外雙折射不低於-0.005之第一層，及一或多層平面 外雙折射不低於-0.005之第二層，其中該層係非晶性，且 包含經選擇聚合物材料，其厚度足以使補償器之整體平 面内延遲（Re)為+20至-20奈米，而該一或多層第二層中至 少一層的平面外延遲（Rth)低於_2〇奈米，其中該補償器之 結合第一與第二層的厚度係小於14〇微米，且該第二層係 包括主鏈中含有非可見光發色基團且具有高於18(TCITg 的聚合物。 2. 4. 如申請專利範圍第丨項之補償器， 各具有0至-0.005之平面外雙折射。 如申請專利範圍第1項之補償器， 各具有低於-0.005之平面外雙折射 如申請專利範圍第丨項之補償器， 有小於30微米之厚度。 其中該一或多層第一層 其中該一或多層第 二層 〇 其中該結合第二層係具 5. 6. 7. 如申請專利範圍第1項之補償器，其中至少一層第二層之 Rth係為-60奈米或更低。 如申請專利範圍第丨項之補償器，其中該非可見光發色基 團係包括雜環或碳環芳族基團。 如申請專利範圍第！項之補償器，其包括—或多層第一層 及一或多層第二層，其中該層係非晶性， 聚合物材料，其中各第二層係包含主鏈中含有 發色基團且具有高於180°C之Tg的聚合物，且其中各第一 86265-951012.doc 1284237 層不包含該聚合物，該層之厚度足以使補償器之整體平 面内延遲（Re)為+20至-20奈米，而該一或多層第二層中至 少一層的平面外延遲（Rth)低於-20奈米。 86265-951012.doc -2-