TWI276929B - Photosensitive composition remover - Google Patents

Photosensitive composition remover Download PDF

Info

Publication number
TWI276929B
TWI276929B TW093136593A TW93136593A TWI276929B TW I276929 B TWI276929 B TW I276929B TW 093136593 A TW093136593 A TW 093136593A TW 93136593 A TW93136593 A TW 93136593A TW I276929 B TWI276929 B TW I276929B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
photosensitive composition
mass
liquid
polar solvent
aprotic polar
Prior art date
Application number
TW093136593A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200525312A (en
Inventor
Masato Kaneda
Yasuhiro Mikawa
Koji Shimizu
Original Assignee
Showa Denko Kk
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko Kk filed Critical Showa Denko Kk
Publication of TW200525312A publication Critical patent/TW200525312A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI276929B publication Critical patent/TWI276929B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/325—Non-aqueous compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

1276929 (1) 九、發明說明 [發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種於形成玻璃基板或半導體 光性組成物皮膜之步驟中，對於附著於基板周邊 •部或裡面部之未硬化的感光性組成物皮膜之除去 附著於裝置構件或器具表面之未硬化的感光性組 去有效的除去液。 更詳細而言爲，關於於液晶或有機EL製造 丰反上形成感光性組成物皮膜之步驟中，對於附著 ^部、邊緣部或裡面部之未硬化的感光性組成物 & '或對於附著於裝置構件或器具表面之未硬化 組成物之除去有效的除去液。 【先前技術】 液晶、有機EL、電漿顯示器等平面顯示器 之製造步驟中，使用一般微影術技術進行感光性 案形成。 作爲使用於液晶或有機E L的彩色濾光片製 或樹脂黑色矩陣之圖形形成方法，使用顏料分散 法、印刷法、電沈積法等。顏料分散法爲使用含 感光性組成物藉由光微影術進行各色製圖方法， 安定的著色皮膜故爲適用於彩色濾光片製造上之 由該方法於基板上形成感光性組成物皮膜時，含 顏料的感光性組成物塗佈於基板上之步驟，作爲 晶圓等感 部、邊緣 、或對於 成物之除 步驟的基 於基板周 皮膜之除 的感光性 或半導體 組成的圖 造的RGB 法、染色 有顏料的 因可得到 方法。藉 有將含有 該塗佈法 -5- (2) (2)1276929 已知有旋轉塗佈、隙縫塗佈、線纜塗佈、輥塗佈、液滴塗 佈、噴霧塗佈或組合這些之方法。 進行旋轉塗佈的情況下，欲除去感光性組成物塗佈後 之基板周邊部、邊緣部之感光性組成物膜的過剩部分、或 除去附著於裡面的感光性組成物之除去感光性組成物用液 時’一般進行輕洗處理，所謂的邊緣輕洗、背部輕洗。且 ’於旋轉塗佈中欲除去飛散於杯中的感光性組成物所進行 的步驟，即所謂既使於杯輕洗中亦藉由除去感光性組成物 用液進行感光性組成物除去處理。 又，作爲彩色濾光片製造時的感光性組成物塗佈步驟 ’使用前述旋轉塗佈以外亦使用隙縫塗佈法之感光性組成 物塗佈或使用線纜之塗佈、或藉由輥塗佈之塗佈，但該方 法中必須實施，於感光性組成物塗佈後於各隙縫噴嘴或線 纜等、塗佈裝置的一部份或全部上所附著的不必要感光性 組成物之除去。 且，其他亦有必須實施移送感光性組成物的裝置配管 等、附著於塗佈裝置的構件之感光性組成物的除去之情況 。一般於如此感光性組成物的除去時使用除去用液進行洗 淨處理。 對於如此附著於基板及裝置上的任一感光性組成物之 除去步驟中，感光性組成物成分的殘留成爲問題。使用於 彩色濾光片製造的含有顏料的感光性組成物，即使用於 RGB形成的彩色光阻或、使用於樹脂黑色矩陣形成的黑光 阻，顏料成分較易殘留於基板或裝置表面上，這些既使極 冬 (3) (3)1276929 爲少亦可能成爲異物的原因怎成彩色濾光片製造上不良比 率的增加，或彩色濾光片之顏色純度產生變化、或使反差 比降低。近年來使用於彩色顯示器之彩色濾光片中基板的 大畫面化、高精細化、及低成本化之要求變高，這些情況 下對彩色顯示器的性能、收率產生影響的感光性組成物成 分殘留之迴避方法日漸成爲重要的問題。 過去作爲感光性組成物除去劑，一般大多使用乙醇醚 或其酯類、或其混合物（例如參照專利文獻])，但應用 於上述彩色光阻的洗淨除去時，光阻除去性無法充分地發 揮，必須使用大量的除去液，而產生除去殘留液之問題。 又’於含有顏料的著色組成物的除去上，亦有使用含 於感光性組成物的溶劑成分或界面活性劑或分散劑等感光 性組成物之成分的方法（例如，參照專利文獻2 )，但僅 使用含於感光性組成物的溶劑成分作爲洗淨劑使用時，顏 料較易沈澱，無法得到充分的洗淨性。又，界面活性劑或 分散劑等含於感光性組成物的成分使其含於洗淨液組成物 中時，該成分作爲蒸發殘留部分而容易殘留於基板、裝置 構件上，而更需要洗淨步驟，或實質上無法使用於欲除去 蒸發殘留部分之殘留較爲不佳的基板的端面、裡面之感光 性組成物上。. 【專利文獻1】特公平4-4993 8號公報 【專利文獻2】特開2000-273370號公報 【發明內容】 -7 - (4) 1276929 本發明係關於提供具有優良感光性組成物除去性能之 除去感光性組成物用液。 特別爲提供一種於液晶或有機EL製造步驟的基板上 形成感光性組成物皮膜之步驟中，對於附著於基板周邊部 '邊緣部或裡面部之未硬化的感光性組成物皮膜之除去、 或對於附著於裝置構件或器具表面之未硬化的感光性組成 物之除去有效的除去液。 且，本發明中碳數爲9以上的芳香族烴爲成分1，非 質子性極性溶劑爲成分2、非質子性極性性溶劑以外的其 他溶劑爲成分3。 本發明者欲解決上述課題進行重複的詳細硏究。其結 果’發現使用含有特定芳香族烴的除去液時，於含有顏料 的感光性組成物之洗淨除去時可抑制顏料分散性之降低， 提高除去性而完成本發明。 即，本發明如下。 (1 ) 一種除去感光性組成物用液，其爲使用於除去 未硬化的感光性組成物之除去液，其特徵爲含有1〜8 0質 量％之至少1種的碳數9以上的芳香族烴者。 (2 )如（1 )之除去感光性組成物用液，其中碳數爲 9以上的芳香族烴爲沸點1 5 0〜2 5 0 °C之烷基苯類。 (3 )如（1 )或（2 )之除去感光性組成物用液，其 中選自當含有碳數9以上的芳香族烴與非質子性極性溶劑 時，碳數9以上的芳香族烴爲2 0〜8 0質量％，非質子性 極性溶劑爲2 0〜8 0質量％之組成、當含有碳數9以上的 - 8 - (5) 1276929 芳香族烴與非質子性極性溶劑以外的其他溶劑時，碳數9 以上的芳香族烴爲1 0〜20質量％，非質子性極性溶劑以 外的其他溶劑爲8 0〜9 0質量％之組成’以及當含有碳數9 以上的芳香族烴、非質子性極性溶劑及非質子性極性溶劑 以外的其他溶劑時，碳數9以上的芳香族烴爲2 0〜3 0質 纛％、非質子性極性溶劑爲1〜20質量％及非質子性極性 溶劑以外的其他溶劑爲55〜70質量％之組成所成群之組 成。 (4 )如（1 )至（3 )中任一項之除去感光性組成物 用液，其中至少1種選自當含有碳數9以上的芳香族烴與 非質子性極性溶劑時’碳數9以上的芳香族烴爲20〜40 質量％，非質子性極性溶劑爲60〜80質量％之組成、當 含有碳數9以上的芳香族烴與非質子性極性溶劑以外的其 他溶劑時，碳數9以上的芳香族煙爲1 〇〜2 0質:μ % ’非 質子性極性溶劑以外的其他溶劑爲8 0〜9 0質量％，且含 有3 0〜6 〇質量％的丙二醇單甲醚之組成’以及當含有碳 數9以上的芳香族烴' 非質子性極性溶齊1及非質子性極性 溶劑以外的其他溶劑時，碳數9以上的芳香族烴爲20〜3 0 質量％、_質子性極性溶劑爲3〜2〇質量％、非質子性極 性溶劑以外的其他溶劑爲55〜70質量％，且非質子性極 性溶劑爲至少1種之Ν，Ν-二甲基甲醯胺及Ν，Ν·二甲基乙 醯胺，非質子性極性溶劑以外的其他溶劑爲至少1種之丙 二醇單甲酿乙酸酯、環己酮、3 -甲氧基丙酸甲酯及3 ·乙氧 基丙酸乙酿之組成所成群之組成。 冬 (6)1276929 中碳 性溶 中碳 性溶 質量 中碳 性溶 劑爲 N ?N-劑以 3 0 用液 合物 用液 甲基 乙基 2 _吡 γ ^ "Τ (5 )如（1 )或（2 )之除去感光性組成物用液，其 數9以上的芳香族烴爲2 0〜4 0質量％，非質子性極 劑爲6 0〜8 0質量％之組成。 (6 )如（1 )或（2 )之除去感光性組成物用液，其 數9以上的芳香族烴爲1〇〜20質量％，非質子性極 劑以外的其他溶劑爲80〜90質量％，且含有30〜60 %的丙二醇單甲醚之組成。 (7 )如（1 )或（2 )之除去感光性組成物用液，其 數9以上的芳香族烴爲20〜30質量％，非質子性極 劑爲3〜2 0質量％，非質子性極性溶劑以外的其他溶 55〜7〇質量％，且非質子性極性溶劑爲至少1種之 二甲基甲醯胺及Ν，Ν-二甲基乙醯胺，非質子性極性溶 外的其他溶劑爲至少1種之丙二醇單甲醚乙酸酯、環 、3 ·甲氧基丙酸甲酯及3 -乙氧基丙酸乙酯之組成。 (8 )如（3 )至（5 )中任一項之除去感光性組成物 ，其中非質子性極性溶劑爲至少1種選自鏈狀醯胺化 、環狀醯胺化合物、硫化合物及環狀酯所成群。 (9 )如（3 )至（5 )中任一項之除去感光性組成物 ，其中非質子性極性溶劑爲至少1種選自甲醯胺、Ν-甲醯胺、Ν，Ν-二甲基甲醯基、Ν-乙基甲醯胺、Ν，Ν·二 甲醯胺、Ν，Ν-二甲基乙醯胺 '四甲基尿素、Ν-甲基-咯烷酮、Ν-甲基咪唑烷酮、二甲基亞硕、磺丁碼、 •內酯所成群。 (1 0 )如（6 )之除去感光性組成物用液’其中非質 -10- (7) 1276929 子性極性溶劑以外的其他溶劑爲至少1種選自乙二醇醚類 、乙二醇醚羧酸酯類、羧酸酯類、羥基羧酸酯類、酮類、 醇類、烷氧基羧酸酯類及環狀醚類所成群。 (1 1 )如（1 )至（1 0 )中任一項之除去感光性組成 物用液，其中使用於除去含有顏料的感光性組成物上。 (1 2 )如（1 )至（1 0 )中任一項之除去感光性組成 物用液，其中使用於除去含有顏料的丙烯系感光性組成物 上。 本發明的除去液爲於液晶或有機EL製造步驟的基板 上形成感光性組成物皮膜之步驟中，對於附著於基板周邊 部、邊緣部或裡面部之未硬化的含顏料之感光性組成物皮 膜之除去、或對於附著於裝置構件或器具表.面之未硬化的 含顏料之感光性組成物之除去可發揮效果的除去液。 (實施發明的最佳型態） 以下對於本發明的感光性組成物除去液作說明。 本發明的感光性組成物除去液（以下稱爲「除去液」 )係使用於未硬化的感光性組成物的除去者，含有至少! 種的碳數9以上的芳香族烴，其含有比率爲〗〜8 〇質量％ 〇 使用於本發明的碳數9以上的芳香族烴爲，以烷基取 代的芳香族烴，可舉出烷基苯類、烷基萘類等。烷基可爲 直鏈狀或支鏈狀，可由2個以上的基連結之環狀結構所成 。方香族煙的fc數爲9以上’ 1 2以下爲佳。作爲具體例子 -11 - (8) 1276929 乙 異 乙 丙 1) 乙 Λ 戊 甲 甲 萘 光 性 除 燥 體 乙 異 可舉出1，2,3-三甲苯、1，254_三甲苯、1，3,5-三甲苯、卜 基·2 -甲苯、1-乙基_3·甲苯、卜乙基_4 -甲苯、正丙苯、 丙苯、正丁苯、第二丁苯、異丁苯、12,3，4 -四甲苯 1，2,3,5-四甲苯、1，2,4,5-四甲苯、l52-二甲基_3_乙苯 1，2-二甲基-4-乙苯、1，3-二甲基_2_乙苯、ΐ53_二甲基·4-苯、1，3-二甲基-5-乙苯、二甲基乙苯、卜甲基_2_ 苯、1-甲基-3-丙苯、1-甲基心丙苯、卜甲基_2_異丙苯、 甲基-3-異丙苯、1-甲基-異丙苯、ι，2 -二甲苯、ι，3 -二 苯、1，4-二乙苯、戊苯、甲丁苯、乙丙苯、二甲基丙苯 甲基二乙基苯、三甲基乙基苯、五甲基苯、己苯、甲基 苯、乙丁苯、二甲基丁苯、二丙苯、甲基乙基丙苯、三 基丙苯、三乙苯、二甲基二乙基苯、四甲基乙基苯、六 基苯 '茚滿、四氫呋喃、等烷基苯類、甲基萘、二甲基 等烷基萘等類。但本發明不限於此。 這些芳香族烴可單獨或2種以上的組合含於除去感 性組成物用液中。 這些中亦有沸點爲1 5 0〜2 5 0 °C的烷基苯類對於感光 組成物的除去性能，特別對於含有顏料的感光性組成物 去能較爲局，且，因具有適用於感光性組成物除去之乾 性故較佳。 其中特佳的烷基苯類爲碳數9或1 0的烷基苯，具 可舉出 1，2,3-三甲苯、1，2,4-三甲苯、153,5-三甲苯、1-基-2-甲苯、1-乙基-3-甲苯、1-乙基-4 -甲苯、正丙苯、 丙苯、正丁苯、第二丁苯、異丁苯、〗，2,3,4 -四甲苯 -12- (9) 1276929 1，2,3,5-四甲苯、1，254,5-四甲苯、1，2-二甲基-3-乙苯、 1，2-二甲基-4-乙苯、1，3-二甲基-2-乙苯、1，3-二甲基-4-乙 苯、1，3-二甲基-5-乙苯、1，4-二甲基-2-乙苯、1-甲基-2-丙 苯' 1-甲基-3-丙苯、1-甲基4-丙苯、1-甲基-2-異丙苯、1-甲基-3-異丙苯、1-甲基-4-異丙苯、1，2-二甲苯、1,3 - 一乙 苯、1，4-二乙苯。 本發明的除去液於實際上使用時，上述的芳香族烴可 藉由任意方法所調製出，但以芳香族成分比率較高的溶 劑石腦油，例如碳數9爲中心的烷基苯系混合溶劑的使用 爲有效，商品名雪利索A (商標：雪利化學公司製作，初 沸點 1 6 0 °C，乾點 1 8 2 °C ) 、s ο 1 b e 11 0 0 (商標··宜克索化 學公司製作，初沸點164°C，乾點176°C ) 、swasoll〇〇〇 (商標：九善石油化學公司製作，初沸點161 °C，乾點 179°C ) 、ipusollOO (商標：出光石油化學公司製作·，初 沸點1 62°C，乾點1 79°C ) 、hisoll 00 (商標：日本石油化 學公司製作，初沸點1 55°C，乾點180°C ). 、solfain-TM ( 商標：昭和電工公司製作，沸點1 6 0〜1 8 0 °C )、碳數1 〇 爲中心的烷基苯系混合溶劑之商品名shel sol AB (商標： 雪利化學公司製作，初沸點1 8 7 °C ，乾點2 1 3 °C )、 s〇 lb etl 50 (商標：雪利化學公司製作，初沸點1 88 °C，乾 點2 09 °C ) 、swas〇1 1 5 00 (商標：九善石油化學公司製作 ’初沸點 1 8 0 · 5 °C，乾點 2 0 8.5 °c ) 、i p u s ο 11 5 0 (商標：出 光石油化學公司製作，初沸點186 °C，乾點205 °C )、
1 s 〇 1 1 5 0 (商標：日本石油化學公司製作，初沸點1 8 2 °C -13- (10) (10)1276929 ，乾點2 1 6。(：） 、S ο 1 f a i η - W Z (商標：昭和電工公司製作 ，沸點195〜2 5 0 °C )、碳數10爲中心的烷基苯-烷基萘系 混合溶劑之商品名s w a s ο 1 1 8 0 0 (商標：九善石油化學公司 製作，初沸點195.5 °C，乾點245 1：)等芳香族烴之混合 物可適用於本發明的除去液。 本發明的除去液中，可含有1〜80質量％的上述芳香 族烴，以3〜70質量％爲佳。較佳爲5〜60質量％，更佳 爲10〜40質量％。含有量僅爲1質量％以上，即可發揮 感光性組成物除去性能，特別爲含有顏料的感光性組成物 之顏料分散除去性能。另一方面，僅爲8 0質量％以下時 ，含於感光性組成物的樹脂成分之溶解性能不會降低，且 結果上不會導致感光性組成物的除去性能降低故較佳。 本發明的除去液中可再含有1〜80質量％的非質子性 極性溶劑。非質子性極性溶劑係爲質子供給能較爲低的溶 劑，作爲具體例子爲可舉出甲醯胺、N-甲基甲醯胺、N，N-二甲基甲醯胺、N-乙基甲醯胺、N，N-二乙基甲醯基、N，N_ 二甲基乙醯胺、四甲基尿素等鏈狀醯胺化合物、N-甲基_ 2 -吡咯烷酮、N-甲基咪η坐二酮等環狀醯胺化合物、二甲_ 亞硕、環丁硕等硫化合物、7 -丁內酯等環狀酯等。 其中以 N-甲基甲醯胺、N，N-二甲基甲醯胺、N，N-二 甲基乙醯胺、N-甲基-2-吡咯烷酮、二甲基亞硕及r-丁內 酯因可提高感光性組成物的溶解除去性故較佳。本發明@ 除去液中所含有的非質子性極性溶劑可單獨使用、或含_ 2種以上使用。 -14- (11) (11)1276929 含有非質子性極性溶劑時的較佳含有量爲1〜8 0質量 %，較佳爲3〜8 0質量％。非質子性極性溶劑的含有量僅 爲8 0質量％以下時，洗淨後的乾燥性不會惡化，且不會 引起含有顏料的感光性組成物之顏料沈澱析出故較佳。 本發明的除去液可含有芳香族烴及非質子性極性溶劑 以外的其他溶劑成分。即，本發明的除去液可爲任一種芳 香族烴與非質子性極性溶劑之組合、芳香族烴與非質子性 極性溶劑以外的其他溶劑之組合、及芳香族烴與非質子性 極性溶劑與非質子性極性溶劑以外的其他溶劑之組合。 較佳的本發明之除去液爲，選自當含有碳數9以上的 芳香族烴（成分】）與非質子性極性溶劑（成分2)時， 成分1爲20〜80質量％，成分2爲20〜80質量％之組成 、當成分1與非質子性極性溶劑以外的其他溶劑（成分3 )時，成分1爲1〇〜20質量％，成分3爲80〜90質量％ 之組成，以及含有成分1至成分3、時’成分1爲20〜30 質量％、成分2爲1〜20質量％及成分3爲55〜70質量 %之組成所成群之組成。 本發明的較佳除去液爲，至少1種選自當含有成分1 與成分2時’成分1爲20〜40質纛％ ’成分2爲6〇〜80 質量％之組成、當含有成分1與成分3時’成分1爲10〜 20質量％，成分3爲80〜90質量％ ’且含有30〜6〇質量 %的丙二醇單甲醚之組成，以及當成分1至成分3時，成 分1爲20〜30質量％、成分2爲3〜20質量％、成分3 爲55〜70質量％，且成分2爲至少1種之Ν，Ν-二甲基甲 -15 -- (12) 1276929 單 酸 型 之 80 組 質 少 酸 型 ， 30 % 2 0 種 至 甲 30 量 甲 醯胺及N，N -二甲基乙醯胺，成分3爲至少1種之丙二醇 甲醚乙酸酯、環己酮、3 -甲氧基丙酸甲酯及3 -乙氧基丙 乙酯之組成所成群之組成。 本發明的除去液含有成分1與成分2時，本發明的 態係成分1爲20〜40質量％，成分2爲60〜80質量％ 組成。較佳爲含有成分1爲10〜20質量％，成分3爲 〜90質量％，且含有30〜60質量％的丙二醇單甲醚之 成。更佳爲含有成分10〜20質量％，成分3爲80〜90 量％ ’ 30〜60質量％的丙二醇單甲基醚，且成分1爲至 1 種之 1，2,4-三甲苯、異丙苯、s〇lbetl00 及 s〇lfain-TM 成分3爲至少1種的丙二醇單甲醚乙酸酯、環己酮、乙 丁酯及3-甲氧基丙酸甲酯、及丙二醇單甲醚之組成。 本發明的除去液含有成分1至成分3時，本發明的 態爲成分1爲20〜30質量％，成分2爲1〜20質量％ 成分3爲55〜77質量％之組成。較佳爲成分！爲20〜 質量％，成分2爲3〜20質量，成分3爲55〜70質量 的組成。更佳爲成分1爲20〜30質量％，成分2爲3〜 質量％，成分3爲55〜70質量％，且成分2爲至少1 的N，N-二甲基甲醯胺及N，N-二甲基甲醯胺，.成分3爲 少1種的丙二醇單甲醚乙酸酯、環己酮、3 _甲氧基丙酸 酯及3 -乙氧基丙酸乙酯之組合。特佳爲成分！爲2 0〜 質量％，成分2爲3〜20質量％，成分3爲55〜70質 %，且成分1爲至少1種之1，2,4 -三甲苯、異丙苯 s ο 1 b e 11 0 0 及 s ο 1 f a i η - T Μ，成分 2 爲至少 1 種的 N，n -二 -16- (13) (13)1276929 基甲醯胺及N，N-二甲基甲醯胺，成分3爲至少一種的丙二 醇單甲醚乙酸酯、環己酮、3 -甲氧基丙酸甲酯、及3_乙氧 基丙酸乙酯之組成。 作爲非質子性極性溶劑以外的其他溶劑例子，可舉出 乙醇醚類、乙醇醚羧酸酯類、羧酸酯類、羥基羧酸酯類、 酮類、醇類、烷氧基羧酸酯類及環狀醒類。 作爲具體例子可舉出乙二醇單甲釀、乙二醇單乙醚、 乙二醇單正丙醚、乙二醇異丙醚、乙二醇單正丁醚、二乙 二醇單曱醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丙醚、二乙二 醇單正丁醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二乙二醇二 甲醚、二乙二醇乙基甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇單甲 醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單正丁醚、二 两二醇單甲醚、二丙二醇二甲酸、二丙一醇單甲醚等乙二 醇類、乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二 醇單丁醚乙酸酯、二乙二醇單甲醚乙酸酯、二乙二醇單乙 醚乙酸酯、二乙二醇單丁醚乙酸酯、丙二醇單甲醱乙酸酯 等乙二醇醚羧酸酯類、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙 酯、乙酸正丁酯、乙酸第二丁酯、乙酸異丁酯、乙酸戊酯 、乙酸己酯、乙酸環己酯、丙酸丁酯、丙酸戊酯、丁酸丙 酯、丁酸丁酯、安息香酸甲酯、安息香酸乙酯、草酸二甲 酯、草酸二乙酯、琥珀酸二甲酯、馬來酸二甲酯、馬來酸 二乙酯、碳酸伸乙基、碳酸乙烯酯、碳酸丙烯酯等羧酸酯 類、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、^ -羥基異丁酸甲 酯等羥基羧酸酯類、丙酮、甲基乙基酮、二-異丁酮、甲 -17- (14) 1276929 基異丁酮、甲基正丁酮、二異丙酮、甲正胺基酮、甲基異 戊酮、3 -甲基-2 -己酮、4 -甲基-2-己酮、甲基正己酮、甲 基異己酮、4-甲基-2-戊酮、5-甲基-2-戊酮、3-戊酮、4-戊 酮、2,6-二甲基-4-戊酮、環戊酮、環己酮等酮類、丁醇、 正戊醇、異戊醇、苯甲醇、環己醇、糠基醇等醇類、2 -甲 氧基乙酸甲酯、2-乙氧基乙酸乙酯、2-羥基丙酸甲酯、2-經基丙酸乙酯、3 -乙氧基丙酸乙酯、3 -甲氧基丙酸甲酯、 3 -甲氧基丙酸乙酯、3 -乙氧基丙酸甲酯、2 -羥基丙酸丙酯 、2 -甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸 甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、甲氧基異丁酸甲酯等烷氧基 羧酸酯類、四氫咲喃、1，3 -二氧雜戊烷、1，4 -二Df烷等環 狀醚類等。 其中以乙二醇醚類、乙二醇醚羧酸鹽類、羧酸酯類、 院氧基羧酸酯類、酮類、醇類因可提高感光性組成物的洗 淨性’且可賦予適於除去液之洗淨除去的乾燥性，故較爲 佳。作爲具體例子可舉出丙二醇單甲醚、二丙二醇單甲醚 、丙二醇單甲醚乙酸酯、乙酸丁酯、3 _乙氧基丙酸乙酯、 3 -乙氧基丙酸甲酯、3 -甲氧基丙酸甲酯、環己酮、正丁醇 等。較佳爲丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、乙酸丁 酯、3 -乙氧基丙酸乙酯、3 -甲氧基丙酸甲酯、環己酮。其 他的溶劑成分可單獨或組合2種以上使用。 其次對於適用本發明的除去液之感光性組成物作說明 〇 適用本發明的除去液之感光性組成物，一般爲使用於 -18- (15) (15)1276929 液晶、有機el、半導體等之各種電子零件的製造之感光 性組成物。特別爲本發明的除去液可適用於使用於液晶、 有機EL等之含有顏料的感光性組成物之洗淨除去上。這 些感光性組成物一般係由以鹼可顯像的皮膜形成物質與感 光性物質所成者。且含有顏料的感光性組成物爲可再添加 顏料或分散劑者。作爲含於感光性組成物的皮膜形成物質 ’可舉出丙烯系樹脂、漆用酚醛系樹脂、聚亞胺系樹脂、 聚乙烯酚系樹脂等，本發明爲特別可適用於除去含有丙烯 系樹脂作爲皮膜形成物質的感光性組成物上者。 本發明的除去液適用於除去塗佈或附著於被洗淨物狀 態之感光性組成物，特別爲非嘗試用於感光前的感光性組 成物之除去上。感光性組成物可爲含有溶劑的狀態，或溶 劑經揮發後的狀態。 作爲除去感光性組成物的方法，可舉出對於經塗佈或 附著的感光性組成物之被洗物將本除去液由噴嘴等以棒狀 、液滴狀或霧狀吹入除去的方法、或將被洗淨物浸漬於本 發明的除去液中之方法。欲可有效率地除去步驟，可並用 藉由超音波照射或刷子等物理性洗淨。 . 本發明的除去液特別可使用於液晶、半導體、有機 EL製造之感光性組成物塗佈步驟上，附著於基板周邊都 、邊緣部、或內部之未硬化感光性組成物的除去上、或附 著於塗佈裝置的一部或全部之不必要的未硬化感光性組成 物的除去上。 特別適用於使用於含有液晶或有機EL之色濾器製造 -19- (16) 1276929 步驟的顏料之感光性組成物的塗佈步驟上。 本發明的除去液可使用於於基板上以轉動塗佈法進行 感光性組成物塗佈時之基板周圍部、邊緣部、或內部之未 硬化感光性組成物的除去、所謂作爲邊緣輕洗、背輕洗的 輕洗劑使用’又洗淨除去轉動塗佈時的飛散於杯之感光性 組成物，對於所謂的杯輕洗亦適用。 作爲除轉動塗佈法以外之將感光性組成物塗佈於基板 上的方法，已知有隙縫輕洗、線圈輕洗法、或滾筒塗佈法 等，除去於附著於印刷版等塗佈裝置之構件或器具的表面 上之未硬化感光性組成物時，亦可使用本發明的除去液。 又，本發明的其他型態爲，使用於上述除去液藉由上 述方法除去未硬化的感光性組成物之液晶用、半導體用或 有機EL用之基盤上者。 【實施方式】 實施例 以下舉出實施例對本發明作說明，但本發明未受到這 些實施例之限定。 且，洗淨性爲浸漬於除去液3分鐘後，藉由目視觀察 感光性著色組成物的溶解狀況進行如下的3階段評估。 〇…完全被除去 △…部分性溶解 X ...幾乎無溶解 (17) 1276929 <調製例1 >丙烯系共聚物之調製 使用附有滴定漏斗、溫度計、冷卻管、攪拌 錐形瓶中放入1 2 · 〇質量份的甲基丙稀酸（Μ A ) 量份的甲基丙烯酸甲酯（Μ M A ) 、4 3.0質量份的 酸正丁酯（ΒΜΑ ) 、6·〇質量份的2_羥基乙基丙 ΗΕΜΑ) 、22 5.0質量份的乙基乙二醇乙醚乙酸酷 ，4 口錐形瓶內以氮氣取代。且以油浴下加溫至 將12.0質量份的ΜΑ、14.0質量份的MM A、43. 的ΒΜΑ、6.0質量份的ΗΕΜΑ、225.0質量份的 質量份的2,2’-偶氮二異丁腈之混合物經1小時滴 小時聚合反應後，再加入1 .0質量份的AIΒ Ν與 份的EGA之混合液後升溫至1 00 °C，進行1.5小 反應後冷卻。如此所得之丙烯系共聚物的固體成 22.1質量％，酸價爲92mgKOH/g，GPC所測定 烯換算之質量平均分子量爲22,000。 <調製例2 >感光性著色組成物A :黑色感 組成物的調製 混合30.0質量份（固體成分6.6質量份）的 所得之丙烯系共聚物、5.0質量份的EGA、3.3 f 1 〇 wr e n D Ο P A - 3 3 (商標··共榮社化學股份有限 分散劑固體成分濃度爲3 0質量％ ) 、6.6 1
Special Black 4 (迪克沙公司，碳黑）後放置1 拌1小時後，通過3根_輾機（小平股份有限公 機的4 口 、：14.0 質 甲基丙烯 嫌酸酯.（ I ( EGA) 90〇C 後， ·〇.質量份 EGA > 3.2 ί入。經3 15·〇質量 時的聚合 分濃度爲 的聚苯乙 光性著色 f調製例1 質量份的 公司|製作 幫量份的 晚。再攪 司製作， -21 · (18) (18)1276929 型號RIII-1RM-2) 4次。所得之黑色墨水中加入EGA後 調整濃度，得到固體成分濃度爲1 8 · 0質量％的黑色著色 組成物。 如此所得之黑色著色組成物1 0 0質量份中再添加4.4 質量份的二季戊四醇六丙酸酯、2.2質量份的2- ( 4-甲氧 基苯基）-4,6 -雙（三氯甲基）-s-三嗪、及25質量份的 EGA，充分攪拌後得到感光性著色組成物A。 〈調製例3 >感光性著色組成物B :綠色感光性著色 組成物的調製 混合3 0.0質量份（固體成分6 · 6質量份）的調製例1 所得之丙燒系共聚物、5.0質量份的EGA、3.3質量份的 flowrinDOPA-33 (商標：共榮社化學股份有限公司製作 分散劑固體成分濃度爲30質量％ ) 、6.6質量份的
Pigment Green36後放置1晚。再攪拌1小時後，通過3 根輥輾機（小平股份有限公司製作，型號RIII- 1 RM-2 ) 4 次。所得之氯色墨水中加入EGA後調整濃度，得到固體 成分濃度爲1 8 · 0質量％的黑色著色組成物。 如此所得之氯色著色組成物1 〇 〇質量份中再添加4.4 質量份的二季戊四醇六丙酸酯、〇·7質量份的4,4，·雙（ N，N-二乙基胺基）二苯甲酮、2·3質量份的2,2，_雙（鄰氯 苯基）-4,4’，5,5、四苯基-1，2，·雙咪唑、3.8質量份的三經 甲基丙烷三硫代丙酸酯及42質量份的EGA，充分攪拌後 得到感光性著色組成物B。 -22- (19) 1276929 <調製例4 >感光性著色組成物C :紅色感光性著色 組成物的調製 混合3 0.0質量份（固體成分6.6質量份）的調製例1 所得之丙烯系共聚物、5.0質量份的EGA、3.3質量份的 flowrinDOPA-33 (商標：共榮社化學股份有限公司製作 分散劑固體成分濃度爲30質量％ )、6.6質量份的
Pigment Red 177後放置1晚。再攪拌1小時後，通過3 根輥輾機（小平股份有限公司製作，型號RIII-1RM-2 ) 4 次。所得之紅色墨水中加入EGA後調整濃度，得到固體 成分濃度爲1 8 ·0質量％的黑色著色組成物。 如此所得之氯色著色組成物100質量份中再添加4.4 質量份的二季戊四醇六丙酸酯、3.0質量份的elgakur369 (千葉特殊化學公司製作）、3 · 8質量份的三經甲基丙院 三硫代丙酸酯及42質量份的EGA，充分攪拌後得到感光 性著色組成物C。 <調製例5 >感光性著色組成物d :藍色感光性著色 組成物的調製 混合3 0.0質量份（固體成分6 · 6質量份）的調製例1 所得之丙烯系共聚物、5 · 〇質量份的E G A、3 . 3質量份的 flowrinDOPA-33 (商標：共榮社化學股份有限公司製作 分散劑固體成分濃度爲3 0質量％ ) 、6 · 6質量份的 P i g m e n t B ] u e 1 5 及 〇 · 6 質量份的 p i g 1T) e n t v i ο 1 e t 2 3 5 後放 -23- (20) 1276929 置1晚。再攪拌1小時後，通過3根輥輾機（小平股份有 限公司製作，型號RIII-1RM-2 ) 4次。所得之藍色墨水中 加入EGA後調整濃度，得到固體成分濃度爲18.0質量％ 的黑色著色組成物。
如此所得之氯色著色組成物1 0 0質量份中再添加4 · 4 質量份的三羥甲基丙院三丙烯酸酯、3.0質量份的2 - ( 4 -甲氧基苯基）-4,6-雙（三氯甲基）-s-三嗪、3.8質量份的 三羥甲基丙烷三硫代丙酸酯及42質量份的EGA，充分攪 拌後得到感光性著色組成物D。 實施例1 ▼ 調製例1至調製例5所製成的感光性著色組成物a至 感光性者色組成物D滴一滴於玻璃板上（2 8 m m X 7 6 m m ) ，室溫下乾燥24小時。
將此浸漬於混合80g的s〇lbesol00 (商標：宜克索化 學公司製作，初沸點1 64。(：，乾點1 76。(3 )與20g的n，N-二甲基甲醯胺之除去液中3分鐘，經靜置後進行塗佈於表 面的感光性著色組成物之洗淨除去。其結果如表1所示。 實施例2〜2 4，比較例1〜5 使用表1所示組成之除去液，與實施例丨相同實施感 光性著色組成物的除去。其結果如表1所示。 •24- 1276929 (21 0 洗淨性 I 感光性著色組成物 | D(青色)| <] 〇 <l 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X < <] X X c(赤色)丨 0 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X <] X X B(綠色)I 〇 < 〇 < 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X < X X X A(黑色)I 〇 <] 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 X < <3 X X ? Μ iS. 髮 其他溶劑 I EEP I o — MMP I ^s〇 (N ro o CYA | o o S § £ o PM | v〇 \n to o o 〇 o PMA ! $ s Ά 5 u-j S o 非質子性極性溶劑 丨 DMSOl 一 DMAC | o m o DMF I — m o in in o GBL I s S g 芳香族烴類 丨 S-TM s· o s s S S s S s S-ΙΟΟ I § o S s o 沄 o CUM I j o S TMB-[ o S s CO § 一 寸 o r- oo 〇 — (N rn 卜 00 ON - r4 rn 寸 iH·^ 顴趑K]韜 sfrwjnE JSffi-wiauEu Ί80 vsd iQ 题K]趑 κ^κ]·Γη sifr趑 E 稍减ffi--e 餾H趑Kl ^V0 ifrsMr &UJ Ίω Vi dss VCQ VAP i sisiKlsEB-ll-N *2 snE-wffi-llIN * M (鎵Hsigga :®蛭)21-=1 (¾^¾ :SIE)OOIOS .擀E瞰 枨稍ffl-lll-了<N二 _ 浒 _s-11l-? ε 二 « ¾ uvi u-ιΛΙα 21-s OOTSιΛΙηυ il s -25-

Claims (1)

  1. (1) 1276929 十、申請專利範面 第93 1 36593號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國95年11月9日修正 1 · 一種除去感光性組成物用液，其爲使用於除去未硬 化的感光性組成物之除去液，其特徵爲含有1〜8 0質量％ 之至少1種的碳數9以上的芳香族烴者。 2·如申請專利範圍第1項之除去感光性組成物用液， 其中碳數爲9以上的芳香族烴爲沸點150〜250°C之烷基苯 類。 3 ·如申請專利範圍第1項或第2項之除去感光性組成 物用液，其中更含有非質子性極性溶劑，該碳數9以上的 芳香族烴爲20〜80質量％，該非質子性極性溶劑爲20〜 80質量％之組成者。 4. 如申請專利範圍第1項或第2項之除去感光性組成 物用液，其中更含有非質子性極性溶劑以外的其他溶劑， 該碳數9以上的芳香族烴爲10〜20質量％，該非質子性 極性溶劑以外的其他溶劑爲8 0〜90質量％之組成者 5. 如申請專利範圍第1項或第2項之除去感光性組成 物用液，其中更含有非質子性極性溶劑及非質子性極性溶 劑以外的其他溶劑，該碳數9以上的芳香族烴爲20〜30 質量％、該非質子性極性溶劑爲1〜2 0質量％、該非質子 性極性溶劑以外的其他溶劑爲5 5〜7 0質量％之組成者。 (2) 1276929 6.如申請專利範圍第1項或第2項之除去感光性組成 物用液，其中碳數9以上的芳香族烴爲20〜40質量％， 非質子性極性溶劑爲60〜80質量％之組成。 7·如申請專利範圍第1項或第2項之除去感光性組成 物用液，其中更含有非質子性極性溶劑以外的其他溶劑， 該碳數9以上的芳香族烴爲1〇〜20質量％，該非質子性 極性溶劑以外的其他溶劑爲80〜90質量％，且含有30〜 60質量％的丙二醇單甲醚之組成。 8·如申請專利範圍第1項或第2項之除去感光性組成 物用液，其中更含有非質子性極性溶劑及非質子性極性溶 劑以外的其他溶劑，該碳數9以上的芳香族烴爲20〜30 質量％，該非質子性極性溶劑爲3〜20質量％，該非質子 性極性溶劑以外的其他溶劑爲55〜70質量％，且該非質 子性極性溶劑爲至少1種之Ν，Ν-二甲基甲醯胺及Ν，Ν·二 甲基乙醯胺，該非質子性極性溶劑以外的其他溶劑爲至少 1種之丙二醇單甲醚乙酸酯、環己酮、3 -甲氧基丙酸甲酯 及3-乙氧基丙酸乙酯之組成。 9·如申請專利範圍第3項之除去感光性組成物用液， 其中該非質子性極性溶劑爲至少1種選自鏈狀醯胺化合物 、環狀醯胺化合物、硫化合物及環狀酯所成群。 10.如申請專利範圍第5項之除去感光性組成物用液 ，其中該非質子性極性溶劑爲至少1種選自鏈狀醯胺化合 物、環狀醯胺化合物、硫化合物及環狀酯所成群。 1 1 ·如申請專利範圍第3項之除去感光性組成物用液 -2 - (3) 1276929 ，其中該非質子性極性溶劑爲至少1種選自甲醯胺、N ·甲 基甲醯胺、N，N-二甲基甲醯基、N-乙基甲醯胺、N，N-二乙 基甲醯胺、N，N -二甲基乙醯胺、四甲基尿素、N -甲基- 2-1:1比略院酮、N -甲基咪嗤院酮、二甲基亞硕、磺丁碼、及 7 - 丁內酯所成群。 1 2 .如申請專利範圍第5項之除去感光性組成物用液 ’其中該非質子性極性溶劑爲至少1種選自甲醯胺、N-甲 基甲醯胺、Ν，Ν·二甲基甲醯基、N-乙基甲醯胺、N，N-二乙 基甲醯胺、N，N-二甲基乙醯胺、四甲基尿素、N-甲基- 2-吡咯烷酮、N-甲基咪唑烷酮、二甲基亞砚、磺丁碼、及 r -丁內酯所成群。 13. 如申請專利範圍第4項之除去感光性組成物用液 ’其中該非質子性極性溶劑以外的其他溶劑爲至少1種選 自乙二醇醚類、乙二醇醚羧酸酯類、羧酸酯類、羥基羧酸 酯類、酮類、醇類、烷氧基羧酸酯類及環狀醚類所成群。 14. 如申請專利範圍第5項之除去感光性組成物用液 ’其中該非質子性極性溶劑以外的其他溶劑爲至少1種選 自乙二醇醚類、乙二醇醚羧酸酯類、羧酸酯類、羥基羧酸 酯類、酮類、醇類、烷氧基羧酸酯類及環狀醚類所成群。 1 5 ·如申請專利範圍第1項或第2項之除去感光性組 成物用液，其中使用於除去含有顏料的感光性組成物上。 1 6 .如申請專利範圍第3項之除去感光性組成物用液 ’其中使用於除去含有顏料的感光性組成物上。 1 7·如申請專利範圍第4項之除去感光性組成物用液 (4) 1276929 ，其中使用於除去含有顏料的感光性組成物上。 1 8 ·如申請專利範圍第5項之除去感光性組成物用液 ，其中使用於除去含有顏料的感光性組成物上。 1 9·如申請專利範圍第1項或第2項之除去感光性組 成物用液’其中使用於除去含有顏料的丙烯系感光性組成 物上。 2〇·如申請專利範圍第3項之除去感光性組成物用液 ，其中使用於除去含有顏料的丙烯系感光性組成物上。 2 1 ·如申請專利範圍第4項之除去感光性組成物用液 ’其中使用於除去含有顏料的丙烯系感光性組成物上。 22·如申請專利範圍第5項之除去感光性組成物用液 ’其中使用於除去含有顏料的丙烯系感光性組成物上。 23·如申請專利範圍第1項或第2項之除去感光性組 成物用液，其中該碳數爲9以上的芳香族烴爲含有碳數9 或1 〇之芳香族烴（作爲中心）者。
TW093136593A 2003-12-16 2004-11-26 Photosensitive composition remover TWI276929B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003418112 2003-12-16

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200525312A TW200525312A (en) 2005-08-01
TWI276929B true TWI276929B (en) 2007-03-21

Family

ID=36693530

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW093136593A TWI276929B (en) 2003-12-16 2004-11-26 Photosensitive composition remover

Country Status (7)

Country Link
US (2) US8153357B2 (zh)
EP (1) EP1695147A2 (zh)
JP (1) JP4776731B2 (zh)
KR (1) KR100881319B1 (zh)
CN (2) CN1894629B (zh)
TW (1) TWI276929B (zh)
WO (1) WO2005059646A2 (zh)

Families Citing this family (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100571721B1 (ko) * 2004-02-10 2006-04-17 삼성전자주식회사 신너 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트의 제거 방법
JP4005092B2 (ja) 2004-08-20 2007-11-07 東京応化工業株式会社 洗浄除去用溶剤
JP4236198B2 (ja) * 2004-12-28 2009-03-11 東京応化工業株式会社 リソグラフィー用洗浄液及びそれを用いた半導体基材形成方法
CN1800988B (zh) * 2005-01-06 2010-04-07 新应材股份有限公司 光阻清洗剂
TW200634448A (en) * 2005-02-09 2006-10-01 Showa Denko Kk Photosensitive composition removing liquid
TW200641560A (en) * 2005-02-09 2006-12-01 Showa Denko Kk Photosensitive composition removing liquid
EP1904899A4 (en) * 2005-07-19 2012-04-25 Showa Denko Kk ELIMINATION SOLUTION FOR PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
JP4698515B2 (ja) * 2005-07-19 2011-06-08 昭和電工株式会社 感光性組成物除去液
JP2007034067A (ja) * 2005-07-28 2007-02-08 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd リソグラフィー用洗浄液
KR20070081572A (ko) * 2006-02-13 2007-08-17 삼성전자주식회사 슬릿 코터 세정제, 표시장치 제조용 슬릿 코터 및표시장치의 제조방법
WO2007097233A1 (ja) * 2006-02-23 2007-08-30 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. リソグラフィー用洗浄液及びこれを用いた洗浄方法
KR101083020B1 (ko) 2009-04-16 2011-11-15 에스화인켐 주식회사 광학 확산판의 스크린 인쇄 잉크 리무버 조성물
CA2792018A1 (en) 2010-05-10 2011-11-17 Segetis, Inc. Fragrant formulations, methods of manufacture thereof and articles comprising the same
BR112013002991A2 (pt) 2010-08-12 2016-08-16 Segetis Inc composições de revestimento de látex incluindo carboxiéster cetal coalescentes, métodos de fabricação e usos dos mesmos
CN103069343B (zh) * 2010-08-12 2015-09-09 赛格提斯有限公司 羧基酯缩酮除去组合物、其制造方法及应用
WO2012054505A2 (en) 2010-10-18 2012-04-26 Segetis, Inc. Water reducible coating compositions including carboxy ester ketals, methods of manufacture, and uses thereof
CN103365121B (zh) * 2012-03-29 2018-10-02 东友精细化工有限公司 抗蚀剂剥离组合物及利用该抗蚀剂剥离组合物剥离抗蚀剂的方法
WO2014047428A1 (en) 2012-09-21 2014-03-27 Segetis, Inc. Cleaning, surfactant, and personal care compositions
KR101946379B1 (ko) * 2012-11-20 2019-02-11 주식회사 동진쎄미켐 포토레지스트 박리액 조성물 및 포토레지스트의 박리방법
AU2013352172A1 (en) 2012-11-29 2015-06-11 Gfbiochemicals Limited Carboxy ester ketals, methods of manufacture, and uses thereof
KR101595977B1 (ko) * 2013-03-07 2016-02-19 주식회사 엘지화학 포토레지스트 제거용 스트리퍼 조성물 및 이를 사용한 포토레지스트의 박리방법
US10020185B2 (en) 2014-10-07 2018-07-10 Samsung Sdi Co., Ltd. Composition for forming silica layer, silica layer, and electronic device
US20160172188A1 (en) * 2014-12-16 2016-06-16 Samsung Sdi Co., Ltd. Rinse solution for silica thin film, method of producing silica thin film, and silica thin film
KR101837971B1 (ko) 2014-12-19 2018-03-13 삼성에스디아이 주식회사 실리카계 막 형성용　조성물, 실리카계 막, 및 전자 디바이스
KR101833800B1 (ko) 2014-12-19 2018-03-02 삼성에스디아이 주식회사 실리카계 막 형성용 조성물, 실리카계 막의 제조방법 및 상기 실리카계 막을 포함하는 전자 소자
KR20170014946A (ko) 2015-07-31 2017-02-08 삼성에스디아이 주식회사 실리카 막 형성용 조성물, 실리카 막의 제조방법 및 실리카 막
US20170176856A1 (en) * 2015-12-21 2017-06-22 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Negative-working photoresist compositions for laser ablation and use thereof
KR102414295B1 (ko) * 2016-01-22 2022-06-30 주식회사 이엔에프테크놀로지 포토레지스트 제거용 박리액 조성물
CN108424818A (zh) * 2017-02-14 2018-08-21 东友精细化工有限公司 掩模清洗液组合物
KR102465602B1 (ko) * 2018-08-31 2022-11-11 주식회사 이엔에프테크놀로지 신너 조성물
US20220010242A1 (en) * 2019-02-15 2022-01-13 Nissan Chemical Corporation Cleaning agent composition and cleaning method
US20220135913A1 (en) * 2019-02-15 2022-05-05 Nissan Chemical Corporation Cleaning agent composition and cleaning method
US20220154104A1 (en) * 2019-03-05 2022-05-19 Nissan Chemical Corporation Cleaning agent composition and cleaning method
KR102653114B1 (ko) * 2020-03-27 2024-04-01 후지필름 가부시키가이샤 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법

Family Cites Families (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4120810A (en) * 1974-10-07 1978-10-17 Palmer David A Paint remover with improved safety characteristics
JPS5217901A (en) * 1975-07-31 1977-02-10 Mitsubishi Chem Ind Developer for lithographic press plate
JPS612152A (ja) 1984-06-14 1986-01-08 Nagase Sangyo Kk 剥離剤組成物
JPS6235357A (ja) * 1985-08-09 1987-02-16 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ホトレジスト用剥離液
US4845008A (en) * 1986-02-20 1989-07-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive positive working, o-guinone diazide presensitized plate with mixed solvent
DK160883C (da) * 1986-06-13 1991-10-14 Cps Kemi Aps Rensevaeske indeholdende en hoejtkogende aromatisk forbindelse og eventuelt propylencarbonat og/eller propylenglycolforbindelser til fjernelse af trykkeri- og serigrafifarver
US5185235A (en) * 1987-09-09 1993-02-09 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Remover solution for photoresist
US4822723A (en) * 1987-11-30 1989-04-18 Hoechst Celanese Corporation Developer compositions for heavy-duty lithographic printing plates
JPH0717737B2 (ja) * 1987-11-30 1995-03-01 太陽インキ製造株式会社 感光性熱硬化性樹脂組成物及びソルダーレジストパターン形成方法
US5312719A (en) * 1988-10-26 1994-05-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Developing solvent for layers which are crosslinkable by photopolymerization and process for the production of relief forms
JPH03142821A (ja) 1989-10-27 1991-06-18 Neos Co Ltd フォトレジスト用剥離剤
US5198482A (en) * 1989-12-14 1993-03-30 Ciba-Geigy Corporation Corrosion-inhibiting coating compositions
JP3056239B2 (ja) * 1990-11-15 2000-06-26 昭和電工株式会社 ハンダフラックス除去液
US5330796A (en) * 1991-05-15 1994-07-19 Kansai Paint Company, Ltd. Method of forming coating films
US5276096A (en) * 1991-08-28 1994-01-04 Basf Corporation Two package coating composition comprising a polycarbodimide with improved rheology control
US5268260A (en) * 1991-10-22 1993-12-07 International Business Machines Corporation Photoresist develop and strip solvent compositions and method for their use
DE4218718A1 (de) * 1992-06-06 1993-12-09 Basf Lacke & Farben Verfahren zur Herstellung strukturierter Schichten wärmebeständiger Polykondensate
US6825156B2 (en) * 2002-06-06 2004-11-30 Ekc Technology, Inc. Semiconductor process residue removal composition and process
JPH06194847A (ja) 1992-12-22 1994-07-15 Tokuyama Sekiyu Kagaku Kk ネガ型フォトレジスト用現像液
JP3257867B2 (ja) * 1993-06-25 2002-02-18 東京応化工業株式会社 現像液組成物
US6002895A (en) * 1994-05-13 1999-12-14 Canon Kabushiki Kaisha Process cartridge
DE4442769A1 (de) * 1994-12-01 1996-06-05 Hoechst Ag Niedermolekulare funktionelle Copolymerisate, Verfahen zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
JP3398541B2 (ja) 1996-03-27 2003-04-21 花王株式会社 樹脂汚れ用洗浄剤組成物及び洗浄方法
US6449831B1 (en) * 1998-06-19 2002-09-17 Lexmark International, Inc Process for making a heater chip module
CA2337527A1 (en) * 1998-07-16 2000-01-27 Mitsubishi Chemical Corporation Phthalimides and herbicide comprising the same as active ingredient
JP2000044994A (ja) * 1998-07-29 2000-02-15 Showa Denko Kk レジスト除去溶剤
DE19859623A1 (de) * 1998-12-23 2000-08-24 Basf Drucksysteme Gmbh Photopolymerisierbare Druckformen mit Oberschicht zur Herstellung von Reliefdruckformen
JP2000273370A (ja) 1999-03-25 2000-10-03 Fuji Photo Film Co Ltd 着色組成物用洗浄液
US6162593A (en) * 1999-10-26 2000-12-19 Wyatt; Marion F. Diisopropylbenzene containing solvent and method of developing flexographic printing plates
JP2001226700A (ja) 2000-02-17 2001-08-21 Japan Energy Corp 洗浄液組成物
JP2002148819A (ja) * 2000-11-10 2002-05-22 Toshiba Corp フォトレジスト用現像液及びフォトレジストの現像方法
US6548617B2 (en) * 2000-11-30 2003-04-15 Akzo Nobel N.V. Coating composition comprising a bicyclo-orthoester-functional compound, an isocyanate-functional compound, and a thiol-functional compound
JP3479648B2 (ja) * 2001-12-27 2003-12-15 クラリアント インターナショナル リミテッド ポリシラザン処理溶剤およびこの溶剤を用いるポリシラザンの処理方法
CN1272361C (zh) * 2002-02-26 2006-08-30 日本化药株式会社 感光性树脂、树脂组合物及其固化物
FR2836479B1 (fr) * 2002-02-27 2005-09-09 Rhodia Elect & Catalysis Utilisation d'un sol organique de cerium dans les peintures, notamment les lasures ou les vernis
JP4596894B2 (ja) * 2003-12-16 2010-12-15 昭和電工株式会社 感光性組成物除去液
JP4005092B2 (ja) 2004-08-20 2007-11-07 東京応化工業株式会社 洗浄除去用溶剤
TW200641560A (en) * 2005-02-09 2006-12-01 Showa Denko Kk Photosensitive composition removing liquid
TW200634448A (en) * 2005-02-09 2006-10-01 Showa Denko Kk Photosensitive composition removing liquid
JP2007031493A (ja) * 2005-07-22 2007-02-08 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 樹脂組成物除去洗浄剤

Also Published As

Publication number Publication date
US8431333B2 (en) 2013-04-30
CN1894629B (zh) 2011-07-13
KR100881319B1 (ko) 2009-02-02
JP4776731B2 (ja) 2011-09-21
KR20060105020A (ko) 2006-10-09
WO2005059646A2 (en) 2005-06-30
TW200525312A (en) 2005-08-01
CN1894629A (zh) 2007-01-10
US20120094888A1 (en) 2012-04-19
US8153357B2 (en) 2012-04-10
US20070161530A1 (en) 2007-07-12
WO2005059646A3 (en) 2006-03-30
JP2010231223A (ja) 2010-10-14
EP1695147A2 (en) 2006-08-30
CN102200699A (zh) 2011-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI276929B (en) Photosensitive composition remover
TW201739909A (zh) 處理液
EP1847878B1 (en) Photosensitive composition removing liquid
WO2006085681A9 (ja) 感光性組成物除去液
TW201111909A (en) Colored curable composition, color resist, ink-jet ink, color filter and method for producing the same, solid-state image pickup device, image display device, liquid crystal display, organic EL display, and colorant compound and tautomer thereof
KR100944400B1 (ko) 감광성 조성물용 제거액
JP4596894B2 (ja) 感光性組成物除去液
TWI744014B (zh) 黑色樹脂組成物、硬化膜以及黑色濾光片
JP4698515B2 (ja) 感光性組成物除去液
JP4812453B2 (ja) 感光性組成物除去液
JP4762162B2 (ja) 感光性組成物除去液
US20090208887A1 (en) Removing solution for photosensitive composition