TWI224369B - Substrate processing apparatus - Google Patents

Description

1224369 玖、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關搬運爲平面板裝置（FPD)用玻璃基板、半導 體晶圓、印刷基板等基’並對基板實施洗淨、顯像、蝕 刻、剝離等處理之基板處理裝置。 【先前技術】 半導體裝置 '印刷電路板等製程中，如使用藥劑處 理基板後，以純水洗淨基板，將附著於基板之藥劑替換成 純水時，係使用藉由搬運滾筒將基板逐片向水平方向搬運 ’同時排出純水至基板上進行水洗之 J ’尤 < 水平搬運式處理裝置 。圖19模式顯示該處理裝置之一種概略構造。 圖19所不之處理裝置具備水洗處理槽ι〇，其係具有搬入 2 k及I出π (圖上未顯示），於水洗處理槽W内部並列配置 有圖上未顯示之數個搬運滾筒。 ....^ — ^ Π 此外，於水洗處理槽1 〇内 ^ 夹著以雙點虛線表示之基板1乏>τ -签板i爻搬運路徑L，在其上下 兩側分別並列設置多數個喑、、蜜 貧’應、、’屯水 < 純水排出喷嘴14。於 水洗處理槽1 〇之搬入口丨2側， 鄰接於水洗處理槽10設有藥 浏處理槽1 6，於藥劑處理槽丨6 円#，夹f基板1之搬運路徑 ’在其上下兩侧分別並列埯¥夕I ^ < 幻3又置多數個噴灑藥劑之藥劑排出 貧7角1 8。而後，基板！自藥劑 目未d處理槽丨6内通過搬入口丨2而搬 入水洗處理槽1 〇内，藉由满# „ , Α 精由叛運浓筒支撐向水平方向搬運， 自水洗處理槽1 〇内通過搬出 版出口搬出，而搬運至下一個乾燥 處里邵（圖上未顯示）。 此外，於水洗處理槽1 〇 、、 也4形成有；夜體回收口 5 2，其 83980 1224369 係使自基板1流下水洗處理槽1 〇之内底部之液體流出，於其 液體回收口 5 2上連通連接有液體回收用配管5 4。液體回收 用配管5 4流路連接於收集回收液體5 6之回收槽5 8。此外， 回收槽58連通連接於送液用配管60之一端，送液用配管60 之頂端連通連接於圖上未顯示之純水排出噴嘴丨4。該送液 用配管60分別介插有過濾器62及泵64。此外，於回收槽58 上連接有補充純水用之純水供應用配管，不過圖上並未顯 示〇 上述構造之處理裝置，於上面附著藥劑2之基板1自藥劑 處理槽1 6内搬入水洗處理槽]〇内時，於水洗處理槽丨〇内， 基板1藉由搬運滾筒搬運，同時自純水排出噴嘴丨4向基板1 之上下兩側噴灑純水，附著於基板1上面之藥劑2替換成純 水。此時’喷灑在基板丨面之純水與附著於基板1上面之藥 劑2均流下水洗處理槽10之内底部。流下水洗處理槽1〇之内 底邰之純水與藥劑之混合液係朝向液體回收口 5 2流至水洗 處理槽10之内底邵上，並自液體回收口 52通過液體回收用 配管5 4而流入回收槽5 8内。而後收集於回收槽5 8内之回收 液體56通過送液用配管60流回純水排出噴嘴14再利用。如 此，使純水循環使用。 如上所述，使純水與藥劑之混合液體循環同時進行基板 處理之裝置’因純水與藥劑之混合液體被再利用，並與附 著於基板1之藥劑替換，因此藥劑之濃度逐漸提高，而替換 :率逐漸降低。此外，因含藥劑之液體通過液體回收用配 管54、回收槽58及送液用配管6〇循環，而存在回收槽58之 83980 1224369 果6 4之 内面、液體回收用配管54及送液用配管6〇之内面 内部等被污染的問題。 另外，將自基板1流下水洗處理槽10之内底部之純水金藥 劑之混合液自水洗處理槽丨0内作為廢液排出時，存在廢液 量增加而須花費廢液處理費用’料，純水之使用量亦增 加，導致經營成本增加等問題。 曰 此外，如於基板上形成配線圖案之製程中，將形成於基 板表面之光阻膜予以顯像時，係使用逐片橫置基板並藉由 搬運滾筒搬運，基板上塗滿顯像液，塗滿液體後經過特定鲁 時間後，使顯像反應停止之滾筒搬運式顯像處理裝置。圖 2 〇模式顯示該顯像處理裝置之一種概略構造。 圖2 0所示之顯像處理裝置具備顯像處理槽丨1 〇，其係具有 ··入口側開口 112a及出口側開口 112b，於顯像處理槽11〇之 内4並列配置有圖上未顯示之數個搬運滾筒。基板1通過入 口侧開口 11 2a搬入顯像處理槽π 0内，並藉由搬運滾筒支撐 而向水平方向搬運，再自顯像處理槽丨丨〇内通過出口侧開口 鲁 11 2b搬出，而送至下一個水洗處理槽丨丨4。於顯像處理槽丨j 〇 内邵之入口側開口 11 2a附近配置有顯像液排出喷嘴11 6。此 外於顯像處理槽11 0内部之出口侧開口 11 2 b附近，於一個 板運滾筒之正上方，以與搬運滾筒相對之方式，配置有接 觸於被支撐於搬運滾筒而搬運之基板1上面側之除液滾筒 11 8 °另外，亦有使配置於顯像處理槽n 〇之出口側開口 11 2b 一 附近之搬運滾筒在與基板1之搬運方向垂直之方向上傾斜 · ’並設置氣刀來取代設置除液滾筒11 8。鄰接於顯像處理槽 83980 1224369 11 〇所汉置〈水洗處理槽114内，夾著以雙點虛線表示之基板 1之搬運路徑L，在其上下兩側分別配置多數個喷灑純水在 基板1之上下兩面之水喷出噴嘴1 2 〇。 此外，於顯像處理槽110之底部形成有自基板丨流入顯像處― 里槽 之内底4之顯像液流出之液體回收口 9 0 6，該液體回 -收口 906連通連接有液體回收用配管9〇8。液體回收用配管 908流路連接於收集回收之顯像液91〇之回收槽μ]。此外， 回收槽912上連通連接於送液用配管914之一端，送液用配 管914之頂端連通連接有顯像液排出噴嘴ιΐ6。該送液用配管 914分別介插有過濾器916及泵918。藉由此等液體回收用配 巨908、回收槽912、送液用配管914、過濾器916及泵91 8構 成液體循環系統。 於此種構造之顯像處理裝置中，表面形成有完成曝光之 光阻膜之基板1，於通過配置於顯像處理槽11〇之入口側開口 112a附近之顯像液排出噴嘴116之正下方位置時，自顯像液 排出噴嘴116下端面之細缝狀排出口，在整個基板丨上簾幕狀籲 地排出1顯像液3塗滿表面上。塗滿有液體之基板丨藉由搬 運滾筒搬運期間，進行光阻膜之顯像反應。基板丨搬運至顯 像處理槽no之出口側開口 112b附近時，藉由除液滾筒118 自基板1上除去顯像液3，而後自顯像處理槽丨丨〇内搬出。而 後基板1送至下一個水洗處理槽114,藉由純水清洗，使光阻 膜之顯像反應完全停止。 · 该顯像處理時，自基板丨流下顯像處理槽丨丨〇之内底部之使 、 用過顯像液，及基板1未通過顯像液排出噴嘴11 6正下方時自 83980 1224369 顯像液排出噴嘴1 1 6排出而未經由基板1面直接流下顯像處 理槽1 1 0之内底部之顯像液，朝向液體回收口 9 0 6流至顯像處 理槽1 1 0之内底部上，自液體回收口 9 0 6通過液體回收用配管 9 0 8内而流入回收槽9 1 2内。而後，流入回收槽9 1 2内而收集 之顯像液9 1 0通過送液用配管9 1 4送至顯像液排出喷嘴11 6再 利用。如此，顯像液被循環使用。 進行如上述之使處理液體（上述例中之顯像液）循環同時 進行基板處理之裝置中，基板或基板覆蓋物與顯像液之反 應生成物溶解於顯像液時，即使再利用使用過之顯像液， 亦不致造成特別問題。但是，藉由與顯像液之反應未溶解 於顯像液之物質生成時，使顯像液循環而使用時，存在回 收槽912之内面、液體回收用配管9〇8及送液用配管914之内 面、泵91 8之内部等被非溶解物污染的問題。並存在介插於 送液用配管914之過濾器916立即引起堵塞，甚至無法進行 使顯像液循環同時進行基板之處理的問題。 另外’不使顯像液循環而自顯像處理槽11〇之内底部排 出廢棄時，雖無上述的問顳，桕3、人甘t ^ 问魂但疋於基板1未通過顯像液 、 …'丨w卜山3、i ίο棑出 接流下顯像處理槽11 〇之内虚郜 門辰崢 < 顯像液一起廢棄， 存在顯像液之利用效率降低 卞丨年低的問璉。.以上之問題不限 像處理裝置，於洗淨、蝕刿、M從占 蚀刻、剠離處理等之處理裝置 可能產生。 有鑑於上述情況

I月之第一目的在提供一種 純水等處理液之高利用效率，、斗丨+ 種」m待 羊減y處理液之使用量，廢液 83980 -10- ^^§1 ^^§1口24369 量亦少，並且可維持高處理效率，液體循環路徑中、 件/亏‘亦抑制在最小限度之基板處理裝置。 此外，本發明之第二目的在提供一種可使處理液循環同 時進行基板之處理，維持處理液之利用率， . 十丑於硬體循 琢系、，无中不產生問題之基板處理裝置。 【發明内容】 申明專利範圍第1項之發明係一種基板處理裝， ^ 丹係於 處理槽内藉由搬運機構將基板向水平方向搬運，同時自處 理液排出機構排出處理液至基板上來處理基板，其特徵^ 具備液體循環系統，其係區分設置：回收路徑，其係回收 自前述處理液排出機構排出，未經由基板面而直接流下之 處理液，及排液路徑，其係收集自前述處理液排出機構向 基板上排出，在基板上，向與基板搬運方向垂直之方向之· 端部流動，自緣邊流下之使用過處理液；將回收於前述回 收路徑 < 處理液送回前述處理液排出機構，並且具備排液 路’其係排出收集於前述排液路徑之使用過處理液。 申凊專利範圍第2項之發明係一種基板處理裝置，其係於 處理槽内藉由搬運機構將基板向水平方向搬運，同時自處 理液排出機構排出處理液至基板上來處理基板，其特徵為 具備液體循環系統，其係藉由前述搬運機構，於與基板搬 運方向垂直之方向上，以對水平面傾斜之狀態搬運基板， 並且於前述處理槽之内底面上之傾斜搬運之基板較低側緣 邊之正下方位置附近，沿著基板之搬運方向立設隔板，以 孩隔板隔開處理槽之内底部，分隔成··回收槽部，其係回 83980 -ϋ - 收自前述處理液排出機構排出，未經由基板面而直接流下 之處理液；及排液槽部，其係收納自處理液排出機構向基 板上排出，向基板上較低側流動，自緣邊流下之使用過處 理液；並將回收於前述回收槽部内之處理液送回前述處理 液排出機構，並且具備排液路，其係排出流入前述排液槽 部内之使用過處理液。 申請專利範圍第3項之發明，如申請專利範圍第2項之基 板處理裝置，其中以前述隔板之上端接近於傾斜搬運之基 板較低侧之緣邊的方式配置。 申請專利範圍第4項之發明係一種基板處理裝置，其係於 處理槽内藉由搬運機構將基板以水平狀態向水平方向搬運 ，同時自處理液排出機構排出處理液至基板上來處理基板 ，其特徵為具備液體循環系統，其係於前述處理槽之内底 面上之搬運之基板兩側緣邊之正下方位置附近，沿著基板 之搬運方向分別义设隔板’以該隔板分別隔開處理槽之内 底邵，分隔成··回收槽部，其係回收自前述處理液排出機 構排出，未經由基板面而直接流下之處理液；及一對排液 槽部，其係收納自處理液排出機構向基板上排出，向基板 上兩側流動，自兩緣邊分別流下之使用過處理液；並將回 收於前述回收槽部内之處理液送回前述處理液排出機構， 並且具備排液路，其係排出分別七λ义a > ^^ #印刀別成入前述各排液槽部内之 使用過處理液。 之基 運之 申請專利範圍第5項之發明，如由i 产 &月’如申者專利範圍第

板處理裝置’其中以前述各隙知；L 合栎板·^上端分別接近方 83980 -12- 1224369 基板兩側之緣邊的方式配置。 申請專利範圍第6項之發明，如申請專利範圍第2項至第5 項中任一項之基板處理裝置，其中於前述處理槽之内底面 上之基板搬入口側’沿著與基板搬運方向交叉之方向立設 I度方向隔板’以其寬度方向隔板隔開處理槽之内底部， 形成搬入口側排液槽部，其係收納自搬入處理槽内之基板 如端侧緣邊灑下之液體，亦排出流入其搬入口側排液槽部 内之處理液。 申請專利第7項之發明，如申請專利範圍第6項之基板處 理裝置，其中使前述搬入口側排液槽部與前述排液槽部連 通。 申請專利範圍第8項之發明係一種基板處理裝置，其係於 處理槽内藉由搬運機構將基板向水平方向搬運，同時自處理 液排出機構排出處理液至基板上來處理基板，其特徵為具備 液體循環系統，其係藉由前述搬運機構，於與基板搬運方向 垂直之方向上，以對水平面傾斜之狀態搬運基板，並且於前 述處理槽内部之傾斜搬運之基板較低側緣邊之正下方位置附 近，沿著基板之搬運方向橫設排液導管，其係收納自前述處 理液排出機構排出至基板上，向基板上較低側流動，而自緣 邊流下l使用過處理液，將自前述處理液排出機構排出，未 、，二由基板田而直接泥下，回收於前述處理槽内底部之處理液 送回前述處理液排出機#，並1具備排液路，其係排出流入 前述排液導管内之使用過處理液。 申μ專利範圍第9項之發明係一種基板處理裝置，其係於 83980 -13 - 1224369 處理槽搬運機構將I板以水平狀態向水平方向搬運 ’同時自處理液排出機構排出處理液至基板上來處理基板 ’其特徵為具備〉夜體循環系、统，其係於前述處理槽内部之 搬運之基板兩側緣邊之正下方位置附近，沿著基板之搬運 方向橫設-對排液導管’其係收納自前述處理液排出機構 向基板上排出’向基板上兩側流動，A自兩緣邊分別流下 之使用過處理液，並將自前述處理液排出機構排出，未經 由基板面而直接流下，回收^前述處理槽之内底部之處理 液送回前述處理液排出機構，並且具備排液路，其係排出 分別流入前述各排液導管内之使用過處理液。 申請專利範圍第1〇項之發明，如申請專利範圍第4項、第 5項或第9項之基板處理裝置，其中藉由前述搬運機構，於 與基板搬運方向垂直之方向’以基板中央部高於基板兩端 邵之方式支撐、搬運基板。 申請專利範圍第1 1項之發明，如由& # 乃如甲凊專利範圍第4項、第5 項或第9項之基板處理裝置，並中白 ，、T自則迷處理液排出機構向 基板上，對基板表面向與基板搬運方向垂直之方向之基板 兩端邵側分別傾斜來排出處理液。 Τ睛寻利範圍第12項之發明，如申社直士丨_ 〆a Τ μ專利範圍第4項、 5項或第9項之基板處理裝置，其中 、 τ丹備補助排液路，其 於藉由前述搬運機構所搬運之基板之前後兩端側緣邊之 下万位置附近，沿著與基板搬運方向垂直之方向，配置 對輔助排液導管，其係收納自基板 π、 丞敬則後兩瑞侧緣邊分別 下 < 使用過處理液，以與基板之移動 ν斯Μ步地向水平方向 ^3980 14 1224369 動之方式支撐該一對輔助排液導管，排出向前述各輔助排 液導管内分別流下之使用過處理液。 申請專利範圍第1 3項之發明，如申請專利範圍第丨項之基 板處理裝置，其中前述處理槽係以純水洗淨基板之水洗處 理槽，並設有藥劑處理槽，其係鄰接於其水洗處理槽之基 板搬入口側’以藥劑處理基板。 土 申請專利範圍第14項之發明係一種基板處理裝置，其係 於處理槽内搬運基板，㈣自處理液排出機構排出處理液 至基板上來處理基板，其特徵為設置處理液循環機構，其 係形成回收槽邵，其係隔開前述處理槽之内部，回收自前 述處理液排出機構排出，未經由基板面而直接流下之處理 液，此外，於前述處理液排出機構之下方配置回收容器， 其係回收自處理液排出機構排出’未經由基板面而直接流 下之處理液回收於前述回收槽部或回收容器内之處理 液送回前述處;里液排出機構，<吏處理液循環，纟且設置排 液路’其係排出自前述處理液排出機構向基板上排出，而 自基板上流人前述處理槽之内底部之使用過處理液。 申請專利範園第15項之發明，如，請專利範圍第14項之 基板處理裝置，其中具備洗淨機構，其係以洗淨液洗淨與 自基板上流下之使用過處理液接觸之前述處理槽之内壁面 或處理槽内部之構件。 申叫專利範圍第1 6項〈發明，如申請專利範圍第〗5項之 基板處理裝置，其中與前述處理槽鄰接設置以純水進行基 板洗淨之水洗處理槽’该水洗處理槽使用過之純水供前述 83980 ，15， 1224369 洗淨機構作為洗淨液使用。 申請專利範圍第17項之發明’如申請專利範圍第14項至 第16項中任一項之基板處理裝置’其中使前述排液路徑分 歧，將分歧路徑流路性連接於前述處理液循環機構，並於· 分歧位置介插流路切換機構。 申請專利範圍第18項之發明，”請專利範圍第Η項之 基板處理裝置，其中使前述排液路分歧，將分歧路流路性 連接於前述處理液循環機構，於分歧位置介插流路切換機 構，將自基板上流下之使用過處理液通過前述排液路並通· 過前述分歧路送至前述處理液循環機構，來循環使用過處 理液時，前述洗淨機構使用處理液作為洗淨液。 申明專利la圍第1 9項之發明，如申請專利範圍第丨4項之 基板處理裝置’其中設置收集回收於前述回收槽部或回收 容器内又處理液之槽，並且該槽附設管理該槽内之處理液 成分之管理裝置。 申清專利範圍第1項之發明之基板處理裝置中，係於處理籲 槽内藉由搬運機構向水平方向搬運基板，同時自處理液排 出機構向基板上排出處理液來處理基板。而後使用於基板 處理（處理液泥向與基板搬運方向垂直之方向之端部，自 基板緣邊泥下。自基板緣邊流下之使用過處理液收集於排 液路徑，並通過排液路排出。另外，自處理液排出機構排 出，未經由基板面而直接流下之處理液，回收於回收路徑 ‘ ，並藉由液體循環系統送回處理液排出機構再利用。因此v ，使用過（處理液並未再利用而廢棄，因此基板之處理效 83980 -16- 率不致降低’此外’因使用過處理液並未通過液體循環系 統流動，因此液體循環系統之各構件的污染亦被抑制在最 小限度。另外，因回收於回收路徑之處理液被再利用，因 此維持處理液的高利用效率，處理液的使用量減少，廢液 量亦少。 申睛專利範圍第2項之發明之基板處理裝置中，由於基板 係在與搬運方向垂直之方向上以對水平面傾斜之狀態搬運 ’自處理液排出機構向基板上排出，而使用於基板處理之 處理液向基板上較低側流動並自基板緣邊流下。此時於基 板較低侧之緣邊正下方位置附近立設有隔板，以其隔板隔 開處理槽之内底部，分隔成回收槽部與排液槽部，因此自 基板緣邊流下之使用過處理液流入排液槽部内，並通過排 液路排出。另外，自處理液排出機構排出。未經由基板面 而直接流下之處理液回收於回收槽部内，並藉由亦循環系 統送回處理液排出機構再利用。因此，使用過之處理液並 未再利用而廢棄，因此基板之處理效率不致降低，此外， 因使用過處理液並未通過液體循環系統流動，因此液體循 環系統之各構件的污染亦被抑制在最小限度。另外，因回 收於回收槽部内之處理液被再利用，因此維持處理液的高 利用效率，處理液的使用量減少，廢液量亦少。 申請專利範圍第3項之發明之基板處理裝置，向基板上較 低側流動而自基板緣邊流下之使用過處理液確實地流入排 液槽部内，並未越過隔板上端流向回收槽部内。 申請專利範圍第4項之發明之基板處理裝置，於處理槽内 83980 -17- ，基板藉由搬運機構以水平狀態向水平方向搬運，同時處 g液自處理液排出機構向基板上排出來處理基板。而後使 用於基板處理之處理液向基板上兩側流動，並自基板之兩 緣邊刀別Mb下此時於基板兩側緣邊之正下方位置附近分 別ϋ设，隔板，處理槽之内底部以各個隔板分別隔開而分 隔成回收槽部與一對排液槽部，因此自基板兩緣邊分別流 下之使用過處理液流入各排液槽部内，並通過排液路排出 。另外自處理液排出機構排出，未經由基板面而直接流 下之處理液則回收至回收槽部内，並藉由液體循環系統送 回處理液排出機構再利用。因此，使用過之處理液並未再 利用而廢棄，因此基板之處理效率不致降低，此外，因使 用過處理液並未通過液體循環系統流動，因此液體循環系 統之各構件的污染亦被抑制在最小限度。另外，因回收於 回收槽部内之處理液被再利用，因此維持處理液的高利用 效率’處理液的使用量減少，廢液量亦少。 申請專利範圍第5項之發明之基板處理裝置，向基板上兩 側流動而自基板兩緣邊分別流下之使用過處理液確實地流 入各排液槽部内，並未越過隔板上端流向回收槽部内。 申請專利範圍第6項之發明之基板處理裝置，於基板搬入 口附近，使用於前段之處理而附著於基板上之處理液，自 基板之前端側緣邊灑下，自處理液排出機構朝向基板搬運 方向之前方而向基板上排出之處理液自基板前端侧緣邊灑 下時，於基板搬入口側立設有寬度方向隔板，處理槽之内 底部被該寬度方向隔板隔開.，而形成有搬入口側排液槽部 83980 -18- 1224369 ，因此自基板前端側緣邊灑下之液體流入搬入口側排液槽 部内而排出。 申請專利範圍第7項之發明之裝置，流入搬入口側排液槽 部内之液體與流入排液槽部内之使用過處理液均通過排液 路排出。 申請專利範圍第8項之發明之基板處理裝置，由於基板在 與搬運方向垂直之方向上，以對水平面傾斜之狀態搬運， 因此自處理液排出機構向基板上排出而使用於基板處理之 處理液’向基板上較低側流動，並自基板緣邊流下。此時 ，由於基板較低側緣邊正下方位置附近，沿著基板搬運方 向橫設有排液導管，因此自基板緣邊流下之使用過處理液 流入排液導管内，並通過排液路排出。另外，自處理液排 出機構排出，未經由基板面而直接流下之處理液則回收於 處理槽之内底部，並藉由液體循環系統送回處理液排出機 構再利用。因此，使用過之處理液並未再利用而廢棄，因 此基板之處理效率不致降低，此外，因使用過處理液並未 通過政體循環系統流動，因此液體循環系統之各構件的污 染亦被抑制在最小限度。另外，因回收於處理槽之内底部 4處理液被再利用，因此維持處理液的高利用效率，處理 液的使用量減少，廢液量亦少。

用於基板處理之處理渴 理裝置，於處理槽内 以水平狀態向水平方向搬運，同時處 構向基板上排出來處理基板。而後使 液向基板上兩側流動，並自基板之兩 83980 -19- 1224369 緣适分別流下 ’ 〜1「万位置附近沿 著基板搬運方向橫設有排液導管，因此自基板兩緣邊分& 流下…過處理液流入各排液導管内，並通過排液路朝 出。另外，自處理液排出機構排出，未經由基板面而直插 流下：處理液則回收至處理槽之内底部，並藉由液體循尋 系統运回處理液排出機構再利用。因&，使用過之處理凌 並未再利用而廢棄，因此基板之處理效率不致降低，此外 ，因使用過處理液並未通過液體循環系統流動，因此液體 循環系統之各構件的污染亦被抑制在最小限度。另外，因 回收於處理槽之内底部之處理液被再利用，因此維持處理 液的高利用效率，處理液的使用量減少，廢液量亦少。 申請專利範圍第10項之發明之基板處理裝置，由於基板 在與搬運方向垂直之方向上，以中央部高於兩端部之方式

支撐搬運，因此自處理液排出機構向基板上排出而使用於 基板處理之處理液在基板中央部分成左右，不滯留於基板

上’而自基板上中央部分別向兩端部流動，並自基板緣邊 流下。 申請專利範圍第11項之發明之基板處理裝置，由於向與基 板搬運方向垂直之方向之基板兩端部側分別傾斜，對基板 表面排出處理液，因此自處理液排出機構向基板上排出之 處理液形成分別向兩端邵流動，處理液分別向基板上兩端 部流動，並自基板緣邊流下。 申請專利範圍第1 2項之發明之基板處理裝置，基板藉由搬 運機構搬運時，自處理液排出機構向基板上排出，使用於基 83980 -20- 权處理之處理液，即使自基板前後兩端側緣邊分別灑下，由 於基板前後兩端側緣邊之正下方位置附近，沿著與基板搬運 方向垂直之方向，配置有一對輔助排液導管，該一對輔助排 液導管以與基板之移動同步’向水平方向移動之方式支撐， 因此自基板前後兩端側緣邊分別灑下之使用過處理液流入 各辅助排液導管内，並通過輔助排液路排出。 申請專利範圍第1 3項之發明之基板處理裝置，於藥劑處 理槽内，使用於基板處理而附著於基板之藥劑，於水洗處 里槽中藉由以純水洗淨基板，自基板上除去，而以純水替 換。 申睛專利範圍第14項之發明之基板處理裝置，自處理液 排出機構排出，未經由基板面而直接流下之處理液，回收 於處理槽之回收槽部或回收容器内，並藉由處理液循環機 構自回收料或回收容器送回處理液排出機構循環使用。 由万、▲處理液並未經由基板面，因此不含非溶解物。因此

:夜體循環系統中不致產生槽之内面、配管之内自、栗之内 邵等受到非溶解物污染的問豸。另外，自處理液排出機構 向基板上排出’並自基板上流入處理槽之内底部之使用過 處理液係通過排液路排出。因此，即使該處理液中含非溶 解物亦不致構成問題。 、申μ專利圍第15項之發明之基板處理裝置，由於藉 洗乎機構’以洗淨液洗淨與自基板上流下之使用過處理 接觸〈處理槽内壁面或處理槽内部之構件，因此，即使 用過處理液中含非溶解物，其非溶解物附著於處理槽之 83980 •21 - 1224369 壁面或處理槽内部之構件，其非溶解物被沖洗。因此防止 處理槽之内壁面或處理槽内部之構件的污染。 申請專利範圍第16項之發明之基板處理裝置，由於鄰接 於處理槽（水洗處理槽使用過之純水供洗淨機構作為洗淨 液使用，因此洗淨液節約。 · 申請專利範圍第17項之發明之基板處理裝置，自基板上 泥入處理槽之内底邵之使用過處理液中含非溶解物時，係 通過排液路直接排出使用過處理液。另外，自基板上流入 _ 處理槽之内底部之使用過處理液中不含非溶解物時，係藉 由流路切換機構，以使用過處理液自排液路内流入分歧路 内之万式切換流路，使用過之處理液通過分歧路而流入處 理液循環機構。因而，因基板種類等不同，使用過之處理 液中不含非溶解物時，藉由循環使用使用過之處理液，可 減少處理液的使用量。 申請專利範圍第18項之發明之基板處理裝置，自基板上 流入處理槽 < 内底部之使用過處理液中含非溶解物時，係 _ 通過排液路直接排出使用過處理液。另外，自基板上流入 處理槽 < 内底邵之使用過處理液中不含非溶解物時，係藉 由流路切換機構，以使用過處理液自排液路内流入分歧路内 之万式切換流路Μ吏用過之處理液通過分歧路而流入處理液 循％機構。因而，因基板種類等不同，使用過之處理液中不 含非溶解物時，藉由循環使用使用過之處理液，可減少處理， 液的使用里。而循環使用自基板上流下之使用過處理液時，> 洗淨機構係使用處理液作為洗淨液，因此，亦循環使用於處 83980 -22- 1224369 理槽之内壁面或處理槽内部之構件洗淨之處理液（洗淨液）， 可使用於基板處理及處理槽内壁面等之洗淨。 申請專利範圍第19項之發明之基板處理裝置，由於係藉 由管理裝置管理槽内之處理液成分，因此可避免循環受‘ 染、惡化之處理液而使用於基板處理。 【實施方式】 〈1.第一種實施形態> 以下，參照圖1至圖13說明本發明之第一種實施形態。 圖1至圖3顯示本發明第一種實施形態之丨例，圖丨係顯示 基板處理裝置之概略構造的模式平面圖，圖2及圖3係自圖玉 箭頭方向觀察之剖面圖及自ΙΠ_ΙΠ箭頭方向觀察之剖 面圖。該基板處理裝置中進行基板處理之主要部分構造及 動作與圖19中說明之先前裝置相同，因此圖1至圖3中亦在 相同構件上註記圖19中使用之符號，而省略重複說明。 孩基板處理裝置中，於水洗處理槽丨〇之内部並列數個而 配置之各搬運滾筒係以在與基板〗之搬運方向垂直的方向 上傾斜之方式分別支撐，不過圖上並未顯示。因而如圖3所 示’基板1係在與其搬運方向垂直之方向上，以傾斜之狀態 向水平方向搬運。另外，圖2上為求方便，未將基板丨描繪 成傾斜'狀態。此外，由於自純水排出噴嘴丨4排出之純水， 並未經由自藥劑處理槽16内搬入水洗處理槽1〇内之基板} 的上面，而流入上流側之藥劑處理槽1 6内，因此純水排出 噴嘴1 4中，設置於最接近於水洗處理槽丨〇之搬入口丨2位置 之純水排出喷嘴14a如圖2所示，係以向基板}之搬運方向之 83980 -23 - 前方排出純水之方式配置有排出口。再者，該基板處理裝 置之水洗處理槽10的内底部藉由隔板20及寬度方向隔板22 隔開’水洗處理槽1 〇之内底部被分隔成回收槽部2 4與L字形 之排液槽部2 6。 隔板20係於水洗處理槽丨〇之内底面上之傾斜搬運之基板 1之較低側緣邊之正下方位置附近，沿著基板1之搬運方向 立設。如圖3之（a)所示，隔板20之上端宜以接近於基板1之 較低側緣邊之方式配置。此外，宽度方向隔板22係於水洗 處理槽1 0之内底面上之基板1之搬入口丨2側，沿著與基板j 之搬運方向垂直之方向立設。因而寬度方向隔板22之一端 部以形成鉤形之方式連接於隔板2〇之一端部。 此外，於水洗處理槽1〇之回收槽部24底部形成有液體回 收口 28，於該液體回收口28上連通連接有液體回收用配管 3〇。液體回收用配管30流路連接於收集回收液32之回收槽 34。此外，回收槽34上連通連接分別介插有過濾器“及泵 40之送液用配管36之一端，送液用配管36之頂端連通連接 於純水排出喷嘴14, 14a，不過圖上並未顯示。另外，於水 洗處理槽10之排液槽部26之底部形成有液體排出口 42，該 液體排出口 42上連通連接有排液管。 具備上述構造之基板處理裝置，如圖3之⑷所示，於基板 m過純水排出噴嘴14之設置位置時，自純水排出喷嘴"向 基板!排出之純水’與附著於基板,上面之藥劑2同時向基板 1上較低側流動，並自基板1之緣邊烊 您机下。此外，自純水排 出喷嘴1 4向基板1之下面側排出之绵 、 、、也水义一邵分經過基板1 83980 -24- 之下面向基板1之較低側流動，jil自基板1之緣邊流下。自 基板1之緣邊流下之純水與藥劑之混合液流入排液槽部26 内，自排液槽部2 6内通過液體排出口 4 2而流入排液管4 4内 ，並通過排液管4 4作為廢液排出。此外，自純水排出喷嘴 1 4向基板1之下面側排出之純水之一部分自基板1之下面滴 落，而流入回收槽部24内。而後，回收於回收槽部24内之 較少量之純水自回收槽部24内通過液體回收口 28流入液體 回收用配管30内，並通過液體回收用配管3〇流入回收槽34 内。而後，收集於回收槽34内之回收液32通過送液用配管 3 6送回純水排出喷嘴1 4，1 4 a再利用。另外，此時自下側之 純水排出喷嘴14排出之純水，於接觸基板1後，其一部分雖 送回回收槽34，但疋貫質上並無不妥。亦即，因重力作用 於附著在基板1下面之藥劑，與上面比較，下面原本僅附著 少量之藥劑。因而接觸於基板1下面之純水僅含少量之藥劑 ，即使送回回收槽34再利用實質上並無不妥。此外，亦有 於藥劑處理槽1 6内使用除去附著於基板1下面之藥劑之除 液滾筒，此時附著於放入水洗處理槽丨〇内之基板1下面之藥 劑更少，因此實質上並無不妥。 另外如圖J之（b)所示，基板1未通過純水排出噴嘴1 4之 設置位置時，自純水排出噴嘴1 4排出之純水未經由基板i面 而直接流入回收槽部24内。流入回收槽部24内而回收之多 量純水自回收槽部24内通過液體回收口 28而流入液體回收 用配管30内，並通過液體回收用配管3〇而流入回收槽μ内 。而後，收集於回收槽34内之回收液（純水）32通過送液用配 83980 -25- 言36送回純水排出噴嘴14，i4a再利用。此時，排液槽部26 内备乎供純水％入，自排液槽部2 6内通過排液管4 4而排出 之廢液量極少。 此外’於水洗處理槽丨〇之搬入口丨2附近，對自藥劑處理 槽16内搬入水洗處理槽10内而附著藥劑之基板丨，自純水排 出噴嘴14a向基板1之搬運方向前方排出純水，因此向基板j 上排出之純水與附著於基板1上面之藥劑2同時向基板1上 月!j方侧流動’並自基板1之前端側緣邊灑下。自基板丨前端 侧緣邊麓下之純水與藥劑之混合液藉由寬度方向隔板2 2自 回收槽部24说入被隔開之排液槽部26内，並在排液槽部26 之内底面上向液體排出口 4 2流動。而後，自排液槽部2 6内 通過液體排出口 42向排液管44内流出，並通過排液管44作 為廢液排出。 如上所述，該基板處理裝置，由於大部分使用過純水並 未再利用而與藥劑一起作為廢液廢棄，於基板1之洗淨處理 時係使用純水，因此基板1之處理效率不致降低。此外，由 於純水與藥劑之混合液並未流入液體回收用配管3 〇内、回 收槽34内、送液用配管36内及泵40之内部等，因此此等構 件遭藥劑之污染抑制在最小限度。另外，因回收於回收槽 部24内之純水再利用，因此可減少純水之使用量，此外廢 液量亦少。 上述之基板處理裝置，純水排出噴嘴1 4中設於最接近於 水洗處理槽1 〇之搬入口 1 2位置之純水排出噴嘴1 4 a，以向基 板1之搬運方向之前方排出純水之方式配置排出口。此外， 83980 ，26" 1224369 為避免純水經由搬入水洗處理槽丨0内之基板丨之上面3入 上流側之藥劑處理槽16 ’亦可於水洗處理槽1〇之搬入口 12 近旁設置氣刀，不過具備此種構造之裝置，如上述實施形 態所述’須將排液槽部26形成L字形，使自搬入水洗處理槽 ‘ 10内之基板I之前端側緣邊灑下之純水及藥劑流入排液^ , 部26内。反之，為避免自搬入水洗處理槽1〇内之基板丨之前 端侧緣邊灑下之純水及蘖劑量過多時，如圖4之模式平面圖 所示’亦可不設置宽度方向隔板22,而在整個水洗處理槽 10之長度上，沿著基板1之搬運方向立設隔板46，藉由該隔攀 板46將水洗處理槽10之内底部分隔成回收槽部心與排液槽 部50 〇 第一種實施形態係將通過排液管44排出之液體作為廢液 廢棄，不過本發明中之排液未必即是廢液。如於藥劑處理 槽之下流連續設置兩個水洗處理槽時，應用本發明於這兩 個水洗處理槽時可採如下之構造。亦即，下流側之水洗處 理槽使用未曾使用之純水用於水洗。而下流側之水洗處理 _ 槽中，自排液管44排出之液體不廢氣而送至上流側之水洗 處理槽，於該上流側之水洗處理槽中，可作為新液使用於 水洗。此因搬入上流側之水洗處理槽内之基板上附著大量 藥劑，而搬入下流側之水洗處理槽之基板於上流側之水洗 處理槽中已經過一次洗淨，附著之藥劑量極少。再者，下 流側之水洗處理槽中，自排液管44排出之液體僅含極少量 · 藥劑，因此可於上流側之水洗處理槽中作為新液使用。如 · 此將下流側之水洗處理槽中自排液管44排出之液體送至上 83980 -27- 1224369 流側之水洗處理槽再利用，可進一步減少純水的使用量。 此外，上述例中，係將排液槽部26作為使藉由隔板2〇所 形成4部分與藉由寬度方向隔板22所形成之部分連通一體 之L字形，不過亦可自此等兩個部分另行設置排液管，將該 兩方之排液管連接連通於回收槽3 4。 其次’圖5及圖6顯示本發明第一種實施形態之其他例， 圖5係顯示基板處理裝置之概略構造的模式平面圖，圖6係 從圖5之VI-VI箭頭方向觀察之剖面圖。該基板處理裝置中， 進行基板處理之主要部分之構造及動作亦與圖〗9說明之先 前裝置相同，因此省略重複說明。此外，圖5及圖6中註記 與圖1至圖3使用之符號相同符號之構件，係顯示具有與圖1 至圖3中說明之上述構件相同功能的相同構件，此等亦省略 重複說明。 該基板處理裝置中，於水洗處理槽1 〇之内部並列數個而 配置之各搬運滾筒亦係以在與基板1之搬運方向垂直的方 向上傾斜之方式分別支撐，不過圖上並未顯示，如圖6所示 ，基板1係在與其搬運方向垂直之方向上，以傾斜之狀態向 水平方向搬運。而後，該基板處理裝置於水洗處理槽1 〇内 部，沿著基板1之搬運方向橫設有排液導管66。該排液導管 6 6配置於被傾斜搬運之基板1之較低側之緣邊正下方位置 附近。此外，於排液導管6 6之底部形成有液體排出口 6 8， 該液體排出口 6 8上連通連接有排液管7 0。 另外，於水洗處理槽1 0之内底部形成有液體回收口 72 , 於該液體回收口 72上連通連接有液體回收用配管74。因而 -28- 83980 1224369 與圖1至圖3所示之裝置同樣地，液體回收用配管74流路連 接於收集回收液之回收槽，回收槽上連通連接分別介插有 過遽為及系之送液用配管之一端，該送液用配管之頂端連 通連接於純水排出喷嘴1 4, 1 4a，不過圖上並未顯示。 具備上述構造之基板處理裝置，如圖6所示，於基板i通 過純水排出噴嘴14之設置位置時，自純水排出噴嘴14向基 板1上排出之純水，與附著於基板丨上面之藥劑2同時向基板 1上較低側流動，並自基板丨之緣邊流下。此外，自純水排 出噴嘴14向基板1之下面側排出之純水之一部分經過基板i 之下面向基板1之較低側流動，並自基板丨之緣邊流下。自 基板1之緣邊流下之純水與藥劑之混合液流入排液導管66 内，自排液導管6 6内通過液體排出口 6 8而流入排液管7 〇内 ’並通過排液管7 0作為廢液排出。此外，自純水排出喷嘴 14向基板1之下面侧排出之純水之一部分自基板1之下面滴 落’而流入水洗處理槽1 〇之内底部。而後，回收於水洗處 理槽1 0之内底邵之較少量之純水自水洗處理槽丨〇之内底部 通過液體回收口 72流入液體回收用配管74内，並通過液體 回收用配管74流入回收槽内。而後，收集於回收槽内之回 收液通過送液用配管送回純水排出喷嘴14，14a再利用。 另外’基板1未通過純水排出嘴嘴14之設置位置時，自純 水排出噴嘴14排出之純水未經由基板1面而直接流入水洗 處理槽1 0之内底部。流入水洗處理槽丨〇之内底部而回收之 ^量純水自水洗處理槽1 Q之内底部通過液體回收口 7 2而流 入液體回收用配管7 4内，並通過液體回收用配管7 4而流入 83980 -29- 1224369 回收槽内。而後’收集於回收槽内之回收液（純水）通過送液 用配管送回純水排出噴嘴14, ：14a再利用。此時，排液導管 66内幾乎無純水流入’自排液導管66内通過排液管7〇而排 出之廢液量極少。 · 如上所述’該基板處理裝置’亦由於大部分使用過純水-並未再利用而與藥劑一起作為廢液廢棄，於基板1之洗淨處 理時係使用純水’因此基板1之處理效率不致降低。此外， 由於純水與藥劑之混合液並未流入液體回收用配管74内、 回收槽内、送液用配管内及泵之内部等’因此此等構件遭 藥劑之污染抑制在最小限度。另外’因回收於水洗處理槽 1〇之内底部之純水再利用，因此可減少純水之使用量，此 外廢液量亦少。 其次，圖7及圖8顯示本發明第一種實施形態之另外例， 圖7係顯示基板處理裝置之概略構造的模式平面圖，圖8係 從圖7之vm-vm箭頭方向觀察之剖面圖。該基板處理裝置 中，進行基板處理之主要部分之構造及動作亦與圖19說明 φ 之先前裝置相同，因此省略重複說明。此外，圖7及圖8中 註記與圖1至圖3使用之符號相同符號之構件，係顯示具有 與圖1至圖3中說明之上述構件相同功能的相同構件，此等 亦省略重複說明。 汶基板處理I置中，於水洗處理槽丨〇之内部並列數個而 配置之各搬運滾筒水平地分別支撐，不過圖上並未顧示，， 如圖8所示，基板丨以水平狀態向水平方向搬運。而後，該 _ 基板處理裝置於水洗處理槽1〇内底部，藉由一對隔板 83980 -30 - 1224369 76b及寬度方向隔板78隔開，水洗處理槽10之内底邵被分隔 成回收槽部80與一對排液槽部82a，82b及搬入口側排液槽 部84。

A 一對隔板76a，76b於水洗處理槽10之内底面上之以水平 狀態搬運之基板1之兩侧緣邊之正下方位置附近，.分別沿著 · 基板1之搬運方向立設。如圖8所示’一對隔板76a，76b之上 端宜以分別鄰近於基板1之兩側緣邊之方式配置。此外，寬 度方向隔板7 8係於水洗處理槽1 〇之内底面上之基板1之搬 籲 入口側，沿著與基板1搬運方向垂直之方向立設。而寬度方 向隔板7 8之兩端部以分別形成鉤形之方式連接於各一對隔 板76a，76b之一端部，一對排液槽部82a，82b及搬入口側排 液槽部84彼此流路性聯絡。 此外，水洗處理槽10之回收槽部80之底部形成有液體回 收口 86，該液體回收口 86連通連接有液體回收用配管88。 與圖1至圖3所示之裝置同樣地，液體回收用配管8 8流路連 接於收集回收液之回收槽，回收槽上連通連接分別介插有 參 過濾器及泵之送液用配管之一端，該送液用配管之頂端連 通連接於純水排出噴嘴14，14a，不過圖上並未顯示。另外 ’水洗處理槽1 0之排液槽邵8 2 a之底邵形成有液體排出口 9 〇 ，該液體排出口 90上連通連接有排液管92。 具備上述構造之基板處理裝置，如圖8所示，於基板}通 過純水排出喷嘴14之設置位置時，自純水排出噴嘴14向基 · 板1上排出之純水’與附著於基板1上面之藥劑2同時向基板 ， 1上兩側流動’並自基板1之兩緣邊分別流下。此外，純 83980 -31 - 1224369 水排出噴嘴1 4向基板1之下面側排出之純水之一部分經過 基板1之下面向基板1之兩側流動，並自基板1之兩緣邊流下 。自基板1之兩緣邊分別流下之純水與藥劑之混合液分別流 入各排液槽部82a，82b内，自排液槽部82a，82b内通過液體 排出口 90而流入排液管92内，並通過排液管92作為廢液排 出。此外，自純水排出喷嘴1 4向基板1之下面側排出之純水 之一邵分自基板1之下面滴落，而流入回收槽部8 0内。而後 ，回收於回收槽部80内之較少量之純水自回收槽部80内通 肇 過液體回收口 86流入液體回收用配管88内，並通過液體回 收用配管88流入回收槽内。而後，收集於回收槽内之回收 液通過送液用配管送回純水排出噴嘴14，1 4a再利用。 另外，基板1未通過純水排出喷嘴14之設置位置時，自純水 排出喷嘴14排出之純水未經由基板1面而直接流入回收槽部 80内。流入回收槽部80内而回收之多量純水自回收槽部80内 通過液體回收口 86而流入液體回收用配管88内，並通過液體 回收用配管88而流入回收槽内。而後，收集於回收槽内之回 籲 收液（純水）通過送液用配管送回純水排出噴嘴14，14a再利用 。此時，排液槽部82a，82b内幾乎無純水流入，自排液槽部 8 2 a，8 2 b内通過排液管9 2而排出之廢液量極少。 此外，於水洗處理槽1 〇之搬入口附近，為求對自藥劑處 理槽1 6内搬入水洗處理槽1 〇内而附著藥劑之基板1，自純水 排出喷嘴1 4 a向基板1之搬運方向前方排出純水，向基板1上 · 排出之純水與附著於基板1上面之藥劑2同時向基板1上前 · 方側流動，並自基板1之前端側緣邊灑下。自基板1之前端 83980 -32- 1224369 側緣邊灑下之純水與藥劑之混合液流入藉由寬度方向隔板 78自回收槽部80被隔開之搬入口侧排液槽部84内，並在搬 入口側排液槽部84之内底面上向液體排出口 90流動。而後 ’自排液槽部82a内通過液體排出口 90流入排液管92内，並 通過排液管92作為廢液排出。 該基板處理裝置亦與圖1至圖3所示之裝置同樣地，可獲 得不降低基板1之處理效率，此外，液體回收用配管8 8内、 回收槽内、送液用配管内、泵之内部等構件遭受藥劑之污 染抑制在最小限度，另外可減少純水之使用量，且廢液量 亦少等作用效果。 此外’圖9及圖1 〇顯示本發明第一種實施形態之另外例， 圖9係顯示基板處理裝置之概略構造的模式平面圖，圖丨〇係 伙圖9之X—X箭頭方向觀察之剖面圖。該基板處理裝置中， 進行基板處理之主要邵分之構造及動作亦與圖1 9說明之先 前裝置相同，因此省略重複說明。此外，圖9及圖丨〇中註記 與圖1至圖3使用之符號相同符號之構件，係顯示具有與圖1 至圖3中說明之上述構件相同功能的相同構件，此等亦省略 重複說明。 該基板處理裝置中，於水洗處理槽10之内部並列數個而 配置之各搬運滚筒水平地分別支撐，不過圖上並未顯示， 如圖10所示，基板1係以水平狀態向水平方向搬運。而後， 該基板處理裝置於水洗處理槽1 〇内部，沿著基板1之搬運方 向分別橫設有一對排液導管94a，94b。該一對排液導管94a 94b分別配置於以水平狀態搬運之基板1之兩側之緣邊正下 -33 - 83980 1224369 方位置附近。此外，於各排液導管94a，94b之底部分別形成 有液體排出口 96a，96b ’各液體排出口 96a，96b上分別連通 連接有排液管98a，98b。 另外，於水洗處理槽1 〇之内底部形成有液體回收口 1 〇 〇 ’ 於該液體回收口 1 0 0上連通連接有液體回收用配管1 〇 2。因 - 而與圖1至圖3所示之裝置同樣地，液體回收用配管1 〇2流路 連接於收集回收液之回收槽，回收槽上連通連接分別介插 有過濾器及泵之送液用配管之一端，該送液用配管之頂端 ❿ 連通連接於純水排出喷嘴1 4，14 a，不過圖上並未顯示。 具備上述構造之基板處理裝置，如圖1 〇所示，於基板1通 過純水排出噴嘴1 4之設置位置時，自純水排出噴嘴1 4向基

板1上排出之純水，與附著於基板1上面之藥劑2同時向基板 1上兩侧流動，並自基板1之兩緣邊分別流下。此外，自純 水排出噴嘴1 4向基板1之下面側排出之純水之一部分經過 基板1之下面向基板1之兩侧流動，並自基板1之兩緣邊分別 流下。自基板1之兩緣邊分別流下之純水與藥劑之混合液流 入各排液導管94a，94b内，自各排液導管94a，94b内通過液 體排出口 96a，96b而流入排液管98a，9 8b内，並通過排液管 98a，98b作為廢液排出。此外，自純水排出噴嘴14向基板1 之下面側排出之純水之一部分自基板1之下面滴落，而流入 水洗處理槽1 0之内底部。而後，回收於水洗處理槽10之内 底部之較少量之純水自水洗處理槽1 0之内底部通過液體回 收口 1 0 0流入液體回收用配管1 〇 2内，並通過液體回收用配 管1 〇 2流入回收槽内。而後，收集於回收槽内之回收液通過 83980 -34- 1224369 送液用配管送回純水排出噴嘴1 4，1 4a再利用。 另外’基板1未通過純水排出噴嘴丨4之設置位置時，自純 水排出噴嘴1 4排出之純水未經由基板1面而直接流入水洗 處理槽1 0之内底部。流入水洗處理槽丨〇之内底部而回收之 多量純水’自水洗處理槽1 〇之内底部通過液體回收口 1 〇 〇而 流入液體回收用配管1 〇2内，並通過液體回收用配管！ 02而 泥入回收槽内。而後’收集於回收槽内之回收液（純水）通過 送液用配管送回純水排出喷嘴14，l4a再利用。此時，排液 導管94a，94b内幾乎無純水流入，自排液導管94a，94b内通 過排液管98a，98b而排出之廢液量極少。 該基板處理裝置亦與圖5及圖6所示之裝置同樣地，可獲 得不降低基板1之處理效率，此外，液體回收用配管1〇2内 、回收槽内、送液用配管内、泵之内部等構件遭受藥劑之 污染抑制在最小限度’另外可減少純水之使用#，且廢液 量亦少等作用效果。 匕如圖7及圖8所示之實施形態及圖9及圖ι〇所示之實施形 態所示，以水平狀態向水平方向搬運基板丨時，自純水排： 喷嘴1 4向基板丨上排出之純水與藥劑之混合液可能不易在 基板1上流動。此種情況下，如圖u之概略側面圖所示，只 須形成使抵接於基板1下面中央部，而 /、 又ί牙基板1之搬運滾 筒m之直徑大於分別抵接於基板!之下面兩端部而 板！之搬運滾筒1G6, 1G6之直徑，在與其搬運方向垂直:土 向上，以中央部高於兩端部之方式支撐、 之万 牙损又運基板1之構 即可。藉由形成此種構造，自純水排出 〇 戸貧口角14向基板丨上排 83980 -35 - 1224369 出之純水與基板表面上之藥劑之混合液即在基板1之中央 邵分成左右’不滞留在基板1上，而在基板1上自中央部分 別向兩端部流動，並自基板1之兩緣邊流下。 此外’如圖1 2之概略側面圖所示，亦可形成以其排出口 朝向基板1之兩端部之方向分別配置各純水排出噴嘴丨4之 構造。藉由形成此種構造，由於係自各純水排出噴嘴丨4向 基板1，對基板1表面，分別向與搬運方向垂直之方向之兩 端邵側傾斜而排出純水，因此自各純水排出噴嘴丨4向基板1 上排出之純水形成分別向兩端部流動，純水與藥劑混合， 在基板1上向兩端部流動，並自基板1之緣邊流下。 此外，如圖1 3之基板處理裝置之模式平面圖所示，亦可 於以水平狀態向水平方向搬運之基板1之前後兩端側緣邊 之正下方位置附近，分別沿著與搬運方向垂直之方向配置 一對輔助排液導管108a，108b，形成以與基板1之移動同步 向水平方向移動之方式支撐該一對輔助排液導管1〇8a， 1 〇 8b的構造。具備此種構造之基板處理裝置於搬運基板1時 ，自純水排出噴嘴14向基板1上排出，使用於基板1之洗淨 而與藥劑混合之純水即使自基板1之前後兩端側緣邊分別 灌下，自基板1之前後兩端側緣邊分別灑下之純水與藥劑之 〉昆合液分別流入各辅助排液導管l〇8a，1〇8b内，並通過連接 於各輔助排液導管l〇8a，108b之輔助排液路（圖上未顯示）排 出。 另外，第一種實施形態中，係說明鄰接於藥劑處理槽i 6 而具備水洗處理槽丨〇之基板處理裝置，不過本發明亦可適 83980 -36- 1224369 剥離等處理之基板處理 用於進行其他洗淨、顯像、蝕刻 裝置。 <2.第二種實施形態> 其次，參照圖14至圖18說明本發明之第二種實施形態。 · 圖14顯示本發明第二種實施形態之丨例，係顯示—種基板 . 處理裝置 < 顯像處理裝置之概略構造的模式側面圖。該顯 像處理裝置中，進行顯像處理之主要部分的構造及動 圖20說明之先前裝置相同，因此圖14中亦於相同構件上註 記圖20使用之符號，並省略重複說日月。 · 該顯像處理裝置中，於顯像液排出噴嘴丨丨6之下方，分严 顯像處理槽110之内部而形成有回收槽部122。另外亦可於顯 像液排出噴嘴116之下方配置回收桶（回收容器），來取代形 成回收槽部122。於該回收槽部122内，基板1未通過顯像液 排出噴嘴11 6之正下方位置時，自顯像液排出噴嘴丨丨6排出未 經由基板1面而直接流下之顯像液被回收（參照圖1 5)。於回 收槽邵122之底部形成有自基板1流入回收槽部ι22之内底 _ 邵之顯像液流出之液體回收口 124，該液體回收口 ！ 24上連 通連接有液體回收用配管126。液體回收用配管1 26流路連 接有收集所回收之顯像液128之回收槽130。此外，回收槽 130上連通連接送液用配管I]〕之一端，送液用配管132之頂 端連通連接有顯像液排出喷嘴丨丨6。該送液用配管1 32内介插 有栗134,並依需要介插過濾器，不過圖上並未顯示。藉由 · 此等液體回收用配管126、回收槽130、送液用配管132及泵 - n 4而構成液體循環系統。 83980 -37- 1224369 此外，如圖14所示，於顯像處理槽|1〇之與回收槽部I〕〕 分隔之底部形成有液體排出口 136’其係供藉由除液滾筒丨丨8 自基板1上除去等，而自基板1上流入顯像處理槽Π0之内底 部之顯像液流出，該液體排出口 136上連通連接有排液用配. 管138 。 _ 再者，於顯像處理槽110内部配置有洗淨噴嘴14〇，其係其 係向顯像處理槽110之内底面排出洗淨液，洗淨顯像處理槽 110之内底面。此外，亦設置洗淨配置於顯像處理槽π〇内部鲁 之搬運滾筒等構件用之洗淨噴嘴，不過圖上並未顯示。於 洗淨噴嘴140内，自洗淨液供給源供給有洗淨液。圖14所示 之例中’於鄰接顯像處理槽11 〇所設置之水洗處理槽11 4底部 形成有排水口 142，其係供使用於基板1之洗淨，而流入水 洗處^^槽114内底部之純水流出，於該排水口 1 * 2上連通連接 有水回收用配管14 4 ’將水回收用配管14 4流路連接於水回 收槽146，將水洗處理槽114使用過之純水148回收於水回收 槽146内收集。而後於水回收槽146上連通連接送水用配管 籲 1 5 0之一端，將送水用配管1 5 0之頂端連通連接於洗淨喷嘴 140，藉由介插於送水用配管1 50上之泵1 52，將水回收槽146 内之純水148供給至洗淨噴嘴140。 具有如上構造之顯像處理裝置中，自顯像液排出喷嘴丨i 6 排出，未經由基板1面而直接流下之顯像液3，回收於顯像 處理槽11 〇之回收槽部1 2 2内。回收於回收槽部1 2 2内之顯像 · 液通過液體回收用配管1 2 6而流入回收槽1 3 0内收集。而後 · ，回收槽1 3 0内之顯像液1 2 8通過送液用配管1 3 2送至顯像液 83980 -38- 排出噴嘴Π6。由於如此循環使用之顯像液並未經由基板i 面，因此該顯像液中不含非溶解物，回收槽丨3〇之内面、液 體回收用配管126及送液用配管in之内面、泵134之内部等 不致被非溶解物污染。 另外，自顯像液排出噴嘴116向基板1上排出，自基板1上 流入顯像處理槽110之内底部的使用過顯像液，則自液體排 出口 136通過排液用配管138排出。因此該顯像液中即使含 有非落解物亦不引起問題。此外，與使用過顯像液接觸之 顯像處理槽11 〇之内底面及排液用配管丨3 8等，係藉由自水回 收槽1 46通過送水用配管1 5〇送至洗淨噴嘴丨4〇，並自洗淨喷 嘴140排出之純水148洗淨來防止污染。另外，與基板1接觸 之構件，如除液滾筒11 8不欲使純水附著時，就此種構件亦 可使用處理液進行洗淨。 圖15顯示顯像處理槽之洗淨機構之與圖14所示者不同之 例’其係顯示顯像處理裝置之概略構造的模式側面圖。圖 15中’註記與圖14中使用之符號相同符號者，係與圖“中 說明之上述構件具有相同功能之相同構件，並省略其重複 說明。另外，圖1 5顯示基板1未通過顯像液排出噴嘴11 $之正 下方位置時，自顯像液排出喷嘴116排出之顯像液3直接流下 而回收於回收槽130内之狀態。 圖1 5所示之裝置以與與顯像處理槽1 54鄭接之水洗處理 槽158之侧高’回收槽部122之側低的方式使顯像處理槽154 之内底面1 5 6傾斜。而後於水洗處理槽1 5 8侧變高之位置設 置洗淨喷嘴1 60，於回收槽部1 22側變低之顯像處理槽1 54底 83980 -39- 1224369 部形成液體排出口 1 6 2，該液體排出口 1 6 2上連通連接有排 液用配管1 64。此外，於水洗處理槽丨58之内部配置有水回 收桶1 66 ’其係回收自夹著基板1之搬運路徑[，配置於其上 下兩側之數個水噴出噴嘴1 20噴灑於基板i之上下兩面之純 水。水回收桶166配置於高於洗淨噴嘴16〇之位置，並藉由 送水用配管1 6 8流路連接水回收桶1 6 6之底部與洗淨噴嘴 160。送水用配管168於中途分歧作為汲水管17〇，於該汲水 管170上介插開閉閥172。此外，於水洗處理槽158之底部形 成排水口 1 7 4，於該排水口 1 7 4上連通連接排水用配管1 7 6。 圖1 5所示之構造的裝置，其回收於水回收桶丨6 6内之純水 係通過送水用配管1 6 8送至洗淨噴嘴1 6 0，並自洗淨噴嘴1 6 0 向顯像處理槽1 5 4之内底面1 5 6上排出純水。向顯像處理槽 154之内底面156上排出之純水沿著内底面ι56之傾斜流入 内底面156上。藉此，整個顯像處理槽154之内底面156藉由 純水洗淨。而後，流到回收槽部122附近之純水，自顯像處 理槽154底部之液體排出口 162通過排液用配管ι64排出。 其次，圖1 6顯示本發明第二種實施形態之其他例，其係 顯示顯像處理裝置之概略構造的模式側面圖。圖丨6中，註 冗與圖1 4中使用之符號相同符號者，係與圖丨4中說明之上 述構件具有相同功能之相同構件，並省略其重複說明。 圖16所示之裝置，在中途使連通連接於顯像處理槽11〇之 液體排出口 136之排液用配管178分歧，將分歧之送回液體 用配管180之頂端流路連接於回收槽130，並於排液用配管 1 7 8之分歧位置介插流路切換閥1 8 2。此外，於中途使流路 -40- 83980 1224369 連接回收槽130與顯像液排出喷嘴Π6之送液㈣管i32分歧 ，將分歧之洗淨送液用配管184之頂端連通連接於洗淨噴嘴 M0。而後，於洗淨送液用配管1δ4上介插開閉控制閥186 ’ 此外，於流路連接水回收槽146與洗淨噴嘴140之送水用配 管150介插開閉控制閥188。 具備圖16所示構造之裝置，自基板丨上流入顯像處理槽ιι〇 之内底部之使用過顯像液中不含非溶解物時，如顯像處理 覆蓋溶解型光阻之塗敷模之基板時等，切換操作流路切換 閥182，於排液用配管178與送回液體用配管18〇連通的狀態 下’使用過之顯像液自排液用配管丨7 8内流入送回液體用配 ΊΤ 1 80内。此時，藉由關閉介插於送水用配管i 5〇之開閉控 制閥1 88，避免使用過之顯像液與純水混合。如此，使用過 顯像液係通過排液用配管1 7 8及送回液體用配管1 8 〇回收至 回收槽1 30内。而後，將使用過顯像液與於基板1未通過顯 像液排出噴鳴116之正下方位置時，自顯像液排出喷嘴η 6 排出而直接流下，並回收至回收槽丨3 〇内之顯像液一起循環 使用。此時，須洗淨顯像處理槽U 0之内底面等時，打開介 插於洗淨送液用配管184之開閉控制閥186，將回收槽130内 之顯像液1 28之一部分通過洗淨送液用配管1 84送至洗淨噴 嘴140,並自洗淨噴嘴140排出顯像液，來進行顯像處理槽11〇 之内底面等的洗淨。 另外’改變顯像處理之基板種類，自基板1上流入顯像處 理槽11 0之内底邵之使用過顯像液中含非溶解物時，如顯像 處理覆蓋形成有非溶解型光阻之塗敷模之基板等時，切換 83980 -41 - 操作流路切換閥1 8 2，於排、冷亦μ 、成用配官1 7 8與送回液體用配管 1 80未連通的狀態下，使用堝％ 匕颂像夜係通過排液用配管1 7 8 排出。此時’將介插於洗淨穿、为田 — 元尹k履用配管1 84之開閉控制閥1 86 處於關閉狀態，並且打開今分^人…， 订開7丨插於运水用配管15〇之開閉控制 閥1 8 8，與圖14所示之装署回祥丄 氣置冋樣地，將水洗處理槽丨14中使用 於基板1水洗之純水送至泱溪啥_，^ Λ 、土 /无乎貧？角14〇，以該純水進行顯像 處理槽11G之内底面等的洗淨。此外，排出使用過顯像液時 ’ 5F可併用純水與處理液，進行顯像處理槽uq之内底面等 的洗淨。 其次，圖17顯不使用之各種顯像液設置顯像液排出噴嘴 之例，其係顯示顯像處理裝置之概略構造的模式側面圖。 圖1 7中，狂記與圖1 4及圖丨6中使用之符號相同符號者，亦 係與圖1 4及圖1 6中說明之上述構件具有相同功能之相同構 件’並省略其重複說明。 圖1 7所不之裝置因應使用之顯像液種類設有兩個顯像液 排出貪^ 11 6 a，11 6 b，並因應顯像液種類，於顯像處理槽11 〇 _ 内形成有兩個回收槽122a，122b。此外，因應顯像液種類分 別设有液體循環系統及顯像液洗淨系統。以下說明圖1 7中 使用之符號，其中124a，124b為液體回收口，126a，126b為 液體回收用配管，130a，13Ob為分別回收、收集不同種類之 顯像液128a，128b之回收槽，132a，132b為分別介設有泵 134a, 134b之送液用配管，136a，13 6b為液體排出口。此外 ’ ’ 178a，178b為排液用配管，180a，180b為液體送回用配管 . ’ 1 82a，1 82b為流路切換閥，1 84a，1 84b為分別介插有開閉 83980 -42 - 1224369 控制閥186a，186b之洗淨送液用配管。此外，液體回收用配 管126a，126b及排液用配管178a，178b上分別介插有開閉控 制閥 190a，190b，192a，192b。 圖17所示之裝置’藉由打開分別介插於各液體回收用配-管126a，126b之開閉控制閥190a，190b之一方，而關閉另一 · 方，並且打開分別介插於各排液用配管l78a，17此之開閉控 制閥192a，192b之一方，而關閉另一方，可依使用之顯像液 種類，於圖1 6所示之裝置進行上述處理操作。 φ 此外，圖1 8顯示使用之各種顯像液可進行處理操作之其 他實施形態，其係顯示顯像處理裝置之概略構造的模式側 面圖。圖18中註記與圖14、圖16及圖17中使用之符號相同 的符號者’係與圖14、圖16及圖17說明之上述構件具有相 同功能之相同構件，並省略其重複說明。 圖1 8所示之裝置僅設置一個顯像液排出喷嘴〗丨6，而對於 不同種類之顯像液，係共用顯像液排出噴嘴丨丨6，此外，顯 像處理槽110内亦僅形成一個回收槽部丨22,並藉由相同之回 _ 收槽部122回收不同種類之顯像液。而後，在連接於顯像液 排出噴嘴116之送液用配管132上，連通連接各送液用配管 132a，132b加以合流，此等送液用配管132a，132b分別流路 連接有分別回收並收集不同種類之顯像液1 28a，1 28b之回 收槽130a，130b。此外，於頂端附近使送液用配管丨32分歧 ’設置連通連接於顯像液排出噴嘴11 6之旁通管1 94，於送液 、 用配管1 3 2之分歧位置之下流側及旁通管1 94上分別介插有 · 開閉控制閥196a，196b。此外，於回收槽部122底部形成有 83980 -43 - 1224369 液體排出口 198，於該液體排出口丨98上連通連接有液體排 出用配管900，於液體排出用配管9〇〇上介插有開閉閥9〇2。 圖18所示之裝置亦與圖17所示之裝置同樣地，藉由打開 分別介插於各液體回收用配管l26a，126b之開閉控制閥. 190a，190b之一方，而關閉另一方’並且打開分別介插於各. 排液用配管178a, 178b之開閉控制閥192a，192b之一方，而 關閉另一方，可依使用之顯像液種類，於圖16所示之裝置 進行上述處理操作。而後，該裝置於改變顯像液種類時，籲 打開介插於液體排出用配管900之開閉閥9〇2，使殘留於回 收槽部122内之顯像液排出。並藉由打開介插於旁通管194 之開閉控制閥196b，使供應顯像液排出噴#U6之顯像液流 量增加，來縮短液體替換所需時間，提高處理效率。液體 替換結束時，分別關閉介插於液體排出用配管9〇〇之開閉閥 9〇2及介插於旁通管！94之開閉控制閥196b。 另外，上述第二種實施形態中，對於收集回收之處理液 之回收槽130, 13〇a，130b，宜附設管理回收槽13〇, n〇a， ^ 13〇b内之處理液之成分的管理裝置。該管理裝置如為顯像 處理裝置時，於分析回收槽130, 13〇a，13〇b内之處理液，分 =測定其中之顯像液（如TMAH)成分與溶解之光阻（樹脂）成 分 < 各濃度，此等之值與所需值有偏差時，須將顯像液之 新硬體及高濃度液體添加於回收槽13〇，13〇a，13〇b内之處 理液内，或依需要廢棄回收槽130，13〇a，13 Ob内之處理液，1 執行將此等之值保持在所需範圍内的動作者。或是，亦可 · 為對於回收槽130, l30a，13〇b内之處理液，在特定時間補充 83980 -44- 1224369 一定量之新液體，或是僅廢棄—定量之回收槽i3〇 130b内之處理液後，補充一定量之新液體者等。 於洗淨處理槽内邵等而使用顯像液時，顯像液尤其容易惡 化。因而尤罝設置如上述之管理裝置，以防止上述處理液 之污染及惡化。 顯像處理時，繼續處理同時使相同處理液（顯像液）循環而 繼續使用時，由於隨伴顯像液之循環動作，顯像液與=氣 接觸而惡化，及光阻溶解於顯像液中導致顯像液逐漸:: ，因此宜附設如上述之管理裝置，不過以回收之顯像：用

此外，第二種實施形態中，於生成非溶解物時，以及生 成於循環使用處理液時造成影響之非溶解物時，具體而言 ，相當於顯像處理如塗敷有形成有機平坦化膜用之塗敷液 或濾色層製^用之濾色光阻等基板。一般而言，有機平坦 化膜形成用塗敷液及濾色光阻所形成之覆膜圖案即使於爾 後 < 製程亦不致剝離。反之，未生成非溶解物時，以及未 生成於循環使用處理液時造成影響之非溶解物時，具體而 呂，相當於顯像處理如塗敷有一般之正型光阻及負型光阻 等’於顯像液中徹底溶解之塗敷液之基板。一般之正型光 阻及負型光阻係於爾後製程將所形成之覆膜圖案予以剥離 處理。 另外，第二種實施形態中，係說明顯像處理裝置，不過 本發明亦可適用於進行使用臭氧水等之洗淨、蝕刻、剥離 等處理之基板處理裝置。 【發明之效果】 83980 -45- 士使用申請專利範圍第h 2,4,8及9项之各發明之基板處理 裝置時，可維持純水等處理液高利用效率，減少處理、夜、 使用量，並且廢液量亦少。此外，可維持基板之高處理= 率，並且可將液體循環路徑之各構件的污染抑制 度。 限 申請專利範圍第3項之發明之基板處理裝置，可確實將向 基板上較低側流動並自基板緣邊流下之使用過處理液作為 廢液排出。 申請專利範圍第5項之發明之基板處理裝置，可確實將向 基板上兩側流動並自基板兩緣邊分別流下之使用過處理液 作為廢液排出。 申請專利範圍第6項之發明之基板處理裝置，可於基板之搬 入口附近’將自基板前端側緣邊灑下之液體作為廢液排出。 申請專利範圍第7項之發明之基板處理裝置，可於基板之 搬入口附近，將自基板前端側緣邊灑下之液體，與流入排 液槽邵内之使用過處理液均作為廢液排出。 申請專利範圍第1 0及1 1項之發明之基板處理裝置，可使自 處理液排出機構向基板上排出，使用於基板處理之處理液 ，不滞留於基板上，而分別向基板兩端部流動，並自基板 緣邊流下。 申請專利範圍第1 2項之發明之基板處理裝置，可於搬運 基板時，將自基板之前後兩端側緣邊分別灑下之使用過處 理液作為廢液排出。 申請專利範圍第1 3項之發明之基板處理裝置，可將藥劑 83980 -46 - 1224369 處理槽中使用而附著於基板上之藥劑，於水洗處理槽中自 基板上除去，而以純水替換之處理中減少純水之使用量。 申請專利範圍第1 4項之發明之基板處理裝置時，由於可 使處理液循環同時進行基板之處理，且僅分離、排出使用 於處理之液體，因此可維持處理液之利用效率，並且於液 體循環系統中亦不致發生問題。因而於處理時亦無須進行 複雜之控制。 申請專利範圍第1 5項之發明之基板處理裝置，可防止内 壁面或處理槽内部之構件污染。 申請專利範圍第1 6項之發明之基板處理裝置，可節約用於 防止處理槽之内壁面或處理槽内部之構件污染的洗淨液。 申請專利範圍第17項之發明之基板處理裝置，因基板之 種類等不同，使用過處理液中不含非溶解物時，由於可循 壤使用使用過之處理液，因此可減少處理液之使用量。 申請專利範圍第18項之發明之基板處理裝置，因基板之 種類等不同，使用過處理液中不含非溶解物時，由於可循 環使用使用過之處理液，因此可減少處理液之使用量。因 而於循裱使用自基板上流下之使用過處理液時，亦循環使 用於處理槽之内壁面或處理槽内部之構件洗淨之處理液， 可使用於基板之處理及處理4曹内壁φ等洗淨，目此亦可節 約處理液（洗淨液）。 申請專利範圍第19項之發明之基板處理裝置，由於不致 使受到污染或惡化之處理液循俨去 叹備％而使用於基板處理，因此 可維持基板之處理品質。 83980 -47- 1224369 【圖式簡單說明】 圖1係顯不本發明第一種實施形態之1例之基板處理裝置 概略構造的模式平面圖。 圖2係自圖1之ΙΙ-Π箭頭方向觀察之剖面圖。 ‘ 圖3(a)，（b)係自圖箭頭方向觀察之剖面圖。 · 圖4係顯示本發明第一種實施形態其他例之基板處理裝 置概略構造的模式平面圖。 圖5係顯不本發明第一種實施形態另外例之基板處理裝馨 置概略構造的模式平面圖。 圖6係自圖5之VI-VI箭頭方向觀察之剖面圖。 圖7係顯示本發明第一種實施形態另外例之基板處理裝 置概略構造的模式平面圖。 圖8係自圖7之VIII-VIII箭頭方向觀察之剖面圖。 圖9係顯示本發明第一種實施形態另外例之基板處理裝 置概略構造的模式平面圖。 圖10係自圖9之χ-χ箭頭方向觀察之剖面圖。 _ 圖11係顯示以水平狀態向水平方向搬運基板時，向基板上 排出之純水容易流至基板上用之構造例之基板處理裝置一 部分的概略側面圖。 圖12同樣係顯示向基板上排出之純水容易流至基板上用 之其他構造例之基板處理裝置一部分的概略側面圖。 圖1 3係顯示圖9所示之基板處理裝置之變形例之模式平 面圖。 _ 圖14係顯示本發明第二種實施形態之1例之一種基板處 83980 -48- 1224369 理裝置之顯像處理裝置概略構造的模式側面圖。 圖1 5係顯示顯像處理槽之洗淨機構之與圖丨4所示者不同 之例之顯像處理裝置概略構造的模式側面圖。 圖16係顯示本發明第二種實施形態之其他例之顯像處理 裝置概略構造的模式側面圖。 圖Π係顯示第二種實施形態中使用之各種顯像液設置顯像 液排出噴嘴之例之顯像處理裝置概略構造的模式側面圖。 圖1 8係顯示第二種實施形態中使用之各種顯像液可進行吏 理操作之其他例之顯像處理裝置概略構造的模式側面圖。 圖1 9係模式顯示先前基板處理裝置一種概略構造之側 圖。 ’面 圖20係模式顯示先前顯像處理裝置一種概略構造之側 圖。 【圖式代表符號說明】 1 基板 2 藥劑 3 顯像液 10 水洗處理槽 12 水洗處埋槽之搬入 14 純水排出噴嘴 16 藥劑處理槽 18 藥劑噴出喷嘴 2〇, 46, 76a，76b 隔板 22, 78 寬度方向隔板 83980 -49 - 1224369 24, 48, 80 26, 50, 82a，82b 28, 72, 86, 1 00 30, 74, 88， 102 32 34 36 42, 68, 90, 96a， 96b 44, 70, 92, 98a， 98b 66, 94a，94b 84 104， 106 108a， 108b 110, 154 114， 158 116, 116a，116b 118 120 122, 122a， 122b 124， 124a， 124b 126， 126a， 126b 128, 128a, 128b 回收槽部 排液槽部 液體回收口 液體回收用配管 回收液 回收槽 送液用配管 液體排出口 排液管 排液導管 搬入口侧排液槽部 搬運滾筒 輔助排液導管 顯像處理槽 水洗處理槽 顯像液排出喷嘴 除液滾筒 水噴出喷嘴 回收槽部 液體回收口 液體回收用配管 回收之顯像液

83980 -50- 1224369 130, 130a, 130b 回收槽 132， 132a， 132b 送液用配管 1 34, 1 52, 1 34a, 134b 泵 136，162，136a， 136b 液體排出口 138, 164, 178, 178a， 178b 排液用配管 140， 160 洗淨喷嘴 142 排水口 144 水回收用配管 146 水回收槽 148 回收之純水 150 送水用配管 156 顯像處理槽之内底面 166 水回收桶 168 送水用配管 180, 180a， 180b 液體送回用配管 182, 182a， 182b 流路切換閥 184， 184a， 184b 洗淨送液用配管 186，1 88, 1 86a， 開閉控制閥 186b， 190a， 190b， 192a，192b，196a， 196b 83980 -51 - 1224369 194 旁通管 98 液體排出口 900 液體排出用配管 902 開閉閥

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Claims (1)

1224369 拾、申請專利範圍： 1 一種基板處理裝置，其係於處理槽内藉由搬運機構將基 板向水平方向搬運，同時自處理液排出機構排出處理液 至基板上來處理基板，其特徵為： 具備液體循環系統，其係區分設置：回收路徑，其係 回收自前述處理液排出機構排出，未經由基板面而直接 流下之處理液；及排液路徑，其係收集自前述處理液排 出機構向基板上排出，在基板上，向與基板搬運方向垂 直之方向之端部流動，自緣邊流下之使用過處理液，·將 回收於前述回收路徑之處理液送回前述處理液排出機 構，並且具備排液路，其係排出收集於前述排液路徑之 使用過處理液。 2. —種基板處理裝置，其係於處理槽内藉由搬運機構將基 板向水平方向搬運，同時自處理液排出機構排出處理液 至基板上來處理基板，其特徵為： 具備液體檐環系統’其係藉由前述搬運機構，於與基 板搬運方向垂直之方向上，以對水平面傾斜之狀態搬運 基板，並且於前述處理槽之内底面上之傾斜搬運之基板 較低側緣邊之正下方位置附近，沿著基板之搬運方向立 設隔板，以該隔板隔開處理槽之内底部，分隔成··回收 槽部，其係回收自前述處理液排出機構排出，未經由基 板面而直接流下之處理液；及排液槽部，其係收納自處 理液排出機構向基板上排出，向基板上較低側流動，自 緣邊況下之使用過處理液；並將回收於前述回收槽部内 83980 之處理液送回前述處理液排出機構，並且具備排液路， 其係排出流入前述排液槽部内之使用過處理液。 如申請專利範圍第2項之基板處理裝置，其中以前述隔 板之上端接近於傾斜搬運之基板較低側之緣邊的方式 I己置。 一種基板處理裝置，其係於處理槽内藉由搬運機構將基 板以水平狀態向水平方向搬運，同時自處理液排出機構 排出處理液至基板上來處理基板，其特徵為： 具備液體循環系統，其係於前述處理槽之内底面上之 搬運之基板兩側緣邊之正下方位置附近，沿著基板之搬 運方向分別立設隔板，以各隔板分別隔開處理槽之内底 部，分隔成：回收槽部，其係回收自前述處理液排出機 構排出，未經由基板面而直接流下之處理液；及一對排 液槽部，其係收納自處理液排出機構向基板上排出，向 基板上兩側流動，自兩緣邊分別流下之使用過處理液； 並將回收於前述回收槽部内之處理液送回前述處理液 排出機構，並且具備排液路，其係排出分別流入前述各 排液槽部内之使用過處理液。 如申請專利範圍第4項之基板處理裝置，其中以前述各 隔板之上端分別接近於搬運之基板兩側之緣邊的方式 配置。 $ 如申叫專利範圍第2項至第5項中任一項之基板處理裝 |，其中於前述處理槽之内底面上之基板搬入口側，沿 著與基板搬運方向交叉之方向立設寬度方向隔板，以其 寬度方向隔板隔開處理槽之内底部，形成搬入口側排液 槽部’其係收納自搬入處理槽内之基板前端側緣邊灑下 之液體，亦排出流入其搬入口側排液槽部内之處理液。 7 .如申請專利範圍第6項之基板處理裝置，其中使前述搬 入口侧排液槽部與前述排液槽部連通。 8. 一種基板處理裝置，其係於處理槽内藉由搬運機構將基 板向水平方向搬運，同時自處理液排出機構排出處理液 至基板上來處理基板，其特徵為： 具備液體循環系統，其係藉由前述搬運機構，於與基 板搬運方向垂直之方向上，以對水平面傾斜之狀態搬運 基板，並且於前述處理槽内部之傾斜搬運之基板較低側 緣邊之正下方位置附近，沿著基板之搬運方向橫設排液 導管，其係收納自前述處理液排出機構排出至基板上， 向基板上較低側流動，而自緣邊流下之使用過處理液， 將自前述處理液排出機構排出，未經由基板面而直接流 下，回收於前述處理槽内底部之處理液送回前述處理液 排出機構，並且具備排液路，其係排出流入前述排液導 管内之使用過處理液。 9. 一種基板處理裝置，其係於處理槽内藉由搬運機構將基 板以水平狀態向水平方向搬運，同時自處理液排出機構 排出處理液至基板上來處理基板，其特徵為： 具備液體循環系統，其係於前述處理槽内部之搬運之 基板兩側緣邊之正下方位置附近，沿著基板之搬運方向 橫設一對排液導管，其係收納自前述處理液排出機構向 83980 基板上排出，向基板上兩侧流動，而自兩緣邊分別流下 〈使用過處理液，並將自前述處理液排出機構排出，未 經由基板面而直接流下，回收於前述處理槽之内底部之 處理液送回前述處理液排出機構，並且具備排液路，其 係排出分別流入前述各排液導管内之使用過處理液。 1 0.如申α專利範圍第4項、第5項或第9項之基板處理裝置 ，其中藉由哥述搬運機構，於與基板搬運方向垂直之方 向，以基板中央邵高於基板兩端部之方式支撐、搬運基 板。 11.如申請專利範圍第4項、第5項或第9項之基板處理裝置 ”中自知述處理液排出機構向基板上，對基板表面向 與基板搬運方向垂直之方向之基板兩端部側分別傾斜 來排出處理液。 12·如申請專利範圍第4項、第5項或第9項之基板處理裝置 ’其中具備輔助排液路，其係於藉由前述搬運機構所搬 運之基板之前後兩端側緣邊之正下方位置附近，沿著與 基板搬運方向垂直之方向，配置一對辅助排液導管，其 係收納自基板前後兩端側緣邊分別灑下之使用過處理 液，以與基板之移動同步地向水平方向移動之方式支撐 讜一對辅助排液導管，排出向前述各辅助排液導管内分 別流下之使用過處理液。 1 3.如申請專利範圍第1項之基板處理裝置，其中前述處理 槽係以純水洗淨基板之水洗處理槽，並設有藥劑處理槽 ，其係鄰接於其水洗處理槽之基板搬入口側，以藥劑處 83980 理基板。 1 4 · 一種基板處理裝置，其係於處理槽内搬運基板，同時自 處理液排出機構排出處理液至基板上來處理基板，其特 徵為： 設置處理液循環機構，其係形成回收槽部，其係隔開 雨述處理槽之内部，回收自前述處理液排出機構排出， 未經由基板面而直接流下之處理液，此外，於前述處理 液排出機構之下方配置回收容器，其係回收自處理液排 出機構排出，未經由基板面而直接流下之處理液，將回 收於前述回收槽部或回收容器内之處理液送回前述處 理液排出機構，使處理液循環；並且設置排液路，其係 排出自前述處理液排出機構向基板上排出，而自基板上 流入前述處理槽之内底部之使用過處理液。 1 5 ·如申請專利範圍第14項之基板處理裝置，其中具備洗淨 機構’其係以洗淨液洗淨與自基板上流下之使用過處理 液接觸之前述處理槽之内壁面或處理槽内部之構件。 16·如申請專利範圍第15項之基板處理裝置，其中與前述處 理槽鄰接設置以純水進行基板洗淨之水洗處理槽，該水 洗處理槽使用過之純水供前述洗淨機構作為洗淨液使 用。 17·如申請專利範圍第14至16項中任一項之基板處理裝置 ’其中使前述排液路分歧，將分歧路流路性連接於前述 處理液循環機構，並於分歧位置介插流路切換機構。 18·如申請專利範圍第15項之基板處理裝置，其中使前述排 83980.doc 1224369 '、各刀歧將刀歧路，瓦路性連接於前述處理液循環機構 於分歧位置介插流路切換機構，將自基板上流下之使 用過處理液通過前述排液路並通過前述分歧路送至前 述處理液循環機構，來循環使用過處理液時，前述洗淨 機構使用處理液作為洗淨液。 19. 如申請專利範圍第1 4項之基板處理裝置，其中設置收集 回收於前述回收槽部或回收容器内之處理液之槽，並且 該槽附設管理該槽内之處理液成分之管理裝置。 83980